JPS6225422A - 半導体製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、ＬＳｌ、ＶＬＳＩ等の半導体デバイスを製造
する装置に関し、特に、半導体デン＼イスの製造動作を
開始する際の装置の操作を簡便、迅速かつ確実に行なう
ことができる半導体製造装置に関する。

し発明の背頽］ 半導体集積回路の集積度の向上に伴い、半導体製造装置
の高機能化や高性能化が計られている。

これらの高機住化や高性能化に伴ってこの種の装置を動
作させる際のパラメータも増加してきた。

このようなパラメータは、例えばステップアンドリピー
ト式の投影露光装置においては、数十個から時には数百
個にも及ぶ場合がある。

一方、従来の半導体製造装置は、オペレータがスタート
スイッチやキーボード等を操作して動作開始指令を入力
すると、装置が直ちに駆動するため、例えば動作開始指
令入力直後に他のマスク工程に変更すべきであったこと
やパラメータ設定すべぎであったことに気がついた場合
であっても、既にいくつかのウェハについては作業を開
始しており、その分については不良となったり、レジス
トを剥離して再塗布する手間を厭わなければ【プればな
らない等という不都合があった。

また、マスク工程やロツ１へを切換えた場合等、パラメ
ータの設定状態を確認するためには上記のように膨大な
数のパラメータをヂエックする必要があり、これは、最
早、半導体″ＪＩＪ造装置について主に日常の動作開始
および停止の操作を行なうために配口されているオペレ
ータにとっては不可能でさえある。このため、例えばマ
スク工程ごとにパラメータの最適値を記憶しておき、マ
スク工程が決まれば記憶されているパラメータ値を一括
して設定するようにした装置も提案されている。しかし
、この場合であってもピント位置や露光時間等は雰囲気
や経時等により変化し易く、変更しなければならない場
合がままある。従来の装置に３３いて、この一部のパラ
メータを変更しようとすれば、上記の数百個にも及ぶパ
ラメータの内から所望のものを一覧表等により検索し、
そのパラメータのコード名をキー入力して特定した後そ
のパラメータを変更設定しており、コード名を誤検索し
たり誤入力し勝ちであった。すなわち、オペレータにと
ってパラメータ変更の作業は至難の業であり、誤操作従
って半導体製品不良の発生するおそれが多分にあった。

［発明の目的］ 本発明は、上述従来形の問題点に鑑み、主動作開始時の
パラメータの間違いによる誤操作を防止し、オペレータ
がパラメータの確認および変更を簡便、迅速かつ確実に
行なうことのできる半導体製造装置を提供することを目
的とする。

［実施例の説明］ 以下、図面に従って本発明の詳細な説明する。

第１図は、本発明の一実施例に係る投影露光装置の外観
を示す。同図において、１は集積回路パターンを備えた
マスクで、他にマスクアライメントマークやマスク・ウ
ェハ・アライメントマークを備えている。２はマスクス
テージで、マスク１を保持してマスク１を平面内（ＸＹ
方向）及び回転方向（θ方向）に移動させる。３は縮小
投影レンズ、４は感光層を備えるウェハで、マスク・ウ
ェハ・アライメントマークとテレビ・ウェハアライメン
トマークを備えている。５はウェハステージである。ウ
ェハステージ５はウェハ４を保持してそれを平面内及び
回転方向に移動させるものであり、またウェハ焼付位置
（投影野内）とテレビ・ウェハアライメント位置間を移
動する。６はテレビ・ウェハアライメント用検知装置の
対物レンズ、７は撮像管または固体影像素子、９は双眼
ユニットで、投影レンズ３を介してウェハ４の表面を観
察するために役立つ。１０は照明光学系およびマスク・
ウェハ・アライメント用の検知装置を収容する上部ユニ
ットである。１１は投影露光装置本体に指令を与えるコ
ンソールのモニタ受像機（コンソールＣＲＴ）、１２は
装置に指令を与えたりパラメータを入力するキーボード
である。

第２図は、第１図の投影露光装置の電気回路構成を示す
ブロック図である。同図において、２１は￥ｆｉ！全体
の制御を司る本体ＣＰＵで、マイクロコンピュータまた
はミニコンピユータ簀の中央演算処理装置からなる。２
２はウェハステージ駆動装置、２３はアライメント検出
系、２４はレチクルステージ駆動装置、２５Ｇ、を照明
系、２６はシャッタ駆動装置、２７はフォーカス検出系
、２８はＺ駆動装置で、これらは、本体ＣＰ　Ｕ　２１
により制御される。２９は搬送系である。

３０はコンソールユニットで、本体ＣＰＵ２１にこの露
光装置の動作に関する各種の指令やパラメータを与える
ためのものである。３１はコンソールＣＰＵ、３２はパ
ラメータ等を記憶する外部メモリである。なお、ＣＲＴ
ｌｌおよびキーボード１２は第１図のものど同一である
。

次に、第３図のフローチャートおよび第４図の表示両面
例を参照しながら、第１図および第２図に示す装置の動
作を説明する。

まず、オペレータ等がこの装置の電源をオンすると、コ
ンソールＣＰＵ３１および本体ＣＰ　Ｕ　２１は、それ
ぞれ初期化処理を実行しくステップＳ１　）、コンソー
ルユニット３０はコマンド入力待ちの状態となる（ステ
ップＳ２）。この状態においては、ＣＲＴｌｌの表示画
面は第４図の画面Ｄ１に示すようなものとなる。画面Ｄ
１には、上部にコマンド入カニリアが有り、キーボード
１２から入力した装置本体に対する種々の指令をモニタ
ぐきるようになっている。コンソールＣＰ　Ｕ　３１は
、オペレータ等がキーボード１２から入力したコマンド
について、スタート（主動作開始）コマンドであるかど
うかを判別しくステップＳ３）、もし、そうでなければ
それぞれの入力コマンドに対する処理を行なった後（ス
テップ＄４）、再びコマンド入力持ち（ステップＳ２　
）に戻る。スタートコマンドが入力された場合は、外部
記憶装置に記憶されている多数のパラメータのうち所定
のもののみをＣＲ’Ｔ１１に表示する（ステップＳ５）
。この状態の画面表示は第４図の画面Ｄ２に示すような
ものである。

画面Ｄ２の上段のｒｓＴＪは、コマンド入ノ〕エリアに
入力したスタートコマンドである。中段には所定のパラ
メータを表示している。

ここで、画面中段に表示する所定のパラメータは、オペ
レータが主動作を開始する際に変更する可能性が大きい
ものである。従って、装置のスタートコマンド入力優、
この画面Ｄ２のように所定のパラメータを自動的に表示
することによって、オペレータは処理開始時に主要なパ
ラメータを確実に確認することができ、パラメータが間
違ったまま主動作を開始してしまうという誤操作を防止
できる。また、この表示パラメータは、元来オペレータ
が変更する可能性の多いもののみであり、参照しなくて
もよいようなものは含まれていない。

従って、その個数もそれ稈長くはないため、確認は簡便
かつ迅速に行なうことができる。また、これらのパラメ
ータとして前回の露光動作において用いたものを表示す
るようにすれば、パラメータ変更は工程変更等露光条件
を変更する必要がある場合にのみ行なえばよく、作業を
簡略にすることができる。

画面Ｄ２の下段には、次の入力を促すプロンプトメツセ
ージが表示されている。ステップＳ６および画面Ｄ２の
状態からｒＹＪを入力すると、表示されているバラメー
クに従って主動作すなわち本実施例の場合は露光実行処
理が開始される。

「Ｎ」を入力すると再びコマンド入力待ち（ステップ８
２）へ戻る。また、「Ｃ」を入力するとパラメータ変更
処理（ステップ８７）を行なうことができる。

パラメータ変更処理においては、まず、変更項目ナンバ
を指定する旨のプロンプトメツセージを表示する。この
ときの画面表示は第４図の画面Ｄ３に示すようなもので
ある。ナンバ３のパラメー９　ハ露光時間（ＥＸＰＯ８
ＵＲＥ　　ＴＩＭＥ）を示しその値は２００ｍ３である
。画面Ｄ３下段の表示ｒｃＨＡＮＧＥ　　Ｎｏ、　　Ｏ
ＲＥＮＤ　　？Ｊはプロンプトメツセージである。ここ
で、変更データのナンバとして「３」をキー入力すると
くステップＳ７）、表示画面は第４図の両面Ｄ４に示す
ようになる。Ｄ４の下段のｒＥＸＰＯ８ＵＲＥＴ　Ｉ　
Ｍ　Ｅ　　２０Ｏｎ＋Ｓ　Ｊは、ナンバ３の動作パラメ
ータの現在値を示しており、現在この項目を変更してい
ることを示している。この値は、外部メモリ３２に記憶
されていたものである。この２００１Ｓを変更するため
には変更データを入力する（ステップＳ８）。ここでは
露光時間を１５０ｍ５に変更するように１５０をキー入
力している。その結果、ナンパ３の露光時間は変更され
表示画面はＤ５（但し、ｒ　Ｅ　Ｊ　ｉ、ｔなし）のよ
うなものとなる。さらに変更すべき項目がある場合はス
テップＳ１より上記のパラメータ変更操作を繰り返せば
よい。また、パラメータの変更操作を終了する場合は画
面Ｄ５のように終了コードとしてｒＥＪを入力すれば、
シーケンスはステップＳ６に戻り、同時に表示画面はＤ
２となる。

前述したように、本実施例の投影露光装置において、電
源をオンした後自動的に表示される動作パラメータは、
主動作を開始する前にオペレータが変更する可能性の多
い所定のものである。従って、オペレータはこれらのパ
ラメータを表示画面により簡単に確認することができる
が、さらに、これらのパラメータを変更する場合にも、
従来のように全パラメータの中から検索する必要はなく
、簡便にかつ迅速に動作パラメータの変更が行なえる。

また、表示されるパラメータの個数はそれ程多くないの
で、誤操作も低減し変更操作が確実となる。

なお、」−記実施例でｔよ表示おまひ変更ｉｉ１能なパ
ラメータを主動作の種類（ＪＯＢ　　ＮＡＭＥ）、焦点
位置（Ｆｏｃｕｓ）おＪ、び露光時間（ＥＸＰＯ８ＵＲ
Ｅ　　ＴＩＭＥ）としている。これ【よ、ＩＱ彰露光装
置において、日常、オペレータが確認し変更するパラメ
ータが上記の３つであるということに基づくものである
。現在、投影体ｘｉ首において、オペレータはこれら以
外のパラメータについてはほとんど確認も変更もする必
要がない。しかし、表示および変更が可能なパラメータ
は装置の種類等の各種の条件により、適宜変更Ｊること
ができる。例えば、上記実施例にＪ３いてはコンソール
ＣＰＵで実行づるプログラムの変更等により容易に変更
可能である。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明によれば、半導体製造装置
において、主動作の開始指令が入力される際にオペレー
タ等装置を操作する者が使用する可能性の高い所定の動
作パラメータを表示し、確認信号を入力させるようにし
ているので、動作パラメータが間違ったまま主動作を開
始してしまうという誤操作を防止し、主要なパラメータ
の確認を簡便、迅速かつ確実に行なうことができる。ま
た、動作パラメータの変更においても全パラメータから
検索する必要はなく、装置を操作する者が使用する可能
性の高い動作パラメータのみを簡便、迅速かつ確実に変
更することが可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例に係る投影露光装置の外観
図、 第２図は、上記実施例の投影露光装置の制御回路を示す
ブロック図、 第３図は、上記実施例の動作および作用を説明するため
のフローヂャート、 第４図は、表示画面例である。 １１・・・モニタ用ＣＲＴ、１２・・・キーボード、２
１・・・本体ＣＰＵ、３０・・・コンソール、３１・・
・コンソールＣＰＵ１３２・・・外部メモリ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、主動作開始指令入力手段と、該主動作における多数
   の動作パラメータのうち所定のパラメータのみを表示す
   る手段と、確認信号入力手段とを備え、上記開始指令が
   入力されたときは先ず上記表示手段に上記所定のパラメ
   ータを表示し、さらに上記確認信号が入力された後、上
   記主動作を開始するようにしたことを特徴とする半導体
   製造装置。 ２、前記主動作が前記動作パラメータの設定内容に応じ
   て複数種類に分類されており、前記表示手段に前記所定
   パラメータと併せて上記主動作の種類を表示する特許請
   求の範囲第１項記載の半導体製造装置。 ３、前記入力手段がキーボードであり、該キーボードか
   らのキー入力に基づいて前記表示されたデータを書換可
   能である特許請求の範囲第２項記載の半導体製造装置。 ４、前記主動作種類データを書換えたときは書換後の主
   動作種類に対応する動作パラメータを表示する特許請求
   の範囲第３項記載の半導体製造装置。 ５、前記確認信号が入力されたときは表示データ書換の
   有無にかかわらず表示された動作パラメータに従った前
   記主動作を開始する特許請求の範囲第２項記載の半導体
   製造装置。 ６、前記主動作が露光動作である特許請求の範囲第１〜
   ５項のいずれか１つに記載の半導体製造装置。 ７、前記表示データが焦点位置および露光時間パラメー
   タである特許請求の範囲第６項記載の半導体製造装置。