JPH05330900A - セラミックス系超電導体の製造方法 - Google Patents
セラミックス系超電導体の製造方法Info
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- JPH05330900A JPH05330900A JP3255459A JP25545991A JPH05330900A JP H05330900 A JPH05330900 A JP H05330900A JP 3255459 A JP3255459 A JP 3255459A JP 25545991 A JP25545991 A JP 25545991A JP H05330900 A JPH05330900 A JP H05330900A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 金属塩や金属塩を含む溶液等を用いて金属基
体上に超電導体を製造する方法における空孔の存在量を
減少させ、これによりJcを向上させることのできる方
法を提供する。 【構成】 本発明のセラミックス系超電導体の製造方法
は、Y、BaおよびCuを含む仮焼結体または焼結体の
外側に、BaおよびCuをそれぞれ含む金属塩あるいは
これ等の金属塩を含む溶液を塗布した後、焼結するもの
である。
体上に超電導体を製造する方法における空孔の存在量を
減少させ、これによりJcを向上させることのできる方
法を提供する。 【構成】 本発明のセラミックス系超電導体の製造方法
は、Y、BaおよびCuを含む仮焼結体または焼結体の
外側に、BaおよびCuをそれぞれ含む金属塩あるいは
これ等の金属塩を含む溶液を塗布した後、焼結するもの
である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は超電導体の製造方法に係
り、特に高い臨界電流密度(以下、Jcと称する。)を
有するセラミックス系超電導体の製造方法に関する。
り、特に高い臨界電流密度(以下、Jcと称する。)を
有するセラミックス系超電導体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、超電導体の開発競争が著しい速度
で進められており、特にYBa2 Cu3 Ox で代表され
るLn−Ba−Cu−O系酸化物(Ln:希土類元素)
は90Kという高い臨界温度(以下、Tcと称する。)
を有し、実用可能な材料として注目されている。
で進められており、特にYBa2 Cu3 Ox で代表され
るLn−Ba−Cu−O系酸化物(Ln:希土類元素)
は90Kという高い臨界温度(以下、Tcと称する。)
を有し、実用可能な材料として注目されている。
【0003】実用材料としては、高いJc を有し、かつ
加工性に優れることが必要であり、このため焼結体の高
密度化が不可欠の要件となっている。従来、このような
高密度化の問題に対しては、原料粉末の微細化および均
質化のアプローチから検討されてきており、有効な手段
として認められている。
加工性に優れることが必要であり、このため焼結体の高
密度化が不可欠の要件となっている。従来、このような
高密度化の問題に対しては、原料粉末の微細化および均
質化のアプローチから検討されてきており、有効な手段
として認められている。
【0004】しかしながら、原料粉末を成型後焼結する
方法ではその高密度化、即ち Jcの向上には限界があ
るという問題がある。
方法ではその高密度化、即ち Jcの向上には限界があ
るという問題がある。
【0005】以上の問題点を解決する方法として、金属
基体にセラミックス超電導物質の構成元素をそれぞれ所
定比率を構成するように含む金属塩あるいはこれ等の金
属塩を含む溶液を塗布した後、焼結する方法が検討され
ている。
基体にセラミックス超電導物質の構成元素をそれぞれ所
定比率を構成するように含む金属塩あるいはこれ等の金
属塩を含む溶液を塗布した後、焼結する方法が検討され
ている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記の方法において
は、たとえばY−Ba−Cu−O系セラミックスの場
合、金属塩あるいは金属塩を含む溶液中のY、Ba、C
uの原子数比(モル比)は約1:2:3となるように配
合されるが、この場合においても粉末を用いる方法に比
較すれば高密度化は達成されるものの、焼結後の成型体
中にはかなりの空孔が存在することが走査電子顕微鏡に
よる観察等の結果から明らかとなった。
は、たとえばY−Ba−Cu−O系セラミックスの場
合、金属塩あるいは金属塩を含む溶液中のY、Ba、C
uの原子数比(モル比)は約1:2:3となるように配
合されるが、この場合においても粉末を用いる方法に比
較すれば高密度化は達成されるものの、焼結後の成型体
中にはかなりの空孔が存在することが走査電子顕微鏡に
よる観察等の結果から明らかとなった。
【0007】本発明は上記の難点を解決するためになさ
れたもので、金属塩や金属塩を含む溶液等を用いて金属
基体上に超電導体を製造する方法における空孔の存在量
を減少させ、これによりJcを向上させることのできる
方法を提供することをその目的とする。
れたもので、金属塩や金属塩を含む溶液等を用いて金属
基体上に超電導体を製造する方法における空孔の存在量
を減少させ、これによりJcを向上させることのできる
方法を提供することをその目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のセラミックス系超電導体の製造方法は、
Y、BaおよびCuを含む仮焼結体または焼結体の外側
に、BaおよびCuをそれぞれ含む金属塩あるいはこれ
等の金属塩を含む溶液を塗布した後、焼結するものであ
る。
に、本発明のセラミックス系超電導体の製造方法は、
Y、BaおよびCuを含む仮焼結体または焼結体の外側
に、BaおよびCuをそれぞれ含む金属塩あるいはこれ
等の金属塩を含む溶液を塗布した後、焼結するものであ
る。
【0009】上記の発明において、仮焼結体または焼結
体中のY、Ba、Cuのモル比を約2:1:1に、かつ
金属塩あるいは金属塩を含む溶液中のBa及びCuのモ
ル比を約3:5とすることが好ましい。これは本願第2
の発明として記述される。
体中のY、Ba、Cuのモル比を約2:1:1に、かつ
金属塩あるいは金属塩を含む溶液中のBa及びCuのモ
ル比を約3:5とすることが好ましい。これは本願第2
の発明として記述される。
【0010】本発明における仮焼結体または焼結体は金
属基体上に設けることができ、この金属基体としては、
その融点がセラミックス超電導物質の焼成温度以上で、
かつこの焼成時に酸化し難い金属(その合金も含む。)
が適しており、このような金属として銀、ステンレス
鋼、インバー鋼、チタン、タングステン等がある。
属基体上に設けることができ、この金属基体としては、
その融点がセラミックス超電導物質の焼成温度以上で、
かつこの焼成時に酸化し難い金属(その合金も含む。)
が適しており、このような金属として銀、ステンレス
鋼、インバー鋼、チタン、タングステン等がある。
【0011】焼結により生成される超電導物質は、Y−
Ba−Cu−O系であるが、これにF等の元素を添加し
たものも含まれる。
Ba−Cu−O系であるが、これにF等の元素を添加し
たものも含まれる。
【0012】本発明における金属塩としては、脂肪酸、
樹脂酸、ナフテン酸等のアルカリ塩以外の金属塩、すな
わち金属石けんおよびアセチルアセトン錯塩が適する。
樹脂酸、ナフテン酸等のアルカリ塩以外の金属塩、すな
わち金属石けんおよびアセチルアセトン錯塩が適する。
【0013】上記の金属石けんは常態の液状で仮焼結体
または焼結体の外側に被着するか、あるいはキシレン、
トルエン、ナフサ、アルコール、ケトン系等の溶媒に均
一に分散せしめてこれを被着する。
または焼結体の外側に被着するか、あるいはキシレン、
トルエン、ナフサ、アルコール、ケトン系等の溶媒に均
一に分散せしめてこれを被着する。
【0014】セラミックス超電導物質の焼結体の生成
は、酸素気流中あるいは酸素加圧下で酸化調整しなが
ら、あるいは空気中で850〜960℃、好ましくは9
25〜950℃に加熱することにより行われる。
は、酸素気流中あるいは酸素加圧下で酸化調整しなが
ら、あるいは空気中で850〜960℃、好ましくは9
25〜950℃に加熱することにより行われる。
【0015】この焼結層の外側に安定化材を被覆するこ
ともでき、たとえば銀、銅、アルミニウムまたはこれら
の合金をメッキや蒸着により、0.1〜10μm の厚さ
に施すことができる。
ともでき、たとえば銀、銅、アルミニウムまたはこれら
の合金をメッキや蒸着により、0.1〜10μm の厚さ
に施すことができる。
【0016】さらに、その外側に絶縁被膜を施すことも
できる。絶縁被膜としては有機あるいは無機材料が用い
られ、前者の有機絶縁被膜としてはUV硬化ウレタン樹
脂やPVF、ポリエステル、シリコーン等のエナメルワ
ニスを、一方、後者の無機絶縁被膜としてはアルミナや
ポリボロシロキサン樹脂等を挙げることができる。もち
ろん上記の安定化材を介さずに直接絶縁被膜を施すこと
もできる。
できる。絶縁被膜としては有機あるいは無機材料が用い
られ、前者の有機絶縁被膜としてはUV硬化ウレタン樹
脂やPVF、ポリエステル、シリコーン等のエナメルワ
ニスを、一方、後者の無機絶縁被膜としてはアルミナや
ポリボロシロキサン樹脂等を挙げることができる。もち
ろん上記の安定化材を介さずに直接絶縁被膜を施すこと
もできる。
【0017】
【作用】本発明の方法においては、焼結時にまず塗布層
がその融点に達して液相となり、セラミックス超電導物
質生成の反応が促進されるとともに、液相の成長の結
果、空孔が減少しJcが向上する。
がその融点に達して液相となり、セラミックス超電導物
質生成の反応が促進されるとともに、液相の成長の結
果、空孔が減少しJcが向上する。
【0018】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
【0019】酸化イットリウム、炭酸バリウムおよび酸
化銅をY:Ba:Cu=2:1:1の比となるようにそ
れぞれ秤量し、これをエタノールで混合した後、空気中
で800℃×24時間仮焼した。次いで、これをボール
ミルで粉砕して粒径1〜10μm の粉末を得、この原料
粉末に1t/cm2 の圧力を加えて金属板上に加圧成型し
た後、900℃×24時間加熱した。次いで、この成型
体の外側に、 オクチル酸バリウム(Ba分8wt%)465g およびオクチル酸銅(Cu分5wt%)570g を混合した溶液を塗布し400〜500℃に加熱する工
程を繰返して仮焼層を形成した。
化銅をY:Ba:Cu=2:1:1の比となるようにそ
れぞれ秤量し、これをエタノールで混合した後、空気中
で800℃×24時間仮焼した。次いで、これをボール
ミルで粉砕して粒径1〜10μm の粉末を得、この原料
粉末に1t/cm2 の圧力を加えて金属板上に加圧成型し
た後、900℃×24時間加熱した。次いで、この成型
体の外側に、 オクチル酸バリウム(Ba分8wt%)465g およびオクチル酸銅(Cu分5wt%)570g を混合した溶液を塗布し400〜500℃に加熱する工
程を繰返して仮焼層を形成した。
【0020】次いで、この成型体を930℃×24時間
加熱して焼結層を形成した。その特性を4端子法で測定
した結果、Tcは86K、Jcは1950A/cm2 (a
t77K)であった。
加熱して焼結層を形成した。その特性を4端子法で測定
した結果、Tcは86K、Jcは1950A/cm2 (a
t77K)であった。
【0021】比較例 オクチル酸イットリウム(Y分8et%)を100g、
オクチル酸バリウム(Ba分8wt%)を310gおよ
びナフテン酸銅(Cu分5wt%)を342gを均一に
混合した塗布液を厚さ100μm の銀板上に塗布し、4
00〜500℃に加熱する工程を繰返して厚さ10μm
の仮焼層を形成した。次いで、この成型体を900℃で
24時間加熱し焼結層を形成した。この焼結層の膜厚は
7μmであった。その特性を4端子法で測定した結果、
臨界温度(Tc)は82K、臨界電流密度(Jc)は4
30A/cm2 (at77K)であった。
オクチル酸バリウム(Ba分8wt%)を310gおよ
びナフテン酸銅(Cu分5wt%)を342gを均一に
混合した塗布液を厚さ100μm の銀板上に塗布し、4
00〜500℃に加熱する工程を繰返して厚さ10μm
の仮焼層を形成した。次いで、この成型体を900℃で
24時間加熱し焼結層を形成した。この焼結層の膜厚は
7μmであった。その特性を4端子法で測定した結果、
臨界温度(Tc)は82K、臨界電流密度(Jc)は4
30A/cm2 (at77K)であった。
【0022】上記の実施例および比較例で得られた試料
を走査電子顕微鏡で観察した結果、前者は後者に比較し
て著しく空孔の存在量が減少していることが確認され
た。
を走査電子顕微鏡で観察した結果、前者は後者に比較し
て著しく空孔の存在量が減少していることが確認され
た。
【0023】
【発明の効果】以上述べたように本発明のセラミックス
系超電導体の製造方法によれば、空孔の存在量を減少さ
せて高密度化を計ることができ、これによりJcを向上
させることができる。
系超電導体の製造方法によれば、空孔の存在量を減少さ
せて高密度化を計ることができ、これによりJcを向上
させることができる。
【0024】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福島 正忠 神奈川県川崎市川崎区小田栄2丁目1番1 号 昭和電線電纜株式会社内 (72)発明者 仲本 隆男 神奈川県川崎市川崎区小田栄2丁目1番1 号 昭和電線電纜株式会社内
Claims (3)
- 【請求項1】 Y、BaおよびCuを含む仮焼結体また
は焼結体の外側に、 BaおよびCuをそれぞれ含む金属塩あるいはこれ等の
金属塩を含む溶液を塗布した後、焼結することを特徴と
するセラミックス系超電導体の製造方法。 - 【請求項2】 Y、BaおよびCuをモル比で約2:
1:1の比率で含む仮焼結体または焼結体の外側に、B
aおよびCuをそれぞれモル比で約3:5の比率で含む
金属塩あるいはこれ等の金属塩を含む溶液を塗布した
後、焼結することを特徴とするセラミックス系超電導体
の製造方法。 - 【請求項3】 金属塩は金属石けんあるいはアセチルア
セトン錯塩である請求項1または2記載のセラミックス
系超電導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3255459A JPH05330900A (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | セラミックス系超電導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3255459A JPH05330900A (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | セラミックス系超電導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05330900A true JPH05330900A (ja) | 1993-12-14 |
Family
ID=17279062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3255459A Withdrawn JPH05330900A (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | セラミックス系超電導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05330900A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100360470C (zh) * | 2006-04-30 | 2008-01-09 | 西安理工大学 | 钇钡铜氧超导膜的溶胶-凝胶制备方法 |
| CN102443792A (zh) * | 2011-12-02 | 2012-05-09 | 西安理工大学 | Ybco超导薄膜的低氟溶液沉积及其热处理工艺 |
-
1991
- 1991-10-02 JP JP3255459A patent/JPH05330900A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100360470C (zh) * | 2006-04-30 | 2008-01-09 | 西安理工大学 | 钇钡铜氧超导膜的溶胶-凝胶制备方法 |
| CN102443792A (zh) * | 2011-12-02 | 2012-05-09 | 西安理工大学 | Ybco超导薄膜的低氟溶液沉积及其热处理工艺 |
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