JPH0535567B2 - - Google Patents
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- JPH0535567B2 JPH0535567B2 JP60164800A JP16480085A JPH0535567B2 JP H0535567 B2 JPH0535567 B2 JP H0535567B2 JP 60164800 A JP60164800 A JP 60164800A JP 16480085 A JP16480085 A JP 16480085A JP H0535567 B2 JPH0535567 B2 JP H0535567B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- file
- password
- parameters
- operating parameters
- semiconductor manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Testing And Monitoring For Control Systems (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、LSI、VLSI等の半導体デバイスを
製造する装置に関し、特に、多数の動作パラメー
タを、製造すべき半導体デバイスの種類、工程お
よびシヨツト等の作業単位に関連して分類し、適
宜表示できるようにした半導体製造装置に関す
る。
製造する装置に関し、特に、多数の動作パラメー
タを、製造すべき半導体デバイスの種類、工程お
よびシヨツト等の作業単位に関連して分類し、適
宜表示できるようにした半導体製造装置に関す
る。
[発明の背景]
半導体集積回路の集積度の向上に伴い、この半
導体集積回路を製造する装置の高機能化や高性能
化が計られている。これらの高機能化や高性能化
に伴つてこの種の装置を動作させる際のパラメー
タも増加してきた。このようなパラメータは、例
えばステツプアンドリピート式の投影露光装置に
おいては、数十個から時には数百個にも及び場合
がある。
導体集積回路を製造する装置の高機能化や高性能
化が計られている。これらの高機能化や高性能化
に伴つてこの種の装置を動作させる際のパラメー
タも増加してきた。このようなパラメータは、例
えばステツプアンドリピート式の投影露光装置に
おいては、数十個から時には数百個にも及び場合
がある。
従つて、このような装置において、マスク工程
やロツトを切換えた場合等の必要時に、パラメー
タの設定状態を確認するためには上記のように膨
大な数のパラメータをチエツクする必要があり、
これは、最早、半導体製造装置について主に日常
の動作開始および停止の操作を行なうために配置
されているオペレータにとつては不可能でさえあ
る。そこで、例えばマスク工程等の作業単位ごと
にパラメータの最適値を記憶しておき、作業が決
まれば記憶されているパラメータ値を一括して設
定するようにした装置も提案されている。しか
し、この場合であつてもピント位置や露光時間等
は雰囲気や経時等により変化し易く、変更しなれ
ばならない場合がままある。従来の装置におい
て、この一部のパラメータを変更しようとすれ
ば、上記の数百個にも及ぶパラメータの内から所
望のものを一覧表等により検索し、そのパラメー
タのコード名をキー入力して特定した後そのパラ
メータを変更設定しており、コード名を誤検索し
たり誤入力し勝ちであつた。すなわち、従来の装
置におけるパラメータ変更の作業はオペレータに
とつて至難の業であり、誤操作従つて半導体製品
不良の発生するおそれが多分にあつた。
やロツトを切換えた場合等の必要時に、パラメー
タの設定状態を確認するためには上記のように膨
大な数のパラメータをチエツクする必要があり、
これは、最早、半導体製造装置について主に日常
の動作開始および停止の操作を行なうために配置
されているオペレータにとつては不可能でさえあ
る。そこで、例えばマスク工程等の作業単位ごと
にパラメータの最適値を記憶しておき、作業が決
まれば記憶されているパラメータ値を一括して設
定するようにした装置も提案されている。しか
し、この場合であつてもピント位置や露光時間等
は雰囲気や経時等により変化し易く、変更しなれ
ばならない場合がままある。従来の装置におい
て、この一部のパラメータを変更しようとすれ
ば、上記の数百個にも及ぶパラメータの内から所
望のものを一覧表等により検索し、そのパラメー
タのコード名をキー入力して特定した後そのパラ
メータを変更設定しており、コード名を誤検索し
たり誤入力し勝ちであつた。すなわち、従来の装
置におけるパラメータ変更の作業はオペレータに
とつて至難の業であり、誤操作従つて半導体製品
不良の発生するおそれが多分にあつた。
[発明の目的]
本発明は、上述従来形の問題点に鑑み、動作パ
ラメータを作業単位に応じて選択表示できるよう
にし、オペレータがパラメータの確認および変更
を極めて容易に行なうことができて動作開始時の
パラメータの間違いによる誤操作を低減すること
の可能な半導体製造装置を提供することを目的と
する。
ラメータを作業単位に応じて選択表示できるよう
にし、オペレータがパラメータの確認および変更
を極めて容易に行なうことができて動作開始時の
パラメータの間違いによる誤操作を低減すること
の可能な半導体製造装置を提供することを目的と
する。
[実施例の説明]
以下、図面に従つて本発明の実施例を説明す
る。
る。
第1図は、本発明の一実施例に係る投影露光装
置の外観を示す。同図において、1は集積回路パ
ターンを具えたマスクで、他にマスクアライメン
トマークやマスク・ウエハ・アライメントマーク
を具えるものとする。2はマスクステージで、マ
スク1を保持してマスク1を平面内(XY方向)
及び回転方向(θ方向)に移動させる。3は縮小
投影レンズ、4は感光層を具えるウエハで、マス
ク・ウエハ・アライメントマークとテレビ・ウエ
ハ・アライメントマークを具えるものとする。5
はウエハステージである。ウエハステージ5はウ
エハ4を保持してそれを平面内および回転方向に
移動させるものであり、またウエハ焼付位置(投
影視野内)とテレビ・ウエハアライメント位置間
を移動する。6はテレビ・ウエハアライメント用
検知装置の対物レンズ、7は撮像管(または固定
撮像素子)である。9は双眼ユニツトで、投影レ
ンズ3を介してウエハ4の表面を観察するために
役立つ。10は照明光学系およびやマスク・ウエ
ハ・アライメント用の検知装置を収容する上部ユ
ニツトである。11はモニタ受像機(コンソール
CRT)、12は装置における各種の動作指令やパ
ラメータを入力するためのキーボードである。
置の外観を示す。同図において、1は集積回路パ
ターンを具えたマスクで、他にマスクアライメン
トマークやマスク・ウエハ・アライメントマーク
を具えるものとする。2はマスクステージで、マ
スク1を保持してマスク1を平面内(XY方向)
及び回転方向(θ方向)に移動させる。3は縮小
投影レンズ、4は感光層を具えるウエハで、マス
ク・ウエハ・アライメントマークとテレビ・ウエ
ハ・アライメントマークを具えるものとする。5
はウエハステージである。ウエハステージ5はウ
エハ4を保持してそれを平面内および回転方向に
移動させるものであり、またウエハ焼付位置(投
影視野内)とテレビ・ウエハアライメント位置間
を移動する。6はテレビ・ウエハアライメント用
検知装置の対物レンズ、7は撮像管(または固定
撮像素子)である。9は双眼ユニツトで、投影レ
ンズ3を介してウエハ4の表面を観察するために
役立つ。10は照明光学系およびやマスク・ウエ
ハ・アライメント用の検知装置を収容する上部ユ
ニツトである。11はモニタ受像機(コンソール
CRT)、12は装置における各種の動作指令やパ
ラメータを入力するためのキーボードである。
第2図は、第1図の装置の電気回路構成を示
す。
す。
同図において、21は装置全体の制御を司る本
体CPUで、マイクロコンピユータまたはミニコ
ンピユータ等の中央演算処理装置からなる。22
はウエハステージ駆動装置、23はアライメント
検出系、24はレチクルステージ駆動装置、25
は照明系、26はシヤツタ駆動装置、27はフオ
ーカス検出系、28はZ駆動装置で、これらは、
本体CPU21により制御される。29は搬送系
である。
体CPUで、マイクロコンピユータまたはミニコ
ンピユータ等の中央演算処理装置からなる。22
はウエハステージ駆動装置、23はアライメント
検出系、24はレチクルステージ駆動装置、25
は照明系、26はシヤツタ駆動装置、27はフオ
ーカス検出系、28はZ駆動装置で、これらは、
本体CPU21により制御される。29は搬送系
である。
30はコンソールユニツトで、本体CPU21
にこの露光装置の動作に関する各種の指令やパラ
メータを与えるためのものである。31はコンソ
ールCPU、32はパラメータ等を記憶する外部
メモリである。なお、CRT11およびキーボー
ド12は第1図のものと同一である。
にこの露光装置の動作に関する各種の指令やパラ
メータを与えるためのものである。31はコンソ
ールCPU、32はパラメータ等を記憶する外部
メモリである。なお、CRT11およびキーボー
ド12は第1図のものと同一である。
本実施例の装置においては、作業単位を
半導体製品の品種単位の作業、
工程単位の作業、および
シヨツト単位の作業
に階層化し、多数の動作パラメータのうち主なも
の(設定変更の頻度の高いもの)をこれらの作業
単位に関連づけて階層化している。
の(設定変更の頻度の高いもの)をこれらの作業
単位に関連づけて階層化している。
この動作パラメータの階層化は、例えば
(上) 品種単位で定まる動作パラメータ(レイア
ウトに関するもの) ステツプサイズ、行および列数等 (中) 工程単位で定まる動作パラメータ(プロセ
スに関するもの) モード(フアーストマスクであるか否か、セ
カンドマスク以降であればアライメント方式は
TTLダイバイダイかTTLグローバルか)、レ
チクルナンバ、アライメントマーク位置、およ
びTVプリアライメント位置等 (下) シヨツトに関する動作パラメータ 露光時間、およびマスキングブレードコント
ロール(実素子焼付が、テストチツプまたは
TVプリアライメントマークの焼付か)等 のように分類することによつて実現する。
ウトに関するもの) ステツプサイズ、行および列数等 (中) 工程単位で定まる動作パラメータ(プロセ
スに関するもの) モード(フアーストマスクであるか否か、セ
カンドマスク以降であればアライメント方式は
TTLダイバイダイかTTLグローバルか)、レ
チクルナンバ、アライメントマーク位置、およ
びTVプリアライメント位置等 (下) シヨツトに関する動作パラメータ 露光時間、およびマスキングブレードコント
ロール(実素子焼付が、テストチツプまたは
TVプリアライメントマークの焼付か)等 のように分類することによつて実現する。
第7図は、この階層化の様子を示す。つまり、
各パラメータを上述のように分類し、品種に関す
るパラメータはレイアウトフアイル1,2,…
に、工程に関するパラメータはプロセスフアイル
1,2,…に、そしてシヨツトに関するパラメー
タはシヨツトフアイル1,2,…に格納する。
各パラメータを上述のように分類し、品種に関す
るパラメータはレイアウトフアイル1,2,…
に、工程に関するパラメータはプロセスフアイル
1,2,…に、そしてシヨツトに関するパラメー
タはシヨツトフアイル1,2,…に格納する。
次に、第3図のフローチヤートならびに第4お
よび5図の表示画面例を参照しながら、本実施例
の装置の動作を説明する。
よび5図の表示画面例を参照しながら、本実施例
の装置の動作を説明する。
この装置においては、先ず、各階層ごとに動作
パラメータの設定内容が様々な複数のフアイルを
作成し、次に各階層から1つずつのフアイルを選
択して繋ぎ合せることにより、1つのジヨブを作
成する。第3図のフローチヤートは、本実施例の
装置におけるジヨブ作成処理を示す。
パラメータの設定内容が様々な複数のフアイルを
作成し、次に各階層から1つずつのフアイルを選
択して繋ぎ合せることにより、1つのジヨブを作
成する。第3図のフローチヤートは、本実施例の
装置におけるジヨブ作成処理を示す。
第1図の装置においては、電源投入後の初期化
が終了したとき等にコマンド入力待機状態とな
る。つまり、コンソールCPU31はキーボード
12におけるキー操作を待機し、本体CPU21
はコンソールCPU31からの通信待ち状態とな
る。そして、この状態でキーボード12からジヨ
ブ作成のためのコマンド(例えばJOB)が入力
されると、コンソールCPU31の制御のもとに
以下のジヨブ作成処理を開始する。
が終了したとき等にコマンド入力待機状態とな
る。つまり、コンソールCPU31はキーボード
12におけるキー操作を待機し、本体CPU21
はコンソールCPU31からの通信待ち状態とな
る。そして、この状態でキーボード12からジヨ
ブ作成のためのコマンド(例えばJOB)が入力
されると、コンソールCPU31の制御のもとに
以下のジヨブ作成処理を開始する。
第3図を参照して、ステツプ50では、図示しな
いがCRT11にフアイル作成モード(F/G)
とフアイルリンクモード(F/L)とジヨブ作成
終了モード(END)のうちいずれを選択するか、
その入力を促すプロンプトメーツセージを表示す
る。そして、キーボード12からの入力データを
基に選択されたモードを判定する。
いがCRT11にフアイル作成モード(F/G)
とフアイルリンクモード(F/L)とジヨブ作成
終了モード(END)のうちいずれを選択するか、
その入力を促すプロンプトメーツセージを表示す
る。そして、キーボード12からの入力データを
基に選択されたモードを判定する。
ステツプ50において、フアイル作成モード
(F/G)が選択されたときは、ステツプ51に進
む。ステツプ51では、CRT11の画面表示を第
4図aのもの(但し、点線部43内のデータは表
示されていない)の切換え、キーボード12から
順次入力される数字または英字をCRT11の画
面の最下段(第4図aの点線部43)に表示し、
さらに、キーボード12で改行キーが押下された
後この改行キーが押下される前までに入力された
データ(またはデータ列)に基づいてCRT11
の画面に表示された項目(1.レイアウトフアイ
ル、2.プロセスフアイル、3.シヨツトフアイル)
で示されるいずれかの階層のフアイル作成モード
またはフアイル作成終了モードのいずれが選択さ
れたかを判定する。ここでは、各モードは上記項
目に付された1〜3の数字および終了を示すEの
いずれかをキー入力することにより選択される。
(F/G)が選択されたときは、ステツプ51に進
む。ステツプ51では、CRT11の画面表示を第
4図aのもの(但し、点線部43内のデータは表
示されていない)の切換え、キーボード12から
順次入力される数字または英字をCRT11の画
面の最下段(第4図aの点線部43)に表示し、
さらに、キーボード12で改行キーが押下された
後この改行キーが押下される前までに入力された
データ(またはデータ列)に基づいてCRT11
の画面に表示された項目(1.レイアウトフアイ
ル、2.プロセスフアイル、3.シヨツトフアイル)
で示されるいずれかの階層のフアイル作成モード
またはフアイル作成終了モードのいずれが選択さ
れたかを判定する。ここでは、各モードは上記項
目に付された1〜3の数字および終了を示すEの
いずれかをキー入力することにより選択される。
ステツプ51において2がキー入力されプロセス
フアイル作成モードが選択されたときは、ステツ
プ52に進む。ステツプ52では、CRT11にプロ
セスフアイル名の入力を促すプロンプトメツセー
ジを表示する。そして、キーボード12からフア
イル名が入力されると、外部メモリ32に格納さ
れているフアイルを検索して該当するプロセスフ
アイルを読出し(ステツプ53)、さらに、ステツ
プ54でそのフアイルにパスワード(P/W)が付
されているか否かを判定する。もし、パスワード
が付されていれば後述するステツプ60以下のパス
ワード入力処理を実行した後、パスワードが付さ
れていなければそのまま、ステツプ55の処理に進
む。なお、ステツプ53においてキー入力されたフ
アイル名のフアイルが外部メモリ32に格納され
ていないときは、新たなプロセスフアイルを作成
する場合であるからパスワード無しのときと同様
にそのままステツプ55に進む。
フアイル作成モードが選択されたときは、ステツ
プ52に進む。ステツプ52では、CRT11にプロ
セスフアイル名の入力を促すプロンプトメツセー
ジを表示する。そして、キーボード12からフア
イル名が入力されると、外部メモリ32に格納さ
れているフアイルを検索して該当するプロセスフ
アイルを読出し(ステツプ53)、さらに、ステツ
プ54でそのフアイルにパスワード(P/W)が付
されているか否かを判定する。もし、パスワード
が付されていれば後述するステツプ60以下のパス
ワード入力処理を実行した後、パスワードが付さ
れていなければそのまま、ステツプ55の処理に進
む。なお、ステツプ53においてキー入力されたフ
アイル名のフアイルが外部メモリ32に格納され
ていないときは、新たなプロセスフアイルを作成
する場合であるからパスワード無しのときと同様
にそのままステツプ55に進む。
ステツプ55においては、第4図bに示すよう
に、プロセスフアイル作成モードである旨と、変
更または設定すべき項目とを表示し、さらにいず
れかの項目を番号で選択すべき旨をプロンプト表
示する。この表示に応じて、いずれかの項目番号
が選択されると、第4図cに示すようにその項目
の該当データ入力を促すプロンプトメツセージを
表示し(ステツプ56)、該当データがキーボード
12から入力されると、このデータに基づいてフ
アイルの変更もしくは作成(ステツプ57)または
パスワードの変更もしくは設定(ステツプ58)の
処理を実行した後、ステツプ55に戻る。また、ス
テツプ55の表示に応じてキーボード12から
「E」を入力すると、プロセスフアイル作成モー
ドを終了してステツプ51に戻る。
に、プロセスフアイル作成モードである旨と、変
更または設定すべき項目とを表示し、さらにいず
れかの項目を番号で選択すべき旨をプロンプト表
示する。この表示に応じて、いずれかの項目番号
が選択されると、第4図cに示すようにその項目
の該当データ入力を促すプロンプトメツセージを
表示し(ステツプ56)、該当データがキーボード
12から入力されると、このデータに基づいてフ
アイルの変更もしくは作成(ステツプ57)または
パスワードの変更もしくは設定(ステツプ58)の
処理を実行した後、ステツプ55に戻る。また、ス
テツプ55の表示に応じてキーボード12から
「E」を入力すると、プロセスフアイル作成モー
ドを終了してステツプ51に戻る。
ステツプ51において1または3がキー入力され
たときは、そのキー入力に応じてレイアウトフア
イル作成モードまたはシヨツトフアイル作成モー
ドの処理を実行するが、これらの処理は、上述の
プロセスフアイル作成モードにおいて、「プロセ
ス」が「レイアウト」または「シヨツト」に、そ
して各表示および入力項目が各階層に応じたもの
に変更されることを除いては全く同様にして実行
する。
たときは、そのキー入力に応じてレイアウトフア
イル作成モードまたはシヨツトフアイル作成モー
ドの処理を実行するが、これらの処理は、上述の
プロセスフアイル作成モードにおいて、「プロセ
ス」が「レイアウト」または「シヨツト」に、そ
して各表示および入力項目が各階層に応じたもの
に変更されることを除いては全く同様にして実行
する。
ステツプ50において、フアイルリンクモード
(F/L)が選択されたときは、ステツプ71に進
む。ステツプ71では、CRT11にジヨブフアイ
ル名の入力を促すプロンプトメツセージを表示す
る。そして、キーボード12からフアイル名が入
力される(ステツプ72)と、外部メモリ32に格
納されているフアイルを検索して該当するジヨブ
フアイルを読出し、さらに、ステツプ73でそのフ
アイルにパスワード(P/W)が付されているか
否かを判定する。もし、パスワードが付されてい
れば後述するステツプ60以下のパスワード入力処
理を実行した後、パスワードが付されていなけれ
ばそのまま、ステツプ74の処理に進む。なお、ス
テツプ74においてキー入力されたフアイル名のフ
アイルが外部メモリ32に格納されていないとき
は、新たなジヨブフアイルを作成する場合である
からパスワード無しのときと同様にそのままステ
ツプ74に進む。
(F/L)が選択されたときは、ステツプ71に進
む。ステツプ71では、CRT11にジヨブフアイ
ル名の入力を促すプロンプトメツセージを表示す
る。そして、キーボード12からフアイル名が入
力される(ステツプ72)と、外部メモリ32に格
納されているフアイルを検索して該当するジヨブ
フアイルを読出し、さらに、ステツプ73でそのフ
アイルにパスワード(P/W)が付されているか
否かを判定する。もし、パスワードが付されてい
れば後述するステツプ60以下のパスワード入力処
理を実行した後、パスワードが付されていなけれ
ばそのまま、ステツプ74の処理に進む。なお、ス
テツプ74においてキー入力されたフアイル名のフ
アイルが外部メモリ32に格納されていないとき
は、新たなジヨブフアイルを作成する場合である
からパスワード無しのときと同様にそのままステ
ツプ74に進む。
ステツプ74においては、CRT11にフアイル
リンク(ジヨブフアイル作成)モードである旨
と、外部メモリ32から読出したジヨブフアイル
の内容とを表示し、さらに変更または設定すべき
項目を番号で選択すべき旨をプロンプト表示する
(第5図a)。この表示に応じて、いずれかの項目
番号が選択されると、第5図bに示すようにその
項目の該当データ入力を促すプロンプトメツセー
ジを表示し(ステツプ75)、該当データがキーボ
ード12から入力されると、このデータに基づい
てフアイルの変更もしくは作成(ステツプ76)ま
たはパスワードの変更もしくは設定(ステツプ
77)を実行した後、ステツプ74に戻る。また、ス
テツプ74の表示に応じてキーボード12から
「E」を入力すると、フアイルリンクモードを終
了してステツプ50に戻る。
リンク(ジヨブフアイル作成)モードである旨
と、外部メモリ32から読出したジヨブフアイル
の内容とを表示し、さらに変更または設定すべき
項目を番号で選択すべき旨をプロンプト表示する
(第5図a)。この表示に応じて、いずれかの項目
番号が選択されると、第5図bに示すようにその
項目の該当データ入力を促すプロンプトメツセー
ジを表示し(ステツプ75)、該当データがキーボ
ード12から入力されると、このデータに基づい
てフアイルの変更もしくは作成(ステツプ76)ま
たはパスワードの変更もしくは設定(ステツプ
77)を実行した後、ステツプ74に戻る。また、ス
テツプ74の表示に応じてキーボード12から
「E」を入力すると、フアイルリンクモードを終
了してステツプ50に戻る。
上記の各フアイル作成処理において、フアイル
にパスワードが付されているとき(ステツプ54ま
たは73)は、ステツプ60のパスワード入力処理に
移行する。このパスワード入力処理において、先
ず、ステツプ61ではCRT11にパスワードの入
力を促すプロンプトメツセージを表示する。そし
て、キーボード12からパスワードが入力される
(ステツプ62)と、先のステツプで読出したパス
ワードと比較する(ステツプ63)。もし、一致す
ればこのパスワード入力処理を終了し、もとのル
ーチン(ステツプ55または74)に戻る。一方、不
一致の場合はエラー表示した(ステツプ64)の
後、ステツプ65に進む。ステツプ65ではパスワー
ドの不一致回数をカウントしており、この不一致
回数が3回未満であればステツプ61に戻つてパス
ワードの再入力を待機する。一方、ステツプ65で
パスワード不一致が3回目になつていれば、ステ
ツプ66に進んでエラー表示した後、現在のフアイ
ル作成モードを解除してステツプ50に戻る。
にパスワードが付されているとき(ステツプ54ま
たは73)は、ステツプ60のパスワード入力処理に
移行する。このパスワード入力処理において、先
ず、ステツプ61ではCRT11にパスワードの入
力を促すプロンプトメツセージを表示する。そし
て、キーボード12からパスワードが入力される
(ステツプ62)と、先のステツプで読出したパス
ワードと比較する(ステツプ63)。もし、一致す
ればこのパスワード入力処理を終了し、もとのル
ーチン(ステツプ55または74)に戻る。一方、不
一致の場合はエラー表示した(ステツプ64)の
後、ステツプ65に進む。ステツプ65ではパスワー
ドの不一致回数をカウントしており、この不一致
回数が3回未満であればステツプ61に戻つてパス
ワードの再入力を待機する。一方、ステツプ65で
パスワード不一致が3回目になつていれば、ステ
ツプ66に進んでエラー表示した後、現在のフアイ
ル作成モードを解除してステツプ50に戻る。
このようにパスワードを登録したフアイルを呼
出す際は、必ずパスワードの入力を要求し、この
入力したパスワードと登録されているパスワード
とが一致しない限りそのフアイルへのアクセスを
禁止することによつて、フアイル内容が知らない
うちに書換えられ、そのフアイルを用いた場合に
装置が不本意に動作し製品不良が発生するという
ような事故を防止することができる。
出す際は、必ずパスワードの入力を要求し、この
入力したパスワードと登録されているパスワード
とが一致しない限りそのフアイルへのアクセスを
禁止することによつて、フアイル内容が知らない
うちに書換えられ、そのフアイルを用いた場合に
装置が不本意に動作し製品不良が発生するという
ような事故を防止することができる。
第6図は、上述のようにして作成したフアイル
を用いて装置の主動作であるステツプアンドリピ
ート露光動作を実行する際の処理を示す。
を用いて装置の主動作であるステツプアンドリピ
ート露光動作を実行する際の処理を示す。
上記コマンド入力待ち状態において、キーボー
ド12よりスタート(主動作開始)コマンドおよ
び該主動作において用いるジヨブフアイル名が入
力される(ステツプ81)と、コンソールCPU2
1は、外部メモリ32に格納されているフアイル
を検索して該当するジヨブフアイルを読出し、さ
らに、そのフアイルにパスワード(P/W)が付
されているか否か判定する(ステツプ82)。もし、
パスワードが付されていれば現在使用しようとし
ているジヨブフアイルのパスワードと一致するパ
スワードがキーボード12から入力されるまで待
つた(ステツプ83および84)後、一方、パスワー
ドが付されていなければそのまま、ステツプ85に
進む。ステツプ85では、上記ジヨブフアイルの内
容のうち所定の動作パラメータを選択してCRT
12に表示する。ここで表示する動作パラメータ
は、焦点位置(FOCUS)および露光時間(EX.
TIME)等オペレータによる変更の可能性が高い
ものを表示する。この後、必要に応じて動作パラ
メータ変更(モード選択キー入力C)等を実行
し、ステツプ85の状態で主動作開始確認(同Y)
すれば、主動作が開始する。また、ステツプ85の
状態で主動作中止(同N)を選択すれば、装置は
コマンド待ち状態に戻る。このように、スタート
時、使用しようとするジヨブフアイルにパスワー
ドが付されているときはそのパスワードをキーボ
ード12か入力しない限り動作を開始できないよ
うにしているため、オペレータが指定外のジヨブ
フアイルを誤使用すること、およびそれによる不
良発生を未然に防止することができる。
ド12よりスタート(主動作開始)コマンドおよ
び該主動作において用いるジヨブフアイル名が入
力される(ステツプ81)と、コンソールCPU2
1は、外部メモリ32に格納されているフアイル
を検索して該当するジヨブフアイルを読出し、さ
らに、そのフアイルにパスワード(P/W)が付
されているか否か判定する(ステツプ82)。もし、
パスワードが付されていれば現在使用しようとし
ているジヨブフアイルのパスワードと一致するパ
スワードがキーボード12から入力されるまで待
つた(ステツプ83および84)後、一方、パスワー
ドが付されていなければそのまま、ステツプ85に
進む。ステツプ85では、上記ジヨブフアイルの内
容のうち所定の動作パラメータを選択してCRT
12に表示する。ここで表示する動作パラメータ
は、焦点位置(FOCUS)および露光時間(EX.
TIME)等オペレータによる変更の可能性が高い
ものを表示する。この後、必要に応じて動作パラ
メータ変更(モード選択キー入力C)等を実行
し、ステツプ85の状態で主動作開始確認(同Y)
すれば、主動作が開始する。また、ステツプ85の
状態で主動作中止(同N)を選択すれば、装置は
コマンド待ち状態に戻る。このように、スタート
時、使用しようとするジヨブフアイルにパスワー
ドが付されているときはそのパスワードをキーボ
ード12か入力しない限り動作を開始できないよ
うにしているため、オペレータが指定外のジヨブ
フアイルを誤使用すること、およびそれによる不
良発生を未然に防止することができる。
[発明の効果]
以上のように、本発明によると、動作パラメー
タを半導体製品の品種に関するもの、工程に関す
るものおよびシヨツトに関するものというように
作業単位ごとに特に設定の機会の多い作業単位に
対応させて分類し、所望に応じて表示できるよう
にしているため、動作パラメータの確認や変更
(特に主動作開始時の確認や変更)等が極めて簡
略となる。
タを半導体製品の品種に関するもの、工程に関す
るものおよびシヨツトに関するものというように
作業単位ごとに特に設定の機会の多い作業単位に
対応させて分類し、所望に応じて表示できるよう
にしているため、動作パラメータの確認や変更
(特に主動作開始時の確認や変更)等が極めて簡
略となる。
第1図は、本発明の一実施例に係る投影露光装
置の外観斜視図、第2図は、第1図の装置の電気
回路構成図、第3および6図は第1図の装置の動
作を説明するためのフローチヤート、第4および
5図は、第1図の装置におけるCRTの表示画面
例を示す図、そして第7図は、第1図の装置にお
ける動作パラメータ階層化の様子を示す図であ
る。 11:モニタ用CRT、12:キーボード、2
1:本体CPU、31:コンソールCPU、32:
外部メモリ。
置の外観斜視図、第2図は、第1図の装置の電気
回路構成図、第3および6図は第1図の装置の動
作を説明するためのフローチヤート、第4および
5図は、第1図の装置におけるCRTの表示画面
例を示す図、そして第7図は、第1図の装置にお
ける動作パラメータ階層化の様子を示す図であ
る。 11:モニタ用CRT、12:キーボード、2
1:本体CPU、31:コンソールCPU、32:
外部メモリ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 多数の動作パラメータに従つて動作する半導
体製造装置において、該装置における作業単位を
その大きさについて上位の概念から下位の概念へ
少なくとも2以上の階層に分類し上記動作パラメ
ータをこれらの各階層に対応してグループ化して
予め記憶させた記憶手段と、作業単位指定手段
と、指定された作業単位に対応する動作パラメー
タ群を上記記憶手段から読出して表示する手段と
を設けたことを特徴とする半導体製造装置。 2 前記動作パラメータが、半導体製品の品種に
関するもの、工程に関するもの、およびシヨツト
に関するもののいずれかにグループ化されている
特許請求の範囲第1項記載の半導体製造装置。 3 前記記憶手段に、前記動作パラメータのうち
日常の操作において変更する頻度の比較的高い特
定のパラメータのみを選択的に記憶させた特許請
求の範囲第1項記載の半導体製造装置。 4 前記動作がステツプアンドリピート方式の露
光動作であり、前記特定パラメータが露光時間お
よび焦点位置である特許請求の範囲第3項記載の
半導体製造装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60164800A JPS6225419A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | 半導体製造装置 |
| US07/752,986 US5197118A (en) | 1985-07-25 | 1991-09-03 | Control system for a fine pattern printing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60164800A JPS6225419A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | 半導体製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6225419A JPS6225419A (ja) | 1987-02-03 |
| JPH0535567B2 true JPH0535567B2 (ja) | 1993-05-26 |
Family
ID=15800168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60164800A Granted JPS6225419A (ja) | 1985-07-25 | 1985-07-25 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6225419A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2607620B2 (ja) * | 1988-04-26 | 1997-05-07 | マツダ株式会社 | シーケンスプログラム制御系モニタのグループ分け方法 |
| JP2852696B2 (ja) * | 1990-07-12 | 1999-02-03 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
| JP3847457B2 (ja) * | 1998-06-17 | 2006-11-22 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5549713A (en) * | 1978-10-02 | 1980-04-10 | Nec Corp | Automatic work processing system |
| JPS57212406A (en) * | 1981-06-24 | 1982-12-27 | Hitachi Ltd | Method and device for focusing |
| JPS58156938A (ja) * | 1982-03-12 | 1983-09-19 | Hitachi Ltd | 露光装置 |
| JPS58159110A (ja) * | 1982-03-18 | 1983-09-21 | Mitsubishi Electric Corp | 対話形図形デ−タベ−ス作成及び修正方式 |
| JPS58179834A (ja) * | 1982-04-14 | 1983-10-21 | Canon Inc | 投影露光装置及び方法 |
| JPS60218116A (ja) * | 1984-04-13 | 1985-10-31 | Mitsubishi Electric Corp | 電子ビ−ム加工機 |
-
1985
- 1985-07-25 JP JP60164800A patent/JPS6225419A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6225419A (ja) | 1987-02-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |