JPH0534920A - 光硬化性樹脂組成物、保護層の形成方法及びカラーフイルター - Google Patents
光硬化性樹脂組成物、保護層の形成方法及びカラーフイルターInfo
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 紫外線露光に対して高感度で、アルカリ水溶
液で現像可能であり、しかも耐薬品性、耐熱性、基板等
との密着性に優れた、カラーフィルター層の保護層とし
て最適な光硬化樹脂組成物、これを用いた保護層の形成
方法、及び該保護層を有するカラーフイルターを提供す
る。 【構成】 (1)分子中にカルボキシル基を有する重合
体、(2)分子中に少なくとも2個のエチレン不飽和二
重結合を有する化合物、(3)光重合開始剤、及び
(4)分子中に少なくとも1個のエポキシ基を有する化
合物、を含む、光硬化性樹脂組成物において、該分子中
にカルボキシル基を有する重合体が、(A)アクリル酸
及びメタクリル酸(B)ベンジルアクリレート及びベン
ジルメタアクリレート、及び場合により(C)炭素数1
〜12のアルキル基を含有するアルキルメタクリレート
等からなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物から
導かれた繰り返し単位、を含有する共重合体。
液で現像可能であり、しかも耐薬品性、耐熱性、基板等
との密着性に優れた、カラーフィルター層の保護層とし
て最適な光硬化樹脂組成物、これを用いた保護層の形成
方法、及び該保護層を有するカラーフイルターを提供す
る。 【構成】 (1)分子中にカルボキシル基を有する重合
体、(2)分子中に少なくとも2個のエチレン不飽和二
重結合を有する化合物、(3)光重合開始剤、及び
(4)分子中に少なくとも1個のエポキシ基を有する化
合物、を含む、光硬化性樹脂組成物において、該分子中
にカルボキシル基を有する重合体が、(A)アクリル酸
及びメタクリル酸(B)ベンジルアクリレート及びベン
ジルメタアクリレート、及び場合により(C)炭素数1
〜12のアルキル基を含有するアルキルメタクリレート
等からなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物から
導かれた繰り返し単位、を含有する共重合体。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、紫外線露光に対して高
感度で、粘着性の無い塗膜が得られ、アルカリ水溶液で
現像可能であり、しかもその硬化膜が、熱処理を行うこ
とにより優れた耐薬品性・耐熱性を示し、基板との密着
性に優れた、光硬化性樹脂組成物に関する。本発明の光
硬化性樹脂組成物は、カラーフィルター層や電子デバイ
スの保護層等の用途に最適である。
感度で、粘着性の無い塗膜が得られ、アルカリ水溶液で
現像可能であり、しかもその硬化膜が、熱処理を行うこ
とにより優れた耐薬品性・耐熱性を示し、基板との密着
性に優れた、光硬化性樹脂組成物に関する。本発明の光
硬化性樹脂組成物は、カラーフィルター層や電子デバイ
スの保護層等の用途に最適である。
【0002】
【従来の技術】光硬化性樹脂組成物に関しては様々な利
用分野が開拓されて来ている。その中には露光、現像に
よりパターンニングが可能で、しかもその硬化膜の耐熱
性を要求される用途がある。例えば液晶表示パネル用の
カラーフィルターの保護層が挙げられる。液晶パネルに
カラーフィルターを配置するには、ガラス基板上にカラ
ーフィルター層を形成した後、該カラーフィルター層上
に保護層を形成し、その上に例えば、ITOのような透
明導電性層を形成し、フォトリソグラフィーにより透明
電極を形成する方法が一般的である。保護層の上に透明
導電性層を形成するに当たり、高温でのスパッターや蒸
着を行うが、この処理の時に該保護層には、カラーフィ
ルター層及び透明導電性層との密着性、保護層自身が着
色しないこと、また厚みが減少しないことなどの耐熱性
が要求される。また、ITO層の透明電極への加工は一
般に、フォトリソグラフィーにより行われるが、この際
に、保護層はフォトレジストの現像液や剥離液、さらに
ITOのエッチャントへの耐性が要求される。
用分野が開拓されて来ている。その中には露光、現像に
よりパターンニングが可能で、しかもその硬化膜の耐熱
性を要求される用途がある。例えば液晶表示パネル用の
カラーフィルターの保護層が挙げられる。液晶パネルに
カラーフィルターを配置するには、ガラス基板上にカラ
ーフィルター層を形成した後、該カラーフィルター層上
に保護層を形成し、その上に例えば、ITOのような透
明導電性層を形成し、フォトリソグラフィーにより透明
電極を形成する方法が一般的である。保護層の上に透明
導電性層を形成するに当たり、高温でのスパッターや蒸
着を行うが、この処理の時に該保護層には、カラーフィ
ルター層及び透明導電性層との密着性、保護層自身が着
色しないこと、また厚みが減少しないことなどの耐熱性
が要求される。また、ITO層の透明電極への加工は一
般に、フォトリソグラフィーにより行われるが、この際
に、保護層はフォトレジストの現像液や剥離液、さらに
ITOのエッチャントへの耐性が要求される。
【0003】このような保護層の例としては特開昭61
−6624、同61−198131、同60−1120
01、同59−184325、特開平2−72302、
同2−101404、同2−191901号の各公報等
に開示されている。この際に使用される保護層として
は、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコン樹脂、ポリ
イミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、熱硬化型アクリル樹
脂等の非感光性樹脂や、感光剤を添加したポリビニルア
ルコール、感光性アクリル樹脂などを塗布することが記
載されている。中でも光照射により硬化する光硬化性樹
脂は光照射した後、加熱をすることが不要かまたは比較
的低温での加熱により容易に硬化するため、処理時間の
短縮が可能であるので特に注目される。
−6624、同61−198131、同60−1120
01、同59−184325、特開平2−72302、
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に開示されている。この際に使用される保護層として
は、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコン樹脂、ポリ
イミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、熱硬化型アクリル樹
脂等の非感光性樹脂や、感光剤を添加したポリビニルア
ルコール、感光性アクリル樹脂などを塗布することが記
載されている。中でも光照射により硬化する光硬化性樹
脂は光照射した後、加熱をすることが不要かまたは比較
的低温での加熱により容易に硬化するため、処理時間の
短縮が可能であるので特に注目される。
【0004】光硬化性樹脂は、透明基板上に形成された
カラーフイルター層上を含めて、透明基板上に直接塗布
・乾燥するか、もしくは他の仮支持体上に塗布・乾燥さ
れた光硬化性樹脂層の転写により層状に設けられ、マス
クを通して活性光露光し、未露光の光硬化性樹脂層部分
を現像液で除去することにより、基板上の必要な部分に
光硬化した樹脂画像を形成することができる。この画像
状に形成された光硬化部分は、熱処理を行って更に硬化
を進行させ、保護層として必要な耐熱性や耐薬品性を与
えることができる。このように、これらの目的に合致す
る光硬化性樹脂組成物は、保護層前駆体であると考えら
れる。
カラーフイルター層上を含めて、透明基板上に直接塗布
・乾燥するか、もしくは他の仮支持体上に塗布・乾燥さ
れた光硬化性樹脂層の転写により層状に設けられ、マス
クを通して活性光露光し、未露光の光硬化性樹脂層部分
を現像液で除去することにより、基板上の必要な部分に
光硬化した樹脂画像を形成することができる。この画像
状に形成された光硬化部分は、熱処理を行って更に硬化
を進行させ、保護層として必要な耐熱性や耐薬品性を与
えることができる。このように、これらの目的に合致す
る光硬化性樹脂組成物は、保護層前駆体であると考えら
れる。
【0005】また保護層の別の目的として、特にSTN
型や強誘電型液晶表示パネルの場合はカラーフィルター
層を平坦化することがある。近年、カラーフィルターの
品質上及び生産性上、この平坦性が重要な問題であるこ
とが判ってきた。上記の公知の保護層材料および、保護
層前駆体は、保護層として要求される性能のいくつかは
満足するが、全てを満足するものはまだ存在していな
い。例えば光硬化性アクリル樹脂や光硬化性ポリビニル
アルコールでは耐熱性の不足、平坦化能が不足、光硬化
性ポリイミド樹脂では塗布適性、現像性の不足といった
問題がある。
型や強誘電型液晶表示パネルの場合はカラーフィルター
層を平坦化することがある。近年、カラーフィルターの
品質上及び生産性上、この平坦性が重要な問題であるこ
とが判ってきた。上記の公知の保護層材料および、保護
層前駆体は、保護層として要求される性能のいくつかは
満足するが、全てを満足するものはまだ存在していな
い。例えば光硬化性アクリル樹脂や光硬化性ポリビニル
アルコールでは耐熱性の不足、平坦化能が不足、光硬化
性ポリイミド樹脂では塗布適性、現像性の不足といった
問題がある。
【0006】この様な目的に使用する材料として、特開
昭62−7773、同62−7774号の各公報に開示
されているような、ノボラック型エポキシ化合物と不飽
和モノカルボン酸を反応させて得られる光重合性化合物
を含む光硬化性樹脂組成物がかなり良好であることがわ
かってきた。しかしながら近年、作業環境、大気および
水質汚濁等の問題から、アルカリ性水溶液または水で現
像できる光硬化性樹脂組成物が望まれている。前記のノ
ボラック型エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸を反
応させて得られる光重合性化合物は、それ自身がアルカ
リに不溶解性であるので、アルカリ現像性が劣る欠点が
あつた。
昭62−7773、同62−7774号の各公報に開示
されているような、ノボラック型エポキシ化合物と不飽
和モノカルボン酸を反応させて得られる光重合性化合物
を含む光硬化性樹脂組成物がかなり良好であることがわ
かってきた。しかしながら近年、作業環境、大気および
水質汚濁等の問題から、アルカリ性水溶液または水で現
像できる光硬化性樹脂組成物が望まれている。前記のノ
ボラック型エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸を反
応させて得られる光重合性化合物は、それ自身がアルカ
リに不溶解性であるので、アルカリ現像性が劣る欠点が
あつた。
【0007】アルカリ現像可能な光硬化性樹脂組成物の
例としては、特開昭61−243869、同63−25
8975、特開平2−43551、同2−136825
号の各公報等に開示されているようなノボラック型エポ
キシ化合物と不飽和モノカルボン酸、および多塩基酸無
水物を順次反応させて得られる光重合性化合物を含む光
硬化性樹脂組成物がある。しかし、これらの各公報に記
載の光重合性化合物を用いた保護層前駆体は、空気中で
のUV光露光に際し、十分な感度を示し、平坦化能をは
じめ、他の性能も良好であるが、耐熱性に劣ることが判
明した。つまり、保護層を光硬化後、ITO膜を蒸着す
る前に、加熱して硬化を完全にするが、この際に保護膜
の膜中より多くの揮発物が生成し、目標の膜厚が減少す
る(以下「膜減り」と称す)、また該揮発物が加熱処理
装置に付着して汚染するなどの問題点があった。
例としては、特開昭61−243869、同63−25
8975、特開平2−43551、同2−136825
号の各公報等に開示されているようなノボラック型エポ
キシ化合物と不飽和モノカルボン酸、および多塩基酸無
水物を順次反応させて得られる光重合性化合物を含む光
硬化性樹脂組成物がある。しかし、これらの各公報に記
載の光重合性化合物を用いた保護層前駆体は、空気中で
のUV光露光に際し、十分な感度を示し、平坦化能をは
じめ、他の性能も良好であるが、耐熱性に劣ることが判
明した。つまり、保護層を光硬化後、ITO膜を蒸着す
る前に、加熱して硬化を完全にするが、この際に保護膜
の膜中より多くの揮発物が生成し、目標の膜厚が減少す
る(以下「膜減り」と称す)、また該揮発物が加熱処理
装置に付着して汚染するなどの問題点があった。
【0008】また、カルボン酸基含有バインダーとエチ
レン不飽和二重結合を有する化合物と光重合開始剤とエ
ポキシ化合物の組み合わせを特徴とするアルカリ現像性
光硬化性樹脂組成物も公知である。その例としては、特
開昭48−73148号、特開昭57−178237
号、特開昭62−23036号の各公報を挙げる事がで
きる。これらは主としてプリント配線板のエッチングレ
ジストやハンダレジストとして提案されたものであり、
これらの目的にはかなりの性能を示す事が判っている
が、本願のようにカラーフィルター層や電子デバイスの
保護層のような、薄膜としての性能はまだまだ不十分で
あった。例えば、薄膜塗布性に欠ける、酸素遮断層のな
い場合の光硬化の感度が低い、硬化画像のガラス基板へ
の密着性に劣る、ガラス基板上での現像性に欠ける、I
TO透明導電膜との密着性が不十分である、などの問題
点があった。
レン不飽和二重結合を有する化合物と光重合開始剤とエ
ポキシ化合物の組み合わせを特徴とするアルカリ現像性
光硬化性樹脂組成物も公知である。その例としては、特
開昭48−73148号、特開昭57−178237
号、特開昭62−23036号の各公報を挙げる事がで
きる。これらは主としてプリント配線板のエッチングレ
ジストやハンダレジストとして提案されたものであり、
これらの目的にはかなりの性能を示す事が判っている
が、本願のようにカラーフィルター層や電子デバイスの
保護層のような、薄膜としての性能はまだまだ不十分で
あった。例えば、薄膜塗布性に欠ける、酸素遮断層のな
い場合の光硬化の感度が低い、硬化画像のガラス基板へ
の密着性に劣る、ガラス基板上での現像性に欠ける、I
TO透明導電膜との密着性が不十分である、などの問題
点があった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、空気
中での紫外線露光に対して高感度で、粘着性がない塗膜
が得られ、アルカリ水溶液で現像可能であり、しかも硬
化膜の耐薬品性、耐熱性、基板及びカラーフィルター層
さらにITO透明導電膜との密着性に優れた、カラーフ
ィルター層の保護層として最適な光硬化樹脂組成物、該
光硬化性樹脂組成物を用いた保護層の形成方法、及び該
保護層を有するカラーフイルターを提供することにあ
る。
中での紫外線露光に対して高感度で、粘着性がない塗膜
が得られ、アルカリ水溶液で現像可能であり、しかも硬
化膜の耐薬品性、耐熱性、基板及びカラーフィルター層
さらにITO透明導電膜との密着性に優れた、カラーフ
ィルター層の保護層として最適な光硬化樹脂組成物、該
光硬化性樹脂組成物を用いた保護層の形成方法、及び該
保護層を有するカラーフイルターを提供することにあ
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、(1)
分子中にカルボキシル基を有する重合体、(2)分子中
に少なくとも2個のエチレン不飽和二重結合を有する化
合物、(3)光重合開始剤、及び(4)分子中に少なく
とも1個のエポキシ基を有する化合物、を含む、アルカ
リ水溶液で現像可能な光硬化性樹脂組成物において、該
分子中にカルボキシル基を有する重合体が、(A)アク
リル酸及びメタクリル酸からなる群から選ばれた少なく
とも1種の化合物から導かれた繰り返し単位、(B)ベ
ンジルアクリレート及びベンジルメタアクリレートから
なる群より選ばれた少なくとも1種の化合物から導かれ
た繰り返し単位、及び場合により(C)炭素数1〜12
のアルキル基を含有するアルキルメタクリレートからな
る群から選ばれた少なくとも1種の化合物から導かれた
繰り返し単位、を含有する共重合体であつて、(A)の
含有率が15〜35モル%、(B)の含有率が50〜8
5モル%、(C)の含有率が0〜30モル%で、且つ、
重量平均分子量が5,000〜50,000であること
を特徴とする光硬化性樹脂組成物、該組成物を用いたカ
ラーフイルターの保護層の形成方法、及びその方法によ
り作成された保護層を有するカラーフイルターにより達
成された。以下、本発明を詳細に説明する。
分子中にカルボキシル基を有する重合体、(2)分子中
に少なくとも2個のエチレン不飽和二重結合を有する化
合物、(3)光重合開始剤、及び(4)分子中に少なく
とも1個のエポキシ基を有する化合物、を含む、アルカ
リ水溶液で現像可能な光硬化性樹脂組成物において、該
分子中にカルボキシル基を有する重合体が、(A)アク
リル酸及びメタクリル酸からなる群から選ばれた少なく
とも1種の化合物から導かれた繰り返し単位、(B)ベ
ンジルアクリレート及びベンジルメタアクリレートから
なる群より選ばれた少なくとも1種の化合物から導かれ
た繰り返し単位、及び場合により(C)炭素数1〜12
のアルキル基を含有するアルキルメタクリレートからな
る群から選ばれた少なくとも1種の化合物から導かれた
繰り返し単位、を含有する共重合体であつて、(A)の
含有率が15〜35モル%、(B)の含有率が50〜8
5モル%、(C)の含有率が0〜30モル%で、且つ、
重量平均分子量が5,000〜50,000であること
を特徴とする光硬化性樹脂組成物、該組成物を用いたカ
ラーフイルターの保護層の形成方法、及びその方法によ
り作成された保護層を有するカラーフイルターにより達
成された。以下、本発明を詳細に説明する。
【0011】本発明の共重合体の1成分となる場合があ
る(C)の具体例としては、メチル(メタ)アクリレー
ト、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)ア
クリレート、1ープロピル(メタ)アクリレート、ブチ
ル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アク
リレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチ
ル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレー
ト、2−メチルブチル(メタ)アクリレート、3−メチ
ルブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アク
リレート、2−エチルブチル(メタ)アクリレート、シ
クロヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)
アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、2−エ
チルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)ア
クリレート、デシル(メタ)アクリレート、ドデシル
(メタ)アクリレート等を挙げることができる。これら
の中ではメチルメタクリレートが好ましい。
る(C)の具体例としては、メチル(メタ)アクリレー
ト、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)ア
クリレート、1ープロピル(メタ)アクリレート、ブチ
ル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アク
リレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチ
ル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレー
ト、2−メチルブチル(メタ)アクリレート、3−メチ
ルブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アク
リレート、2−エチルブチル(メタ)アクリレート、シ
クロヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)
アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、2−エ
チルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)ア
クリレート、デシル(メタ)アクリレート、ドデシル
(メタ)アクリレート等を挙げることができる。これら
の中ではメチルメタクリレートが好ましい。
【0012】本発明になるカルボキシル基を有する重合
体の内、好ましい具体的な例として、ベンジルメタアク
リレート/メタアクリル酸共重合体(繰り返し単位のモ
ル比=73:27、重量平均分子量=40,000)、
ベンジルメタアクリレート/ベンジルアクリレート/メ
タアクリル酸三元共重合体(繰り返し単位のモル比=6
0:13:27、重量平均分子量=32,000)、ベ
ンジルメタアクリレート/アクリル酸/メタアクリル酸
三元共重合体(繰り返し単位のモル比=73:8:1
9、重量平均分子量=35,000)、ベンジルメタア
クリレート/メチルメタアクリレート/メタアクリル酸
三元共重合体(繰り返し単位のモル比=60:13:2
7、重量平均分子量=46,000)を挙げる事ができ
る。これらのカルボキシル基含有バインダーは、光硬化
性樹脂組成物の固形分100重量部に対して10〜95
重量部、好ましくは20〜90重量部用いることができ
る。
体の内、好ましい具体的な例として、ベンジルメタアク
リレート/メタアクリル酸共重合体(繰り返し単位のモ
ル比=73:27、重量平均分子量=40,000)、
ベンジルメタアクリレート/ベンジルアクリレート/メ
タアクリル酸三元共重合体(繰り返し単位のモル比=6
0:13:27、重量平均分子量=32,000)、ベ
ンジルメタアクリレート/アクリル酸/メタアクリル酸
三元共重合体(繰り返し単位のモル比=73:8:1
9、重量平均分子量=35,000)、ベンジルメタア
クリレート/メチルメタアクリレート/メタアクリル酸
三元共重合体(繰り返し単位のモル比=60:13:2
7、重量平均分子量=46,000)を挙げる事ができ
る。これらのカルボキシル基含有バインダーは、光硬化
性樹脂組成物の固形分100重量部に対して10〜95
重量部、好ましくは20〜90重量部用いることができ
る。
【0013】本発明で用いる、分子中に少なくとも2個
のエチレン不飽和二重結合を有する化合物は、沸点が常
圧で100℃以上の化合物であり、例えば、ポリエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエ
タントリアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタ
エリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ヘキサンジ
オールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパ
ントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ
(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリ
(アクリロイルオキシエチル)シアヌレート、グリセリ
ントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン
もしくはグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオ
キシドやプロピレンオキシドを付加反応させた後で(メ
タ)アクリレート化したもの、更に、特公昭48−41
708号、同50−6034号、特開昭51−3719
3号の各公報に開示されているウレタンアクリレート
類、特開昭48−64183号、特公昭49−4319
1号、同52−30490号の各公報に開示されている
ポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)
アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類
等の多官能アクリレートやメタクリレートを挙げること
ができる。
のエチレン不飽和二重結合を有する化合物は、沸点が常
圧で100℃以上の化合物であり、例えば、ポリエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエ
タントリアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタ
エリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ヘキサンジ
オールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパ
ントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ
(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリ
(アクリロイルオキシエチル)シアヌレート、グリセリ
ントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン
もしくはグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオ
キシドやプロピレンオキシドを付加反応させた後で(メ
タ)アクリレート化したもの、更に、特公昭48−41
708号、同50−6034号、特開昭51−3719
3号の各公報に開示されているウレタンアクリレート
類、特開昭48−64183号、特公昭49−4319
1号、同52−30490号の各公報に開示されている
ポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)
アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類
等の多官能アクリレートやメタクリレートを挙げること
ができる。
【0014】これらの中で好ましいのは、トリメチロー
ルプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタ(メタ)アクリレートである。
ルプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタ(メタ)アクリレートである。
【0015】分子中に少なくとも2個のエチレン不飽和
二重結合を有する化合物の、光硬化生樹脂組成物中の含
有量は、5〜50重量%、好ましくは10〜40重量%
である。5重量%未満では光硬化時間が長くかかり、且
つ接着強度が低く、50重量%を越えると、光硬化層の
粘着性が高くなり過ぎ、ソフトコンタクト式露光機を使
用した場合にマスクに付着し、マスクを汚染するので好
ましくない。
二重結合を有する化合物の、光硬化生樹脂組成物中の含
有量は、5〜50重量%、好ましくは10〜40重量%
である。5重量%未満では光硬化時間が長くかかり、且
つ接着強度が低く、50重量%を越えると、光硬化層の
粘着性が高くなり過ぎ、ソフトコンタクト式露光機を使
用した場合にマスクに付着し、マスクを汚染するので好
ましくない。
【0016】本発明に用いられる光重合開始剤として
は、例えばベンジル、ジアセチル等のα−ジケトン類、
ベンゾイン等のアシロイン類、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル等のアシロインエーテル類、チオキサント
ン、2,4−ジエチルチオキサントン、チオキサントン
−1−スルホン酸、チオキサントン−4−スルホン酸等
のチオキサントン類、ベンゾフェノン、4,4’−ビス
(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス
(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン
類、アセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノ
ン、α,α’−ジメトキシアセトキシアセトフェノン、
2,2’−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、
p−メトキシアセトフェノン、2−メチル−[4−(メ
チルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパ
ノン等のアセトフェノン類およびアントラキノン、1,
4−ナフトキノン等のキノン類、フェナンシルクロライ
ド、トリブロモメチルフェニルスルホン、トリス(トリ
クロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス(トリ
クロロメチル)−6−(4−メトキシフェニル)トリア
ジン、特開昭63−153542号に記載の化合物等の
ハロゲン化合物、ジ−t−ブチルパーオキサイド等の過
酸化物等が挙げられる。特に好ましくは2,2’−ジメ
トキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−メチル−
[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−
1−プロパノン(チバ・ガイギー社製商品名:イルガキ
ュアー907)が挙げられる。特に好ましい例として、
2−トリクロロメチル−4’−ブトキシスチリル−1,
3,4−オキサジアゾール、2,4−ビス(トリクロロ
メチル),6−(4’−メトキシフェニル)−s−トリ
アジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−
{4’−(N,N−ジエトキシカルボニルメチルアミ
ノ)−3’−ブロモ}フェニル−s−トリアジンを挙げ
ることができる。
は、例えばベンジル、ジアセチル等のα−ジケトン類、
ベンゾイン等のアシロイン類、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル等のアシロインエーテル類、チオキサント
ン、2,4−ジエチルチオキサントン、チオキサントン
−1−スルホン酸、チオキサントン−4−スルホン酸等
のチオキサントン類、ベンゾフェノン、4,4’−ビス
(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス
(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン
類、アセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノ
ン、α,α’−ジメトキシアセトキシアセトフェノン、
2,2’−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、
p−メトキシアセトフェノン、2−メチル−[4−(メ
チルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパ
ノン等のアセトフェノン類およびアントラキノン、1,
4−ナフトキノン等のキノン類、フェナンシルクロライ
ド、トリブロモメチルフェニルスルホン、トリス(トリ
クロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス(トリ
クロロメチル)−6−(4−メトキシフェニル)トリア
ジン、特開昭63−153542号に記載の化合物等の
ハロゲン化合物、ジ−t−ブチルパーオキサイド等の過
酸化物等が挙げられる。特に好ましくは2,2’−ジメ
トキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−メチル−
[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−
1−プロパノン(チバ・ガイギー社製商品名:イルガキ
ュアー907)が挙げられる。特に好ましい例として、
2−トリクロロメチル−4’−ブトキシスチリル−1,
3,4−オキサジアゾール、2,4−ビス(トリクロロ
メチル),6−(4’−メトキシフェニル)−s−トリ
アジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−
{4’−(N,N−ジエトキシカルボニルメチルアミ
ノ)−3’−ブロモ}フェニル−s−トリアジンを挙げ
ることができる。
【0017】これらの光重合開始剤は単独または2種以
上混合して用いてもよい。この様に2種以上混合した例
としては、2,4,5−トリアリールイミダゾール二量
体と2−メルカプトベンズオキサゾール又はロイコクリ
スタルバイオレット等との組み合わせ、米国特許第34
27161号に記載の4,4’−ビス(ジメチルアミ
ノ)ベンゾフェノンとベンゾフェノン又はベンゾインメ
チルエーテルとの組み合わせ、米国特許第423985
0号に記載のベンゾイル−N−メチルナフトチアゾリン
と2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メト
キシフェニル)トリアジンとの組み合わせ、特開昭57
−23602号に記載のジメチルチオキサントンと4−
ジアルキルアミノ安息香酸エステルとの組み合わせ、特
開昭59−78339号に記載の4,4’−ビス(ジア
ルキルアミノ)ベンゾフェノンとケトン類とトリハロゲ
ン化メチル含有化合物との組み合わせ等が挙げられる。
上混合して用いてもよい。この様に2種以上混合した例
としては、2,4,5−トリアリールイミダゾール二量
体と2−メルカプトベンズオキサゾール又はロイコクリ
スタルバイオレット等との組み合わせ、米国特許第34
27161号に記載の4,4’−ビス(ジメチルアミ
ノ)ベンゾフェノンとベンゾフェノン又はベンゾインメ
チルエーテルとの組み合わせ、米国特許第423985
0号に記載のベンゾイル−N−メチルナフトチアゾリン
と2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メト
キシフェニル)トリアジンとの組み合わせ、特開昭57
−23602号に記載のジメチルチオキサントンと4−
ジアルキルアミノ安息香酸エステルとの組み合わせ、特
開昭59−78339号に記載の4,4’−ビス(ジア
ルキルアミノ)ベンゾフェノンとケトン類とトリハロゲ
ン化メチル含有化合物との組み合わせ等が挙げられる。
【0018】これらの光重合開始剤はその総量が、分子
中に少なくとも2個のエチレン不飽和二重結合を有する
化合物に対して0.1〜30重量部が好ましく、特に
0.15〜15重量部使用することが好ましい。0.1
重量部未満では感度が低下し、30重量部を越えると結
晶の析出、膜質の劣化等が起こる。
中に少なくとも2個のエチレン不飽和二重結合を有する
化合物に対して0.1〜30重量部が好ましく、特に
0.15〜15重量部使用することが好ましい。0.1
重量部未満では感度が低下し、30重量部を越えると結
晶の析出、膜質の劣化等が起こる。
【0019】本発明で使用する、分子中に少なくとも1
個のエポキシ基を含有する化合物の例としてはブチルグ
リシジルエーテル、オクチルグリシジルエーテル、デシ
ルグリシジルエーテル、アリールグリシジルエーテル、
フェニルグリシジルエーテル等の炭素数2〜20のアル
コールのグリシジルエーテル類、ポリエチレングリコー
ルジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジ
グリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジル
エーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル
ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルジブロモネオ
ペンチルグリコールジグリシジルエーテル、グリセロー
ルトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパント
リグリシジルエーテルジグリセロールテトラグリシジル
エーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル等
のポリオールのポリグリシジルエーテル類、2,6−ジ
グリシジルフェニルグリシジルエーテル、2,6,
2’,6’−テトラメチル−4,4’−ビフェニルグリ
シジルエーテル、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水
素添加型ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノ
ールF型エポキシ樹脂、水素添加型ビスフェノールF型
エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、水素
添加型ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂、ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ
樹脂および臭素化エポキシ樹脂等のグリシジルエーテル
型エポキシ化合物、アリサイクリックジエポキシアセタ
ール、アリサイクリックジエポキシアジペートおよびビ
ニルシクロヘキセンジオキサイド等の環式脂肪族エポキ
シ化合物、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒ
ドロキシフタル酸ジグリシジルエステル、ソルビン酸グ
リシジルエステル、オレイン酸グリシジルエステル、リ
ノレイン酸グリシジルエステル等の不飽和酸グリシジル
エステル類、ブチルグリシジルエステル、オクチルグリ
シジルエステルヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエス
テル等のアルキルカルボン酸グリシジルエステル類およ
び安息香酸グリシジルエステル、o−フタル酸ジグリシ
ジルエステル、ジグリシジルp−オキシ安息香酸および
ダイマー酸グリシジルエステル等の芳香族カルボン酸グ
リシジルエステル類等のグリシジルエステル型エポキシ
化合物、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、
トリグリシジル−p−アミノフェノール、トリグリシジ
ル−m−アミノフェノール、ジグリシジルアニリン、ジ
グリシジルトルイジン、テトラグリシジル−m−キシリ
レンジアミン、ジグリシジルトリブロムアニリンおよび
テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサン等の
グリシジルアミン型エポキシ化合物、ジグリシジルヒダ
ントイン、グリシジルグリシドオキシアルキルヒダント
インおよびトリグリシジジルイソシアヌレート等の複素
環式エポキシ化合物等が挙げられる。特に好ましくは、
フェノールノボラック型エポキシ樹脂とクレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂が挙げられる。
個のエポキシ基を含有する化合物の例としてはブチルグ
リシジルエーテル、オクチルグリシジルエーテル、デシ
ルグリシジルエーテル、アリールグリシジルエーテル、
フェニルグリシジルエーテル等の炭素数2〜20のアル
コールのグリシジルエーテル類、ポリエチレングリコー
ルジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジ
グリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジル
エーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル
ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルジブロモネオ
ペンチルグリコールジグリシジルエーテル、グリセロー
ルトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパント
リグリシジルエーテルジグリセロールテトラグリシジル
エーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル等
のポリオールのポリグリシジルエーテル類、2,6−ジ
グリシジルフェニルグリシジルエーテル、2,6,
2’,6’−テトラメチル−4,4’−ビフェニルグリ
シジルエーテル、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水
素添加型ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノ
ールF型エポキシ樹脂、水素添加型ビスフェノールF型
エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、水素
添加型ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂、ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ
樹脂および臭素化エポキシ樹脂等のグリシジルエーテル
型エポキシ化合物、アリサイクリックジエポキシアセタ
ール、アリサイクリックジエポキシアジペートおよびビ
ニルシクロヘキセンジオキサイド等の環式脂肪族エポキ
シ化合物、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒ
ドロキシフタル酸ジグリシジルエステル、ソルビン酸グ
リシジルエステル、オレイン酸グリシジルエステル、リ
ノレイン酸グリシジルエステル等の不飽和酸グリシジル
エステル類、ブチルグリシジルエステル、オクチルグリ
シジルエステルヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエス
テル等のアルキルカルボン酸グリシジルエステル類およ
び安息香酸グリシジルエステル、o−フタル酸ジグリシ
ジルエステル、ジグリシジルp−オキシ安息香酸および
ダイマー酸グリシジルエステル等の芳香族カルボン酸グ
リシジルエステル類等のグリシジルエステル型エポキシ
化合物、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、
トリグリシジル−p−アミノフェノール、トリグリシジ
ル−m−アミノフェノール、ジグリシジルアニリン、ジ
グリシジルトルイジン、テトラグリシジル−m−キシリ
レンジアミン、ジグリシジルトリブロムアニリンおよび
テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサン等の
グリシジルアミン型エポキシ化合物、ジグリシジルヒダ
ントイン、グリシジルグリシドオキシアルキルヒダント
インおよびトリグリシジジルイソシアヌレート等の複素
環式エポキシ化合物等が挙げられる。特に好ましくは、
フェノールノボラック型エポキシ樹脂とクレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂が挙げられる。
【0020】特に好ましいエポキシ化合物としてはビス
フェノールA型エポキシ樹脂やビスフェノールF型エポ
キシ樹脂であり、市販品としては東都化成製エポトート
YD128、YD8125、大日本インキ化学製エピク
ロン840S、850S、1050、830が含まれ
る。これらのエポキシ化合物は単独で、または2種以上
混合して用いてもよく、光硬化性樹脂組成物の固形分1
00重量部に対して1〜40重量部、好ましくは5〜3
0重量部使用することができる。1重量部未満では、硬
化膜の耐薬品性が劣り、40重量部を越えるとアルカリ
現像性が劣る。
フェノールA型エポキシ樹脂やビスフェノールF型エポ
キシ樹脂であり、市販品としては東都化成製エポトート
YD128、YD8125、大日本インキ化学製エピク
ロン840S、850S、1050、830が含まれ
る。これらのエポキシ化合物は単独で、または2種以上
混合して用いてもよく、光硬化性樹脂組成物の固形分1
00重量部に対して1〜40重量部、好ましくは5〜3
0重量部使用することができる。1重量部未満では、硬
化膜の耐薬品性が劣り、40重量部を越えるとアルカリ
現像性が劣る。
【0021】エポキシ基を熱反応させる熱硬化触媒であ
るエポキシ熱硬化促進剤としては、ジエチレントリアミ
ン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミ
ン、イミノビスプロピルアミン(ジプロピルトリアミ
ン)、ビス(ヘキサメチレン)トリアミンおよび1,
3,6−トリスアミノメチルヘキサン等のポリアミン
類、トリメチルヘキサメチレンジアミン、ポリエーテル
ジアミンおよびジエチルアミノプロピルアミン等のポリ
メチレンジアミン類、メンセンジアミン、イソフォロン
ジアミン、ビス(4−アミノ−3−メチルシクロヘキシ
ル)メタンおよびN−アミノエチルピペラジン等の脂環
族ポリアミン類等の脂肪族第一アミン、メタフェニレン
ジアミン、ジアミノフェニルメタン、ジアミノフェニル
スルフォンおよび芳香族ジアミン共融混合物等の芳香族
第一アミン類、ポリアミンエポキシ樹脂アダクト、ポリ
アミン−エチレンオキシドアダクト、ポリアミン−プロ
ピレンオキシドアダクト、シアノエチル化ポリアミンお
よびケトイミン等の変性アミン、ピペリジン、ピペラジ
ン、モルフォリン等の第二アミンおよびテトラメチルグ
アニジン、トリエタノールアミン、ベンジルジメチルア
ミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フ
ェノール等の第三アミン等のアミン化合物類、フタル酸
無水物、トリメリット酸無水物、エチレングリコールビ
ス(アンヒドロトリメリテート)、グリセリントリス
(アンヒドロトリメリテート)、ピロメリット酸無水物
および3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸無水物等の芳香族酸無水物、マレイン酸無水物、
コハク酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、メチル
テトラヒドロフタル酸無水物、エンドメチレンテトラヒ
ドロフタル酸無水物、メチルエンドメチレンテトラヒド
ロフタル酸無水物、アルケニルコハク酸無水物、ヘキサ
ヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無
水物およびメチルシクロヘキセンテトラカルボン酸無水
物等の環状脂肪族酸無水物、ポリアジピン酸無水物、ポ
リアゼライン酸無水物およびポリセバシン酸無水物等の
脂肪族酸無水物、クロレンド酸無水物およびテトラブロ
モ無水フタル酸等のハロゲン化酸無水物等の酸無水物
類、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチル
イミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプ
タデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1
−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチ
ル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−
エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−
2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−
ウンデシルイミダゾリウム・トリメリテート、1−シア
ノエチル−2−フェニルイミダゾリウム・トリメリテー
ト、2−メチルイミダゾリウム・イソシアヌレート、2
−フェニルイミダゾリウム・イソシアヌレート、2,4
−ジアミノ−6−〔2−メチルイミダゾリル−(1)〕
−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−
〔2−エチル−4−メチルイミダゾリル−(1)〕−エ
チル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−〔2−
ウンデシルイミダゾリル−(1)〕−エチル−s−トリ
アジン、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメ
チルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキ
シメチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニ
ル−4,5−ジ(シアノエトキシメチル)イミダゾー
ル、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾ
リウム・クロライドおよび1,3−ジベンジル−2−メ
チルイミダゾリウム・クロライド等のイミダゾール化合
物類、ジシアンジアミド、o−トリルビグアニド、フェ
ニルビグアニド、およびα−2,5−ジメチルビグアニ
ド等のジシアンジアミド誘導体、カルボン酸類、フェノ
ール類、第四級アンモニウム塩類、メラミン誘導体、有
機酸ヒドラジド類、またはメチロール基含有化合物類等
の公知のエポキシ硬化促進剤が挙げられる。特に好まし
くは、ジシアンジアミド、1−ベンジル−2−メチルイ
ミダゾールが挙げられる。これらのエポキシ熱硬化促進
剤は単独または2種以上混合して用いてもよい。
るエポキシ熱硬化促進剤としては、ジエチレントリアミ
ン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミ
ン、イミノビスプロピルアミン(ジプロピルトリアミ
ン)、ビス(ヘキサメチレン)トリアミンおよび1,
3,6−トリスアミノメチルヘキサン等のポリアミン
類、トリメチルヘキサメチレンジアミン、ポリエーテル
ジアミンおよびジエチルアミノプロピルアミン等のポリ
メチレンジアミン類、メンセンジアミン、イソフォロン
ジアミン、ビス(4−アミノ−3−メチルシクロヘキシ
ル)メタンおよびN−アミノエチルピペラジン等の脂環
族ポリアミン類等の脂肪族第一アミン、メタフェニレン
ジアミン、ジアミノフェニルメタン、ジアミノフェニル
スルフォンおよび芳香族ジアミン共融混合物等の芳香族
第一アミン類、ポリアミンエポキシ樹脂アダクト、ポリ
アミン−エチレンオキシドアダクト、ポリアミン−プロ
ピレンオキシドアダクト、シアノエチル化ポリアミンお
よびケトイミン等の変性アミン、ピペリジン、ピペラジ
ン、モルフォリン等の第二アミンおよびテトラメチルグ
アニジン、トリエタノールアミン、ベンジルジメチルア
ミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フ
ェノール等の第三アミン等のアミン化合物類、フタル酸
無水物、トリメリット酸無水物、エチレングリコールビ
ス(アンヒドロトリメリテート)、グリセリントリス
(アンヒドロトリメリテート)、ピロメリット酸無水物
および3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸無水物等の芳香族酸無水物、マレイン酸無水物、
コハク酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、メチル
テトラヒドロフタル酸無水物、エンドメチレンテトラヒ
ドロフタル酸無水物、メチルエンドメチレンテトラヒド
ロフタル酸無水物、アルケニルコハク酸無水物、ヘキサ
ヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無
水物およびメチルシクロヘキセンテトラカルボン酸無水
物等の環状脂肪族酸無水物、ポリアジピン酸無水物、ポ
リアゼライン酸無水物およびポリセバシン酸無水物等の
脂肪族酸無水物、クロレンド酸無水物およびテトラブロ
モ無水フタル酸等のハロゲン化酸無水物等の酸無水物
類、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチル
イミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプ
タデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1
−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチ
ル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−
エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−
2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−
ウンデシルイミダゾリウム・トリメリテート、1−シア
ノエチル−2−フェニルイミダゾリウム・トリメリテー
ト、2−メチルイミダゾリウム・イソシアヌレート、2
−フェニルイミダゾリウム・イソシアヌレート、2,4
−ジアミノ−6−〔2−メチルイミダゾリル−(1)〕
−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−
〔2−エチル−4−メチルイミダゾリル−(1)〕−エ
チル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−〔2−
ウンデシルイミダゾリル−(1)〕−エチル−s−トリ
アジン、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメ
チルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキ
シメチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニ
ル−4,5−ジ(シアノエトキシメチル)イミダゾー
ル、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾ
リウム・クロライドおよび1,3−ジベンジル−2−メ
チルイミダゾリウム・クロライド等のイミダゾール化合
物類、ジシアンジアミド、o−トリルビグアニド、フェ
ニルビグアニド、およびα−2,5−ジメチルビグアニ
ド等のジシアンジアミド誘導体、カルボン酸類、フェノ
ール類、第四級アンモニウム塩類、メラミン誘導体、有
機酸ヒドラジド類、またはメチロール基含有化合物類等
の公知のエポキシ硬化促進剤が挙げられる。特に好まし
くは、ジシアンジアミド、1−ベンジル−2−メチルイ
ミダゾールが挙げられる。これらのエポキシ熱硬化促進
剤は単独または2種以上混合して用いてもよい。
【0022】本発明の光硬化性樹脂組成物を用いて基板
上に光硬化性樹脂組成物層を形成するには、通常、有機
溶剤に各成分を溶解して溶液とし、基板上に塗布し乾燥
するか、もしくは他の仮支持体上に同様に塗布・乾燥し
た後で、その層を転写する。この時使用する有機溶剤と
しては、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メ
トキシエタノール、エトキシエタノール、ブトキシエタ
ノール等のアルコキシエタノール類、カルビトール、ブ
チルカビトール等のカルビトール類、酢酸エチル、酢酸
ブチル、エトキシエタノール酢酸エステル、ブトキシエ
タノール酢酸エステル、カルビトールアセテート、ブチ
ルカルビトールアセテート等の酢酸エステル類、乳酸メ
チル、乳酸エチルなどがある。これらの有機溶剤は単独
または2種以上混合して用いてもよい。
上に光硬化性樹脂組成物層を形成するには、通常、有機
溶剤に各成分を溶解して溶液とし、基板上に塗布し乾燥
するか、もしくは他の仮支持体上に同様に塗布・乾燥し
た後で、その層を転写する。この時使用する有機溶剤と
しては、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メ
トキシエタノール、エトキシエタノール、ブトキシエタ
ノール等のアルコキシエタノール類、カルビトール、ブ
チルカビトール等のカルビトール類、酢酸エチル、酢酸
ブチル、エトキシエタノール酢酸エステル、ブトキシエ
タノール酢酸エステル、カルビトールアセテート、ブチ
ルカルビトールアセテート等の酢酸エステル類、乳酸メ
チル、乳酸エチルなどがある。これらの有機溶剤は単独
または2種以上混合して用いてもよい。
【0023】必要に応じて、本発明の光硬化性組成物に
熱重合防止剤、密着促進剤、分散剤、可塑剤、垂れ防止
剤、レベリング剤、消泡剤、難燃化剤、光沢剤、着色剤
等の補助的添加剤を配合しても良い。
熱重合防止剤、密着促進剤、分散剤、可塑剤、垂れ防止
剤、レベリング剤、消泡剤、難燃化剤、光沢剤、着色剤
等の補助的添加剤を配合しても良い。
【0024】熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロ
キノン、p−メトキシフェノール、p−t−ブチルカテ
コール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、β
−ナフトール、ピロガロール等の芳香族ヒドロキシ化合
物、ベンゾキノン、p−トルキノン等のキノン類、ナフ
チルアミン、ピリジン、p−トルイジン、フェノチアジ
ン等のアミン類、N−ニトロソフェニルヒドロキシルア
ミンのアルミニウム塩またはアンモニウム塩、クロラニ
ール、ニトロベンゼン等が挙げられる。
キノン、p−メトキシフェノール、p−t−ブチルカテ
コール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、β
−ナフトール、ピロガロール等の芳香族ヒドロキシ化合
物、ベンゾキノン、p−トルキノン等のキノン類、ナフ
チルアミン、ピリジン、p−トルイジン、フェノチアジ
ン等のアミン類、N−ニトロソフェニルヒドロキシルア
ミンのアルミニウム塩またはアンモニウム塩、クロラニ
ール、ニトロベンゼン等が挙げられる。
【0025】密着促進剤としては、例えばアルキルフェ
ノール/ホルムアルデヒドノボラック樹脂、ポロビニル
エチルエーテル、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリ
ビニルブチラール、ポリイソブチレン、スチレン−ブタ
ジエン共重合体ゴム、ブチルゴム、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ゴム、アクリル樹脂系粘着剤、芳香
族系、脂肪族系または脂環族系の石油樹脂、シランカッ
プリング剤等が挙げられる。
ノール/ホルムアルデヒドノボラック樹脂、ポロビニル
エチルエーテル、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリ
ビニルブチラール、ポリイソブチレン、スチレン−ブタ
ジエン共重合体ゴム、ブチルゴム、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ゴム、アクリル樹脂系粘着剤、芳香
族系、脂肪族系または脂環族系の石油樹脂、シランカッ
プリング剤等が挙げられる。
【0026】シランカップリング剤としては公知のもの
を使用できるが、信越化学(株)より入手可能なKA1
003、KBE1003,KBM1003,KBC10
03,KBM503、KBM303,KBM403、K
BM803,KBE903,KBM603,KBM70
3,KBE402,KBM602,KBM573及びユ
ニオンカーバイド社より入手可能なA−175、A−1
88、A−1160などが好ましく使用できる。特に好
ましくはKBM573、KBM403,KBM303で
ある。
を使用できるが、信越化学(株)より入手可能なKA1
003、KBE1003,KBM1003,KBC10
03,KBM503、KBM303,KBM403、K
BM803,KBE903,KBM603,KBM70
3,KBE402,KBM602,KBM573及びユ
ニオンカーバイド社より入手可能なA−175、A−1
88、A−1160などが好ましく使用できる。特に好
ましくはKBM573、KBM403,KBM303で
ある。
【0027】分散剤としては、例えばフッ素含有高分子
化合物、界面活性剤、改質レシチン、非シリコン系の長
鎖カルボン酸アミン塩、有機モントモリライトなどが用
いられる。
化合物、界面活性剤、改質レシチン、非シリコン系の長
鎖カルボン酸アミン塩、有機モントモリライトなどが用
いられる。
【0028】可塑剤としては、例えばエチレングリコー
ルジフタレート、ジエチレングリコールジフタレート、
エチレングリコールジカプリン酸エステル、ジエチレン
グリコールジカプリン酸エステル等のグリコールエステ
ル類、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブ
チルフタレート、ジオクチルフタレート、ジアリルフタ
レート、ブチルベンジルフタレート等のフタル酸エステ
ル類、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフ
ェート等のリン酸エステル類、ジエチルマレート、ジブ
チルアジペート、クエン酸トリエチル、ラウリル酸エチ
ル等が用いられる。
ルジフタレート、ジエチレングリコールジフタレート、
エチレングリコールジカプリン酸エステル、ジエチレン
グリコールジカプリン酸エステル等のグリコールエステ
ル類、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブ
チルフタレート、ジオクチルフタレート、ジアリルフタ
レート、ブチルベンジルフタレート等のフタル酸エステ
ル類、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフ
ェート等のリン酸エステル類、ジエチルマレート、ジブ
チルアジペート、クエン酸トリエチル、ラウリル酸エチ
ル等が用いられる。
【0029】難燃化剤としては、例えば三酸化アンチモ
ン、水酸化ジルコニウム、メタホウ酸バリウム、水酸化
マグネシウム、水酸化アルミニウム等の無機系難燃化
剤、テトラブロモビスフェノールA、塩素化パラフィ
ン、パークロロペンタシクロデカン、テトラブロモベン
ゼン、塩素化ジフェニル等のハロゲン系難燃化剤、およ
びビニルホスフォネート、アリルホスフォネート、トリ
ス(β−クロロエチル)ホスフォネート、トリクレジル
ホスフォネート、リン酸アンモニウム等のリン系難燃化
剤を用いることができる。
ン、水酸化ジルコニウム、メタホウ酸バリウム、水酸化
マグネシウム、水酸化アルミニウム等の無機系難燃化
剤、テトラブロモビスフェノールA、塩素化パラフィ
ン、パークロロペンタシクロデカン、テトラブロモベン
ゼン、塩素化ジフェニル等のハロゲン系難燃化剤、およ
びビニルホスフォネート、アリルホスフォネート、トリ
ス(β−クロロエチル)ホスフォネート、トリクレジル
ホスフォネート、リン酸アンモニウム等のリン系難燃化
剤を用いることができる。
【0030】タルク、マイカ、二酸化ケイ素、二酸化チ
タン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウ
ム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸バリウム
等の無機質の微粉末を本発明の光重合組成物に加えても
良い。更に、必要に応じて他の着色剤を含有することが
できる。着色剤の具体例としては酸化チタン、カーボン
ブラック、酸化鉄等の無機顔料、メチレンブルー、クリ
スタルバイオレット、ローダミンB、フクシン、オーラ
ミン、アゾ系染料、アントラキノン系染料等の有機染
料、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン等
のフタロシアニン系またはアゾ系有機顔料が用いられ
る。
タン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウ
ム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸バリウム
等の無機質の微粉末を本発明の光重合組成物に加えても
良い。更に、必要に応じて他の着色剤を含有することが
できる。着色剤の具体例としては酸化チタン、カーボン
ブラック、酸化鉄等の無機顔料、メチレンブルー、クリ
スタルバイオレット、ローダミンB、フクシン、オーラ
ミン、アゾ系染料、アントラキノン系染料等の有機染
料、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン等
のフタロシアニン系またはアゾ系有機顔料が用いられ
る。
【0031】このようにして得られる本発明の光硬化性
樹脂組成物を用いてカラーフィルター層や電子デバイス
の保護膜、印刷配線板製造用のソルダーレジスト等の永
久保護マスク等を形成するに際しては、この組成物を基
板に塗布後、比較的低温で加熱することにより乾燥させ
表面の粘着性を調整し、次いで得られた塗膜にパターン
マスクを用いてパターン露光を行う。この際活性光線を
照射する前に、塗膜を加熱乾燥して塗膜表面の粘着性を
消失させる事により、硬化塗膜にパターンマスクを密着
させて露光することも可能となる。次いでアルカリ性水
溶液により現像し、未硬化膜を溶出し画像を得る。
樹脂組成物を用いてカラーフィルター層や電子デバイス
の保護膜、印刷配線板製造用のソルダーレジスト等の永
久保護マスク等を形成するに際しては、この組成物を基
板に塗布後、比較的低温で加熱することにより乾燥させ
表面の粘着性を調整し、次いで得られた塗膜にパターン
マスクを用いてパターン露光を行う。この際活性光線を
照射する前に、塗膜を加熱乾燥して塗膜表面の粘着性を
消失させる事により、硬化塗膜にパターンマスクを密着
させて露光することも可能となる。次いでアルカリ性水
溶液により現像し、未硬化膜を溶出し画像を得る。
【0032】本発明の光硬化性樹脂組成物は、アルカリ
水溶液により現像することができる。現像液としては、
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、
アンモニア等の0.1〜10重量%の水溶液を用いるこ
とができるが、場合によっては、アミン類、例えばブチ
ルアミン、ヘキシルアミン、ベンジルアミン、アリルア
ミン等の1級アミン、ジエチルアミン、ベンジルエチル
アミン等の2級アミン、トリエチルアミン等の3級アミ
ン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタ
ノールアミン、2−アミノ−1,3−プロパンジオール
等のヒドロキシルアミン、モルホリン、ピリジン、ピペ
ラジン、ピペリジン等の環状アミン、ヒドラジン、エチ
レンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等のポリアミ
ン、前記アミンの硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、アルカリ
金属リン酸塩、ピロリン酸塩等の塩基性塩、テトラメチ
ルアンモニウムヒドロキシド、コリン等の4級アンモニ
ウム塩ヒドロキシド等を使用することもできる。
水溶液により現像することができる。現像液としては、
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、
アンモニア等の0.1〜10重量%の水溶液を用いるこ
とができるが、場合によっては、アミン類、例えばブチ
ルアミン、ヘキシルアミン、ベンジルアミン、アリルア
ミン等の1級アミン、ジエチルアミン、ベンジルエチル
アミン等の2級アミン、トリエチルアミン等の3級アミ
ン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタ
ノールアミン、2−アミノ−1,3−プロパンジオール
等のヒドロキシルアミン、モルホリン、ピリジン、ピペ
ラジン、ピペリジン等の環状アミン、ヒドラジン、エチ
レンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等のポリアミ
ン、前記アミンの硫酸塩、炭酸塩、重炭酸塩、アルカリ
金属リン酸塩、ピロリン酸塩等の塩基性塩、テトラメチ
ルアンモニウムヒドロキシド、コリン等の4級アンモニ
ウム塩ヒドロキシド等を使用することもできる。
【0033】本発明の光硬化性樹脂組成物を基板上に塗
布する方法としては、たとえば、スピンコート法、スプ
レー法、ディップ法、はけ塗り法、ローラー塗装法、フ
ローコーター法、カーテンコート法、スクリーン印刷
法、ディスペンサー塗布法、バーコーター法等が挙げら
れ、特に印刷配線板や薄膜金属等に塗布するには、スピ
ンコート法、バーコーター法、ローラー塗装法、カーテ
ンコート法、スクリーン印刷法、ディスペンサー塗布法
等が好ましい。
布する方法としては、たとえば、スピンコート法、スプ
レー法、ディップ法、はけ塗り法、ローラー塗装法、フ
ローコーター法、カーテンコート法、スクリーン印刷
法、ディスペンサー塗布法、バーコーター法等が挙げら
れ、特に印刷配線板や薄膜金属等に塗布するには、スピ
ンコート法、バーコーター法、ローラー塗装法、カーテ
ンコート法、スクリーン印刷法、ディスペンサー塗布法
等が好ましい。
【0034】本発明の光硬化性樹脂組成物は、熱および
光のいずれを用いても硬化することができ、特に有機溶
剤を含む本発明の光硬化性樹脂組成物を低温での光硬化
性塗料として用いる時には、光照射する前に、塗膜を加
熱乾燥して塗膜表面の粘着性を低下させる。この際の加
熱乾燥の条件は、例えば60℃〜120℃で5分〜40
分である。これより乾燥条件が弱いとべとつきが大き
く、またこれより強い場合は基板上の接合すべきデバイ
スなどが劣化したり、光硬化性樹脂層自体の現像性が劣
化する危険性がある。このように加熱硬化する結果、粘
着性を適当な程度に調節することができる。
光のいずれを用いても硬化することができ、特に有機溶
剤を含む本発明の光硬化性樹脂組成物を低温での光硬化
性塗料として用いる時には、光照射する前に、塗膜を加
熱乾燥して塗膜表面の粘着性を低下させる。この際の加
熱乾燥の条件は、例えば60℃〜120℃で5分〜40
分である。これより乾燥条件が弱いとべとつきが大き
く、またこれより強い場合は基板上の接合すべきデバイ
スなどが劣化したり、光硬化性樹脂層自体の現像性が劣
化する危険性がある。このように加熱硬化する結果、粘
着性を適当な程度に調節することができる。
【0035】本発明の光硬化性樹脂組成物は、光照射、
さらに場合により現像の後、必要に応じて加熱処理によ
り後硬化することにより、耐熱性及び耐湿性のより向上
した硬化膜とすることもできる。この際の条件は、例え
ば120℃〜300℃で10分〜80分が好ましい。こ
れより弱いと硬化不十分であり、またこれを越える場合
にはデバイスやカラーフィルター基板等を劣化させる危
険性がある。
さらに場合により現像の後、必要に応じて加熱処理によ
り後硬化することにより、耐熱性及び耐湿性のより向上
した硬化膜とすることもできる。この際の条件は、例え
ば120℃〜300℃で10分〜80分が好ましい。こ
れより弱いと硬化不十分であり、またこれを越える場合
にはデバイスやカラーフィルター基板等を劣化させる危
険性がある。
【0036】カラーフィルター層の保護層を形成する時
には190℃〜250℃で30分〜90分の処理で十分
な硬化膜性能が得られる。この場合、カラーフイルター
層の作成方法には限定は無く、染色法、印刷法、伝着
法、特開平1−152449号公報に開示された顔料分
散法、特願平2−400047号明細書に記載された層
転写法等の、公知のいずれの方法で形成されたものであ
つても良い。
には190℃〜250℃で30分〜90分の処理で十分
な硬化膜性能が得られる。この場合、カラーフイルター
層の作成方法には限定は無く、染色法、印刷法、伝着
法、特開平1−152449号公報に開示された顔料分
散法、特願平2−400047号明細書に記載された層
転写法等の、公知のいずれの方法で形成されたものであ
つても良い。
【0037】露光前の硬化および画像形成後の後硬化に
おける加熱処理には、熱風循環式乾燥炉、遠赤外線乾燥
炉、ホットプレートなど加熱装置を用いることが出来
る。
おける加熱処理には、熱風循環式乾燥炉、遠赤外線乾燥
炉、ホットプレートなど加熱装置を用いることが出来
る。
【0038】本発明の光硬化性樹脂組成物の光硬化に用
いられる露光光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、
高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハ
ライドランプおよびレーザー光線等が挙げられるが、3
00nm〜400nm付近の紫外線を放射する高圧水銀
灯、超高圧水銀灯またはメタルハライドランプを光源と
した露光装置を用いることが好ましい。以下、本発明を
実施例に基づいて更に詳細に説明するが、本発明はこの
実施例に限定されるものではない。なお、他に断わりの
ない限り「部」は「重量部」を表す。
いられる露光光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、
高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハ
ライドランプおよびレーザー光線等が挙げられるが、3
00nm〜400nm付近の紫外線を放射する高圧水銀
灯、超高圧水銀灯またはメタルハライドランプを光源と
した露光装置を用いることが好ましい。以下、本発明を
実施例に基づいて更に詳細に説明するが、本発明はこの
実施例に限定されるものではない。なお、他に断わりの
ない限り「部」は「重量部」を表す。
【0039】
実施例1〜4及び比較例1〜4
【0040】 塗液の調製
下記の処方により、表1に示した各種カルボン酸基含有
バインダーを用いて、塗液を調製した。
バインダーを用いて、塗液を調製した。
【0041】
【表1】
【0042】
カルボン酸基含有バインダー溶液(固形分濃度40%のメトキシプロパノール
酢酸エステル溶液) 66部
2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール 0.014部
2−トリクロロメチル−5(4’−ブトキシスチリル)−1,3,4−オキサ
ジアゾール 1.31部
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(東都化成(株)製エポトートYD8125
エポキシ当量=173、粘度=4300cp) 8.2部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとペンタアクリレートの混合物
(日本化薬(株)製KAYARAD DPHA) 27.2部
N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株)製シ
ランカップリング剤、KBM573) 1.0部
乳酸エチル 122部
【0043】 性能評価
これらの光硬化性樹脂組成物の性能を以下の方法により
評価した。
評価した。
【0044】1.塗膜の形成
超音波を照射しつつ、アルカリ洗浄、酸洗浄、2−プロ
パノール洗浄を行った後で、水分除去することにより前
処理したソーダガラス板上に各種条件で調製した光硬化
性樹脂組成物をスピンコート法により、回転数約500
rpmで全面的に塗布し、熱風循環式乾燥炉中において
80℃で5分間乾燥し塗膜を得た(厚み、3μm±0.
2μmになるように回転数を調節した)。この塗膜を超
高圧水銀灯下、100mj/cm2で紫外線照射した
後、弱アルカリ性水溶液(フジハント エレクトロニク
ステクノロジー社製現像液CDの10倍水希釈液)で1
分間現像し、その後200℃の熱風循環式乾燥炉中で6
0分間ポストキュアーして硬化膜を得た。
パノール洗浄を行った後で、水分除去することにより前
処理したソーダガラス板上に各種条件で調製した光硬化
性樹脂組成物をスピンコート法により、回転数約500
rpmで全面的に塗布し、熱風循環式乾燥炉中において
80℃で5分間乾燥し塗膜を得た(厚み、3μm±0.
2μmになるように回転数を調節した)。この塗膜を超
高圧水銀灯下、100mj/cm2で紫外線照射した
後、弱アルカリ性水溶液(フジハント エレクトロニク
ステクノロジー社製現像液CDの10倍水希釈液)で1
分間現像し、その後200℃の熱風循環式乾燥炉中で6
0分間ポストキュアーして硬化膜を得た。
【0045】2.粘着性の評価
1.と同様にして前処理、塗布、乾燥する事により得た
塗膜を指触テストにより表面の粘着性を評価した。結果
を表2に示す。
塗膜を指触テストにより表面の粘着性を評価した。結果
を表2に示す。
【0046】
【表2】
【0047】3.光感度および現像性の評価
1.と同様にして前処理、塗布、乾燥する事により得た
塗膜の上に紫外線照射量を変化させて、紫外線照射した
後、弱アルカリ性水溶液で1分間現像し残膜の膜厚を測
定し、膜厚が処理前の90%の時の露光量(mj/cm
2)で光感度を評価した。露光量が少ない方が光感度が
高い。また、現像後の未露光部の残膜の有無により現像
性を評価した。結果を表2に示す。
塗膜の上に紫外線照射量を変化させて、紫外線照射した
後、弱アルカリ性水溶液で1分間現像し残膜の膜厚を測
定し、膜厚が処理前の90%の時の露光量(mj/cm
2)で光感度を評価した。露光量が少ない方が光感度が
高い。また、現像後の未露光部の残膜の有無により現像
性を評価した。結果を表2に示す。
【0048】4.密着性の評価
1.で得た硬化膜についてJIS K 5400 6−
15に準じて、碁盤目試験法により密着性を評価した。
結果を表2に示す。
15に準じて、碁盤目試験法により密着性を評価した。
結果を表2に示す。
【0049】5.耐熱性の評価
1.で得た硬化膜を200℃のオーブン中で60分ベー
クした後で膜の重量変化を測定し、その減少率が低いも
のほど耐熱性が優れるとして評価した。結果を表2に示
す。
クした後で膜の重量変化を測定し、その減少率が低いも
のほど耐熱性が優れるとして評価した。結果を表2に示
す。
【0050】6.耐薬品性の評価
1.で得た硬化膜について、3%苛性ソーダ水溶液、1
0%硫酸水溶液、N−メチルピロリドンの各薬品に、室
温下30分浸漬したものを、碁盤目試験法により密着性
を評価した。結果を表2に示す。
0%硫酸水溶液、N−メチルピロリドンの各薬品に、室
温下30分浸漬したものを、碁盤目試験法により密着性
を評価した。結果を表2に示す。
【0051】実施例5
超音波を照射しつつ、アルカリ洗浄、酸洗浄、2−プロ
パノール洗浄を行った後で、水分除去することにより前
処理したソーダガラス板上に、感光性樹脂に黒色顔料を
分散した黒色感光性樹脂として富士ハントエレクトロニ
クステクノロジー(株)製商品名;カラーモザイクK
(CK2000)を用いて、スピナーで塗布し、ホット
プレートで100℃、1分のプリベークを行い、ついで
ポリビニルアルコールの水溶液を同じくスピナーで塗布
し、100℃で1分のプリベークの後、所定のパターン
が描かれたマスクを介して、超高圧水銀灯露光機で露光
後、ホットプレートで100℃、1分加熱し、1重量%
の炭酸ソーダ水溶液に1分間浸漬することにより現像を
行い、200℃、15分加熱し黒色パターンを形成し
た。詳細な条件を表3に示す。
パノール洗浄を行った後で、水分除去することにより前
処理したソーダガラス板上に、感光性樹脂に黒色顔料を
分散した黒色感光性樹脂として富士ハントエレクトロニ
クステクノロジー(株)製商品名;カラーモザイクK
(CK2000)を用いて、スピナーで塗布し、ホット
プレートで100℃、1分のプリベークを行い、ついで
ポリビニルアルコールの水溶液を同じくスピナーで塗布
し、100℃で1分のプリベークの後、所定のパターン
が描かれたマスクを介して、超高圧水銀灯露光機で露光
後、ホットプレートで100℃、1分加熱し、1重量%
の炭酸ソーダ水溶液に1分間浸漬することにより現像を
行い、200℃、15分加熱し黒色パターンを形成し
た。詳細な条件を表3に示す。
【0052】
【表3】
【0053】赤、緑、青色画素についても、それぞれ富
士ハントテクノロジー(株)社製カラーモザイクR、
G、B(CR2000、CG2000、CB2000)
を用い、黒色パターンの形成とほぼ同様の工程で形成し
た。このようにして形成した各画素の上に、実施例1の
光硬化性樹脂組成物No1を実施例1と同様に塗布乾燥
し、保護層前駆体を形成した。その後、保護層のパター
ンを有するマスクをソフトコンタクト方式で、塗布面と
マスク間の平行度を出した後、露光した。マスクがこの
作業中に保護層前駆体の塗膜と粘着することにより汚れ
ることはなかった。また露光済みの基板を現像後、ポス
トキュアーした。ポストキュアー後の保護層の膜厚は
2.9μmであった。
士ハントテクノロジー(株)社製カラーモザイクR、
G、B(CR2000、CG2000、CB2000)
を用い、黒色パターンの形成とほぼ同様の工程で形成し
た。このようにして形成した各画素の上に、実施例1の
光硬化性樹脂組成物No1を実施例1と同様に塗布乾燥
し、保護層前駆体を形成した。その後、保護層のパター
ンを有するマスクをソフトコンタクト方式で、塗布面と
マスク間の平行度を出した後、露光した。マスクがこの
作業中に保護層前駆体の塗膜と粘着することにより汚れ
ることはなかった。また露光済みの基板を現像後、ポス
トキュアーした。ポストキュアー後の保護層の膜厚は
2.9μmであった。
【0054】保護層を形成する前の着色画像の平坦性は
0.5μmであったが、保護層により平坦性は、0.1
μmまで改良された。この上に0.05〜0.1μmの
厚みのITO膜をスパッタにより形成したが、ITO膜
が剥離することはなかった。また着色画素や保護層にも
クラックや剥がれは認められなかった。その後、ITO
膜のエッチングを行うため、ポジ型のフォトレジストを
ITO膜上に塗布乾燥する事により形成し、パターン露
光後、露光部をpH=12のアルカリ現像液で現像し
た。そして塩化第鉄と塩酸の水溶液でレジストで覆われ
ていないITO部をエッチングし、残留するレジストを
5%水酸化ナトリウム水溶液で剥離した。この一連の工
程で、保護層上にITO電極のパターンが得られたが、
何等欠陥が認められず、保護層として十分な性能を示す
事がわかった。
0.5μmであったが、保護層により平坦性は、0.1
μmまで改良された。この上に0.05〜0.1μmの
厚みのITO膜をスパッタにより形成したが、ITO膜
が剥離することはなかった。また着色画素や保護層にも
クラックや剥がれは認められなかった。その後、ITO
膜のエッチングを行うため、ポジ型のフォトレジストを
ITO膜上に塗布乾燥する事により形成し、パターン露
光後、露光部をpH=12のアルカリ現像液で現像し
た。そして塩化第鉄と塩酸の水溶液でレジストで覆われ
ていないITO部をエッチングし、残留するレジストを
5%水酸化ナトリウム水溶液で剥離した。この一連の工
程で、保護層上にITO電極のパターンが得られたが、
何等欠陥が認められず、保護層として十分な性能を示す
事がわかった。
【0055】
【発明の効果】本発明の光硬化性樹脂組成物は紫外線露
光に対して高感度で、粘着性のない塗膜が得られ、アル
カリ水溶液での現像性に優れ、しかも硬化膜がガラス基
板との密着性に優れ、耐熱性、耐薬品性にも優れるの
で、カラーフィルター層や電子デバイスの保護膜などの
用途に最適である。
光に対して高感度で、粘着性のない塗膜が得られ、アル
カリ水溶液での現像性に優れ、しかも硬化膜がガラス基
板との密着性に優れ、耐熱性、耐薬品性にも優れるの
で、カラーフィルター層や電子デバイスの保護膜などの
用途に最適である。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所
G03F 7/11 501 7124−2H
Claims (3)
- 【請求項1】 (1)分子中にカルボキシル基を有する
重合体、 (2)分子中に少なくとも2個のエチレン不飽和二重結
合を有する化合物、 (3)光重合開始剤、及び(4)分子中に少なくとも1
個のエポキシ基を有する化合物、 を含む、アルカリ水溶液で現像可能な光硬化性樹脂組成
物において、該分子中にカルボキシル基を有する重合体
が、(A)アクリル酸及びメタクリル酸からなる群から
選ばれた少なくとも1種の化合物から導かれた繰り返し
単位、(B)ベンジルアクリレート及びベンジルメタア
クリレートからなる群より選ばれた少なくとも1種の化
合物から導かれた繰り返し単位、及び場合により(C)
炭素数1〜12のアルキル基を含有するアルキルメタク
リレートからなる群から選ばれた少なくとも1種の化合
物から導かれた繰り返し単位、を含有する共重合体であ
つて、(A)の含有率が15〜35モル%、(B)の含
有率が50〜85モル%、(C)の含有率が0〜30モ
ル%で、且つ、重量平均分子量が5,000〜50,0
00であることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。 - 【請求項2】 透明基板上に形成されたカラーフイルタ
ー層上に、請求項1に記載の光硬化性樹脂組成物を塗布
し乾燥した後、マスクを介して露光し、アルカリ水溶液
で未露光部を除去し、次いで加熱硬化することを特徴と
する保護層の形成方法。 - 【請求項3】 請求項2の方法で形成された保護層を有
することを特徴とするカラーフイルター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19000291A JP2706859B2 (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | 光硬化性樹脂組成物、保護層の形成方法及びカラーフイルター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19000291A JP2706859B2 (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | 光硬化性樹脂組成物、保護層の形成方法及びカラーフイルター |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0534920A true JPH0534920A (ja) | 1993-02-12 |
| JP2706859B2 JP2706859B2 (ja) | 1998-01-28 |
Family
ID=16250750
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19000291A Expired - Fee Related JP2706859B2 (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | 光硬化性樹脂組成物、保護層の形成方法及びカラーフイルター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2706859B2 (ja) |
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