JPH05337413A - ロールコータによる基板表面への塗液塗布方法 - Google Patents
ロールコータによる基板表面への塗液塗布方法Info
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- JPH05337413A JPH05337413A JP4177382A JP17738292A JPH05337413A JP H05337413 A JPH05337413 A JP H05337413A JP 4177382 A JP4177382 A JP 4177382A JP 17738292 A JP17738292 A JP 17738292A JP H05337413 A JPH05337413 A JP H05337413A
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- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C1/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating
- B05C1/04—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating for applying liquid or other fluent material to work of indefinite length
- B05C1/08—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating for applying liquid or other fluent material to work of indefinite length using a roller or other rotating member which contacts the work along a generating line
- B05C1/0826—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating for applying liquid or other fluent material to work of indefinite length using a roller or other rotating member which contacts the work along a generating line the work being a web or sheets
- B05C1/0834—Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating for applying liquid or other fluent material to work of indefinite length using a roller or other rotating member which contacts the work along a generating line the work being a web or sheets the coating roller co-operating with other rollers, e.g. dosing, transfer rollers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/28—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by transfer from the surfaces of elements carrying the liquid or other fluent material, e.g. brushes, pads, rollers
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板の移送方向後端縁部における塗膜の盛り
上がりを少なくし、基板表面にフォトレジスト液を塗布
した場合において、焼付け及び現像処理したときに、基
板の後端縁部にレジスト現像残りが生じるのを防止す
る。 【構成】 アプリケータロール12の外周円筒面が基板１
の表面の移送方向後端付近と接触する時期において、ア
プリケータロールの回転速度を一定にしたまま、基板の
移送速度を速くするなどして、基板表面の移送方向後端
付近に付着する塗液の量を少なくする。
上がりを少なくし、基板表面にフォトレジスト液を塗布
した場合において、焼付け及び現像処理したときに、基
板の後端縁部にレジスト現像残りが生じるのを防止す
る。 【構成】 アプリケータロール12の外周円筒面が基板１
の表面の移送方向後端付近と接触する時期において、ア
プリケータロールの回転速度を一定にしたまま、基板の
移送速度を速くするなどして、基板表面の移送方向後端
付近に付着する塗液の量を少なくする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ロールコータを使用
し、ステージ上に吸着保持された基板、例えば液晶用ガ
ラス基板、イメージセンサ用基板、半導体基板等を水平
方向へ移送しながら、アプリケータロールを基板表面に
接触させ又は押し付けて回転させることにより、アプリ
ケータロールを介し基板表面に塗液、例えばフォトレジ
スト液、ポリイミド樹脂等を塗布して、基板表面に均一
かつ所定の膜厚の塗膜を形成する方法に関する。
し、ステージ上に吸着保持された基板、例えば液晶用ガ
ラス基板、イメージセンサ用基板、半導体基板等を水平
方向へ移送しながら、アプリケータロールを基板表面に
接触させ又は押し付けて回転させることにより、アプリ
ケータロールを介し基板表面に塗液、例えばフォトレジ
スト液、ポリイミド樹脂等を塗布して、基板表面に均一
かつ所定の膜厚の塗膜を形成する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の用途に使用されるロールコータ
は、例えば実開平２−１３３４７０号公報に開示されて
いるように、液晶用ガラス基板等の基板を吸着保持して
水平方向へ移送するステージ、フォトレジスト液等の塗
液を貯留する液溜部、及び、この液溜部から１個もしく
は数個の塗液供給用ロールを経るなどして供給される塗
液を外周円筒面に薄膜状に保持し、その外周円筒面の少
なくとも表層部分がゴム材等の弾性素材で形成されたア
プリケータロールなどを備えて構成されている。このロ
ールコータを使用して基板表面にフォトレジスト膜等の
所定の膜厚の塗膜を形成するには、ステージに吸着保持
されて水平方向へ移送される基板の表面に、アプリケー
タロールを回転させながらその外周円筒面を接触させ又
は押し付け、アプリケータロールの外周円筒面から基板
表面へ塗液が転移するようにされる。従って、アプリケ
ータロールの外周円筒面は基板表面に接触した状態にお
いて、又は、アプリケータロールの外周円筒面を基板表
面に押し付ける場合はそのアプリケータロールの外周円
筒面の一部が弾性変形した状態において、塗液の塗布が
行なわれることになる。
は、例えば実開平２−１３３４７０号公報に開示されて
いるように、液晶用ガラス基板等の基板を吸着保持して
水平方向へ移送するステージ、フォトレジスト液等の塗
液を貯留する液溜部、及び、この液溜部から１個もしく
は数個の塗液供給用ロールを経るなどして供給される塗
液を外周円筒面に薄膜状に保持し、その外周円筒面の少
なくとも表層部分がゴム材等の弾性素材で形成されたア
プリケータロールなどを備えて構成されている。このロ
ールコータを使用して基板表面にフォトレジスト膜等の
所定の膜厚の塗膜を形成するには、ステージに吸着保持
されて水平方向へ移送される基板の表面に、アプリケー
タロールを回転させながらその外周円筒面を接触させ又
は押し付け、アプリケータロールの外周円筒面から基板
表面へ塗液が転移するようにされる。従って、アプリケ
ータロールの外周円筒面は基板表面に接触した状態にお
いて、又は、アプリケータロールの外周円筒面を基板表
面に押し付ける場合はそのアプリケータロールの外周円
筒面の一部が弾性変形した状態において、塗液の塗布が
行なわれることになる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ロールコータを使用し
て基板の表面に塗液を塗布する従来の方法では、基板を
水平方向へ一定速度で移送するとともに、アプリケータ
ロールを一定速度で回転させながら、アプリケータロー
ルの外周円筒面を基板表面に接触させ又は押し付けるこ
とにより、アプリケータロールの外周円筒面から基板表
面へ塗液を転移させるようにしている。このため、従来
の塗布方法によった場合には、常に基板の周縁部、特
に、図５に示すように、基板１の、移送方向における後
端縁部に塗液が多く付着して突出部６が形成される。そ
して、この突出部６の厚みｔ’は、通常、基板１の中央
部分などに被着形成された塗膜５の厚みｔの１．５〜３
倍程度にもなる。ところが、従来は、このような現象は
ロールコータ法に固有のものであり、ロールコータの装
置自体に問題があるのではなく、ロールコータ法では避
け得ないことであるとして取り扱っていた。
て基板の表面に塗液を塗布する従来の方法では、基板を
水平方向へ一定速度で移送するとともに、アプリケータ
ロールを一定速度で回転させながら、アプリケータロー
ルの外周円筒面を基板表面に接触させ又は押し付けるこ
とにより、アプリケータロールの外周円筒面から基板表
面へ塗液を転移させるようにしている。このため、従来
の塗布方法によった場合には、常に基板の周縁部、特
に、図５に示すように、基板１の、移送方向における後
端縁部に塗液が多く付着して突出部６が形成される。そ
して、この突出部６の厚みｔ’は、通常、基板１の中央
部分などに被着形成された塗膜５の厚みｔの１．５〜３
倍程度にもなる。ところが、従来は、このような現象は
ロールコータ法に固有のものであり、ロールコータの装
置自体に問題があるのではなく、ロールコータ法では避
け得ないことであるとして取り扱っていた。
【０００４】しかしながら、基板の中央部分などに被着
している塗膜の厚みに比べて基板の移送方向後端縁部に
被着している塗膜の厚みが厚くなったままであると、塗
液としてフォトレジスト液を塗布するような場合におい
ては、塗液塗布工程に続いて行なわれる密着焼付け工程
において、露光用マスクとの十分な密着性が得られず、
焼付け品質が低下することになる。また、密着焼付け工
程後に行なわれる現像工程において、基板の移送方向後
端縁部で不要部位にレジスト現像残りが生じるといった
ことが起こる。
している塗膜の厚みに比べて基板の移送方向後端縁部に
被着している塗膜の厚みが厚くなったままであると、塗
液としてフォトレジスト液を塗布するような場合におい
ては、塗液塗布工程に続いて行なわれる密着焼付け工程
において、露光用マスクとの十分な密着性が得られず、
焼付け品質が低下することになる。また、密着焼付け工
程後に行なわれる現像工程において、基板の移送方向後
端縁部で不要部位にレジスト現像残りが生じるといった
ことが起こる。
【０００５】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、ロールコータを使用して基板の表面
に塗液を塗布する場合に、基板の移送方向後端縁部に被
着された塗膜の厚みが基板の中央部分などに被着された
塗膜の厚みに比べて不必要に厚くなることを防止するこ
とを技術的課題とする。
されたものであり、ロールコータを使用して基板の表面
に塗液を塗布する場合に、基板の移送方向後端縁部に被
着された塗膜の厚みが基板の中央部分などに被着された
塗膜の厚みに比べて不必要に厚くなることを防止するこ
とを技術的課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】基板をステージ上に保持
して水平方向へ移送し、その水平移送路の上方に配設さ
れ少なくとも表層部分が弾性を有するアプリケータロー
ルの外周円筒面に塗液を供給し、その外周円筒面を移送
中の基板の表面に押し付けながらアプリケータロールを
回転させ、基板表面に塗液を塗布する場合に、従来は基
板の移送速度及びアプリケータロールの回転速度をそれ
ぞれ一定としていたのを、この発明では、アプリケータ
ロールの外周円筒面が基板の表面の移送方向後端付近と
接触する時期において、それ以前に比べ、基板の移送速
度に対するアプリケータロールの回転速度が相対的に変
化するように制御するようにした。
して水平方向へ移送し、その水平移送路の上方に配設さ
れ少なくとも表層部分が弾性を有するアプリケータロー
ルの外周円筒面に塗液を供給し、その外周円筒面を移送
中の基板の表面に押し付けながらアプリケータロールを
回転させ、基板表面に塗液を塗布する場合に、従来は基
板の移送速度及びアプリケータロールの回転速度をそれ
ぞれ一定としていたのを、この発明では、アプリケータ
ロールの外周円筒面が基板の表面の移送方向後端付近と
接触する時期において、それ以前に比べ、基板の移送速
度に対するアプリケータロールの回転速度が相対的に変
化するように制御するようにした。
【０００７】アプリケータロールの外周円筒面が基板表
面の移送方向後端付近と接触する時期において基板の移
送速度に対するアプリケータロールの回転速度を相対的
に変化させるには、基板の移送速度を一定にし、アプリ
ケータロールの回転速度を遅くするか、アプリケータロ
ールの回転速度を一定にし、基板の移送速度を速くする
ようにすればよい。
面の移送方向後端付近と接触する時期において基板の移
送速度に対するアプリケータロールの回転速度を相対的
に変化させるには、基板の移送速度を一定にし、アプリ
ケータロールの回転速度を遅くするか、アプリケータロ
ールの回転速度を一定にし、基板の移送速度を速くする
ようにすればよい。
【０００８】また、別の構成として、アプリケータロー
ルの外周円筒面が基板の表面の移送方向後端付近と接触
する時期において、それ以前に比べ、アプリケータロー
ルの外周円筒面への塗液の供給量が少なくなるように制
御するようにする。
ルの外周円筒面が基板の表面の移送方向後端付近と接触
する時期において、それ以前に比べ、アプリケータロー
ルの外周円筒面への塗液の供給量が少なくなるように制
御するようにする。
【０００９】アプリケータロールの外周円筒面が基板表
面の移送方向後端付近と接触する時期においてアプリケ
ータロールの外周円筒面への塗液の供給量を少なくする
には、アプリケータロールの外周円筒面と、その外周円
筒面に近接して配設されたドクタとの間隔を狭くするよ
うにすればよい。
面の移送方向後端付近と接触する時期においてアプリケ
ータロールの外周円筒面への塗液の供給量を少なくする
には、アプリケータロールの外周円筒面と、その外周円
筒面に近接して配設されたドクタとの間隔を狭くするよ
うにすればよい。
【００１０】
【作用】アプリケータロールの外周円筒面が基板の表面
の移送方向後端付近と接触する時期において、それ以前
に比べ、基板の移送速度に対するアプリケータロールの
回転速度が相対的に変化するように制御され、或いは、
アプリケータロールの外周円筒面への塗液の供給量が少
なくなるように制御されるため、アプリケータロールの
外周円筒面から転移されて基板表面の移送方向後端付近
に付着する塗液の量が、基板の中央部分などに付着する
塗液の量に比べて少なくなる。このため、図４に示すよ
うに、基板１の移送方向後端付近において、基板１の中
央部分などに被着形成された塗膜２の厚みより薄い塗膜
部分３が生じるとともに、基板１の移送方向後端縁部に
突出部４が形成される。このように、基板１の移送方向
後端縁部の突出部４は、基板１の中央部分などに被着形
成された塗膜２の厚みより薄い塗膜部分３の端縁部に生
じるので、その突出部４の厚みｔ’は、基板１の中央部
分などに被着形成された塗膜２の厚みｔに比べてそれ程
厚くならない。
の移送方向後端付近と接触する時期において、それ以前
に比べ、基板の移送速度に対するアプリケータロールの
回転速度が相対的に変化するように制御され、或いは、
アプリケータロールの外周円筒面への塗液の供給量が少
なくなるように制御されるため、アプリケータロールの
外周円筒面から転移されて基板表面の移送方向後端付近
に付着する塗液の量が、基板の中央部分などに付着する
塗液の量に比べて少なくなる。このため、図４に示すよ
うに、基板１の移送方向後端付近において、基板１の中
央部分などに被着形成された塗膜２の厚みより薄い塗膜
部分３が生じるとともに、基板１の移送方向後端縁部に
突出部４が形成される。このように、基板１の移送方向
後端縁部の突出部４は、基板１の中央部分などに被着形
成された塗膜２の厚みより薄い塗膜部分３の端縁部に生
じるので、その突出部４の厚みｔ’は、基板１の中央部
分などに被着形成された塗膜２の厚みｔに比べてそれ程
厚くならない。
【００１１】
【実施例】以下、この発明の好適な実施例について説明
する。
する。
【００１２】図１は、この発明に係る、基板表面への塗
液塗布方法を実施するのに使用するロールコータの１構
成例を示す要部斜視図である。また、図２及び図３はそ
れぞれ、ロールコータにより基板、例えば液晶用ガラス
基板の表面に塗液、例えばフォトレジスト液を塗布する
操作を説明するための模式図である。
液塗布方法を実施するのに使用するロールコータの１構
成例を示す要部斜視図である。また、図２及び図３はそ
れぞれ、ロールコータにより基板、例えば液晶用ガラス
基板の表面に塗液、例えばフォトレジスト液を塗布する
操作を説明するための模式図である。
【００１３】図１に示したロールコータ10は、アプリケ
ータロール12と、このアプリケータロール12の上方に、
同一水平面内において互いに平行に配設され、互いに外
周円筒面同士が近接するとともに、一方の外周円筒面が
アプリケータロール12の外周円筒面に接触もしくは近接
した一対の塗液供給用ロール14、16とを有している。そ
して、塗液供給用ロール14、16の当接部上部に形成され
る液溜部48へ図示しない塗液供給源から塗液が供給され
て、その液溜部48に塗液が貯留され、ロール14の回転動
作に伴って液溜部48からアプリケータロール12の外周円
筒面へ塗液が供給されるようになっている。それら３本
のロール12、14、16は、左右の支持板18、20に軸着され
ており、一方の支持板20には、アプリケータロール12を
回転駆動させる駆動モータ22が装着されている。また、
両支持板18、20は、駆動モータ24、この駆動モータ24の
回転軸に固着されたウォームギヤ26、このウォームギヤ
26にそれぞれ噛合した左右のウォームホイール28、30、
及び、それぞれ各ウォームホイールの中央部に形成され
た雌ネジに螺合する雄ネジ部を有し、左右の固定部材3
6、38に形設された貫通孔に摺動自在に挿通されその上
端部が各支持板18、20に当接してこれを支持する左右の
鉛直ロッド32、34からなる上下動駆動機構により、支軸
49、49を支点として上下方向へ同時に揺動させられるよ
うになっている。また、両支持板18、20は、各固定部材
36、38にそれぞれ固着された左右の付勢装置40、42によ
って常時下方へ付勢されている。そして、アプリケータ
ロール12の直下位置を通って水平方向に、かつアプリケ
ータロール12と直交する方向にレール44が配設されてお
り、このレール44に案内され図示しない駆動機構により
駆動されて水平方向へ往復移動自在とされた基板移送用
ステージ46が設けられている。ステージ46には吸着保持
機構が内蔵されており、ステージ46の上面に多数個形成
された吸着孔（図示せず）を介してステージ46上に基板
１が吸着保持されるようになっている。
ータロール12と、このアプリケータロール12の上方に、
同一水平面内において互いに平行に配設され、互いに外
周円筒面同士が近接するとともに、一方の外周円筒面が
アプリケータロール12の外周円筒面に接触もしくは近接
した一対の塗液供給用ロール14、16とを有している。そ
して、塗液供給用ロール14、16の当接部上部に形成され
る液溜部48へ図示しない塗液供給源から塗液が供給され
て、その液溜部48に塗液が貯留され、ロール14の回転動
作に伴って液溜部48からアプリケータロール12の外周円
筒面へ塗液が供給されるようになっている。それら３本
のロール12、14、16は、左右の支持板18、20に軸着され
ており、一方の支持板20には、アプリケータロール12を
回転駆動させる駆動モータ22が装着されている。また、
両支持板18、20は、駆動モータ24、この駆動モータ24の
回転軸に固着されたウォームギヤ26、このウォームギヤ
26にそれぞれ噛合した左右のウォームホイール28、30、
及び、それぞれ各ウォームホイールの中央部に形成され
た雌ネジに螺合する雄ネジ部を有し、左右の固定部材3
6、38に形設された貫通孔に摺動自在に挿通されその上
端部が各支持板18、20に当接してこれを支持する左右の
鉛直ロッド32、34からなる上下動駆動機構により、支軸
49、49を支点として上下方向へ同時に揺動させられるよ
うになっている。また、両支持板18、20は、各固定部材
36、38にそれぞれ固着された左右の付勢装置40、42によ
って常時下方へ付勢されている。そして、アプリケータ
ロール12の直下位置を通って水平方向に、かつアプリケ
ータロール12と直交する方向にレール44が配設されてお
り、このレール44に案内され図示しない駆動機構により
駆動されて水平方向へ往復移動自在とされた基板移送用
ステージ46が設けられている。ステージ46には吸着保持
機構が内蔵されており、ステージ46の上面に多数個形成
された吸着孔（図示せず）を介してステージ46上に基板
１が吸着保持されるようになっている。
【００１４】また、図２に示したロールコータは、アプ
リケータロール12と、外周円筒面に切欠き段差部が形成
された固定のナイフロール50及びこのナイフロール50と
近接するとともにアプリケータロール12に接触又は近接
してアプリケータロール12と同一方向に回転するメタル
ロール52とを備えて構成されており、ナイフロール50と
メタルロール52との近接部上部に塗液の液溜部54が形成
されるようになっている。さらに、メタルロール52には
スクレーパバー56が付設されている。また、図３に示し
たロールコータは、アプリケータロール12、塗液の液溜
槽60、この液溜槽60の上方に近接して配設された回転自
在のグラビアロール62、このグラビアロール62及びアプ
リケータロール12にそれぞれ接触して回転するオフセッ
トゴムロール64、並びに、オフセットゴムロール64に付
設されたスクレーパロール66を備えて構成されている。
リケータロール12と、外周円筒面に切欠き段差部が形成
された固定のナイフロール50及びこのナイフロール50と
近接するとともにアプリケータロール12に接触又は近接
してアプリケータロール12と同一方向に回転するメタル
ロール52とを備えて構成されており、ナイフロール50と
メタルロール52との近接部上部に塗液の液溜部54が形成
されるようになっている。さらに、メタルロール52には
スクレーパバー56が付設されている。また、図３に示し
たロールコータは、アプリケータロール12、塗液の液溜
槽60、この液溜槽60の上方に近接して配設された回転自
在のグラビアロール62、このグラビアロール62及びアプ
リケータロール12にそれぞれ接触して回転するオフセッ
トゴムロール64、並びに、オフセットゴムロール64に付
設されたスクレーパロール66を備えて構成されている。
【００１５】上記したような構成のロールコータを使用
し、以下に示すような方法によって基板表面に塗液を塗
布する。
し、以下に示すような方法によって基板表面に塗液を塗
布する。
【００１６】基板移送用ステージ46の吸着保持機構によ
ってステージ46上に基板１を吸着保持し、ステージ46を
水平方向へ移動させて、図２及び図３にそれぞれ二点鎖
線で示すように基板１をアプリケータロール12の直下位
置へ移送する。当初、アプリケータロール12は、その外
周円筒面の最下部が基板１の表面より僅かに高い位置、
例えば１mm程度高い位置で待機し、かつ、図２及び図３
において矢印で示した方向に回転し（図２及び図３は、
リバース式アプリケータを行なう場合を例示してい
る）、その外周円筒面に所定厚みの塗液の薄膜が被着保
持されている。そして、基板１を移送するとともに、ア
プリケータロール12を待機位置から下方へ移動させ、基
板１の前端が、アプリケータロール12の回転軸を通る鉛
直線上の地点すなわちアプリケータロール12の最下部を
通過した時点で、アプリケータロール12を基板１の表面
に接触させる。アプリケータロール12が基板１の表面に
接触した後、引き続いてアプリケータロール12を下方へ
移動させ、アプリケータロール12を基板１表面に対し押
し込む。そして、アプリケータロール12が所定の押込み
量だけ押し込まれた時点で、アプリケータロール12の下
方への移動を停止させる。
ってステージ46上に基板１を吸着保持し、ステージ46を
水平方向へ移動させて、図２及び図３にそれぞれ二点鎖
線で示すように基板１をアプリケータロール12の直下位
置へ移送する。当初、アプリケータロール12は、その外
周円筒面の最下部が基板１の表面より僅かに高い位置、
例えば１mm程度高い位置で待機し、かつ、図２及び図３
において矢印で示した方向に回転し（図２及び図３は、
リバース式アプリケータを行なう場合を例示してい
る）、その外周円筒面に所定厚みの塗液の薄膜が被着保
持されている。そして、基板１を移送するとともに、ア
プリケータロール12を待機位置から下方へ移動させ、基
板１の前端が、アプリケータロール12の回転軸を通る鉛
直線上の地点すなわちアプリケータロール12の最下部を
通過した時点で、アプリケータロール12を基板１の表面
に接触させる。アプリケータロール12が基板１の表面に
接触した後、引き続いてアプリケータロール12を下方へ
移動させ、アプリケータロール12を基板１表面に対し押
し込む。そして、アプリケータロール12が所定の押込み
量だけ押し込まれた時点で、アプリケータロール12の下
方への移動を停止させる。
【００１７】アプリケータロール12を基板１の表面に対
して押し込んだ状態で、基板１を水平方向へ移動させな
がらアプリケータロール12を回転させることにより、基
板１の表面に均一な厚みで塗液を塗布する。この過程で
は、ステージ46は一定速度で水平移動させられるととも
に、アプリケータロール12は一定速度で回転させられ
る。そして、図２及び図３にそれぞれ実線で示すよう
に、アプリケータロール12の外周円筒面が基板１の表面
の移送方向後端付近と接触する時点、例えば基板１の移
送方向後端から約５mm前方の位置と接触する時点で、ア
プリケータロールの回転速度を一定にしたままステージ
46の移動速度がそれまでより速くなるように速度制御す
る。基板１の表面への塗液の塗布が終了すると、アプリ
ケータロール12を上方へ移動させて上記待機位置まで引
き上げる。
して押し込んだ状態で、基板１を水平方向へ移動させな
がらアプリケータロール12を回転させることにより、基
板１の表面に均一な厚みで塗液を塗布する。この過程で
は、ステージ46は一定速度で水平移動させられるととも
に、アプリケータロール12は一定速度で回転させられ
る。そして、図２及び図３にそれぞれ実線で示すよう
に、アプリケータロール12の外周円筒面が基板１の表面
の移送方向後端付近と接触する時点、例えば基板１の移
送方向後端から約５mm前方の位置と接触する時点で、ア
プリケータロールの回転速度を一定にしたままステージ
46の移動速度がそれまでより速くなるように速度制御す
る。基板１の表面への塗液の塗布が終了すると、アプリ
ケータロール12を上方へ移動させて上記待機位置まで引
き上げる。
【００１８】上記したように基板１の水平移動及びアプ
リケータロール12の上下移動を制御するには、例えば、
アプリケータロール12の上下動駆動機構の駆動モータ24
及び基板移送用ステージ46の駆動機構の駆動モータ（図
示せず）をそれぞれ制御して、アプリケータロール12の
上下方向への移動速度とステージ46の水平方向への移送
速度とを相互に調節するとともに、各駆動モータのエン
コーダ（図示せず）からの信号によってアプリケータロ
ール12及びステージ46の位置を検出し、それに基づいて
アプリケータロール12とステージ46とのタイミングを合
わせるようにするとともに、ステージ46が水平移送路上
の所定位置に達した時点で速度が切り替わるようにして
おく。また、基板１の長さを制御装置に入力しておい
て、適切な時機に、上下動駆動機構によりアプリケータ
ロール12を引き上げるとともに、ステージ46の速度を切
り替えるようにする。
リケータロール12の上下移動を制御するには、例えば、
アプリケータロール12の上下動駆動機構の駆動モータ24
及び基板移送用ステージ46の駆動機構の駆動モータ（図
示せず）をそれぞれ制御して、アプリケータロール12の
上下方向への移動速度とステージ46の水平方向への移送
速度とを相互に調節するとともに、各駆動モータのエン
コーダ（図示せず）からの信号によってアプリケータロ
ール12及びステージ46の位置を検出し、それに基づいて
アプリケータロール12とステージ46とのタイミングを合
わせるようにするとともに、ステージ46が水平移送路上
の所定位置に達した時点で速度が切り替わるようにして
おく。また、基板１の長さを制御装置に入力しておい
て、適切な時機に、上下動駆動機構によりアプリケータ
ロール12を引き上げるとともに、ステージ46の速度を切
り替えるようにする。
【００１９】以上のように、アプリケータロール12の外
周円筒面が基板１の表面の移送方向後端付近と接触する
時期において、それ以前に比べ、基板１の移送速度が速
くなるように制御されることにより、アプリケータロー
ル12の外周円筒面から基板１の表面に転移されて基板１
表面の移送方向後端付近に付着する塗液の量が、基板の
中央部分などに付着する塗液の量に比べて少なくなる。
この結果、図４に示すように、基板１の移送方向後端縁
部に盛り上がる塗液の量も少なくなって、基板１の移送
方向後端縁部に形成される突出部４の厚み（高さ）ｔ’
は、基板１の中央部分などに被着形成された塗膜２の厚
みｔに比べてそれ程厚くならない。
周円筒面が基板１の表面の移送方向後端付近と接触する
時期において、それ以前に比べ、基板１の移送速度が速
くなるように制御されることにより、アプリケータロー
ル12の外周円筒面から基板１の表面に転移されて基板１
表面の移送方向後端付近に付着する塗液の量が、基板の
中央部分などに付着する塗液の量に比べて少なくなる。
この結果、図４に示すように、基板１の移送方向後端縁
部に盛り上がる塗液の量も少なくなって、基板１の移送
方向後端縁部に形成される突出部４の厚み（高さ）ｔ’
は、基板１の中央部分などに被着形成された塗膜２の厚
みｔに比べてそれ程厚くならない。
【００２０】尚、上記実施例では、アプリケータロール
12を基板１に接触させてから所定量押し込む場合につい
て説明したが、要求される塗膜の膜厚や塗液の種類に応
じ、例えばより小さな膜厚が必要になる場合などにおい
て、アプリケータロールを基板表面に接触させた後押し
込まないで、つまり押込み量＝０でコーティングを行な
うようにしてもよい。すなわち、アプリケータロール12
が基板１の表面に接触した後、アプリケータロール12の
下方への移動を停止させるようにしてもよい。
12を基板１に接触させてから所定量押し込む場合につい
て説明したが、要求される塗膜の膜厚や塗液の種類に応
じ、例えばより小さな膜厚が必要になる場合などにおい
て、アプリケータロールを基板表面に接触させた後押し
込まないで、つまり押込み量＝０でコーティングを行な
うようにしてもよい。すなわち、アプリケータロール12
が基板１の表面に接触した後、アプリケータロール12の
下方への移動を停止させるようにしてもよい。
【００２１】次に、従来の方法によって基板表面に塗液
を塗布した場合と、この発明に係る方法によって基板表
面に塗液を塗布した場合とにおける、それぞれの塗膜の
形成状態を比較した実験結果について説明する。ロール
コータは、図２に示した構成のものを使用した。従来方
法によったときの条件は、メタルロール52及びアプリケ
ータロール12の各周速度をそれぞれ３．５ｍ／分及び
４．５ｍ／分と一定とし、また、基板１（ステージ46）
の水平移動速度を５．２５ｍ／分と一定とした。一方、
この発明に係る方法によったときの条件は、メタルロー
ル52及びアプリケータロール12の各周速度を上記と同様
にそれぞれ３．５ｍ／分及び４．５ｍ／分と一定とし、
また、基板１（ステージ46）の水平移動速度を、最初は
５．２５ｍ／分とし、アプリケータロール12の外周円筒
面が基板１の表面の移送方向後端付近と接触する時点で
８ｍ／分に切り替えるようにした。
を塗布した場合と、この発明に係る方法によって基板表
面に塗液を塗布した場合とにおける、それぞれの塗膜の
形成状態を比較した実験結果について説明する。ロール
コータは、図２に示した構成のものを使用した。従来方
法によったときの条件は、メタルロール52及びアプリケ
ータロール12の各周速度をそれぞれ３．５ｍ／分及び
４．５ｍ／分と一定とし、また、基板１（ステージ46）
の水平移動速度を５．２５ｍ／分と一定とした。一方、
この発明に係る方法によったときの条件は、メタルロー
ル52及びアプリケータロール12の各周速度を上記と同様
にそれぞれ３．５ｍ／分及び４．５ｍ／分と一定とし、
また、基板１（ステージ46）の水平移動速度を、最初は
５．２５ｍ／分とし、アプリケータロール12の外周円筒
面が基板１の表面の移送方向後端付近と接触する時点で
８ｍ／分に切り替えるようにした。
【００２２】従来の方法によって基板表面に塗液を塗布
した場合には、図５に示すように、基板１の中央部分な
どに被着形成された塗膜５の厚みｔが１．９５μｍであ
ったのに対し、基板１の移送方向後端縁部の突出部６の
厚みｔ’は３．１６μｍであった（ｔ’＝１．６２
ｔ）。これに対し、この発明に係る方法によった場合に
は、図４に示すように、基板１の中央部分などに被着形
成された塗膜２の厚みｔが１．９５μｍであったのに対
し、基板１の移送方向後端縁部の突出部４の厚みｔ’は
２．０３μｍであった（ｔ’＝１．０４ｔ）。
した場合には、図５に示すように、基板１の中央部分な
どに被着形成された塗膜５の厚みｔが１．９５μｍであ
ったのに対し、基板１の移送方向後端縁部の突出部６の
厚みｔ’は３．１６μｍであった（ｔ’＝１．６２
ｔ）。これに対し、この発明に係る方法によった場合に
は、図４に示すように、基板１の中央部分などに被着形
成された塗膜２の厚みｔが１．９５μｍであったのに対
し、基板１の移送方向後端縁部の突出部４の厚みｔ’は
２．０３μｍであった（ｔ’＝１．０４ｔ）。
【００２３】上記した説明では、アプリケータロールの
外周円筒面が基板の表面の移送方向後端付近と接触する
時期において、アプリケータロールの回転速度を一定の
ままにして基板の移送速度を速くするようにし、これに
より、基板表面の移送方向後端付近に被着形成される塗
膜の厚みが基板の中央部分などに比べて薄くなるように
して、基板の後端縁部における塗膜の盛り上がりが少な
くなるようにしたが、基板表面の移送方向後端付近に被
着形成される塗膜の厚みが基板の中央部分などに比べて
薄くなるようにするには、アプリケータロールの外周円
筒面が基板の表面の移送方向後端付近と接触する時期に
おいて、基板の移送速度を一定のままにしてアプリケー
タロールの回転速度を遅くするようにしてもよい。
外周円筒面が基板の表面の移送方向後端付近と接触する
時期において、アプリケータロールの回転速度を一定の
ままにして基板の移送速度を速くするようにし、これに
より、基板表面の移送方向後端付近に被着形成される塗
膜の厚みが基板の中央部分などに比べて薄くなるように
して、基板の後端縁部における塗膜の盛り上がりが少な
くなるようにしたが、基板表面の移送方向後端付近に被
着形成される塗膜の厚みが基板の中央部分などに比べて
薄くなるようにするには、アプリケータロールの外周円
筒面が基板の表面の移送方向後端付近と接触する時期に
おいて、基板の移送速度を一定のままにしてアプリケー
タロールの回転速度を遅くするようにしてもよい。
【００２４】また、アプリケータロールの外周円筒面が
基板の表面の移送方向後端付近と接触する時期におい
て、それ以前に比べ、アプリケータロールの外周円筒面
への塗液の供給量が少なくなるように制御するようにし
ても、基板表面の移送方向後端付近に被着形成される塗
膜の厚みが基板の中央部分などに比べて薄くなる。塗液
供給用ロールからアプリケータロールの外周円筒面への
塗液の供給量が少なくなるようにするには、例えば図２
に示した構成のロールコータにおいて、ドクタとしての
ナイフロール50をメタルロール52に対して所定範囲内で
近接離反可能に設け、アプリケータロール12の外周円筒
面が基板１の表面の移送方向後端付近と接触する時期に
おいて、メタルロール52の外周円筒面とナイフロール50
の外周円筒面との間隔を狭くするように制御すればよ
い。尚、メタルロール52からアプリケータロール12への
塗液の供給量の制御のために用いられるドクタとして
は、上記ナイフロール50のようなロールに限らず、ドク
タバー等、他の汎用されるドクタを用いてもよい。
基板の表面の移送方向後端付近と接触する時期におい
て、それ以前に比べ、アプリケータロールの外周円筒面
への塗液の供給量が少なくなるように制御するようにし
ても、基板表面の移送方向後端付近に被着形成される塗
膜の厚みが基板の中央部分などに比べて薄くなる。塗液
供給用ロールからアプリケータロールの外周円筒面への
塗液の供給量が少なくなるようにするには、例えば図２
に示した構成のロールコータにおいて、ドクタとしての
ナイフロール50をメタルロール52に対して所定範囲内で
近接離反可能に設け、アプリケータロール12の外周円筒
面が基板１の表面の移送方向後端付近と接触する時期に
おいて、メタルロール52の外周円筒面とナイフロール50
の外周円筒面との間隔を狭くするように制御すればよ
い。尚、メタルロール52からアプリケータロール12への
塗液の供給量の制御のために用いられるドクタとして
は、上記ナイフロール50のようなロールに限らず、ドク
タバー等、他の汎用されるドクタを用いてもよい。
【００２５】
【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
かつ作用するので、この発明に係る方法によりロールコ
ータを使用して基板表面に塗液を塗布するときは、基板
の移送方向後端縁部における塗膜の盛り上がりが従来方
法によった場合に比べて少なくなり、このため、塗液と
してフォトレジスト液を塗布するような場合において
は、塗液塗布工程に続いて行なわれる密着焼付け工程に
おいて、露光用マスクとの十分な密着性が得られること
となり、焼付け品質の低下を防止することができ、ま
た、密着焼付け工程後に行なわれる現像工程において、
基板の移送方向後端縁部にレジスト現像残りが生じると
いったことを防止することができる。
かつ作用するので、この発明に係る方法によりロールコ
ータを使用して基板表面に塗液を塗布するときは、基板
の移送方向後端縁部における塗膜の盛り上がりが従来方
法によった場合に比べて少なくなり、このため、塗液と
してフォトレジスト液を塗布するような場合において
は、塗液塗布工程に続いて行なわれる密着焼付け工程に
おいて、露光用マスクとの十分な密着性が得られること
となり、焼付け品質の低下を防止することができ、ま
た、密着焼付け工程後に行なわれる現像工程において、
基板の移送方向後端縁部にレジスト現像残りが生じると
いったことを防止することができる。
【図１】この発明に係る、基板表面への塗液塗布方法を
実施するのに使用するロールコータの１構成例を示す要
部斜視図である。
実施するのに使用するロールコータの１構成例を示す要
部斜視図である。
【図２】ロールコータにより基板表面に塗液を塗布する
操作を説明するための模式図である。
操作を説明するための模式図である。
【図３】別の構成に係るロールコータにより基板表面に
塗液を塗布する操作を説明するための模式図である。
塗液を塗布する操作を説明するための模式図である。
【図４】この発明に係る方法によって塗液が塗布された
基板表面の塗布状態を示す一部省略側面図である。
基板表面の塗布状態を示す一部省略側面図である。
【図５】従来の方法によって塗液が塗布された基板表面
の塗布状態を示す一部省略側面図である。
の塗布状態を示す一部省略側面図である。
１ 基板 ２ 塗膜 ４ 塗膜突出部 10 ロールコータ 12 アプリケータロール 46 ステージ 52 メタルロール（塗液供給用ロール） 64 オフセットゴムロール（塗液供給用ロール）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027
Claims (5)
- 【請求項１】 基板をステージ上に保持して水平方向へ
移送し、その水平移送路の上方に配設され、少なくとも
表層部分が弾性を有するアプリケータロールの外周円筒
面に塗液を供給し、水平方向へ移送される前記基板の表
面に前記アプリケータロールの外周円筒面を接触させ又
は押し付けながら回転させることにより、基板表面に塗
液を塗布する方法において、前記アプリケータロールの
外周円筒面が前記基板の表面の移送方向後端付近と接触
する時期において、それ以前に比べ、基板の移送速度に
対するアプリケータロールの回転速度が相対的に変化す
るように制御することを特徴とする、ロールコータによ
る基板表面への塗液塗布方法。 - 【請求項２】 基板の移送速度を一定にし、アプリケー
タロールの回転速度を、アプリケータロールの外周円筒
面が基板の表面の移送方向後端付近と接触する時期にお
いて遅くするように制御する請求項１記載の、ロールコ
ータによる基板表面への塗液塗布方法。 - 【請求項３】 アプリケータロールの回転速度を一定に
し、基板の移送速度を、アプリケータロールの外周円筒
面が基板の表面の移送方向後端付近と接触する時期にお
いて速くするように制御する請求項１記載の、ロールコ
ータによる基板表面への塗液塗布方法。 - 【請求項４】 基板をステージ上に保持して水平方向へ
移送し、その水平移送路の上方に配設され少なくとも表
層部分が弾性を有するアプリケータロールの外周円筒面
に塗液を供給し、水平方向へ移送される前記基板の表面
に前記アプリケータロールの外周円筒面を接触又は押し
付けながら回転させることにより、基板表面に塗液を塗
布する方法において、前記アプリケータロールの外周円
筒面が前記基板の表面の移送方向後端付近と接触する時
期において、それ以前に比べ、アプリケータロールの外
周円筒面への塗液の供給量が少なくなるように制御する
ことを特徴とする、ロールコータによる基板表面への塗
液塗布方法。 - 【請求項５】 アプリケータロールの外周円筒面に対し
外周円筒面が接触もしくは近接して配設された塗液供給
用ロールと、前記塗液供給用ロールから前記アプリケー
タロールへ供給される塗液の量を制御するように前記塗
液供給用ロールの外周円筒面に近接して配設されたドク
タとを用い、アプリケータロールの外周円筒面が基板の
表面の移送方向後端付近と接触する時期において塗液供
給用ロールの外周円筒面と前記ドクタとの間隔を狭くす
るように制御する請求項４記載の、ロールコータによる
基板表面への塗液塗布方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4177382A JP2813511B2 (ja) | 1992-06-10 | 1992-06-10 | ロールコータによる基板表面への塗液塗布方法 |
| KR1019930010453A KR960005504B1 (ko) | 1992-06-10 | 1993-06-09 | 롤 코터를 사용하여 기판표면상에 박막을 형성하는 방법 |
| US08/397,545 US5631048A (en) | 1992-06-10 | 1995-02-28 | Method of forming a thin film on the surface of a substrate using a roll coater |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4177382A JP2813511B2 (ja) | 1992-06-10 | 1992-06-10 | ロールコータによる基板表面への塗液塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05337413A true JPH05337413A (ja) | 1993-12-21 |
| JP2813511B2 JP2813511B2 (ja) | 1998-10-22 |
Family
ID=16029966
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4177382A Expired - Fee Related JP2813511B2 (ja) | 1992-06-10 | 1992-06-10 | ロールコータによる基板表面への塗液塗布方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5631048A (ja) |
| JP (1) | JP2813511B2 (ja) |
| KR (1) | KR960005504B1 (ja) |
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| EP0878245A3 (en) * | 1997-05-15 | 2000-11-02 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | Thin film-forming method and apparatus therefor |
| JP2022189078A (ja) * | 2021-06-10 | 2022-12-22 | 新東工業株式会社 | 付加製造装置及び付加製造方法 |
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| KR100669053B1 (ko) * | 1999-04-23 | 2007-01-15 | 알자 코포레이션 | 리포좀에 사용하기 위한 절단가능 결합을 갖는 콘쥬게이트 |
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| JP2008500465A (ja) | 2004-05-25 | 2008-01-10 | クスターズ ジーマ コーポレイション | カーペットバッキング用のポリウレタンローラコーティング装置 |
| KR100780718B1 (ko) | 2004-12-28 | 2007-12-26 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 도포액 공급장치를 구비한 슬릿코터 |
| KR100675643B1 (ko) | 2004-12-31 | 2007-02-02 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 슬릿코터 |
| KR100700181B1 (ko) | 2004-12-31 | 2007-03-27 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 노즐대기부를 구비한 슬릿코터 및 이를 이용한 코팅방법 |
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1992
- 1992-06-10 JP JP4177382A patent/JP2813511B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-06-09 KR KR1019930010453A patent/KR960005504B1/ko not_active Expired - Fee Related
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1995
- 1995-02-28 US US08/397,545 patent/US5631048A/en not_active Expired - Fee Related
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| KR960005504B1 (ko) | 1996-04-25 |
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