JPH05333560A - 感光性樹脂膜の現像方法 - Google Patents
感光性樹脂膜の現像方法Info
- Publication number
- JPH05333560A JPH05333560A JP13546392A JP13546392A JPH05333560A JP H05333560 A JPH05333560 A JP H05333560A JP 13546392 A JP13546392 A JP 13546392A JP 13546392 A JP13546392 A JP 13546392A JP H05333560 A JPH05333560 A JP H05333560A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin film
- film
- photosensitive
- substrate
- rinse
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 感光性樹脂膜，特に顔料入り感光性樹脂膜の
現像方法に関し、スカムの完全除去を目的とする。 【構成】 基板１に顔料入りネガ型着色感光性樹脂膜３
を塗布し、樹脂膜３の上に酸素遮断膜４を塗布し、酸素
遮断膜４を通して樹脂膜３に露光処理を施し、第１のリ
ンス工程で酸素遮断膜４を除去し、樹脂膜３の感光部３
ａに現像液を浸透せしめ、リンス液を樹脂膜３に噴射す
る第２のリンス工程で樹脂膜３の感光部３ａを除去する
ように構成する。
現像方法に関し、スカムの完全除去を目的とする。 【構成】 基板１に顔料入りネガ型着色感光性樹脂膜３
を塗布し、樹脂膜３の上に酸素遮断膜４を塗布し、酸素
遮断膜４を通して樹脂膜３に露光処理を施し、第１のリ
ンス工程で酸素遮断膜４を除去し、樹脂膜３の感光部３
ａに現像液を浸透せしめ、リンス液を樹脂膜３に噴射す
る第２のリンス工程で樹脂膜３の感光部３ａを除去する
ように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は感光性樹脂膜の現像方
法、特に、顔料入り感光性樹脂膜よりカラーフィルタの
着色画素をパターン形成する方法に関する。
法、特に、顔料入り感光性樹脂膜よりカラーフィルタの
着色画素をパターン形成する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置等におけるカラーフィルタ
の製造方法には、電着法，印刷法，フォトリソグラフィ
ック法等があるが、画素パターン精度や均一膜厚を得る
ためには、顔料入り感光性樹脂を使用するフォトリソグ
ラフィック法が優れている。
の製造方法には、電着法，印刷法，フォトリソグラフィ
ック法等があるが、画素パターン精度や均一膜厚を得る
ためには、顔料入り感光性樹脂を使用するフォトリソグ
ラフィック法が優れている。
【０００３】Ｒ（赤),Ｇ (緑),Ｂ (青) の光学的３原色
にてなる多数の画素を具えたカラーフィルタにおいて、
フォトリソグラフィック技術を利用した従来方法は、感
光性樹脂膜のスピンコート，プリベーキング，酸素遮断
膜(PVA；ポリビニールアルコール）塗布，露光，現像，
ポストベーキングを３回繰り返して形成し、着色された
画素を順次形成する。
にてなる多数の画素を具えたカラーフィルタにおいて、
フォトリソグラフィック技術を利用した従来方法は、感
光性樹脂膜のスピンコート，プリベーキング，酸素遮断
膜(PVA；ポリビニールアルコール）塗布，露光，現像，
ポストベーキングを３回繰り返して形成し、着色された
画素を順次形成する。
【０００４】カラー液晶表示パネルの基板としては、ガ
ラス基板にカラーフィルタを形成し、その上に画素間隙
を埋め画素段差をなくして平坦化するオーバーコート層
を被着し、オーバーコート層の上に透明電極を形成す
る。
ラス基板にカラーフィルタを形成し、その上に画素間隙
を埋め画素段差をなくして平坦化するオーバーコート層
を被着し、オーバーコート層の上に透明電極を形成す
る。
【０００５】着色画素形成用の樹脂はネガ形であり、一
般に水溶性である酸素遮断膜は樹脂膜の光重合のために
必要とし、樹脂膜の現像には水で希釈したアルカリ液
（ＫＯＨ１％程度）を使用し、酸素遮断膜は現像液を利
用し現像処理時に除去する。
般に水溶性である酸素遮断膜は樹脂膜の光重合のために
必要とし、樹脂膜の現像には水で希釈したアルカリ液
（ＫＯＨ１％程度）を使用し、酸素遮断膜は現像液を利
用し現像処理時に除去する。
【０００６】図６は液晶表示パネル用カラーフィルタの
従来の主要工程の説明図であり、図６(イ) においてガラ
ス基板１にブラックマスクパターン２を形成する。次い
で、図６(ロ) に示す如く第１の顔料入り感光性樹脂膜、
例えば赤色の感光性樹脂膜３を一般にスピンコート法に
より塗布し、樹脂膜３を例えば85〜100 ℃で２〜５分程
度焼成するプリベーキング処理を施したのち、図６(ハ)
に示す如く樹脂膜３の上に、一般にＰＶＡ（ポリビニー
ルアルコール）の酸素遮断膜４を塗布する。
従来の主要工程の説明図であり、図６(イ) においてガラ
ス基板１にブラックマスクパターン２を形成する。次い
で、図６(ロ) に示す如く第１の顔料入り感光性樹脂膜、
例えば赤色の感光性樹脂膜３を一般にスピンコート法に
より塗布し、樹脂膜３を例えば85〜100 ℃で２〜５分程
度焼成するプリベーキング処理を施したのち、図６(ハ)
に示す如く樹脂膜３の上に、一般にＰＶＡ（ポリビニー
ルアルコール）の酸素遮断膜４を塗布する。
【０００７】次いで、図６(ニ) に示す如くマスク５を用
いて樹脂膜３の露光処理を行ったのち、現像処理すると
図６(ホ) に示す如く、酸素遮断膜４は樹脂膜３の不要部
と共に除去され、200 ℃程度で５分程度焼成するポスト
ベーキング処理を施して赤色画素Ｒが完成する。
いて樹脂膜３の露光処理を行ったのち、現像処理すると
図６(ホ) に示す如く、酸素遮断膜４は樹脂膜３の不要部
と共に除去され、200 ℃程度で５分程度焼成するポスト
ベーキング処理を施して赤色画素Ｒが完成する。
【０００８】次いで、図６(ヘ) に示す如く例えば第２の
画素である緑色画素Ｇ，第３の画素である青色画素Ｂ
を、画素Ｒと同一工程の繰り返しによって順次形成し、
液晶表示パネル用カラーフィルタが完成する。
画素である緑色画素Ｇ，第３の画素である青色画素Ｂ
を、画素Ｒと同一工程の繰り返しによって順次形成し、
液晶表示パネル用カラーフィルタが完成する。
【０００９】そこで、画素Ｒ，Ｇ，Ｂの上に二酸化シリ
コン等にてなるオーバーコート層を被着し、そのオーバ
ーコート層の上に透明電極を形成し、カラー液晶表示パ
ネルの一方の基板が完成する。
コン等にてなるオーバーコート層を被着し、そのオーバ
ーコート層の上に透明電極を形成し、カラー液晶表示パ
ネルの一方の基板が完成する。
【００１０】かかるカラーフィルタの製造に際し、酸素
遮断膜４と樹脂膜３の不要部を除去する従来の現像処理
は、基板１を現像液に浸漬して揺動させるまたは、樹脂
膜３に現像液をスプレーで吹き付けることになる。
遮断膜４と樹脂膜３の不要部を除去する従来の現像処理
は、基板１を現像液に浸漬して揺動させるまたは、樹脂
膜３に現像液をスプレーで吹き付けることになる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように顔
料入り着色感光性樹脂膜の現像、特にカラーフィルタに
おいて第１，第２，第３の画素を順次パターン形成する
とき、第１の画素に密着する第２の画素用樹脂，第１お
よび第２の画素に密着する第３の画素用樹脂が除去され
難く、かつ、第１の画素と第２の画素との間に隙間があ
るためスカムが残り易く、現像処理後のリンス（水洗）
によってもスカム除去が困難であった。
料入り着色感光性樹脂膜の現像、特にカラーフィルタに
おいて第１，第２，第３の画素を順次パターン形成する
とき、第１の画素に密着する第２の画素用樹脂，第１お
よび第２の画素に密着する第３の画素用樹脂が除去され
難く、かつ、第１の画素と第２の画素との間に隙間があ
るためスカムが残り易く、現像処理後のリンス（水洗）
によってもスカム除去が困難であった。
【００１２】なお、スプレーを使用した現像処理におい
て、現像液噴射圧を例えば２kg/cm2程度に高めるとスカ
ムを減らすことができるが、画素Ｒ，Ｇ，Ｂの形状が崩
れパターン精度が低下する。
て、現像液噴射圧を例えば２kg/cm2程度に高めるとスカ
ムを減らすことができるが、画素Ｒ，Ｇ，Ｂの形状が崩
れパターン精度が低下する。
【００１３】
【課題を解決するための手段】図１は本発明方法の基本
工程の説明図であり、顔料入り着色感光性樹脂膜の現像
に際しスカムの完全除去を目的とした本発明方法は、図
１(イ) に示す如く基板１の表面に顔料入りネガ型着色感
光性樹脂膜３を塗布し、図１(ロ) に示す如く樹脂膜３の
上に酸素遮断膜４を塗布したのち、図１(ハ) に示す如く
酸素遮断膜４にフォトマスク５を重ねマスク５の上方よ
り光を照射すると、酸素遮断膜４を通して樹脂膜３に
は、マスク５による感光パターンが焼付けされる。
工程の説明図であり、顔料入り着色感光性樹脂膜の現像
に際しスカムの完全除去を目的とした本発明方法は、図
１(イ) に示す如く基板１の表面に顔料入りネガ型着色感
光性樹脂膜３を塗布し、図１(ロ) に示す如く樹脂膜３の
上に酸素遮断膜４を塗布したのち、図１(ハ) に示す如く
酸素遮断膜４にフォトマスク５を重ねマスク５の上方よ
り光を照射すると、酸素遮断膜４を通して樹脂膜３に
は、マスク５による感光パターンが焼付けされる。
【００１４】次いで、第１のリンス処理によって図１
(ニ) に示す如く酸素遮断膜４を除去したのち、図１(ホ)
に示す如く樹脂膜３の感光部３a に樹脂膜３の現像液を
浸透させる。
(ニ) に示す如く酸素遮断膜４を除去したのち、図１(ホ)
に示す如く樹脂膜３の感光部３a に樹脂膜３の現像液を
浸透させる。
【００１５】次いで、第２のリンス処理にて例えばリン
ス液（例えば水または温水）を樹脂膜３に噴射すると、
現像液が浸透して膨潤した感光部３a は基板１から除去
され、図１(ヘ) に示す如く樹脂膜３の所望パターン( 画
素) ３b が形成される。
ス液（例えば水または温水）を樹脂膜３に噴射すると、
現像液が浸透して膨潤した感光部３a は基板１から除去
され、図１(ヘ) に示す如く樹脂膜３の所望パターン( 画
素) ３b が形成される。
【００１６】
【作用】上記手段によれば、感光性樹脂膜３の露光処理
後にまず酸素遮断膜４を除去し、次いで樹脂膜３の感光
部３a に現像液を浸透せしめ、しかるのちのリンス工程
でリンス液の噴射エネルギを利用し現像液浸透済み感光
部３a を除去する。
後にまず酸素遮断膜４を除去し、次いで樹脂膜３の感光
部３a に現像液を浸透せしめ、しかるのちのリンス工程
でリンス液の噴射エネルギを利用し現像液浸透済み感光
部３a を除去する。
【００１７】従って、感光部３a を除去するリンス液の
噴射は、従来方法における現像液の噴射より強力にする
ことが可能となり感光部３a に対する剥離力が高められ
ると共に、基板１から剥離した感光部３a はリンス液と
共に排除されるようになり、スカムの完全除去を可能に
する。
噴射は、従来方法における現像液の噴射より強力にする
ことが可能となり感光部３a に対する剥離力が高められ
ると共に、基板１から剥離した感光部３a はリンス液と
共に排除されるようになり、スカムの完全除去を可能に
する。
【００１８】
【実施例】図２は本発明方法を液晶表示パネルのカラー
フィルタに適用した実施例の主要工程の説明図、図３は
本発明方法において樹脂膜に現像液を浸透させる実施例
方法の説明図、図４は本発明方法において樹脂膜の感光
部を除去するリンス方法の説明図、図５は本発明方法の
実施例による感光性樹脂膜現像装置の全体の概略を示す
平面図である。
フィルタに適用した実施例の主要工程の説明図、図３は
本発明方法において樹脂膜に現像液を浸透させる実施例
方法の説明図、図４は本発明方法において樹脂膜の感光
部を除去するリンス方法の説明図、図５は本発明方法の
実施例による感光性樹脂膜現像装置の全体の概略を示す
平面図である。
【００１９】図２(イ) において、ガラス基板１の表面に
ブラックマスクパターン２を、従来のそれと同一方法、
例えば金属クローム膜をエッチングして形成する。図２
(ロ) において、第１の着色感光性樹脂膜例えば赤色顔料
の入ったネガ型感光性樹脂膜３を、基板１の表面に塗布
する。樹脂膜３は従来と同一方法、即ち一般的なスピン
コート法により塗布し、厚さが１〜1.５μm 程度であ
る。
ブラックマスクパターン２を、従来のそれと同一方法、
例えば金属クローム膜をエッチングして形成する。図２
(ロ) において、第１の着色感光性樹脂膜例えば赤色顔料
の入ったネガ型感光性樹脂膜３を、基板１の表面に塗布
する。樹脂膜３は従来と同一方法、即ち一般的なスピン
コート法により塗布し、厚さが１〜1.５μm 程度であ
る。
【００２０】次いで、ホットプレートを使用する等によ
り、樹脂膜３を85〜 100℃で２〜５分程度加熱するプリ
ベーキング処理を施したのち、図２(ハ) に示す如く樹脂
膜３の上に、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）の
酸化防止膜４を被着させる。酸化防止膜４は従来と同じ
く一般的なスピンコート法により塗布し、厚さが２μm
程度である。
り、樹脂膜３を85〜 100℃で２〜５分程度加熱するプリ
ベーキング処理を施したのち、図２(ハ) に示す如く樹脂
膜３の上に、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）の
酸化防止膜４を被着させる。酸化防止膜４は従来と同じ
く一般的なスピンコート法により塗布し、厚さが２μm
程度である。
【００２１】次いで、図２(ニ) に示す如く酸化防止膜４
にフォトマスク５を重ねて露光し、酸化防止膜４を通し
てマスク５のパターンを樹脂膜３に感光転写させる。樹
脂膜３を感光させる光エネルギは、一般に10〜20mj/cm2
程度である。
にフォトマスク５を重ねて露光し、酸化防止膜４を通し
てマスク５のパターンを樹脂膜３に感光転写させる。樹
脂膜３を感光させる光エネルギは、一般に10〜20mj/cm2
程度である。
【００２２】次いで、酸化防止膜除去用リンス液 (水)
を使用する第１のリンス工程では、水溶性である酸化防
止膜４を除去し、図２(ホ) に示す如く樹脂膜３を表呈さ
せる。かかる第１のリンス工程では、0.5kg/cm2 程度以
下の低圧スプレーでリンス液（水）を振り掛けるまた
は、基板１をリンス液に浸漬して軽く揺動させる。
を使用する第１のリンス工程では、水溶性である酸化防
止膜４を除去し、図２(ホ) に示す如く樹脂膜３を表呈さ
せる。かかる第１のリンス工程では、0.5kg/cm2 程度以
下の低圧スプレーでリンス液（水）を振り掛けるまた
は、基板１をリンス液に浸漬して軽く揺動させる。
【００２３】次いで行う樹脂膜３の現像工程では、例え
ば図３(イ) に示す如く基板１を現像液６に浸漬し基板１
を軽く１分間程度揺動させるまたは、図３(ロ) に示す如
く基板１に0.5kg/cm2 程度以下の低圧スプレー７より現
像液６を１分間程度振り掛けると、図２(ヘ) に示す如く
樹脂膜３の感光部３a には現像液６の一部が浸透するよ
うになる。
ば図３(イ) に示す如く基板１を現像液６に浸漬し基板１
を軽く１分間程度揺動させるまたは、図３(ロ) に示す如
く基板１に0.5kg/cm2 程度以下の低圧スプレー７より現
像液６を１分間程度振り掛けると、図２(ヘ) に示す如く
樹脂膜３の感光部３a には現像液６の一部が浸透するよ
うになる。
【００２４】次いで、一般的に水または温水を使用する
第２のリンス工程は不要部３a を除去することであり、
水または40℃〜60℃程度の温水をリンス液とし、図４に
示す如くリンス液８を例えば２〜４kg/cm2の高圧スプレ
ー９にて樹脂膜３に噴射させると、図２(ト) に示す如く
樹脂膜感光部３a が除去され、樹脂膜３の所要パターン
が形成され、該パターンにポストベーキング処理を施し
て、第１の画素Ｒが完成する。
第２のリンス工程は不要部３a を除去することであり、
水または40℃〜60℃程度の温水をリンス液とし、図４に
示す如くリンス液８を例えば２〜４kg/cm2の高圧スプレ
ー９にて樹脂膜３に噴射させると、図２(ト) に示す如く
樹脂膜感光部３a が除去され、樹脂膜３の所要パターン
が形成され、該パターンにポストベーキング処理を施し
て、第１の画素Ｒが完成する。
【００２５】しかるのち、例えば第２の画素である緑色
画素Ｇ，第３の画素である青色画素Ｂを、画素Ｒと同一
工程の繰り返しによって順次形成し、図２(チ) に示す液
晶表示パネル用カラーフィルタ10が完成する。
画素Ｇ，第３の画素である青色画素Ｂを、画素Ｒと同一
工程の繰り返しによって順次形成し、図２(チ) に示す液
晶表示パネル用カラーフィルタ10が完成する。
【００２６】なお、前述した如く樹脂膜３および画素
Ｇ，Ｂを形成するための樹脂膜は、一般にスピンコート
法により塗布するため、特に基板１が角形であるとき、
基板１の端面には10μm 程度の厚さに樹脂層が形成さ
れ、かかる樹脂層は画素形成の現像で除去されない。
Ｇ，Ｂを形成するための樹脂膜は、一般にスピンコート
法により塗布するため、特に基板１が角形であるとき、
基板１の端面には10μm 程度の厚さに樹脂層が形成さ
れ、かかる樹脂層は画素形成の現像で除去されない。
【００２７】そのため、本発明方法では図４に示す如
く、搬送ベルト11にて基板１を搬送させる第２のリンス
工程装置に、スプレー８′からのリンス液９を基板１の
裏面に噴射すると共に、基板１の端面ブラッシング用回
転ブラシ12を設け、搬送ベルト11の往復動で基板１がブ
ラシ12の対向間を往復動するようにし、その往復動の中
間で基板１の向きを90度回転させることで、基板１の全
周をブラシ12で擦り端面に厚く付着した樹脂膜３の一部
を、強制除去するようにした。
く、搬送ベルト11にて基板１を搬送させる第２のリンス
工程装置に、スプレー８′からのリンス液９を基板１の
裏面に噴射すると共に、基板１の端面ブラッシング用回
転ブラシ12を設け、搬送ベルト11の往復動で基板１がブ
ラシ12の対向間を往復動するようにし、その往復動の中
間で基板１の向きを90度回転させることで、基板１の全
周をブラシ12で擦り端面に厚く付着した樹脂膜３の一部
を、強制除去するようにした。
【００２８】図５において、現像装置15は左端よりロー
ダ部16, コンベア部17, 第１のリンス部18，現像部19,
第２のリンス部20，スピンドライ部21, アンローダ部22
の結合体であり、ローダ部16からコンベア部17のキャリ
アに搭載された基板１は、第１のリンス部18にて酸化防
止膜４を除去し、現像部19にて樹脂膜３の感光部３aに
現像液を浸透せしめ、第２のリンス部20にて樹脂膜３の
感光部３a を除去したのち、スピンドライ部21にて乾燥
されアンローダ部22より搬出される。
ダ部16, コンベア部17, 第１のリンス部18，現像部19,
第２のリンス部20，スピンドライ部21, アンローダ部22
の結合体であり、ローダ部16からコンベア部17のキャリ
アに搭載された基板１は、第１のリンス部18にて酸化防
止膜４を除去し、現像部19にて樹脂膜３の感光部３aに
現像液を浸透せしめ、第２のリンス部20にて樹脂膜３の
感光部３a を除去したのち、スピンドライ部21にて乾燥
されアンローダ部22より搬出される。
【００２９】さらに、樹脂膜感光部３a を除去する第２
のリンス部20においては、基板１を上下方向に引っ繰り
返して樹脂膜３を下向きとし、その樹脂膜３にリンス液
９を噴射するようにすれば、基板１より剥がされた感光
部３a はリンス液９と共に落下し、スカムは一層排除さ
れ易くなる。
のリンス部20においては、基板１を上下方向に引っ繰り
返して樹脂膜３を下向きとし、その樹脂膜３にリンス液
９を噴射するようにすれば、基板１より剥がされた感光
部３a はリンス液９と共に落下し、スカムは一層排除さ
れ易くなる。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように本発明方法によれ
ば、感光性樹脂膜の露光処理後にまず酸素遮断膜を除去
し、次いで樹脂膜の感光部に現像液を浸透せしめ、しか
るのちのリンス工程でリンス液の噴射エネルギを利用し
現像液浸透済み感光部を除去するため、感光部を除去す
るリンス液の噴射は、従来方法における現像液の噴射よ
り強力にすることが可能となり感光部に対する剥離力が
高められると共に、剥離した感光部はリンス液と共に排
除されるようになり、スカムの完全除去を実現した効果
がある。
ば、感光性樹脂膜の露光処理後にまず酸素遮断膜を除去
し、次いで樹脂膜の感光部に現像液を浸透せしめ、しか
るのちのリンス工程でリンス液の噴射エネルギを利用し
現像液浸透済み感光部を除去するため、感光部を除去す
るリンス液の噴射は、従来方法における現像液の噴射よ
り強力にすることが可能となり感光部に対する剥離力が
高められると共に、剥離した感光部はリンス液と共に排
除されるようになり、スカムの完全除去を実現した効果
がある。
【図１】 本発明方法の基本工程の説明図である。
【図２】 本発明方法をカラーフィルタに適用した実施
例の主要工程の説明図である。
例の主要工程の説明図である。
【図３】 本発明方法において樹脂膜に現像液を浸透さ
せる実施例方法の説明図である。
せる実施例方法の説明図である。
【図４】 本発明方法において樹脂膜の感光部を除去す
るリンス方法の説明図である。
るリンス方法の説明図である。
【図５】 本発明方法の実施例による感光性樹脂膜現像
装置の全体の概略平面図である。
装置の全体の概略平面図である。
【図６】 液晶表示パネル用カラーフィルタの従来の主
要工程の説明図である。
要工程の説明図である。
１はガラス基板 ３は顔料入り感光性樹脂膜 ３ａは樹脂膜の不要部 ３ｂは樹脂膜よりの所要パターン（画素） ４は酸素遮断膜 Ｂは青色画素 Ｒは赤色画素 Ｇは緑色画素
Claims (2)
- 【請求項１】 基板(1) に顔料入りネガ型着色感光性樹
脂膜(3) を塗布し、該樹脂膜(3) の上に酸素遮断膜(4)
を塗布し、該酸素遮断膜(4) を通して該樹脂膜(3) に露
光処理を施し、第１のリンス工程で該酸素遮断膜(4) を
除去し、該樹脂膜(3) の感光部(3a)に現像液を浸透せし
め、リンス液を該樹脂膜(3) に噴射する第２のリンス工
程で該樹脂膜(3) の感光部(3a)を除去すること、を特徴
とする感光性樹脂膜の現像方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の第１のリンス工程および
第２のリンス工程において前記基板の樹脂膜(3) 塗布面
が下向きであること、を特徴とする請求項１記載の感光
性樹脂膜の現像方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13546392A JPH05333560A (ja) | 1992-05-28 | 1992-05-28 | 感光性樹脂膜の現像方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13546392A JPH05333560A (ja) | 1992-05-28 | 1992-05-28 | 感光性樹脂膜の現像方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05333560A true JPH05333560A (ja) | 1993-12-17 |
Family
ID=15152306
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13546392A Withdrawn JPH05333560A (ja) | 1992-05-28 | 1992-05-28 | 感光性樹脂膜の現像方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05333560A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11992892B2 (en) | 2018-02-09 | 2024-05-28 | Jfe Steel Corporation | Resistance spot welding method and method for producing resistance spot welded joint |
-
1992
- 1992-05-28 JP JP13546392A patent/JPH05333560A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11992892B2 (en) | 2018-02-09 | 2024-05-28 | Jfe Steel Corporation | Resistance spot welding method and method for producing resistance spot welded joint |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS57173806A (en) | Manufacture of color filter | |
| US5246804A (en) | Method of retouching pattern | |
| JPH05333560A (ja) | 感光性樹脂膜の現像方法 | |
| JP2806928B2 (ja) | 感光性樹脂層の形成法 | |
| JPS594820B2 (ja) | 色分離フイルタ−の製造法 | |
| JPH1195019A (ja) | カラーフィルタ支持基板の再生方法 | |
| JP2738430B2 (ja) | カラー液晶表示装置の製造法 | |
| KR100236299B1 (ko) | 발수제 처리에 의한 전계방출 발광소자의 형광막 제조방법 | |
| JPS63249802A (ja) | カラ−フイルタの製造方法 | |
| JPH10206627A (ja) | カラーフィルタ及びその製造方法 | |
| JPH05224013A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JPH06281808A (ja) | カラーフィルターの形成方法 | |
| JP3033632B2 (ja) | カラーフィルターおよび液晶表示素子の製造方法 | |
| JPH0440401A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JP2534852B2 (ja) | 多色表示装置の製造方法 | |
| JPH11160515A (ja) | オンチップカラーフィルターの製造方法 | |
| JPH05224015A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JPS62234103A (ja) | ポリイミド樹脂パタ−ンの形成方法 | |
| JP3461577B2 (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JP2668911B2 (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JPH11160524A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JPS63159810A (ja) | カラ−フイルタの製造方法 | |
| JP3051507B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
| JPH10198049A (ja) | レジストパターン形成方法、レジストパターン形成用現像装置、該方法によって形成されたカラーフィルター、液晶ディスプレイ | |
| JPH02827A (ja) | 遮光性絶縁膜によって分離された透明導電性パターンを有する透明基板および表面着色体の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990803 |