JPH05345773A - 新規なα−メチレン−４−［（フェノキシ）メチル−５−チアゾール酢酸誘導体、それらの製造法及びこの製造法の中間体、それらの殺菌剤としての使用並びにそれらを含む組成物 - Google Patents
新規なα−メチレン−４−［（フェノキシ）メチル−５−チアゾール酢酸誘導体、それらの製造法及びこの製造法の中間体、それらの殺菌剤としての使用並びにそれらを含む組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、α−メチレン−４−［（フェノキ
シ）メチル］−５−チアゾール酢酸誘導体、それらの製
造法及びそれらからなる殺菌剤を提供する。 【構成】 本発明のα−メチレン−４−［（フェノキ
シ）メチル］−５−チアゾール酢酸誘導体は、次式
（Ｉ） 【化１】 （ここで、Ａｒは非置換又は置換フェニル基を表わし、
Ｚは水素原子、塩素原子、トリフルオルメチル基、又は
直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル、アルキルオキシ若
しくはアルキルチオ基を表わし、Ｒ1 及びＲ2 は直鎖状
又は分岐鎖状アルキル基を表わし、環外の二重結合は
（Ｚ）配置又は（Ｅ）配置にある）を有する。
シ）メチル］−５−チアゾール酢酸誘導体、それらの製
造法及びそれらからなる殺菌剤を提供する。 【構成】 本発明のα−メチレン−４−［（フェノキ
シ）メチル］−５−チアゾール酢酸誘導体は、次式
（Ｉ） 【化１】 （ここで、Ａｒは非置換又は置換フェニル基を表わし、
Ｚは水素原子、塩素原子、トリフルオルメチル基、又は
直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル、アルキルオキシ若
しくはアルキルチオ基を表わし、Ｒ1 及びＲ2 は直鎖状
又は分岐鎖状アルキル基を表わし、環外の二重結合は
（Ｚ）配置又は（Ｅ）配置にある）を有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、新規なα−メチレン
−４−［（フェノキシ）メチル］−５−チアゾール酢酸
誘導体、それらの製造法及びこの製造法の中間体、それ
らの殺菌剤としての使用並びにそれらを含む組成物に関
する。
−４−［（フェノキシ）メチル］−５−チアゾール酢酸
誘導体、それらの製造法及びこの製造法の中間体、それ
らの殺菌剤としての使用並びにそれらを含む組成物に関
する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】しかして、本発明の主
題は、次式（Ｉ）
題は、次式（Ｉ）
【化１４】 （ここで、Ａｒは非置換フェニル基又はハロゲン原子、
メチレンジオキシ基、フェニル基、フェノキシ基、トリ
フルオルメチル基、１〜６個の炭素原子を含有する直鎖
状若しくは分岐鎖状アルキル基、１〜６個の炭素原子を
含有する直鎖状若しくは分岐鎖状アルキルオキシ基若し
くは１〜６個の炭素原子を含有する直鎖状若しくは分岐
鎖状アルキルチオ基のうちから選択される１個以上の同
一若しくは異なる基で置換されたフェニル基を表わし、
Ｚは水素原子、塩素原子、トリフルオルメチル基、１〜
６個の炭素原子を含有する直鎖状若しくは分岐鎖状アル
キル基、１〜６個の炭素原子を含有する直鎖状若しくは
分岐鎖状アルキルオキシ基又は１〜６個の炭素原子を含
有する直鎖状若しくは分岐鎖状アルキルチオ基を表わ
し、Ｒ1 及びＲ2 は、同一であっても異なっていてもよ
く、互いに独立して１〜６個の炭素原子を含有する直鎖
状又は分岐鎖状アルキル基を表わし、環外の二重結合は
（Ｚ）配置又は（Ｅ）配置にある）の化合物にある。
メチレンジオキシ基、フェニル基、フェノキシ基、トリ
フルオルメチル基、１〜６個の炭素原子を含有する直鎖
状若しくは分岐鎖状アルキル基、１〜６個の炭素原子を
含有する直鎖状若しくは分岐鎖状アルキルオキシ基若し
くは１〜６個の炭素原子を含有する直鎖状若しくは分岐
鎖状アルキルチオ基のうちから選択される１個以上の同
一若しくは異なる基で置換されたフェニル基を表わし、
Ｚは水素原子、塩素原子、トリフルオルメチル基、１〜
６個の炭素原子を含有する直鎖状若しくは分岐鎖状アル
キル基、１〜６個の炭素原子を含有する直鎖状若しくは
分岐鎖状アルキルオキシ基又は１〜６個の炭素原子を含
有する直鎖状若しくは分岐鎖状アルキルチオ基を表わ
し、Ｒ1 及びＲ2 は、同一であっても異なっていてもよ
く、互いに独立して１〜６個の炭素原子を含有する直鎖
状又は分岐鎖状アルキル基を表わし、環外の二重結合は
（Ｚ）配置又は（Ｅ）配置にある）の化合物にある。
【０００３】ここで、「１〜６個の炭素原子を含有する
直鎖状若しくは分岐鎖状アルキル基」としては、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル及びヘキシル
基、特にメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、（Ｒ）−ｓｅｃ−ブチル、（Ｓ）−
ｓｅｃ−ブチル又はｔ−ブチルのような基が挙げられ
る。「１〜６個の炭素原子を含有する直鎖状若しくは分
岐鎖状アルキルオキシ基」とは、アルキル部分が直鎖状
若しくは分岐鎖状であり且つ１〜６個の炭素原子を含有
するアルキルオキシ基を意味し、特にメトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブト
キシ、（Ｒ）−ｓｅｃ−ブトキシ、（Ｓ）−ｓｅｃ−ブ
トキシ又はｔ−ブトキシ基のような基が挙げられる。
「１〜６個の炭素原子を含有する直鎖状若しくは分岐鎖
状アルキルチオ基」とは、アルキル部分が直鎖状若しく
は分岐鎖状であり且つ１〜６個の炭素原子を含有するア
ルキルチオ基を意味し、特にメチルチオ、エチルチオ、
プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブ
チルチオ、（Ｒ）−ｓｅｃ−ブチルチオ、（Ｓ）−ｓｅ
ｃ−ブチルチオ又はｔ−ブチルチオのような基が挙げら
れる。Ａｒが１個以上のハロゲン原子で置換されたフェ
ニル基を表わすときは、それは、特に、下記の基の一つ
を表わす。２−ブロムフェニル、３−ブロムフェニル、
４−ブロムフェニル、２−クロルフェニル、３−クロル
フェニル、４−クロルフェニル、２，６−ジクロルフェ
ニル、２，３，５−トリクロルフェニル、２−フルオル
フェニル、３−フルオルフェニル、４−フルオルフェニ
ル、２，３−ジフルオルフェニル、２，４−ジフルオル
フェニル、２，５−ジフルオルフェニル、２，６−ジフ
ルオルフェニル、３，４−ジフルオルフェニル、３，５
−ジフルオルフェニル、２，３，５，６−テトラフルオ
ルフェニル、２，３，４，５，６−ペンタフルオルフェ
ニル、２−クロル−６−フルオルフェニル又は３−クロ
ル−４−フルオルフェニル基。Ａｒが１個以上のアルキ
ル基で置換されたフェニル基を表わすときは、それは、
特に、下記の基の一つを表わす。ｏ−トリル、ｍ−トリ
ル、ｐ−トリル、２，４−ジメチルフェニル又はメシチ
ル基。Ａｒが１個以上のアルキルオキシ基で置換された
フェニル基を表わすときは、それは、特に、下記の基の
一つである。２−メトキシフェニル、３−メトキシフェ
ニル、４−メトキシフェニル、４−エトキシフェニル、
４−ブトキシフェニル、２，４−ジメトキシフェニル又
は３，４，５−トリメトキシフェニル基。Ａｒが１個以
上のアルキルチオ基で置換されたフェニル基を表わすと
きは、それは、特に４−メチルチオフェニル基である。
Ａｒが数個の異なる基で置換されたフェニル基を表わす
ときは、それは、特に、下記の基の一つである。５−ブ
ロム−２−メトキシフェニル、３−ブロム−４，５−ジ
メトキシフェニル、６−ブロム−３，４−ジメトキシフ
ェニル又は４−メトキシ−３−メチルフェニル基。
直鎖状若しくは分岐鎖状アルキル基」としては、メチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル及びヘキシル
基、特にメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、（Ｒ）−ｓｅｃ−ブチル、（Ｓ）−
ｓｅｃ−ブチル又はｔ−ブチルのような基が挙げられ
る。「１〜６個の炭素原子を含有する直鎖状若しくは分
岐鎖状アルキルオキシ基」とは、アルキル部分が直鎖状
若しくは分岐鎖状であり且つ１〜６個の炭素原子を含有
するアルキルオキシ基を意味し、特にメトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブト
キシ、（Ｒ）−ｓｅｃ−ブトキシ、（Ｓ）−ｓｅｃ−ブ
トキシ又はｔ−ブトキシ基のような基が挙げられる。
「１〜６個の炭素原子を含有する直鎖状若しくは分岐鎖
状アルキルチオ基」とは、アルキル部分が直鎖状若しく
は分岐鎖状であり且つ１〜６個の炭素原子を含有するア
ルキルチオ基を意味し、特にメチルチオ、エチルチオ、
プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブ
チルチオ、（Ｒ）−ｓｅｃ−ブチルチオ、（Ｓ）−ｓｅ
ｃ−ブチルチオ又はｔ−ブチルチオのような基が挙げら
れる。Ａｒが１個以上のハロゲン原子で置換されたフェ
ニル基を表わすときは、それは、特に、下記の基の一つ
を表わす。２−ブロムフェニル、３−ブロムフェニル、
４−ブロムフェニル、２−クロルフェニル、３−クロル
フェニル、４−クロルフェニル、２，６−ジクロルフェ
ニル、２，３，５−トリクロルフェニル、２−フルオル
フェニル、３−フルオルフェニル、４−フルオルフェニ
ル、２，３−ジフルオルフェニル、２，４−ジフルオル
フェニル、２，５−ジフルオルフェニル、２，６−ジフ
ルオルフェニル、３，４−ジフルオルフェニル、３，５
−ジフルオルフェニル、２，３，５，６−テトラフルオ
ルフェニル、２，３，４，５，６−ペンタフルオルフェ
ニル、２−クロル−６−フルオルフェニル又は３−クロ
ル−４−フルオルフェニル基。Ａｒが１個以上のアルキ
ル基で置換されたフェニル基を表わすときは、それは、
特に、下記の基の一つを表わす。ｏ−トリル、ｍ−トリ
ル、ｐ−トリル、２，４−ジメチルフェニル又はメシチ
ル基。Ａｒが１個以上のアルキルオキシ基で置換された
フェニル基を表わすときは、それは、特に、下記の基の
一つである。２−メトキシフェニル、３−メトキシフェ
ニル、４−メトキシフェニル、４−エトキシフェニル、
４−ブトキシフェニル、２，４−ジメトキシフェニル又
は３，４，５−トリメトキシフェニル基。Ａｒが１個以
上のアルキルチオ基で置換されたフェニル基を表わすと
きは、それは、特に４−メチルチオフェニル基である。
Ａｒが数個の異なる基で置換されたフェニル基を表わす
ときは、それは、特に、下記の基の一つである。５−ブ
ロム−２−メトキシフェニル、３−ブロム−４，５−ジ
メトキシフェニル、６−ブロム−３，４−ジメトキシフ
ェニル又は４−メトキシ−３−メチルフェニル基。
【０００４】本発明の特定の主題は、Ｒ1 及びＲ2 がメ
チル基を表わす前記の式（Ｉ）の化合物；Ｚが水素原
子、塩素原子、又はメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、メトキシ、エトキシ及びメチルチオ基のうちか
ら選択される基の一つを表わす前記の式（Ｉ）の化合
物；特に、化合物名が下記の通りの化合物： ・α−［（Ｚ）−メトキシメチレン］−４−（フェノキ
シメチル）−５−チアゾール酢酸メチル ・２−クロル−α−［（Ｚ）−メトキシメチレン］−４
−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸メチル。 にある。
チル基を表わす前記の式（Ｉ）の化合物；Ｚが水素原
子、塩素原子、又はメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、メトキシ、エトキシ及びメチルチオ基のうちか
ら選択される基の一つを表わす前記の式（Ｉ）の化合
物；特に、化合物名が下記の通りの化合物： ・α−［（Ｚ）−メトキシメチレン］−４−（フェノキ
シメチル）−５−チアゾール酢酸メチル ・２−クロル−α−［（Ｚ）−メトキシメチレン］−４
−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸メチル。 にある。
【０００５】また、本発明の主題は、上で記載の式
（Ｉ）の化合物を製造するにあたり、次式（II）
（Ｉ）の化合物を製造するにあたり、次式（II）
【化１５】 Ｘ−ＣＨ2 −ＣＯ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＯＯＲ1 （II） （ここで、Ｘは塩素又は臭素原子を表わし、Ｒ1 は上で
記載の意味を有する）の５−ハロ−４−オキソペンタン
酸を塩基の存在下に次式(III) Ａｒ−ＯＨ （III ） （ここで、Ａｒは上で記載の意味を有する）のフェノー
ルで処理して次式（IV）
記載の意味を有する）の５−ハロ−４−オキソペンタン
酸を塩基の存在下に次式(III) Ａｒ−ＯＨ （III ） （ここで、Ａｒは上で記載の意味を有する）のフェノー
ルで処理して次式（IV）
【化１６】 Ａｒ−Ｏ−ＣＨ2 −ＣＯ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＯＯＲ1 （IV） の５−（アリールオキシ）−４−オキソペンタン酸エス
テルを得、式（IV）のエステルを次式（Ｖ） Ｒ3 Ｒ4 Ｒ5 ＳｉＣｌ （Ｖ） （ここで、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は同一であっても異なっ
ていてもよく、１〜４個の炭素原子を含有する直鎖状又
は分岐鎖状アルキル基を表わす）のトリアルキルクロル
シランの作用により次式(VI)
テルを得、式（IV）のエステルを次式（Ｖ） Ｒ3 Ｒ4 Ｒ5 ＳｉＣｌ （Ｖ） （ここで、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は同一であっても異なっ
ていてもよく、１〜４個の炭素原子を含有する直鎖状又
は分岐鎖状アルキル基を表わす）のトリアルキルクロル
シランの作用により次式(VI)
【化１７】 のシリル化エノールエーテルに転化し、式(VI)の化合物
を臭素化により次式(VII)
を臭素化により次式(VII)
【化１８】 Ａｒ−Ｏ−ＣＨ2 −ＣＯ−ＣＨＢｒ−ＣＨ2 −ＣＯＯＲ1 (VII) の５−（アリールオキシ）−４−オキソペンタン酸エス
テルの３−ブロム誘導体を得、この化合物を次式（VII
I） Ｚ1 −ＣＳ−ＮＨ2 （VIII） （ここで、Ｚ1 は水素原子又は１〜６個の炭素原子を含
有する直鎖状若しくは分岐鎖状アルキル基を表わす）の
化合物と反応させて次式（IX)1
テルの３−ブロム誘導体を得、この化合物を次式（VII
I） Ｚ1 −ＣＳ−ＮＨ2 （VIII） （ここで、Ｚ1 は水素原子又は１〜６個の炭素原子を含
有する直鎖状若しくは分岐鎖状アルキル基を表わす）の
化合物と反応させて次式（IX)1
【化１９】 の化合物を形成させるか、或いは次式（Ｘ） Ａｌｋ1 −Ｏ−ＣＳ−ＮＨ2 （Ｘ） （ここで、Ａｌｋ1 は１〜４個の炭素原子を含有するア
ルキル基を表わす）の化合物と反応させて次式(XI)
ルキル基を表わす）の化合物と反応させて次式(XI)
【化２０】 の２−チアゾリノン誘導体を形成させ、式(XI)の化合物
をカルボニル官能基の塩素化剤で処理して次式（IX)2
をカルボニル官能基の塩素化剤で処理して次式（IX)2
【化２１】 の化合物を得、所望ならば、式（IX)2の化合物を次式(X
II) Ｚ3 -Ｍ+ (XII) （ここで、Ｚ3 -はアルコラート陰イオンを表わし、Ｍ+
はアンモニウム陽イオン又はアルカリ金属陽イオンを表
わす）の塩基と反応させて次式（IX)3
II) Ｚ3 -Ｍ+ (XII) （ここで、Ｚ3 -はアルコラート陰イオンを表わし、Ｍ+
はアンモニウム陽イオン又はアルカリ金属陽イオンを表
わす）の塩基と反応させて次式（IX)3
【化２２】 の化合物を得るか、或いは次式（XIII） ＮＨ2 −ＣＳ−Ｓ- Ｍ+ （XIII） のジチオカルバミン酸塩と反応させて次式(XIV)
【化２３】 の２−チアゾリンチオン誘導体を得、式（IX)1、（I
X)2、（IX)3又は(XIV) の化合物を塩基の存在下に次式
(XV) Ｍｅ2 Ｎ−ＣＨ（ＯＲ7 ）2 (XV) （ここで、Ｒ7 は１〜６個の炭素原子を含有する直鎖状
又は分岐鎖状アルキル基を表わす）のジメチルホルムア
ミドアセタールと縮合させてそれぞれ次式(XVI)1、(XV
I)2、(XVI)3及び(XVI)4
X)2、（IX)3又は(XIV) の化合物を塩基の存在下に次式
(XV) Ｍｅ2 Ｎ−ＣＨ（ＯＲ7 ）2 (XV) （ここで、Ｒ7 は１〜６個の炭素原子を含有する直鎖状
又は分岐鎖状アルキル基を表わす）のジメチルホルムア
ミドアセタールと縮合させてそれぞれ次式(XVI)1、(XV
I)2、(XVI)3及び(XVI)4
【化２４】 の化合物を得、これらの式(XVI)1、(XVI)2、(XVI)3及び
(XVI)4の化合物は次の単一の式(XVI)
(XVI)4の化合物は次の単一の式(XVI)
【化２５】 （ここで、Ｚ、Ａｒ及びＲ1 は上で記載の意味を有す
る）で表わすことができ、次いで式(XVI) の化合物を加
水分解により次式(XVII)
る）で表わすことができ、次いで式(XVI) の化合物を加
水分解により次式(XVII)
【化２６】 の化合物に転化し、式(XVII)の化合物をエーテル化して
式（Ｉ）の化合物を得ることを特徴とする式（Ｉ）の化
合物の製造法にある。
式（Ｉ）の化合物を得ることを特徴とする式（Ｉ）の化
合物の製造法にある。
【０００６】上記の製造法を実施するのに好ましい方法
において、式(VI)のシリル化エノールエーテルの合成に
使用されるトリアルキルクロルシランは例えばトリメチ
ルクロルシラン又はｔ−ブチルジメチルクロルシランで
あり、反応は１，５−ジアザ−５−ビシクロ［５．４．
０］ウンデセン（ＤＢＵ）又は１，５−ジアザ−５−ビ
シクロ［４．３．０］ノネン（ＤＢＮ）のような窒素塩
基の存在下に行われる。式(VI)の化合物は、前もって精
製することなく、臭素又はＮ−ブロムスクシンイミド
（ＮＢＳ）のような標準的臭素化剤により臭素化され
る。式（IX)1の化合物への環化反応は、アルコール媒質
中で、例えばメタノール又はエタノール中で行われる。
式(XI)の化合物の製造は、例えば、メタノール又はエタ
ノール中で式(VII) の化合物にチオカルバミン酸エチル
を作用させることにより行なわれる。式（IX)2の化合物
への塩素化は、例えば２，６−ルチジンのような窒素塩
基の存在下に塩化ホスホリルを作用させることにより行
われる。式（IX)3の化合物を得るのに使用される式(XI
I) のアルコラートは、例えばナトリウムメチラート又
はナトリウムエチラートである。式(XIV) の化合物の製
造に使用されるジチオカルバミン酸塩は、ジチオカルバ
ミン酸アンモニウムである。式(XVII)の化合物のエーテ
ル化は、例えば沃化メチルのようなハロゲン化アルキル
により行われる。式(XVI) の化合物からの式（Ｉ）の化
合物の製造は、式(XVII)の中間体化合物を単離すること
なく行うことができる。式（IX）1 、（XI）及び(XIV)
の化合物の製造は、式(VII) のエステルを単離すること
なく行うがことる。
において、式(VI)のシリル化エノールエーテルの合成に
使用されるトリアルキルクロルシランは例えばトリメチ
ルクロルシラン又はｔ−ブチルジメチルクロルシランで
あり、反応は１，５−ジアザ−５−ビシクロ［５．４．
０］ウンデセン（ＤＢＵ）又は１，５−ジアザ−５−ビ
シクロ［４．３．０］ノネン（ＤＢＮ）のような窒素塩
基の存在下に行われる。式(VI)の化合物は、前もって精
製することなく、臭素又はＮ−ブロムスクシンイミド
（ＮＢＳ）のような標準的臭素化剤により臭素化され
る。式（IX)1の化合物への環化反応は、アルコール媒質
中で、例えばメタノール又はエタノール中で行われる。
式(XI)の化合物の製造は、例えば、メタノール又はエタ
ノール中で式(VII) の化合物にチオカルバミン酸エチル
を作用させることにより行なわれる。式（IX)2の化合物
への塩素化は、例えば２，６−ルチジンのような窒素塩
基の存在下に塩化ホスホリルを作用させることにより行
われる。式（IX)3の化合物を得るのに使用される式(XI
I) のアルコラートは、例えばナトリウムメチラート又
はナトリウムエチラートである。式(XIV) の化合物の製
造に使用されるジチオカルバミン酸塩は、ジチオカルバ
ミン酸アンモニウムである。式(XVII)の化合物のエーテ
ル化は、例えば沃化メチルのようなハロゲン化アルキル
により行われる。式(XVI) の化合物からの式（Ｉ）の化
合物の製造は、式(XVII)の中間体化合物を単離すること
なく行うことができる。式（IX）1 、（XI）及び(XIV)
の化合物の製造は、式(VII) のエステルを単離すること
なく行うがことる。
【０００７】式（II）の化合物は、市販品である４−オ
キソペンタン酸（即ちレブリン酸）から出発し、例えば
５−ブロム−４−オキソペンタン酸メチルの製造につい
て後記するように、この酸をエステル化し、次いでカル
ボニル官能基のα−位置のハロゲン化を行うことにより
製造することができる。式（II）の化合物のいくつかは
既知であり、それらの製造は、ピシャー氏他により「ビ
ュルタン・デラ・ソシエテ・シミク・デ・フランス」
（１９５６）ｐ．１７５０；ラッペ氏により「Ａｒｋ．
Ｋｅｍｉ．」Ｖ．１４、（１９５９）ｐ．４６７−４
６９；ダネンベルグ及びロイファー氏により「ヘミッシ
ェ・ベリフィテ」Ｖ．８９、（１９５６）ｐ．２２４２
−２２５２；ラツスキー及びソーム氏他により「Ｃｏｌ
ｌｅｃｔ．」Ｖ．２３、（１９５８）ｐ．４６７−４７
６に記載されている。式(III) の化合物は市販品であ
る。式（VIIV）、（IX)1、（IX)2、（IX)3、(XI)、(XI
V) 、(XVI) 及び(XVII)の化合物は新規であり、従って
本発明の主題をなす。
キソペンタン酸（即ちレブリン酸）から出発し、例えば
５−ブロム−４−オキソペンタン酸メチルの製造につい
て後記するように、この酸をエステル化し、次いでカル
ボニル官能基のα−位置のハロゲン化を行うことにより
製造することができる。式（II）の化合物のいくつかは
既知であり、それらの製造は、ピシャー氏他により「ビ
ュルタン・デラ・ソシエテ・シミク・デ・フランス」
（１９５６）ｐ．１７５０；ラッペ氏により「Ａｒｋ．
Ｋｅｍｉ．」Ｖ．１４、（１９５９）ｐ．４６７−４
６９；ダネンベルグ及びロイファー氏により「ヘミッシ
ェ・ベリフィテ」Ｖ．８９、（１９５６）ｐ．２２４２
−２２５２；ラツスキー及びソーム氏他により「Ｃｏｌ
ｌｅｃｔ．」Ｖ．２３、（１９５８）ｐ．４６７−４７
６に記載されている。式(III) の化合物は市販品であ
る。式（VIIV）、（IX)1、（IX)2、（IX)3、(XI)、(XI
V) 、(XVI) 及び(XVII)の化合物は新規であり、従って
本発明の主題をなす。
【０００８】式（Ｉ）の化合物は、これらを病原性菌類
に対する保護に使用するのを可能ならしめる有用な殺菌
性を有する。それは、植物の保護、家屋の保護又は動物
の保護であろう。また、これらの性質は、衛生学上並び
に人及び動物の医薬に使用することができる。本発明の
化合物は、非常に多くの植物病原性菌類、特にエリシフ
ェ・グラミニス（Erisyphe guraminis）、スファエロセ
カ・マキュラリス（Sphaerotheca macularis）、スファ
エロセカ・フリギネア（Sphaerotheca fuliginea）、ポ
ドスファエラ・ロイコトリチャ（Podosphaera leucotri
cha)、ウンシニュラ・ネカトル（Uncinula necator）、
ヘルミンソスポリウム（Helminthosporium s.p. ）、リ
ンコスポリウム（Rhynchosporiumu s.p.）、プソイドセ
ルコスポレラ・ヘルポトリコイデス（Pseudocercospore
lla herpotrichoides ）、ガオマンノマイセス・グラミ
ニス（Gaeumannomyces graminis ），ウスチラゴ（Usti
lago s.p. ）、セルコスポラ・アラキジコラ（Cercospo
ra arachidicola ）、セルコスポリジウム・ペルソナチ
ユーム（Cercosporidiumu personatum）、セルコスポラ
（Cercospora s.p. ）、ボトリチス・シネレア（Botryt
is cinerea）、アルテナリア（Alternaria s.p. ）、ベ
ンツリア・イナエカリス（Venturia inaequalis ）、プ
ラスモパラ・ビチコーラ（Plasmopara viticola ）、ブ
レミア・ラクツカエ（Bremialactucae ）、ペロノスポ
ラ（Peronospora s.p.）、プソイドペロノスポラ・ヒュ
ミリ（Pseudoperonospora humuli）、プソイドペロノス
ポラ・キュベンシス（Pseudoperonospora cubensis）、
フィトフトラ・インフェスタンス（Phytophthora s.p.i
nfestans）、フィトフトラ（Phytophthora s.p. ）、プ
チニア・レコンジタ（Puccinia recondita）、タナテホ
ラス・キュキュメリス（Thanatephoruscucumeris ）、
リゾクトニア（Rhizoctonia s.p.）の防除、或いはカン
ジダ・アルビカンス（Candida albicans）又はトリコヒ
トン（Trychophyton s.p. ）のような人の健康を冒す菌
類又は酵母の防除を可能にする。
に対する保護に使用するのを可能ならしめる有用な殺菌
性を有する。それは、植物の保護、家屋の保護又は動物
の保護であろう。また、これらの性質は、衛生学上並び
に人及び動物の医薬に使用することができる。本発明の
化合物は、非常に多くの植物病原性菌類、特にエリシフ
ェ・グラミニス（Erisyphe guraminis）、スファエロセ
カ・マキュラリス（Sphaerotheca macularis）、スファ
エロセカ・フリギネア（Sphaerotheca fuliginea）、ポ
ドスファエラ・ロイコトリチャ（Podosphaera leucotri
cha)、ウンシニュラ・ネカトル（Uncinula necator）、
ヘルミンソスポリウム（Helminthosporium s.p. ）、リ
ンコスポリウム（Rhynchosporiumu s.p.）、プソイドセ
ルコスポレラ・ヘルポトリコイデス（Pseudocercospore
lla herpotrichoides ）、ガオマンノマイセス・グラミ
ニス（Gaeumannomyces graminis ），ウスチラゴ（Usti
lago s.p. ）、セルコスポラ・アラキジコラ（Cercospo
ra arachidicola ）、セルコスポリジウム・ペルソナチ
ユーム（Cercosporidiumu personatum）、セルコスポラ
（Cercospora s.p. ）、ボトリチス・シネレア（Botryt
is cinerea）、アルテナリア（Alternaria s.p. ）、ベ
ンツリア・イナエカリス（Venturia inaequalis ）、プ
ラスモパラ・ビチコーラ（Plasmopara viticola ）、ブ
レミア・ラクツカエ（Bremialactucae ）、ペロノスポ
ラ（Peronospora s.p.）、プソイドペロノスポラ・ヒュ
ミリ（Pseudoperonospora humuli）、プソイドペロノス
ポラ・キュベンシス（Pseudoperonospora cubensis）、
フィトフトラ・インフェスタンス（Phytophthora s.p.i
nfestans）、フィトフトラ（Phytophthora s.p. ）、プ
チニア・レコンジタ（Puccinia recondita）、タナテホ
ラス・キュキュメリス（Thanatephoruscucumeris ）、
リゾクトニア（Rhizoctonia s.p.）の防除、或いはカン
ジダ・アルビカンス（Candida albicans）又はトリコヒ
トン（Trychophyton s.p. ）のような人の健康を冒す菌
類又は酵母の防除を可能にする。
【０００９】従って、本発明の主題は、上で定義した式
（Ｉ）の化合物を殺菌剤として使用することにある。ま
た、本発明の主題は、上で定義した式（Ｉ）の化合物の
少なくとも１種を活性成分として含有する殺菌剤組成物
にある。本発明に従う組成物は、農芸化学工業の通常の
方法により製造される。例えば、これらの組成物は、粉
剤、顆粒剤、懸濁剤、乳剤、液剤又はこの種の化合物の
用途に通常使用されるその他の製剤の形で提供される。
（Ｉ）の化合物を殺菌剤として使用することにある。ま
た、本発明の主題は、上で定義した式（Ｉ）の化合物の
少なくとも１種を活性成分として含有する殺菌剤組成物
にある。本発明に従う組成物は、農芸化学工業の通常の
方法により製造される。例えば、これらの組成物は、粉
剤、顆粒剤、懸濁剤、乳剤、液剤又はこの種の化合物の
用途に通常使用されるその他の製剤の形で提供される。
【００１０】これらの組成物は、活性成分の他に、一般
に、混合物の構成物質の均一な分散を確実にさせるビヒ
クル及び（又は）陰イオン若しくは非イオン系界面活性
剤を含有する。使用されるビヒクルは、水、アルコー
ル、炭化水素又はその他の有機溶媒、鉱油、動物又は植
物油のような液体、タルク、クレイ、珪酸塩又は珪藻土
のような粉末であってよい。
に、混合物の構成物質の均一な分散を確実にさせるビヒ
クル及び（又は）陰イオン若しくは非イオン系界面活性
剤を含有する。使用されるビヒクルは、水、アルコー
ル、炭化水素又はその他の有機溶媒、鉱油、動物又は植
物油のような液体、タルク、クレイ、珪酸塩又は珪藻土
のような粉末であってよい。
【００１１】
【実施例】下記の実施例及び下記の生物学的研究は本発
明を例示するもので、それを制限するものではない。
明を例示するもので、それを制限するものではない。
【００１２】例１：２−イソプロピル−α−［（Ｚ）−
メトキシメチレン］−４−（フェノキシメチル）−５−
チアゾール酢酸メチル工程Ａ ：（Ｅ）−４−オキソ−５−フェノキシペンタン
酸メチル ５５ｇの５−ブロム−４−オキソペンタン酸メチル（こ
の製造は後記する）を１１０ｃｃのアセトン中に含有す
る溶液を、３２ｇのフェノール及び４２ｇの炭酸カリウ
ムを４００ｃｃのアセトンに溶解してなる溶液に０〜５
℃で添加し、混合物をこの温度で２時間撹拌する。これ
をろ過し、容積の半分まで濃縮し、次いで水中に注ぎ、
ジエチルエーテルで抽出する。有機相を乾燥し、ろ過
し、ろ液を乾固させる。得られた残留物を塩化メチレン
で溶解し、次いで乾燥し、乾固させる。シリカでクロマ
トグラフィーし、塩化メチレンで溶離した後、３０ｇの
所望化合物を得た。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．３７［溶離剤：塩化
メチレン］。赤外線分析 （ＣＨＣｌ3 ） 非共役エステル：1722及び1736cm-1 芳香族環：1590、 1599及び1498cm-1 ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ） Ｏ−ＣＨ 3 ：3.67(s)ppm ＣＯ−ＣＨ 2 −ＣＨ 2 −ＣＯ：2.65(t) 及び2.90(t)ppm Ｏ−ＣＨ 2 −ＣＯ：4.60(t)ppm 芳香族プロトン：6.89(d)、 6.99(t)及び7.30(t)ppm工程Ｂ ：５−フェノキシ−４−［（トリメチルシリル）
オキシ］−３−ペンテン酸メチル ４０ｇの上記工程で製造した化合物、６００ｃｃのジエ
チルエーテル及び２７．５ｃｃのクロルトリメチルシラ
ンを窒素雰囲気下に混合する。混合物を０℃に冷却し、
次いで３２ｃｃの１，５−ジアザ−５−ビシクロ［５．
４．０］ウンデカン（ＤＢＵ）を添加する。撹拌して温
度を１時間３０分で２０〜２５℃に上昇させる。ろ過し
た後、エーテルを蒸発させ、４８ｇの所望化合物を回収
した。Ｂｐ0.05＝１３８〜１４０℃。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．５［溶離剤：ヘキサ
ン−酢酸エチル（７−３）］。工程Ｃ ：３−ブロム−４−オキソ−５−フェノキシペン
タン酸メチル ６．９ｇの上記工程で製造した化合物と７０ｃｃのテト
ラヒドロフランを含有する混合物を窒素雰囲気下に０℃
に冷却し、１０分間で４．６ｇのＮ−ブロムスクシンイ
ミドを添加し、混合物をこの温度で１時間撹拌し、次い
で乾固させる。残留物をイソプロピルエーテルで溶解
し、ろ過し、ろ液を減圧下に乾固させる。このようにし
て臭素化誘導体を集め、これはそのまま次の工程に使用
する。工程Ｄ ：２−イソプロピル−４−（フェノキシメチル）
−５−チアゾール酢酸メチル 上記工程で得られた化合物の全てを５０ｃｃのメタノー
ル及び３．１ｇの２−メチルプロパンチオアミド（この
製造はヨーロッパ特許公開第０４０２２４６号に記載）
と混合し、混合物を２時間還流させ、水中に注ぎ、重炭
酸ナトリウム水溶液を添加して中和し、イソプロピルエ
ーテルで抽出し、抽出物を乾燥し、乾固させる。残留物
をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エチ
ル混合物（７−３）で溶離する。このようにして、溶媒
を蒸発させた後、３ｇの所望化合物を得た。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．１５［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（７−３）］。赤外線分析 （ＣＨＣｌ3 ） エステルのＣＨ3 ：1438cm-1 Ｃ＝Ｏ：1740cm-1 芳香族及び複素環：1497、 1588及び1599cm-1 ＮＭＲ分析 （２５０ＭＨｚ） −ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ：1.40(d)ppm −ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ：3.30(m)ppm −Ｏ−（ＣＨ 3 ）：3.69(s)ppm −ＣＨ 2 −ＣＯ：3.90(s)ppm −ＯＣＨ 2 −：5.14(s)ppm 芳香族プロトン：6.96(m) 及び7.28(m)ppm工程Ｅ ：α−［（ジメチルアミノ）メチレン］−２−イ
ソプロピル−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾー
ル酢酸メチル 上記工程で製造した３ｇの化合物と２０ｃｃのジメチル
ホルムアミドジエチルアセタールを含有する混合物を５
０℃にする。この温度で１６時間後に、反応媒質を乾固
させ、残留物をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサ
ン−酢酸エチル混合物（４−６）で溶離する。２．５ｇ
の所望化合物を集め、これは次の工程に使用する。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．３７［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（４−６）］。工程Ｆ ：α−［（Ｅ）−（ヒドロキシメチレン）］−２
−イソプロピル−４−（フェノキシメチル）−５−チア
ゾール酢酸メチル 上記工程で製造した２．３ｇのエナミン、４０ｃｃのテ
トラヒドロフラン、５ｃｃの２Ｎ塩酸及び１３ｃｃの水
を混合し、混合物を２０〜２５℃で３時間放置し、テト
ラヒドロフランを蒸発させ、塩化メチレンで抽出し、抽
出物を乾燥し、真空下に乾固させ、残留物をエーテルで
溶解し、分離する。このようにして、１．２ｇの所望化
合物を得た。Ｍｐ＝１２７．７℃。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．２０［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（７−３）］。赤外線分析 （ＣＨＣｌ3 ） Ｃ＝Ｏ：1699cm-1 Ｃ＝Ｃ：1640cm-1 ＮＭＲ分析 （２５０ＭＨｚ） −ＣＨ（ＣＨ 3 ）2 ：1.42(d)ppm −ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ：3.33ppm −Ｏ−（ＣＨ 3 ）：3.76(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 −：5.01(s)ppm 芳香族プロトン：6.90〜7.00及び7.20〜7.30ppm ＝Ｃ−Ｈ：：7.42(d, J=13Hz; 交換後 s）ppm −Ｏ−Ｈ：12.17(d, J=13Hz)ppm工程Ｇ ：２−イソプロピル−α−［（Ｚ）−メトキシメ
チレン］−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール
酢酸メチル 上記工程で製造した１．２ｇの化合物を５０ｃｃのアセ
トン及び３ｃｃのテトラヒドロフランに溶解してなる溶
液に４ｃｃの沃化メチル及び４ｇの炭酸カリウムを添加
する。混合物を２０〜２５℃で３時間撹拌し、分離し、
乾固させる。残留物をシリカでクロマトグラフィーし、
ヘキサン−酢酸エチル混合物（７−３）で溶離する。
１．０４ｇの所望化合物を集めた。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．３０［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（７−３）］。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） −ＣＨ（ＣＨ 3 ）2 ：1.41(d)ppm −ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ：3.31(m)ppm ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）及びＣ＝ＣＨ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）：
3.69(s) 及び3.79(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 ：4.97(s)ppm 芳香族プロトン：6.88〜6.95及び7.20〜7.30ppm微量分析 ：Ｃ18Ｈ21ＮＯ4 Ｓ＝３４７．４３２ 計算：C%62.23 H%6.09 N%4.03 S%9.23 実測：C%62.4 H%6.2 N%4.1 S%9.1
メトキシメチレン］−４−（フェノキシメチル）−５−
チアゾール酢酸メチル工程Ａ ：（Ｅ）−４−オキソ−５−フェノキシペンタン
酸メチル ５５ｇの５−ブロム−４−オキソペンタン酸メチル（こ
の製造は後記する）を１１０ｃｃのアセトン中に含有す
る溶液を、３２ｇのフェノール及び４２ｇの炭酸カリウ
ムを４００ｃｃのアセトンに溶解してなる溶液に０〜５
℃で添加し、混合物をこの温度で２時間撹拌する。これ
をろ過し、容積の半分まで濃縮し、次いで水中に注ぎ、
ジエチルエーテルで抽出する。有機相を乾燥し、ろ過
し、ろ液を乾固させる。得られた残留物を塩化メチレン
で溶解し、次いで乾燥し、乾固させる。シリカでクロマ
トグラフィーし、塩化メチレンで溶離した後、３０ｇの
所望化合物を得た。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．３７［溶離剤：塩化
メチレン］。赤外線分析 （ＣＨＣｌ3 ） 非共役エステル：1722及び1736cm-1 芳香族環：1590、 1599及び1498cm-1 ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ） Ｏ−ＣＨ 3 ：3.67(s)ppm ＣＯ−ＣＨ 2 −ＣＨ 2 −ＣＯ：2.65(t) 及び2.90(t)ppm Ｏ−ＣＨ 2 −ＣＯ：4.60(t)ppm 芳香族プロトン：6.89(d)、 6.99(t)及び7.30(t)ppm工程Ｂ ：５−フェノキシ−４−［（トリメチルシリル）
オキシ］−３−ペンテン酸メチル ４０ｇの上記工程で製造した化合物、６００ｃｃのジエ
チルエーテル及び２７．５ｃｃのクロルトリメチルシラ
ンを窒素雰囲気下に混合する。混合物を０℃に冷却し、
次いで３２ｃｃの１，５−ジアザ−５−ビシクロ［５．
４．０］ウンデカン（ＤＢＵ）を添加する。撹拌して温
度を１時間３０分で２０〜２５℃に上昇させる。ろ過し
た後、エーテルを蒸発させ、４８ｇの所望化合物を回収
した。Ｂｐ0.05＝１３８〜１４０℃。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．５［溶離剤：ヘキサ
ン−酢酸エチル（７−３）］。工程Ｃ ：３−ブロム−４−オキソ−５−フェノキシペン
タン酸メチル ６．９ｇの上記工程で製造した化合物と７０ｃｃのテト
ラヒドロフランを含有する混合物を窒素雰囲気下に０℃
に冷却し、１０分間で４．６ｇのＮ−ブロムスクシンイ
ミドを添加し、混合物をこの温度で１時間撹拌し、次い
で乾固させる。残留物をイソプロピルエーテルで溶解
し、ろ過し、ろ液を減圧下に乾固させる。このようにし
て臭素化誘導体を集め、これはそのまま次の工程に使用
する。工程Ｄ ：２−イソプロピル−４−（フェノキシメチル）
−５−チアゾール酢酸メチル 上記工程で得られた化合物の全てを５０ｃｃのメタノー
ル及び３．１ｇの２−メチルプロパンチオアミド（この
製造はヨーロッパ特許公開第０４０２２４６号に記載）
と混合し、混合物を２時間還流させ、水中に注ぎ、重炭
酸ナトリウム水溶液を添加して中和し、イソプロピルエ
ーテルで抽出し、抽出物を乾燥し、乾固させる。残留物
をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エチ
ル混合物（７−３）で溶離する。このようにして、溶媒
を蒸発させた後、３ｇの所望化合物を得た。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．１５［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（７−３）］。赤外線分析 （ＣＨＣｌ3 ） エステルのＣＨ3 ：1438cm-1 Ｃ＝Ｏ：1740cm-1 芳香族及び複素環：1497、 1588及び1599cm-1 ＮＭＲ分析 （２５０ＭＨｚ） −ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ：1.40(d)ppm −ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ：3.30(m)ppm −Ｏ−（ＣＨ 3 ）：3.69(s)ppm −ＣＨ 2 −ＣＯ：3.90(s)ppm −ＯＣＨ 2 −：5.14(s)ppm 芳香族プロトン：6.96(m) 及び7.28(m)ppm工程Ｅ ：α−［（ジメチルアミノ）メチレン］−２−イ
ソプロピル−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾー
ル酢酸メチル 上記工程で製造した３ｇの化合物と２０ｃｃのジメチル
ホルムアミドジエチルアセタールを含有する混合物を５
０℃にする。この温度で１６時間後に、反応媒質を乾固
させ、残留物をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサ
ン−酢酸エチル混合物（４−６）で溶離する。２．５ｇ
の所望化合物を集め、これは次の工程に使用する。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．３７［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（４−６）］。工程Ｆ ：α−［（Ｅ）−（ヒドロキシメチレン）］−２
−イソプロピル−４−（フェノキシメチル）−５−チア
ゾール酢酸メチル 上記工程で製造した２．３ｇのエナミン、４０ｃｃのテ
トラヒドロフラン、５ｃｃの２Ｎ塩酸及び１３ｃｃの水
を混合し、混合物を２０〜２５℃で３時間放置し、テト
ラヒドロフランを蒸発させ、塩化メチレンで抽出し、抽
出物を乾燥し、真空下に乾固させ、残留物をエーテルで
溶解し、分離する。このようにして、１．２ｇの所望化
合物を得た。Ｍｐ＝１２７．７℃。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．２０［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（７−３）］。赤外線分析 （ＣＨＣｌ3 ） Ｃ＝Ｏ：1699cm-1 Ｃ＝Ｃ：1640cm-1 ＮＭＲ分析 （２５０ＭＨｚ） −ＣＨ（ＣＨ 3 ）2 ：1.42(d)ppm −ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ：3.33ppm −Ｏ−（ＣＨ 3 ）：3.76(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 −：5.01(s)ppm 芳香族プロトン：6.90〜7.00及び7.20〜7.30ppm ＝Ｃ−Ｈ：：7.42(d, J=13Hz; 交換後 s）ppm −Ｏ−Ｈ：12.17(d, J=13Hz)ppm工程Ｇ ：２−イソプロピル−α−［（Ｚ）−メトキシメ
チレン］−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール
酢酸メチル 上記工程で製造した１．２ｇの化合物を５０ｃｃのアセ
トン及び３ｃｃのテトラヒドロフランに溶解してなる溶
液に４ｃｃの沃化メチル及び４ｇの炭酸カリウムを添加
する。混合物を２０〜２５℃で３時間撹拌し、分離し、
乾固させる。残留物をシリカでクロマトグラフィーし、
ヘキサン−酢酸エチル混合物（７−３）で溶離する。
１．０４ｇの所望化合物を集めた。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．３０［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（７−３）］。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） −ＣＨ（ＣＨ 3 ）2 ：1.41(d)ppm −ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ：3.31(m)ppm ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）及びＣ＝ＣＨ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）：
3.69(s) 及び3.79(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 ：4.97(s)ppm 芳香族プロトン：6.88〜6.95及び7.20〜7.30ppm微量分析 ：Ｃ18Ｈ21ＮＯ4 Ｓ＝３４７．４３２ 計算：C%62.23 H%6.09 N%4.03 S%9.23 実測：C%62.4 H%6.2 N%4.1 S%9.1
【００１３】例２：α−［（Ｚ）−メトキシメチレン］
−２−メチル−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾ
ール酢酸メチル工程Ａ ：２−メチル−４−（フェノキシメチル）−５−
チアゾール酢酸メチル 例１の工程Ｂで得た４．６ｇの化合物を４５ｃｃのテト
ラヒドロフランと混合し、混合物を０℃に冷却し、次い
で３．１ｇのＮ−ブロムスクシンイミドを導入し、この
温度で４５分間撹拌し、テトラヒドロフランを減圧下に
蒸発させる。残留物をイソプロピルエーテルで溶解し、
結晶化生成物をろ過し、ろ液を３０ｃｃのメタノールに
溶解し、１．５ｇのチオアセトアミドを添加する。２時
間還流させた後、溶液を真空下に濃縮し、残留物を重炭
酸ナトリウム水溶液に溶解し、エーテルで抽出し、有機
相を塩化ナトリウム飽和溶液で洗浄し、乾燥し、乾固さ
せる。残留物をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサ
ン−酢酸エチル混合物（７５−２５）で溶離する。これ
により、溶媒を蒸発させた後、３．３ｇの所望化合物を
集めた。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．１２［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（７５−２５］）。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） −ＣＨ 3 ：2.68(s)ppm −Ｏ−（ＣＨ3 ）：3.68(s)ppm −ＣＨ 2 −ＣＯ：3.88(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 ：5.12(s)ppm 芳香族プロトン：6.98(m) 及び7.28(m)ppm工程Ｂ ：α−［（ジメチルアミノ）メチレン］−２−メ
チル−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸
メチル 上記工程で製造した１．６ｇの化合物と２０ｃｃのジメ
チルホルムアミドジエチルアセタールを含有する混合物
を５０〜７０℃にもたらす。この温度で３時間後に、反
応媒質を乾固させ、残留物をシリカでクロマトグラフィ
ーし、シクロヘキサン−酢酸エチル混合物（６−４）で
溶離する。１．３ｇの所望化合物を集めた。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．１５［溶離剤：シク
ロヘキサン−酢酸エチル（６−４）］。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） −ＣＨ 3 ：2.70(s)ppm −Ｎ（ＣＨ 3 ）2 ：2.79(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 3 ：3.63(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 −：4.91ppm 芳香族プロトン：6.90(m) 及び7.26(m)ppm ＝Ｃ−Ｈ：7.60ppm微量分析 ：Ｃ17Ｈ20Ｎ2 Ｏ3 Ｓ＝３２２．４２１ 計算：C%61.42 H%6.06 N%8.43 S%9.64 実測：C%61.4 H%6.1 N%8.5 S%9.7工程Ｃ ：α−［（Ｚ）−（ヒドロキシメチレン）］−２
−メチル−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール
酢酸メチル 上記工程で製造した２．５ｇのエナミン、４０ｃｃのテ
トラヒドロフラン、５ｃｃの２Ｎ塩酸及び１３ｃｃの水
を混合し、混合物を２０〜２５℃に４時間放置し、重炭
酸ナトリウムを添加して中和する。塩化メチレンで抽出
し、有機相を洗浄し、乾燥し、真空下に乾固させ、エー
テルから再結晶させ、分離し、乾燥する。このようにし
て、２．１５ｇの所望化合物を得た。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０〜０．１０［溶離剤：
シクロヘキサン−酢酸エチル（６−４）］。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） −ＣＨ 3 ：2.69(s)ppm −Ｏ−（ＣＨ 3 ）：3.76(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 −：4.97(s)ppm 芳香族プロトン：6.95(m) 及び7.29(m)ppm ＝Ｃ−Ｈ：7.40(d、 交換後 s)ppm −Ｏ−Ｈ：12.14(d、 易動性)ppm工程Ｄ ：α−［（Ｚ）−メトキシメチレン］−２−メチ
ル−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸メ
チル 上記工程で製造した２ｇの化合物を７０ｃｃのアセトン
に溶解してなる溶液に７ｃｃの沃化メチルと３．５ｇの
炭酸カリウムを添加し、全体を２０〜２５℃で３０分間
撹拌し、分離し、乾固させ、残留物をシリカでクロマト
グラフィーし、ヘキサン−酢酸エチル混合物（１−１）
で溶離する。１．４１ｇの所望化合物を集めた。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．２７［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（１−１）］。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） −ＣＨ3 ：2.70(s)ppm ＝ＣＨ−Ｏ：7.88(s)ppm ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）及びＣ＝ＣＨ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）：
3.69(s) 及び3.80(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 ：4.95(s)ppm 芳香族プロトン：6.92(m) 〜7.24(m)ppm微量分析 ：Ｃ18Ｈ21ＮＯ4 Ｓ＝３１９．３８２ 計算：C%60.17 H%5.36 N%4.39 S%10.04 実測：C%59.4 H%5.3 N%4.3 S%10.0
−２−メチル−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾ
ール酢酸メチル工程Ａ ：２−メチル−４−（フェノキシメチル）−５−
チアゾール酢酸メチル 例１の工程Ｂで得た４．６ｇの化合物を４５ｃｃのテト
ラヒドロフランと混合し、混合物を０℃に冷却し、次い
で３．１ｇのＮ−ブロムスクシンイミドを導入し、この
温度で４５分間撹拌し、テトラヒドロフランを減圧下に
蒸発させる。残留物をイソプロピルエーテルで溶解し、
結晶化生成物をろ過し、ろ液を３０ｃｃのメタノールに
溶解し、１．５ｇのチオアセトアミドを添加する。２時
間還流させた後、溶液を真空下に濃縮し、残留物を重炭
酸ナトリウム水溶液に溶解し、エーテルで抽出し、有機
相を塩化ナトリウム飽和溶液で洗浄し、乾燥し、乾固さ
せる。残留物をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサ
ン−酢酸エチル混合物（７５−２５）で溶離する。これ
により、溶媒を蒸発させた後、３．３ｇの所望化合物を
集めた。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．１２［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（７５−２５］）。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） −ＣＨ 3 ：2.68(s)ppm −Ｏ−（ＣＨ3 ）：3.68(s)ppm −ＣＨ 2 −ＣＯ：3.88(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 ：5.12(s)ppm 芳香族プロトン：6.98(m) 及び7.28(m)ppm工程Ｂ ：α−［（ジメチルアミノ）メチレン］−２−メ
チル−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸
メチル 上記工程で製造した１．６ｇの化合物と２０ｃｃのジメ
チルホルムアミドジエチルアセタールを含有する混合物
を５０〜７０℃にもたらす。この温度で３時間後に、反
応媒質を乾固させ、残留物をシリカでクロマトグラフィ
ーし、シクロヘキサン−酢酸エチル混合物（６−４）で
溶離する。１．３ｇの所望化合物を集めた。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．１５［溶離剤：シク
ロヘキサン−酢酸エチル（６−４）］。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） −ＣＨ 3 ：2.70(s)ppm −Ｎ（ＣＨ 3 ）2 ：2.79(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 3 ：3.63(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 −：4.91ppm 芳香族プロトン：6.90(m) 及び7.26(m)ppm ＝Ｃ−Ｈ：7.60ppm微量分析 ：Ｃ17Ｈ20Ｎ2 Ｏ3 Ｓ＝３２２．４２１ 計算：C%61.42 H%6.06 N%8.43 S%9.64 実測：C%61.4 H%6.1 N%8.5 S%9.7工程Ｃ ：α−［（Ｚ）−（ヒドロキシメチレン）］−２
−メチル−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール
酢酸メチル 上記工程で製造した２．５ｇのエナミン、４０ｃｃのテ
トラヒドロフラン、５ｃｃの２Ｎ塩酸及び１３ｃｃの水
を混合し、混合物を２０〜２５℃に４時間放置し、重炭
酸ナトリウムを添加して中和する。塩化メチレンで抽出
し、有機相を洗浄し、乾燥し、真空下に乾固させ、エー
テルから再結晶させ、分離し、乾燥する。このようにし
て、２．１５ｇの所望化合物を得た。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０〜０．１０［溶離剤：
シクロヘキサン−酢酸エチル（６−４）］。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） −ＣＨ 3 ：2.69(s)ppm −Ｏ−（ＣＨ 3 ）：3.76(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 −：4.97(s)ppm 芳香族プロトン：6.95(m) 及び7.29(m)ppm ＝Ｃ−Ｈ：7.40(d、 交換後 s)ppm −Ｏ−Ｈ：12.14(d、 易動性)ppm工程Ｄ ：α−［（Ｚ）−メトキシメチレン］−２−メチ
ル−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸メ
チル 上記工程で製造した２ｇの化合物を７０ｃｃのアセトン
に溶解してなる溶液に７ｃｃの沃化メチルと３．５ｇの
炭酸カリウムを添加し、全体を２０〜２５℃で３０分間
撹拌し、分離し、乾固させ、残留物をシリカでクロマト
グラフィーし、ヘキサン−酢酸エチル混合物（１−１）
で溶離する。１．４１ｇの所望化合物を集めた。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．２７［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（１−１）］。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） −ＣＨ3 ：2.70(s)ppm ＝ＣＨ−Ｏ：7.88(s)ppm ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）及びＣ＝ＣＨ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）：
3.69(s) 及び3.80(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 ：4.95(s)ppm 芳香族プロトン：6.92(m) 〜7.24(m)ppm微量分析 ：Ｃ18Ｈ21ＮＯ4 Ｓ＝３１９．３８２ 計算：C%60.17 H%5.36 N%4.39 S%10.04 実測：C%59.4 H%5.3 N%4.3 S%10.0
【００１４】例３：α−［（Ｚ）−メトキシメチレン］
−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸メチ
ル工程Ａ ：４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢
酸メチル 例１の工程Ｂで得た１３．８ｇの化合物を１３５ｃｃの
テトラヒドロフランと混合し、混合物を０℃に冷却し、
次いで９．３ｇのＮ−ブロムスクシンイミドを導入し、
次いでこの温度で１時間撹拌し、テトラヒドロフランを
除去する。イソプロピルエーテルで溶解した後、結晶生
成物をろ過し、ろ液を乾固させる。油状残留物を１００
ｃｃのメタノールに溶解し、３．０ｇのメタンチオアミ
ドを添加する。還流下に２時間後に、混合物を水中に注
ぎ、重炭酸ナトリウム飽和水溶液で中和し、イソプロピ
ルエーテルで抽出し、抽出物を洗浄し、乾燥し、乾固さ
せる。残留物をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサ
ン−酢酸エチル混合物（７−３）で溶離する。このよう
にして、溶媒を蒸発させた後、５ｇの所望化合物を集め
た。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．２［溶離剤：ヘキサ
ン−酢酸エチル（７−３）］。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） −Ｏ−（ＣＨ3 ）：3.69(s)ppm −ＣＨ 2 −ＣＯ：3.97(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 −：5.23(s)ppm 芳香族プロトン：6.96(m) 及び7.28(m)ppm Ｎ＝Ｃ−Ｈ：8.70(s)ppm工程Ｂ ：α−［（ジメチルアミノ）メチレン］−４−
（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸メチル 上記工程で製造した５ｇの化合物と３０ｃｃのジメチル
ホルムアミドジエチルアセタールを含有する混合物を５
０℃で２時間加熱し、乾固させ、残留物をシリカでクロ
マトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エチル混合物（４−
６）で溶離する。３ｇの所望化合物を集め、これはその
まま次の工程に使用する。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．３［溶離剤：ヘキサ
ン−酢酸エチル（４−６）］。工程Ｃ ：α−［（Ｚ）−（ヒドロキシメチレン）］−４
−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸メチル 上記工程で製造した３ｇのエナミン、５０ｃｃのテトラ
ヒドロフラン、５ｃｃの２Ｎ塩酸及び１５ｃｃの水を混
合し、混合物を２０〜２５℃で２時間３０分放置し、テ
トラヒドロフランを蒸発させ、塩化メチレンで抽出し、
有機相を洗浄し、乾燥し、真空下に乾固させ、次いでイ
ソプロピルエーテルから再結晶し、分離し、乾燥する。
このようにして、２．０５ｇの所望化合物を得た。Ｍｐ
＝１３３℃。 薄層クロマトグラフィー；Ｒｆ＝０．２５（溶離剤：ヘ
キサン−酢酸エチル７−３）。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） −Ｏ−（ＣＨ 3 ）：3.61(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 −：4.96(s)ppm 芳香族プロトン：6.90(m) 及び7.25(m)ppm ＝Ｃ−Ｈ：7.98(m)ppm Ｎ＝Ｃ−Ｈ：9.06(s)ppm −Ｏ−Ｈ：11.77(易動性）ppm工程Ｄ ：α−［（Ｚ）−メトキシメチレン］−４−（フ
ェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸メチル 上記工程で製造した化合物を１００ｃｃのアセトンと２
０ｃｃのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液に８ｃ
ｃの沃化メチル及び４ｇの炭酸カリウムを添加し、全体
を２０〜２５℃で４時間撹拌し、ろ過し、ろ液を乾固さ
せ、残留物をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサン
−酢酸エチル混合物（４−６）で溶離する。１．７ｇの
所望化合物を集めた。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．３５［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（４−６）］。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）及びＣ＝ＣＨ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）：
3.69(s) 及び3.81(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 ：5.07(s)ppm 芳香族プロトン：6.88〜6.96及び7.19〜7.27ppm Ｃ＝Ｃ−Ｈ：7.62(s)ppm Ｎ＝Ｃ−Ｈ：8.82(s)ppm微量分析 ：Ｃ15Ｈ15ＮＯ4 Ｓ＝３０５．３５６ 計算：C%59.00 H%4.95 N%4.59 S%10.5 実測：C%58.5 H%4.9 N%4.5 S%10.5
−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸メチ
ル工程Ａ ：４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢
酸メチル 例１の工程Ｂで得た１３．８ｇの化合物を１３５ｃｃの
テトラヒドロフランと混合し、混合物を０℃に冷却し、
次いで９．３ｇのＮ−ブロムスクシンイミドを導入し、
次いでこの温度で１時間撹拌し、テトラヒドロフランを
除去する。イソプロピルエーテルで溶解した後、結晶生
成物をろ過し、ろ液を乾固させる。油状残留物を１００
ｃｃのメタノールに溶解し、３．０ｇのメタンチオアミ
ドを添加する。還流下に２時間後に、混合物を水中に注
ぎ、重炭酸ナトリウム飽和水溶液で中和し、イソプロピ
ルエーテルで抽出し、抽出物を洗浄し、乾燥し、乾固さ
せる。残留物をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサ
ン−酢酸エチル混合物（７−３）で溶離する。このよう
にして、溶媒を蒸発させた後、５ｇの所望化合物を集め
た。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．２［溶離剤：ヘキサ
ン−酢酸エチル（７−３）］。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） −Ｏ−（ＣＨ3 ）：3.69(s)ppm −ＣＨ 2 −ＣＯ：3.97(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 −：5.23(s)ppm 芳香族プロトン：6.96(m) 及び7.28(m)ppm Ｎ＝Ｃ−Ｈ：8.70(s)ppm工程Ｂ ：α−［（ジメチルアミノ）メチレン］−４−
（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸メチル 上記工程で製造した５ｇの化合物と３０ｃｃのジメチル
ホルムアミドジエチルアセタールを含有する混合物を５
０℃で２時間加熱し、乾固させ、残留物をシリカでクロ
マトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エチル混合物（４−
６）で溶離する。３ｇの所望化合物を集め、これはその
まま次の工程に使用する。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．３［溶離剤：ヘキサ
ン−酢酸エチル（４−６）］。工程Ｃ ：α−［（Ｚ）−（ヒドロキシメチレン）］−４
−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸メチル 上記工程で製造した３ｇのエナミン、５０ｃｃのテトラ
ヒドロフラン、５ｃｃの２Ｎ塩酸及び１５ｃｃの水を混
合し、混合物を２０〜２５℃で２時間３０分放置し、テ
トラヒドロフランを蒸発させ、塩化メチレンで抽出し、
有機相を洗浄し、乾燥し、真空下に乾固させ、次いでイ
ソプロピルエーテルから再結晶し、分離し、乾燥する。
このようにして、２．０５ｇの所望化合物を得た。Ｍｐ
＝１３３℃。 薄層クロマトグラフィー；Ｒｆ＝０．２５（溶離剤：ヘ
キサン−酢酸エチル７−３）。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） −Ｏ−（ＣＨ 3 ）：3.61(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 −：4.96(s)ppm 芳香族プロトン：6.90(m) 及び7.25(m)ppm ＝Ｃ−Ｈ：7.98(m)ppm Ｎ＝Ｃ−Ｈ：9.06(s)ppm −Ｏ−Ｈ：11.77(易動性）ppm工程Ｄ ：α−［（Ｚ）−メトキシメチレン］−４−（フ
ェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸メチル 上記工程で製造した化合物を１００ｃｃのアセトンと２
０ｃｃのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液に８ｃ
ｃの沃化メチル及び４ｇの炭酸カリウムを添加し、全体
を２０〜２５℃で４時間撹拌し、ろ過し、ろ液を乾固さ
せ、残留物をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサン
−酢酸エチル混合物（４−６）で溶離する。１．７ｇの
所望化合物を集めた。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．３５［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（４−６）］。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）及びＣ＝ＣＨ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）：
3.69(s) 及び3.81(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 ：5.07(s)ppm 芳香族プロトン：6.88〜6.96及び7.19〜7.27ppm Ｃ＝Ｃ−Ｈ：7.62(s)ppm Ｎ＝Ｃ−Ｈ：8.82(s)ppm微量分析 ：Ｃ15Ｈ15ＮＯ4 Ｓ＝３０５．３５６ 計算：C%59.00 H%4.95 N%4.59 S%10.5 実測：C%58.5 H%4.9 N%4.5 S%10.5
【００１５】例４：２−クロル−α−［（Ｚ）−メトキ
シメチレン］−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾ
ール酢酸メチル工程Ａ ：２，３−ジヒドロ−２−オキソ−４−（フェノ
キシメチル）−５−チアゾール酢酸メチル 例１の工程Ｂで得た１８ｇの化合物を１８０ｃｃのテト
ラヒドロフランと混合し、混合物を０℃〜＋５℃に冷却
し、次いで１２ｇのＮ−ブロムスクシンイミドを導入
し、次いでこの温度で１時間撹拌し、次いで乾固させ、
イソプロピルエーテルで溶解し、ろ過し、ろ液を真空下
に乾固させる。得られた油状物を１５０ｃｃのメタノー
ルに溶解し、次いで７ｇのチオカルバミン酸エチルを添
加し、次いで３時間加熱乾留し、媒質を水中に注ぎ、塩
化メチレンで抽出し、抽出物を乾燥し、乾固させる。イ
ソプロピルエーテルで結晶化した後、８．３ｇの所望化
合物を得た。Ｍｐ＝１０３℃。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．４２［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（１−１）］。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） −ＣＯ2 −ＣＨ 3 ：3.72(s)ppm −ＣＯ−ＣＨ 2 ：3.53(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 ：4.79(s)ppm ＮＨ：9.80( 易動性）ppm 芳香族プロトン：6.90〜7.05(s) 及び7.25〜7.35(m)ppm工程Ｂ ：２−クロル−４−（フェノキシメチル）−５−
チアゾール酢酸メチル 上記工程で製造した１２ｇの化合物を２４ｃｃの塩化ホ
スホリルと混合し、次いで５ｃｃの２，６−ルチジンを
滴下しながら導入する。３時間加熱還流した後、混合物
を２０〜２５℃に戻す。過剰の塩化ホスホリルを減圧下
に追い出し、反応媒質を８０ｃｃの氷冷水中に注ぎ、塩
化メチレンで抽出する。有機相を洗浄し、乾燥し、乾固
させ、残留物をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサ
ン−酢酸メチル混合物（７−３）で溶離する。溶媒を蒸
発させた後、９ｇの所望化合物を集めた。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．３２［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（７−３）］。ＩＲ スペクトル Ｃ＝Ｏ：1740cm-1 芳香族＋共役系：1598〜1590及び1496〜1488cm-1 工程Ｃ ：２−クロル−α−［（ジメチルアミノ）メチレ
ン］−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸
メチル 上記工程で製造した４ｇの化合物と５０ｃｃのジメチル
ホルムアミドジエチルアセタールを含有する混合物を５
０℃に３時間加熱し、乾固させ、残留物をシリカでクロ
マトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エチル混合物（７−
３）で溶離し、１．５ｇの所望化合物を集めた。Ｍｐ＝
１１３．８℃。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．２５［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（７−３）］。工程Ｄ ：２−クロル−α−［ヒドロキシメチレン］−４
−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸メチル 上記工程で製造した２．２ｇの化合物を５０ｃｃのテト
ラヒドロフラン、次いで４ｃｃの２Ｎ塩酸及び１０ｃｃ
の水と混合し、全体を２０〜２５℃に２時間放置する。
溶媒を減圧下に蒸発させ、媒質を塩化メチレンで抽出
し、有機相を乾燥し、乾固させる。２．１ｇの所望化合
物を得た。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．１〜０．３［溶離
剤：ヘキサン−酢酸エチル（７−３）］。ＩＲ スペクトル Ｃ＝Ｏ：1664cm-1（キレートエステル） Ｃ＝Ｃ＋芳香族＋複素環：1599〜1590及び1544〜1496cm
-1 工程Ｅ ：２−クロル−α−［（Ｚ）−メトキシメチレ
ン］−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸
メチル 上記工程で得た２ｇの化合物を５０ｃｃのアセトンに溶
解してなる溶液に８ｃｃの沃化メチルと４ｇの炭酸カリ
ウムを添加し、２０〜２５℃で４時間３０分撹拌する。
１Ｎ塩酸水溶液により中和した後、媒質を塩化メチレン
で抽出し、有機相を水洗し、乾燥し、乾固させる。残留
物をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エ
チル混合物（７−３）で溶離する。溶媒を蒸発させた
後、１．５ｇの所望化合物を集めた。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．２５［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（６−４）］。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）及びＣ＝ＣＨ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）：
3.70(s) 及び3.82(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 ：4.95(s)ppm 芳香族プロトン：6.8 〜7.0(m)及び7.2 〜7.4(m)ppm Ｃ＝Ｃ−Ｈ：7.58(s)ppm微量分析 ：Ｃ15Ｈ14ＣｌＮＯ4 Ｓ＝３３４．７９６ 計算：C%53.02 H%4.15 Cl%10.43 N%4.12 S%9.45 実測：C%52.9 H%4.1 Cl%10.6 N%4.1 S%9.5
シメチレン］−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾ
ール酢酸メチル工程Ａ ：２，３−ジヒドロ−２−オキソ−４−（フェノ
キシメチル）−５−チアゾール酢酸メチル 例１の工程Ｂで得た１８ｇの化合物を１８０ｃｃのテト
ラヒドロフランと混合し、混合物を０℃〜＋５℃に冷却
し、次いで１２ｇのＮ−ブロムスクシンイミドを導入
し、次いでこの温度で１時間撹拌し、次いで乾固させ、
イソプロピルエーテルで溶解し、ろ過し、ろ液を真空下
に乾固させる。得られた油状物を１５０ｃｃのメタノー
ルに溶解し、次いで７ｇのチオカルバミン酸エチルを添
加し、次いで３時間加熱乾留し、媒質を水中に注ぎ、塩
化メチレンで抽出し、抽出物を乾燥し、乾固させる。イ
ソプロピルエーテルで結晶化した後、８．３ｇの所望化
合物を得た。Ｍｐ＝１０３℃。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．４２［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（１−１）］。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） −ＣＯ2 −ＣＨ 3 ：3.72(s)ppm −ＣＯ−ＣＨ 2 ：3.53(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 ：4.79(s)ppm ＮＨ：9.80( 易動性）ppm 芳香族プロトン：6.90〜7.05(s) 及び7.25〜7.35(m)ppm工程Ｂ ：２−クロル−４−（フェノキシメチル）−５−
チアゾール酢酸メチル 上記工程で製造した１２ｇの化合物を２４ｃｃの塩化ホ
スホリルと混合し、次いで５ｃｃの２，６−ルチジンを
滴下しながら導入する。３時間加熱還流した後、混合物
を２０〜２５℃に戻す。過剰の塩化ホスホリルを減圧下
に追い出し、反応媒質を８０ｃｃの氷冷水中に注ぎ、塩
化メチレンで抽出する。有機相を洗浄し、乾燥し、乾固
させ、残留物をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサ
ン−酢酸メチル混合物（７−３）で溶離する。溶媒を蒸
発させた後、９ｇの所望化合物を集めた。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．３２［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（７−３）］。ＩＲ スペクトル Ｃ＝Ｏ：1740cm-1 芳香族＋共役系：1598〜1590及び1496〜1488cm-1 工程Ｃ ：２−クロル−α−［（ジメチルアミノ）メチレ
ン］−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸
メチル 上記工程で製造した４ｇの化合物と５０ｃｃのジメチル
ホルムアミドジエチルアセタールを含有する混合物を５
０℃に３時間加熱し、乾固させ、残留物をシリカでクロ
マトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エチル混合物（７−
３）で溶離し、１．５ｇの所望化合物を集めた。Ｍｐ＝
１１３．８℃。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．２５［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（７−３）］。工程Ｄ ：２−クロル−α−［ヒドロキシメチレン］−４
−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸メチル 上記工程で製造した２．２ｇの化合物を５０ｃｃのテト
ラヒドロフラン、次いで４ｃｃの２Ｎ塩酸及び１０ｃｃ
の水と混合し、全体を２０〜２５℃に２時間放置する。
溶媒を減圧下に蒸発させ、媒質を塩化メチレンで抽出
し、有機相を乾燥し、乾固させる。２．１ｇの所望化合
物を得た。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．１〜０．３［溶離
剤：ヘキサン−酢酸エチル（７−３）］。ＩＲ スペクトル Ｃ＝Ｏ：1664cm-1（キレートエステル） Ｃ＝Ｃ＋芳香族＋複素環：1599〜1590及び1544〜1496cm
-1 工程Ｅ ：２−クロル−α−［（Ｚ）−メトキシメチレ
ン］−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸
メチル 上記工程で得た２ｇの化合物を５０ｃｃのアセトンに溶
解してなる溶液に８ｃｃの沃化メチルと４ｇの炭酸カリ
ウムを添加し、２０〜２５℃で４時間３０分撹拌する。
１Ｎ塩酸水溶液により中和した後、媒質を塩化メチレン
で抽出し、有機相を水洗し、乾燥し、乾固させる。残留
物をシリカでクロマトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エ
チル混合物（７−３）で溶離する。溶媒を蒸発させた
後、１．５ｇの所望化合物を集めた。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．２５［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（６−４）］。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）及びＣ＝ＣＨ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）：
3.70(s) 及び3.82(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 ：4.95(s)ppm 芳香族プロトン：6.8 〜7.0(m)及び7.2 〜7.4(m)ppm Ｃ＝Ｃ−Ｈ：7.58(s)ppm微量分析 ：Ｃ15Ｈ14ＣｌＮＯ4 Ｓ＝３３４．７９６ 計算：C%53.02 H%4.15 Cl%10.43 N%4.12 S%9.45 実測：C%52.9 H%4.1 Cl%10.6 N%4.1 S%9.5
【００１６】例５：α−［（Ｚ）−メトキシメチレン］
−２−メチルチオ−４−（フェノキシメチル）−５−チ
アゾール酢酸メチル工程Ａ ：４−（フェノキシメチル）−２−チオキソ−５
−チアゾール酢酸メチル例１の工程Ｂで製造した９ｇの
化合物を９０ｃｃのテトラヒドロフランに６ｇのＮ−ブ
ロムスクシンイミドを添加し、０℃に冷却し、全体をこ
の温度で１時間撹拌する。乾固させた後、残留物をイソ
プロピルエーテルで溶解し、スクシンイミドを分離し、
ろ液を乾固させる。得られた油状物を７０ｃｃのメタノ
ールに溶解し、次いで還流下に１時間３．５ｇのジチオ
カルバミン酸アンモニウムで処理する。媒質を水中に注
ぎ、生成物を分離し、塩化メチレンで溶解し、乾燥し、
真空下に乾固させる。イソプロピルエーテルで結晶化し
た後、３．６ｇの所望化合物を集めた。Ｍｐ＝１３７．
８℃。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．４０［溶離剤：塩化
メチレン−酢酸エチル（９−１）］。ＩＲ スペクトル Ｃ＝ＮＨ：3385cm-1 ＣＯ2 −ＣＨ3 ：1438cm-1 Ｃ＝Ｃ：1625cm-1 工程Ｂ ：α−［（ジメチルアミノ）メチレン］−２−メ
チルチオ−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール
酢酸メチル 上記工程で製造した３．４ｇの化合物と２５ｃｃのジメ
チルホルムアミドジエチルアセタールを含有する混合物
を５０℃に２時間加熱し、乾固させ、残留物をシリカで
クロマトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エチル混合物
（６−４）で溶離する。２．１ｇの所望化合物を得た。
Ｍｐ＝１２２．１℃。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．２２［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（６−４）］。工程Ｃ ：α−［ヒドロキシメチレン］−２−メチルチオ
−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸メチ
ル 上記工程で製造した２．１ｇの化合物を４５ｃｃのテト
ラヒドロフラン、次いで３．４ｃｃの２Ｎ塩酸と混合
し、全体を２０〜２５℃に１６時間放置する。溶媒を真
空下に蒸発させ、媒質を塩化メチレンで抽出する。有機
相を乾燥し、乾固させる。１．８９ｇの所望化合物を得
た。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．２５［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（４−６）］。ＩＲ スペクトル Ｃ＝Ｏ：1701〜1666cm-1 Ｃ＝Ｃ＋芳香族＋複素環：1635〜1618、 1598〜1590、 15
48〜1497cm-1 工程Ｄ ：α−［（Ｚ）−メトキシメチレン］−２−メチ
ルチオ−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢
酸メチル 上記工程で得た１．８ｇの化合物を７０ｃｃのアセトン
に溶解し、この溶液を２０〜２５℃で１時間１５分撹拌
しながら７ｃｃの沃化メチル及び４ｇの炭酸カリウムで
処理する。混合物を水中に注ぎ、２Ｎ塩酸を添加して中
和し、塩化メチレンで抽出し、有機相を洗浄し、乾燥
し、乾固させる。残留物をシリカでクロマトグラフィー
し、ヘキサン−酢酸エチル混合物（７−３）で溶離す
る。溶媒を蒸発させた後、１．５６ｇの所望化合物を集
めた。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．２５［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（７−３）］。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） Ｓ−ＣＨ 3 ：2.66(s)ppm ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）及びＣ＝ＣＨ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）：
3.68(s) 及び3.79(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 −：4.96(s)ppm 芳香族プロトン：6.9 〜6.93及び7.19〜7.27ppm Ｃ＝Ｃ−Ｈ：7.56(s)ppm微量分析 ：Ｃ16Ｈ17ＮＯ4 Ｓ2 ＝３５１．４３８ 計算：C%54.68 H%4.88 N%3.99 S%18.24 実測：C%54.6 H%4.8 N%4.1 S%18.1
−２−メチルチオ−４−（フェノキシメチル）−５−チ
アゾール酢酸メチル工程Ａ ：４−（フェノキシメチル）−２−チオキソ−５
−チアゾール酢酸メチル例１の工程Ｂで製造した９ｇの
化合物を９０ｃｃのテトラヒドロフランに６ｇのＮ−ブ
ロムスクシンイミドを添加し、０℃に冷却し、全体をこ
の温度で１時間撹拌する。乾固させた後、残留物をイソ
プロピルエーテルで溶解し、スクシンイミドを分離し、
ろ液を乾固させる。得られた油状物を７０ｃｃのメタノ
ールに溶解し、次いで還流下に１時間３．５ｇのジチオ
カルバミン酸アンモニウムで処理する。媒質を水中に注
ぎ、生成物を分離し、塩化メチレンで溶解し、乾燥し、
真空下に乾固させる。イソプロピルエーテルで結晶化し
た後、３．６ｇの所望化合物を集めた。Ｍｐ＝１３７．
８℃。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．４０［溶離剤：塩化
メチレン−酢酸エチル（９−１）］。ＩＲ スペクトル Ｃ＝ＮＨ：3385cm-1 ＣＯ2 −ＣＨ3 ：1438cm-1 Ｃ＝Ｃ：1625cm-1 工程Ｂ ：α−［（ジメチルアミノ）メチレン］−２−メ
チルチオ−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール
酢酸メチル 上記工程で製造した３．４ｇの化合物と２５ｃｃのジメ
チルホルムアミドジエチルアセタールを含有する混合物
を５０℃に２時間加熱し、乾固させ、残留物をシリカで
クロマトグラフィーし、ヘキサン−酢酸エチル混合物
（６−４）で溶離する。２．１ｇの所望化合物を得た。
Ｍｐ＝１２２．１℃。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．２２［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（６−４）］。工程Ｃ ：α−［ヒドロキシメチレン］−２−メチルチオ
−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸メチ
ル 上記工程で製造した２．１ｇの化合物を４５ｃｃのテト
ラヒドロフラン、次いで３．４ｃｃの２Ｎ塩酸と混合
し、全体を２０〜２５℃に１６時間放置する。溶媒を真
空下に蒸発させ、媒質を塩化メチレンで抽出する。有機
相を乾燥し、乾固させる。１．８９ｇの所望化合物を得
た。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．２５［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（４−６）］。ＩＲ スペクトル Ｃ＝Ｏ：1701〜1666cm-1 Ｃ＝Ｃ＋芳香族＋複素環：1635〜1618、 1598〜1590、 15
48〜1497cm-1 工程Ｄ ：α−［（Ｚ）−メトキシメチレン］−２−メチ
ルチオ−４−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢
酸メチル 上記工程で得た１．８ｇの化合物を７０ｃｃのアセトン
に溶解し、この溶液を２０〜２５℃で１時間１５分撹拌
しながら７ｃｃの沃化メチル及び４ｇの炭酸カリウムで
処理する。混合物を水中に注ぎ、２Ｎ塩酸を添加して中
和し、塩化メチレンで抽出し、有機相を洗浄し、乾燥
し、乾固させる。残留物をシリカでクロマトグラフィー
し、ヘキサン−酢酸エチル混合物（７−３）で溶離す
る。溶媒を蒸発させた後、１．５６ｇの所望化合物を集
めた。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．２５［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（７−３）］。ＮＭＲ分析 （ＣＤＣｌ3 ；２５０ＭＨｚ） Ｓ−ＣＨ 3 ：2.66(s)ppm ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）及びＣ＝ＣＨ−Ｏ−（ＣＨ 3 ）：
3.68(s) 及び3.79(s)ppm −Ｏ−ＣＨ 2 −：4.96(s)ppm 芳香族プロトン：6.9 〜6.93及び7.19〜7.27ppm Ｃ＝Ｃ−Ｈ：7.56(s)ppm微量分析 ：Ｃ16Ｈ17ＮＯ4 Ｓ2 ＝３５１．４３８ 計算：C%54.68 H%4.88 N%3.99 S%18.24 実測：C%54.6 H%4.8 N%4.1 S%18.1
【００１７】製造例１ ：５−ブロム−４−オキソペンタン酸メチル工程Ａ ：４−オキソペンタン酸メチル ３００ｇの４−オキソペンタン酸（レブリン酸）、３０
０ｃｃのメタノール及び２ｃｃの９７％硫酸を含有する
溶液を２０〜２５℃で１６時間撹拌し、乾固させ、残留
物を減圧下に精留する。２９０ｇの所期のメチルエステ
ルを集めた。Ｂｐ＝８７〜８８℃。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．１３［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（８−２）］工程Ｂ ：５−ブロム−４−オキソペンタン酸メチル １００ｇの上記工程で製造したエステルを１６００ｃｃ
のメタノール及び２ｃｃの濃酢酸と混合し、全体を４０
℃に加熱する。次いで４２ｃｃの臭素を導入し、次いで
温度を撹拌下に２５℃に戻す。混合物を乾固させ、得ら
れた残留物を１００ｃｃの水に溶解し、重炭酸ナトリウ
ム飽和水溶液で中和する。ジエチルエーテルで抽出した
後、有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、乾固
させる。得られた残留物をシリカでクロマトグラフィー
し、所望化合物を３４％の収率で得た。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．１８［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（８−２）］
０ｃｃのメタノール及び２ｃｃの９７％硫酸を含有する
溶液を２０〜２５℃で１６時間撹拌し、乾固させ、残留
物を減圧下に精留する。２９０ｇの所期のメチルエステ
ルを集めた。Ｂｐ＝８７〜８８℃。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．１３［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（８−２）］工程Ｂ ：５−ブロム−４−オキソペンタン酸メチル １００ｇの上記工程で製造したエステルを１６００ｃｃ
のメタノール及び２ｃｃの濃酢酸と混合し、全体を４０
℃に加熱する。次いで４２ｃｃの臭素を導入し、次いで
温度を撹拌下に２５℃に戻す。混合物を乾固させ、得ら
れた残留物を１００ｃｃの水に溶解し、重炭酸ナトリウ
ム飽和水溶液で中和する。ジエチルエーテルで抽出した
後、有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、乾固
させる。得られた残留物をシリカでクロマトグラフィー
し、所望化合物を３４％の収率で得た。 薄層クロマトグラフィーＲｆ＝０．１８［溶離剤：ヘキ
サン−酢酸エチル（８−２）］
【００１８】生物学的研究 殺菌活性の研究 プシニア・レコンジタ・トリチシ（Puccinia recondita
tritici）に対する試験小麦（フェスチバル変種）の種
子を土／コンポスト／砂混合物（1/3 −1/3 −1/3 ）中
で発芽させ、苗をグリーンハウス内で栽培する。被検化
合物を使用直前に後記の「マトリックスＡ」に５００ｐ
ｐｍの濃度で溶解する。処理は、被検化合物溶液を発芽
して９日後の小麦の苗に保持量が最高になるまで噴霧す
ることにより行う。処理してから次の日にプシニア・レ
コンジタ・トリチシの夏胞子による汚染を行う。植物を
空調室（日中温度２２℃、夜間温度１８℃）に保持す
る。菌で汚染させてから７日後に各植物の最初の２枚の
葉の上の胞子の密度を測定する。被検化合物の有効性を
未処理対照例と比較して計算する。下記の結果が得られ
た。例３の化合物は１００％、例４の化合物は８０％の
有効性であった。上記の試験で使用した「マトリックス
Ａ」は下記の組成を有する。 ソルベッソ（SOLVESSO）150 ７０．０ｇ ナプソール（NAPSOL）PM1 ８５０．０ｇ サーファロックス（SURFAROX）HRH40C ５２．０ｇ ECD 1604 ２８．０ｇ 合計 １０００．０ｇ
tritici）に対する試験小麦（フェスチバル変種）の種
子を土／コンポスト／砂混合物（1/3 −1/3 −1/3 ）中
で発芽させ、苗をグリーンハウス内で栽培する。被検化
合物を使用直前に後記の「マトリックスＡ」に５００ｐ
ｐｍの濃度で溶解する。処理は、被検化合物溶液を発芽
して９日後の小麦の苗に保持量が最高になるまで噴霧す
ることにより行う。処理してから次の日にプシニア・レ
コンジタ・トリチシの夏胞子による汚染を行う。植物を
空調室（日中温度２２℃、夜間温度１８℃）に保持す
る。菌で汚染させてから７日後に各植物の最初の２枚の
葉の上の胞子の密度を測定する。被検化合物の有効性を
未処理対照例と比較して計算する。下記の結果が得られ
た。例３の化合物は１００％、例４の化合物は８０％の
有効性であった。上記の試験で使用した「マトリックス
Ａ」は下記の組成を有する。 ソルベッソ（SOLVESSO）150 ７０．０ｇ ナプソール（NAPSOL）PM1 ８５０．０ｇ サーファロックス（SURFAROX）HRH40C ５２．０ｇ ECD 1604 ２８．０ｇ 合計 １０００．０ｇ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 277/36 (72)発明者 ジル・ムリウー フランス国ジェムノ、アレ・デ・ミコクリ エ、12
Claims (8)
- 【請求項１】 次式（Ｉ） 【化１】 （ここで、Ａｒは非置換フェニル基又はハロゲン原子、
メチレンジオキシ基、フェニル基、フェノキシ基、トリ
フルオルメチル基、１〜６個の炭素原子を含有する直鎖
状若しくは分岐鎖状アルキル基、１〜６個の炭素原子を
含有する直鎖状若しくは分岐鎖状アルキルオキシ基若し
くは１〜６個の炭素原子を含有する直鎖状若しくは分岐
鎖状アルキルチオ基のうちから選択される１個以上の同
一若しくは異なる基で置換されたフェニル基を表わし、 Ｚは水素原子、塩素原子、トリフルオルメチル基、１〜
６個の炭素原子を含有する直鎖状若しくは分岐鎖状アル
キル基、１〜６個の炭素原子を含有する直鎖状若しくは
分岐鎖状アルキルオキシ基又は１〜６個の炭素原子を含
有する直鎖状若しくは分岐鎖状アルキルチオ基を表わ
し、 Ｒ1 及びＲ2 は、同一であっても異なっていてもよく、
互いに独立して１〜６個の炭素原子を含有する直鎖状又
は分岐鎖状アルキル基を表わし、 環外の二重結合は（Ｚ）配置又は（Ｅ）配置にある）の
化合物。 - 【請求項２】 Ｒ1 及びＲ2 がメチル基を表わす請求項
１記載の式（Ｉ）の化合物。 - 【請求項３】 Ｚが水素原子、塩素原子、又はメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、メトキシ、エトキシ
及びメチルチオ基のうちから選択される基の一つを表わ
す請求項１又は２記載の式（Ｉ）の化合物。 - 【請求項４】 化合物名が下記の通りの化合物。 ・α−［（Ｚ）−メトキシメチレン］−４−（フェノキ
シメチル）−５−チアゾール酢酸メチル ・２−クロル−α−［（Ｚ）−メトキシメチレン］−４
−（フェノキシメチル）−５−チアゾール酢酸メチル。 - 【請求項５】 請求項１記載の式（Ｉ）の化合物を製造
するにあたり、次式（II） 【化２】 Ｘ−ＣＨ2 −ＣＯ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＯＯＲ1 （II） （ここで、Ｘは塩素又は臭素原子を表わし、Ｒ1 は請求
項１記載の意味を有する）の５−ハロ−４−オキソペン
タン酸を塩基の存在下に次式(III) Ａｒ−ＯＨ （III ） （ここで、Ａｒは請求項１記載の意味を有する）のフェ
ノールで処理して次式（IV） 【化３】 Ａｒ−Ｏ−ＣＨ2 −ＣＯ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＯＯＲ1 （IV） の５−（アリールオキシ）−４−オキソペンタン酸エス
テルを得、式（IV）のエステルを次式（Ｖ） Ｒ3 Ｒ4 Ｒ5 ＳｉＣｌ （Ｖ） （ここで、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は同一であっても異なっ
ていてもよく、１〜４個の炭素原子を含有する直鎖状又
は分岐鎖状アルキル基を表わす）のトリアルキルクロル
シランの作用により次式(VI) 【化４】 のシリル化エノールエーテルに転化し、式(VI)の化合物
を臭素化により次式(VII) 【化５】 Ａｒ−Ｏ−ＣＨ2 −ＣＯ−ＣＨＢｒ−ＣＨ2 −ＣＯＯＲ1 (VII) の５−（アリールオキシ）−４−オキソペンタン酸エス
テルの３−ブロム誘導体を得、この化合物を次式（VII
I） Ｚ1 −ＣＳ−ＮＨ2 （VIII） （ここで、Ｚ1 は水素原子又は１〜６個の炭素原子を含
有する直鎖状若しくは分岐鎖状アルキル基を表わす）の
化合物と反応させて次式（IX)1 【化６】 の化合物を形成させるか、或いは次式（Ｘ） Ａｌｋ1 −Ｏ−ＣＳ−ＮＨ2 （Ｘ） （ここで、Ａｌｋ1 は１〜４個の炭素原子を含有するア
ルキル基を表わす）の化合物と反応させて次式(XI) 【化７】 の２−チアゾリノン誘導体を形成させ、式(XI)の化合物
をカルボニル官能基の塩素化剤で処理して次式（IX)2 【化８】 の化合物を得、所望ならば、式（IX)2の化合物を次式(X
II) Ｚ3 -Ｍ+ (XII) （ここで、Ｚ3 -はアルコラート陰イオンを表わし、Ｍ+
はアンモニウム陽イオン又はアルカリ金属陽イオンを表
わす）の塩基と反応させて次式（IX)3 【化９】 の化合物を得るか、或いは次式（XIII） ＮＨ2 −ＣＳ−Ｓ- Ｍ+ （XIII） のジチオカルバミン酸塩と反応させて次式(XIV) 【化１０】 の２−チアゾリンチオン誘導体を得、式（IX)1、（I
X)2、（IX)3又は(XIV) の化合物を塩基の存在下に次式
(XV) Ｍｅ2 Ｎ−ＣＨ（ＯＲ7 ）2 (XV) （ここで、Ｒ7 は１〜６個の炭素原子を含有する直鎖状
又は分岐鎖状アルキル基を表わす）のジメチルホルムア
ミドアセタールと縮合させてそれぞれ次式(XVI)1、(XV
I)2、(XVI)3及び(XVI)4 【化１１】 の化合物を得、これらの式(XVI)1、(XVI)2、(XVI)3及び
(XVI)4の化合物は次の単一の式(XVI) 【化１２】 （ここで、Ｚ、Ａｒ及びＲ1 は請求項１記載の意味を有
する）で表わすことができ、次いで式(XVI) の化合物を
加水分解により次式(XVII) 【化１３】 の化合物に転化し、式(XVII)の化合物をエーテル化して
式（Ｉ）の化合物を得ることを特徴とする式（Ｉ）の化
合物の製造法。 - 【請求項６】 請求項１〜４のいずれかに記載の式
（Ｉ）の化合物からなる殺菌剤。 - 【請求項７】 請求項１〜４のいずれかに記載の式
（Ｉ）の化合物の少なくとも１種を活性成分として含有
する殺菌剤組成物。 - 【請求項８】 請求項５記載の製造法における式（VI
I)、（IX)1、（IX)2、（IX)3、(XI)、(XIV) 、(XVI) 及
び(XVII)の中間体化合物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9104340A FR2675142B1 (fr) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | Nouveaux derives de l'acide alpha-methylene 4-[(phenoxy) methyl] 5-thiazolacetique, leur procede de preparation et les intermediaires de ce procede et leur application a titre de fongicides. |
| FR91-04340 | 1991-04-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05345773A true JPH05345773A (ja) | 1993-12-27 |
Family
ID=9411662
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4109129A Withdrawn JPH05345773A (ja) | 1991-04-10 | 1992-04-03 | 新規なα−メチレン−４−［（フェノキシ）メチル−５−チアゾール酢酸誘導体、それらの製造法及びこの製造法の中間体、それらの殺菌剤としての使用並びにそれらを含む組成物 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5166167A (ja) |
| EP (1) | EP0508901A3 (ja) |
| JP (1) | JPH05345773A (ja) |
| CA (1) | CA2065629A1 (ja) |
| FR (1) | FR2675142B1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2674246B1 (fr) * | 1991-03-21 | 1993-07-09 | Roussel Uclaf | Nouveaux derives de l'acide alpha-methylene 5-thiazolacetique, leur procede de preparation et les intermediaires de ce procede, leur application a titre de fongicides et les compositions les renfermant. |
| FR2684100B1 (fr) * | 1991-11-26 | 1994-02-18 | Roussel Uclaf | Nouveaux derives de l'acide alpha-methylene 6-styryl acrylique, leur procede de preparation et leur application comme pesticides. |
| JP3217191B2 (ja) * | 1992-07-16 | 2001-10-09 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | ヘテロ芳香族化合物およびこれを含有する植物保護剤 |
| IT1269176B (it) * | 1994-01-11 | 1997-03-21 | Isagro Srl | Eterobicicli ad attivita' fungicida |
| GB0702385D0 (en) * | 2007-02-07 | 2007-03-21 | Argenta Discovery Ltd | New combination |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4389525A (en) * | 1981-06-22 | 1983-06-21 | Merck & Co., Inc. | Process for the resolution of some interphenylene 9-thia-11-oxo-12-azaprostanoic acids |
| CA2014880A1 (en) * | 1989-04-27 | 1990-10-27 | Indu Sawhney | Thiazole derivatives |
| FR2647787B1 (fr) * | 1989-06-06 | 1991-09-27 | Roussel Uclaf | Nouveaux thiazolylalkoxyacrylates, leur procede de preparation, leur application comme fongicides et leurs intermediaires de preparation |
-
1991
- 1991-04-10 FR FR9104340A patent/FR2675142B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-03-16 US US07/851,922 patent/US5166167A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-04-03 JP JP4109129A patent/JPH05345773A/ja not_active Withdrawn
- 1992-04-09 EP EP19920401003 patent/EP0508901A3/fr not_active Withdrawn
- 1992-04-09 CA CA002065629A patent/CA2065629A1/fr not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5166167A (en) | 1992-11-24 |
| FR2675142B1 (fr) | 1993-06-25 |
| EP0508901A3 (en) | 1993-03-17 |
| FR2675142A1 (fr) | 1992-10-16 |
| CA2065629A1 (fr) | 1992-10-11 |
| EP0508901A2 (fr) | 1992-10-14 |
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|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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