JPH0535566B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0535566B2 JPH0535566B2 JP60164799A JP16479985A JPH0535566B2 JP H0535566 B2 JPH0535566 B2 JP H0535566B2 JP 60164799 A JP60164799 A JP 60164799A JP 16479985 A JP16479985 A JP 16479985A JP H0535566 B2 JPH0535566 B2 JP H0535566B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- commands
- group
- input
- command
- semiconductor manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Testing And Monitoring For Control Systems (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、LSI、VLSI等の半導体デバイスを
製造する装置に関し、特に、装置の動作に関する
コマンドやパラメータを任意にグループ化して、
ユーザが装置を容易に操作できるようにした半導
体製造装置に関する。
製造する装置に関し、特に、装置の動作に関する
コマンドやパラメータを任意にグループ化して、
ユーザが装置を容易に操作できるようにした半導
体製造装置に関する。
[発明の背景]
半導体集積回路の集積度の向上に伴い、半導体
製造装置の高機能化や高性能化が計られている。
これらの高機能化や高性能化に伴つてこの種の装
置を動作させる際のコマンドおよびパラメータも
非常に増加してきた。これら数多くのコマンドお
よびパラメータはそれぞれ半導体製造装置の動作
を制御する上で重要な役割を果たすものであり、
装置の機能を最大限利用する場合に欠くことがで
きないものである。
製造装置の高機能化や高性能化が計られている。
これらの高機能化や高性能化に伴つてこの種の装
置を動作させる際のコマンドおよびパラメータも
非常に増加してきた。これら数多くのコマンドお
よびパラメータはそれぞれ半導体製造装置の動作
を制御する上で重要な役割を果たすものであり、
装置の機能を最大限利用する場合に欠くことがで
きないものである。
ところが、その数が多いことから装置を操作す
るエンジニアやオペレータ等がそれらすべてのコ
マンド等を記憶することは全く不可能である。特
に、オペレータは半導体製造装置について主に日
常の動作開始および停止の操作を行なうために配
置されている者であり、すべてのコマンド等を記
憶することは不必要といえる。すなわち、すべて
のコマンドおよびパラメータにより装置を操作す
るのは、元来、熟練者であるエンジニアの仕事で
あり、オペレータが日常、操作するパラメータは
ごく一部のもののみ充分である。以上のような事
情から、例えば、オペレータが日常使用するコマ
ンド以外のコマンドを使用するような場合には、
朧気な記憶に頼るため、所望のものとは異なるコ
マンドを入力してしまうという誤操作がかなりあ
つた。
るエンジニアやオペレータ等がそれらすべてのコ
マンド等を記憶することは全く不可能である。特
に、オペレータは半導体製造装置について主に日
常の動作開始および停止の操作を行なうために配
置されている者であり、すべてのコマンド等を記
憶することは不必要といえる。すなわち、すべて
のコマンドおよびパラメータにより装置を操作す
るのは、元来、熟練者であるエンジニアの仕事で
あり、オペレータが日常、操作するパラメータは
ごく一部のもののみ充分である。以上のような事
情から、例えば、オペレータが日常使用するコマ
ンド以外のコマンドを使用するような場合には、
朧気な記憶に頼るため、所望のものとは異なるコ
マンドを入力してしまうという誤操作がかなりあ
つた。
通常、これらの誤操作を防止するためには、オ
ペレータ等のユーザは熟練者に聞いたりマニユア
ル等に頼らざるを得ない状況にある。これは、装
置の操作上非常に不便である。例えば、装置を操
作する際にコンソールの前でオペレータがマニユ
アルを調べながらコマンドを入力するような場面
がまま見られる。そのような場合、オペレータの
入力速度は極めて遅くなり、結果として、装置の
スループツトを落としたりオペレータがコンソー
ルでの操作に集中できずに入力間違いも多くな
る。
ペレータ等のユーザは熟練者に聞いたりマニユア
ル等に頼らざるを得ない状況にある。これは、装
置の操作上非常に不便である。例えば、装置を操
作する際にコンソールの前でオペレータがマニユ
アルを調べながらコマンドを入力するような場面
がまま見られる。そのような場合、オペレータの
入力速度は極めて遅くなり、結果として、装置の
スループツトを落としたりオペレータがコンソー
ルでの操作に集中できずに入力間違いも多くな
る。
特に、コマンドやパラメータは1〜3文字程度
の略称となつていたりコード化されている場合が
多く、そのような場合は、さらに誤操作が多くな
るという欠点があつた。
の略称となつていたりコード化されている場合が
多く、そのような場合は、さらに誤操作が多くな
るという欠点があつた。
[発明の目的]
本発明は、上述従来形の問題点に鑑み、オペレ
ータ等が装置のコマンドや動作パラメータを入力
する際の誤操作を防止し、所望の操作を確実に行
なうことのできる半導体製造装置を提供すること
を目的とする。
ータ等が装置のコマンドや動作パラメータを入力
する際の誤操作を防止し、所望の操作を確実に行
なうことのできる半導体製造装置を提供すること
を目的とする。
[実施例の説明]
以下、図面に従つて本発明の実施例を説明す
る。第1図は、本発明の一実施例に係る投影露光
装置の外観を示す。同図において、1は集積回路
パターンを備えたマスクで、他にマスクアライメ
ントマークやマスク・ウエハ・アライメントマー
クを備えている。2はマスクステージで、マスク
1を保持してマスク1を平面内(XY方向)及び
回転方向(θ方向)に移動させる。3は縮小投影
レンズ、4は感光層を備えるウエハで、マスク・
ウエハ・アライメントマークとテレビ・ウエハア
ライメントマークを備えている。5はウエハステ
ージである。ウエハステージ5はウエハ4を保持
してそれを平面内及び回転方向に移動させるもの
であり、またウエハ焼付位置(投影野内)とテレ
ビ・ウエハアライメント位置間を移動する。6は
テレビ・ウエハアライメント用検知装置の対物レ
ンズ、7は撮像管または固体影像素子、9は双眼
ユニツトで、投影レンズ3を介してウエハ4の表
面を観察するために役立つ。10は照明光学系お
よびマスク・ウエハ・アライメント用の検知装置
を収容する上部ユニツトである。11は投影露光
装置本体に指令を与えるコンソールのモニタ受像
機(コンソールCRT)、12は装置に指令を与え
たりパラメータを入力するキーボードである。
る。第1図は、本発明の一実施例に係る投影露光
装置の外観を示す。同図において、1は集積回路
パターンを備えたマスクで、他にマスクアライメ
ントマークやマスク・ウエハ・アライメントマー
クを備えている。2はマスクステージで、マスク
1を保持してマスク1を平面内(XY方向)及び
回転方向(θ方向)に移動させる。3は縮小投影
レンズ、4は感光層を備えるウエハで、マスク・
ウエハ・アライメントマークとテレビ・ウエハア
ライメントマークを備えている。5はウエハステ
ージである。ウエハステージ5はウエハ4を保持
してそれを平面内及び回転方向に移動させるもの
であり、またウエハ焼付位置(投影野内)とテレ
ビ・ウエハアライメント位置間を移動する。6は
テレビ・ウエハアライメント用検知装置の対物レ
ンズ、7は撮像管または固体影像素子、9は双眼
ユニツトで、投影レンズ3を介してウエハ4の表
面を観察するために役立つ。10は照明光学系お
よびマスク・ウエハ・アライメント用の検知装置
を収容する上部ユニツトである。11は投影露光
装置本体に指令を与えるコンソールのモニタ受像
機(コンソールCRT)、12は装置に指令を与え
たりパラメータを入力するキーボードである。
第2図は、第1図の投影露光装置の電気回路構
成を示すブロツク図である。同図において、21
は装置全体の制御を司る本体CPUで、マイクロ
コンピユータまたはミニコンピユータ等の中央演
算処理装置からなる。22はウエハステージ駆動装
置、23はアライメント検出系、24はレチクル
ステージ駆動装置、25は照明系、26はシヤツ
タ駆動装置、27はフオーカス検出系、28はZ
駆動装置で、これらは、本体CPU21により制
御される。29は搬送系である。
成を示すブロツク図である。同図において、21
は装置全体の制御を司る本体CPUで、マイクロ
コンピユータまたはミニコンピユータ等の中央演
算処理装置からなる。22はウエハステージ駆動装
置、23はアライメント検出系、24はレチクル
ステージ駆動装置、25は照明系、26はシヤツ
タ駆動装置、27はフオーカス検出系、28はZ
駆動装置で、これらは、本体CPU21により制
御される。29は搬送系である。
30はコンソールユニツトで、本体CPU21
にこの露光装置の動作に関する各種の指令やパラ
メータを与えるためのものである。31はコンソ
ールCPU、32はパラメータ等を記憶する外部
メモリである。なお、CRT11およびキーボー
ド12は第1図のものと同一である。
にこの露光装置の動作に関する各種の指令やパラ
メータを与えるためのものである。31はコンソ
ールCPU、32はパラメータ等を記憶する外部
メモリである。なお、CRT11およびキーボー
ド12は第1図のものと同一である。
第3図は、コマンドをグループ化した様子を示
す階層図である。同図において、最下層は実行コ
マンドである。コマンド入力待ち状態においてこ
れらのコマンドを入力すると、装置はそのコマン
ドに従つた動作を行なう。実行コマンドはいくつ
かまとめてグループ化し、中段に示すようなグル
ープ名を付している。1つの実行コマンドが複数
のグループに含まれることとしてもよい。
す階層図である。同図において、最下層は実行コ
マンドである。コマンド入力待ち状態においてこ
れらのコマンドを入力すると、装置はそのコマン
ドに従つた動作を行なう。実行コマンドはいくつ
かまとめてグループ化し、中段に示すようなグル
ープ名を付している。1つの実行コマンドが複数
のグループに含まれることとしてもよい。
次に、第4図のフローチヤートおよび第5a〜
5e図の表示画面例を参照しながら、第1図および
第2図に示す装置においてコマンドのグループを
定義する際の動作を説明する。
5e図の表示画面例を参照しながら、第1図および
第2図に示す装置においてコマンドのグループを
定義する際の動作を説明する。
この装置においては、電源投入後の初期化を終
了したとき、および所定の動作指令(コマンド)
を実行し終えたとき、コマンド待ち状態となる。
つまり、コンソールCPU31はキーボード12
におけるキー操作を待機し、本体CPU21はコ
ンソールCPU31からの通信待ち状態となる。
そして、この状態でキーボード12からコマンド
のグループ定義のためのコマンド(例えばGD)
が入力されると、コンソールCPU31の制御の
もとに以下のグループ定義処理を開始する。
了したとき、および所定の動作指令(コマンド)
を実行し終えたとき、コマンド待ち状態となる。
つまり、コンソールCPU31はキーボード12
におけるキー操作を待機し、本体CPU21はコ
ンソールCPU31からの通信待ち状態となる。
そして、この状態でキーボード12からコマンド
のグループ定義のためのコマンド(例えばGD)
が入力されると、コンソールCPU31の制御の
もとに以下のグループ定義処理を開始する。
なお、ここでは予め定義してあるグループに新
たな実行コマンドをメンバとして登録する場合に
ついて説明する。グループを新たに定義するの
か、または、予め存在するグループの定義を変更
するのかについての区別はグループ定義コマンド
を入力するときに行なう。例えば、上記のコマン
ドGDをグループ名のパラメータ例えばAAを付
与して「GD AA」と入力したとき、そのグルー
プAAの定義の変更とし、パラメータ無しで入力
したとき、新たなグループの定義とすれはよい。
たな実行コマンドをメンバとして登録する場合に
ついて説明する。グループを新たに定義するの
か、または、予め存在するグループの定義を変更
するのかについての区別はグループ定義コマンド
を入力するときに行なう。例えば、上記のコマン
ドGDをグループ名のパラメータ例えばAAを付
与して「GD AA」と入力したとき、そのグルー
プAAの定義の変更とし、パラメータ無しで入力
したとき、新たなグループの定義とすれはよい。
グループ定義処理においては、まず、処理する
グループの名称、パスワード等をCRT11に表
示する(ステツプS1)。このときの画面表示は第
5a図に示すようなものである。また、これらの
データは外部メモリ32に記憶されている。ここ
では、グループ名が「AA」、パスワードが
「Canon」、コメントが「MOS」、メンバが
「OC」、「WA」および「RC」である。各メンバ
にはそれぞれコメントが付与されている。下段の
「Slect No.or End」はプロンプトメツセージで
あり、どの項目を変更するか、あるいはグループ
定義処理を終了するかについての入力を促してい
る(ステツプS2)。ここで、それぞれの項目に付
されているナンバを入力することでそれらを変更
することができる。例えば、「1」を入力すると
ステツプS3およびS4においてグルーブ名の変更
が可能である。パスワードおよびコメントについ
ても同様にステツプS5〜S8で変更できる。第5a
図の画面ではメンバについて処理するため「4」
を入力している(ステツプS9)。すると、画面は
第5b図に示すようなものとなる。この画面では、
グループに関する定義情報は第5a図と同一だが、
下段のプロンプトメツセージが異なる。このメツ
セージ「Select(O:ADD、1:DELETE、E:
END)」はメンバを新たに追加するのか、削除す
るのかまたはメンバの変更処理を終了するのかに
ついての入力を促している(ステツプS10)。こ
の入力後は追加、削除または終了の別を判別し、
追加のときはステツプS11およびS12、削除のと
きはステツプS13およびS14でそれぞれの処理を
行なう。第5b図の画面ではメンバの追加を示す
「O」を入力している(ステツプS11)。この入力
により画面は第5c図に示すようなものとなる。下
段には「ADD(4)」とメツセージが表示され、
4番目のメンバの追加処理を行なつている旨を示
している。ここで同図のように、「RA:
Comment D」を新たなメンバとして入力する
と、画面は第5d図のようになり、新規メンバが
追加登録される(ステツプS12)。その後、シー
ケンスはステツプS10に戻り、再びメンバの変更
処理を続行することができる。メンバ変更処理を
終了する場合は、ステツプS10の入力において、
すなわち第5d図の画面において「E」を入力し
(ステツプS15)、ステツプS2に戻る。グループの
定義処理を終了する場合は、ステツプS2におい
て、第5e図のように「E」を入力する(ステツプ
S16)。これにより、グループの各種定義データ
は外部メモリ32に記憶される。
グループの名称、パスワード等をCRT11に表
示する(ステツプS1)。このときの画面表示は第
5a図に示すようなものである。また、これらの
データは外部メモリ32に記憶されている。ここ
では、グループ名が「AA」、パスワードが
「Canon」、コメントが「MOS」、メンバが
「OC」、「WA」および「RC」である。各メンバ
にはそれぞれコメントが付与されている。下段の
「Slect No.or End」はプロンプトメツセージで
あり、どの項目を変更するか、あるいはグループ
定義処理を終了するかについての入力を促してい
る(ステツプS2)。ここで、それぞれの項目に付
されているナンバを入力することでそれらを変更
することができる。例えば、「1」を入力すると
ステツプS3およびS4においてグルーブ名の変更
が可能である。パスワードおよびコメントについ
ても同様にステツプS5〜S8で変更できる。第5a
図の画面ではメンバについて処理するため「4」
を入力している(ステツプS9)。すると、画面は
第5b図に示すようなものとなる。この画面では、
グループに関する定義情報は第5a図と同一だが、
下段のプロンプトメツセージが異なる。このメツ
セージ「Select(O:ADD、1:DELETE、E:
END)」はメンバを新たに追加するのか、削除す
るのかまたはメンバの変更処理を終了するのかに
ついての入力を促している(ステツプS10)。こ
の入力後は追加、削除または終了の別を判別し、
追加のときはステツプS11およびS12、削除のと
きはステツプS13およびS14でそれぞれの処理を
行なう。第5b図の画面ではメンバの追加を示す
「O」を入力している(ステツプS11)。この入力
により画面は第5c図に示すようなものとなる。下
段には「ADD(4)」とメツセージが表示され、
4番目のメンバの追加処理を行なつている旨を示
している。ここで同図のように、「RA:
Comment D」を新たなメンバとして入力する
と、画面は第5d図のようになり、新規メンバが
追加登録される(ステツプS12)。その後、シー
ケンスはステツプS10に戻り、再びメンバの変更
処理を続行することができる。メンバ変更処理を
終了する場合は、ステツプS10の入力において、
すなわち第5d図の画面において「E」を入力し
(ステツプS15)、ステツプS2に戻る。グループの
定義処理を終了する場合は、ステツプS2におい
て、第5e図のように「E」を入力する(ステツプ
S16)。これにより、グループの各種定義データ
は外部メモリ32に記憶される。
次に、第6図のフローチヤートおよび第7図の
表示画面例を参照しながら、第1図および第2図
に示す装置におけるコマンド入力の動作を説明す
る。
表示画面例を参照しながら、第1図および第2図
に示す装置におけるコマンド入力の動作を説明す
る。
まず、コマンド入力待ち状態からコマンドが入
力されると(ステツプS21)、実行レベルのコマ
ンドかどうかを判別する(ステツプS22)。もし、
実行レベルのコマンドのときは、その入力された
実行コマンドに応じた処理を実行する。実行レベ
ルのコマンドでない場合は、グループ名かどうか
を判別し(ステツプS23)、グループ名でもない
ときはエラーを表示し(ステツプS24)、再びコ
マンド入力待ちの状態に戻る(ステツプS21)。
ステツプS23でグループ名の場合は、グループを
構成する実行レベルコマンド等のグループのデー
タを外部メモリ32から読み出しCRT11に一覧
表示する(ステツプS25)。このときの画面は第
7図のようなものである。同図において、画面の
上段にはコマンド入力エリアがあり、グループ名
として「AA」が入力されている。中段には、そ
れに対応してグループ名AAを構成するすべての
コマンドがコメントとともに表示されている。こ
のコメントによりコマンドの動作の概要を知るこ
とができる。その後は、画面を見て実行コマンド
を入力すればよい(ステツプS26)。
力されると(ステツプS21)、実行レベルのコマ
ンドかどうかを判別する(ステツプS22)。もし、
実行レベルのコマンドのときは、その入力された
実行コマンドに応じた処理を実行する。実行レベ
ルのコマンドでない場合は、グループ名かどうか
を判別し(ステツプS23)、グループ名でもない
ときはエラーを表示し(ステツプS24)、再びコ
マンド入力待ちの状態に戻る(ステツプS21)。
ステツプS23でグループ名の場合は、グループを
構成する実行レベルコマンド等のグループのデー
タを外部メモリ32から読み出しCRT11に一覧
表示する(ステツプS25)。このときの画面は第
7図のようなものである。同図において、画面の
上段にはコマンド入力エリアがあり、グループ名
として「AA」が入力されている。中段には、そ
れに対応してグループ名AAを構成するすべての
コマンドがコメントとともに表示されている。こ
のコメントによりコマンドの動作の概要を知るこ
とができる。その後は、画面を見て実行コマンド
を入力すればよい(ステツプS26)。
なお、ここでは実行コマンドの入力を略称で行
なうようにしているが、第7図に示す一覧表示に
おいてコマンドにナンバを付しておき、そのナン
バを入力することにより実行コマンドと同様な機
能を実行するようにもできる。
なうようにしているが、第7図に示す一覧表示に
おいてコマンドにナンバを付しておき、そのナン
バを入力することにより実行コマンドと同様な機
能を実行するようにもできる。
前述したように、本実施例の投影露光装置にお
いては、実行レベルのコマンドのグループをユー
ザが自由に定義できる。また、1つの実行コマン
ドが複数のグループの構成要素となることもでき
るし、グループの名称も自由に付与できる。従つ
て、例えば実行コマンドの機能別、各称別、使用
者別等のさまざまな分け方でグループ化を行なつ
ておけば、不明瞭なコマンドを検索する上で非常
に効果がある。すなわち、ユーザが装置の操作途
中で入力したい所望のコマンドが不明になつたと
きには、いろいろなグループ名でコマンドの確認
が行なえるため、装置の誤操作を防止することが
できる。また、これらのコマンドの確認はユーザ
がコンソールをそのまま使用して行なえるので、
ユーザはコンソールに対する一連の操作の流れを
マニユアルを参照する等でとぎらせることなく、
コンソールに集中したまま操作を続行することが
できる。
いては、実行レベルのコマンドのグループをユー
ザが自由に定義できる。また、1つの実行コマン
ドが複数のグループの構成要素となることもでき
るし、グループの名称も自由に付与できる。従つ
て、例えば実行コマンドの機能別、各称別、使用
者別等のさまざまな分け方でグループ化を行なつ
ておけば、不明瞭なコマンドを検索する上で非常
に効果がある。すなわち、ユーザが装置の操作途
中で入力したい所望のコマンドが不明になつたと
きには、いろいろなグループ名でコマンドの確認
が行なえるため、装置の誤操作を防止することが
できる。また、これらのコマンドの確認はユーザ
がコンソールをそのまま使用して行なえるので、
ユーザはコンソールに対する一連の操作の流れを
マニユアルを参照する等でとぎらせることなく、
コンソールに集中したまま操作を続行することが
できる。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、半導体
製造装置において、コマンドおよび動作パラメー
タをグループ化しグループ名を付して記憶し、コ
マンド入力待ち状態でこのグループ名が入力され
た場合には、グループを構成するコマンドおよび
動作パラメータを表示するようにしているので、
オペレータ等がコマンドやパラメータを入力する
際の誤操作を防止し、所望の操作を確実に行なう
ことができる。
製造装置において、コマンドおよび動作パラメー
タをグループ化しグループ名を付して記憶し、コ
マンド入力待ち状態でこのグループ名が入力され
た場合には、グループを構成するコマンドおよび
動作パラメータを表示するようにしているので、
オペレータ等がコマンドやパラメータを入力する
際の誤操作を防止し、所望の操作を確実に行なう
ことができる。
第1図は、本発明の一実施例に係る投影露光装
置の外観図、第2図は、上記実施例の投影露光装
置の制御回路を示すブロツク図、第3図は、コマ
ンドをグループ化した様子を示す階層図、第4図
は、上記実施例においてコマンドのグループを定
義する際の動作および作用を説明するためのフロ
ーチヤート、第5図は、上記実施例においてコマ
ンドのグループを定義する際の表示画面例、第6
図は、上記実施例においてコマンド入力する際の
動作および作用を説明するためのフローチヤー
ト、第7図は、上記実施例においてコマンド入力
する際の表示画面例である。 11……モニタ用CRT、12……キーボード、
21……本体CPU、30……コンソール、31
……コンソールCPU、32……外部メモリ。
置の外観図、第2図は、上記実施例の投影露光装
置の制御回路を示すブロツク図、第3図は、コマ
ンドをグループ化した様子を示す階層図、第4図
は、上記実施例においてコマンドのグループを定
義する際の動作および作用を説明するためのフロ
ーチヤート、第5図は、上記実施例においてコマ
ンドのグループを定義する際の表示画面例、第6
図は、上記実施例においてコマンド入力する際の
動作および作用を説明するためのフローチヤー
ト、第7図は、上記実施例においてコマンド入力
する際の表示画面例である。 11……モニタ用CRT、12……キーボード、
21……本体CPU、30……コンソール、31
……コンソールCPU、32……外部メモリ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 多数のコマンドおよび動作パラメータに従つ
て動作する半導体製造装置であつて、該コマンド
および動作パラメータをグループ化しグループ名
を付して記憶するとともに、コマンド入力待ち状
態における該グループ名の入力によりグループを
構成するコマンドおよび動作パラメータを表示す
ることを特徴とする半導体製造装置。 2 前記グループ化が、前記コマンドおよび動作
パラメータとともにコメントを記憶し、前記表示
の際に前記コマンドおよび動作パラメータととも
に該コメントを表示する特許請求の範囲第1項記
載の半導体製造装置。 3 前記動作が露光動作である特許請求の範囲第
1または2項記載の半導体製造装置。 4 前記グループ化が、キーボードからの入力デ
ータに基づいて変更可能である特許請求の範囲第
1〜3項のいずれか1つに記載の半導体製造装
置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60164799A JPS6225418A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | 半導体製造装置 |
| US07/752,986 US5197118A (en) | 1985-07-25 | 1991-09-03 | Control system for a fine pattern printing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60164799A JPS6225418A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | 半導体製造装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6107400A Division JP2614188B2 (ja) | 1994-04-25 | 1994-04-25 | コマンド管理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6225418A JPS6225418A (ja) | 1987-02-03 |
| JPH0535566B2 true JPH0535566B2 (ja) | 1993-05-26 |
Family
ID=15800152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60164799A Granted JPS6225418A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6225418A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2631395B2 (ja) * | 1988-09-09 | 1997-07-16 | キヤノン株式会社 | 露光装置の制御方法 |
| JPH082721Y2 (ja) * | 1989-02-23 | 1996-01-29 | ヤマハ株式会社 | パラメータ設定装置 |
| DE102015007831B4 (de) | 2015-06-18 | 2017-08-17 | Michael Klemt | Schaltungsanordnung zur Galvanisch isolierten Ansteuerung eines ladungsgesteuerten Leistungsschalters |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5549713A (en) * | 1978-10-02 | 1980-04-10 | Nec Corp | Automatic work processing system |
| FR2549983B1 (fr) * | 1983-07-25 | 1988-03-18 | Telemecanique Electrique | Terminal pour l'elaboration de programmes utilisables par un automate programmable |
-
1985
- 1985-07-25 JP JP60164799A patent/JPS6225418A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6225418A (ja) | 1987-02-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6526329B2 (en) | Substrate processing system and substrate processing method | |
| US6963389B2 (en) | Alignment method, exposure apparatus and device fabrication method | |
| JPH0535566B2 (ja) | ||
| JP2614188B2 (ja) | コマンド管理方法 | |
| JPS6252930A (ja) | 半導体製造装置 | |
| US20060224269A1 (en) | Exposure apparatus and parameter editing method | |
| JPH0535567B2 (ja) | ||
| JPH03223901A (ja) | 半導体製造装置 | |
| Koford et al. | Using a graphic data-processing system to design artwork for manufacturing hybrid integrated circuits | |
| JPS6225422A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS6225421A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPH06291004A (ja) | 半導体製造装置のパラメータ管理システム | |
| JPS62133719A (ja) | 半導体製造装置 | |
| US5197118A (en) | Control system for a fine pattern printing apparatus | |
| JP7798650B2 (ja) | 加工装置 | |
| JPS6225420A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP2022094040A (ja) | 情報処理装置、表示制御方法、プログラム、基板処理装置、及び物品の製造方法 | |
| JPS62203333A (ja) | 半導体焼付露光装置 | |
| US3581385A (en) | Method for fabricating large scale integrated circuits with discretionary wiring | |
| JP2582296B2 (ja) | プリント基板設計装置におけるデータ入力方法 | |
| JPS6225417A (ja) | 半導体製造装置 | |
| US20040128005A1 (en) | Apparatus including user interface and method regarding user interface | |
| KR100269483B1 (ko) | 반도체기판 가공시스템의 제어장치 | |
| JP3259409B2 (ja) | 露光装置 | |
| JPH0521317A (ja) | 半導体装置の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |