JPH0535882A - 閉領域塗り潰し表示方法 - Google Patents
閉領域塗り潰し表示方法Info
- Publication number
- JPH0535882A JPH0535882A JP3186176A JP18617691A JPH0535882A JP H0535882 A JPH0535882 A JP H0535882A JP 3186176 A JP3186176 A JP 3186176A JP 18617691 A JP18617691 A JP 18617691A JP H0535882 A JPH0535882 A JP H0535882A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 複数のベクトルにて囲まれる閉領域を塗り潰
して表示するに当たり無駄な処理を省き、高速化を図
る。 【構成】 ステップＳ１において各ベクトル間で重複し
た点を除去する処理を行ない、ステップＳ３，Ｓ４にお
いて各ベクトル間で隣接した点を判別し、隣接していな
い点のみを塗り潰すことにより、無駄な処理をしないよ
うにし、処理を高速化する。
して表示するに当たり無駄な処理を省き、高速化を図
る。 【構成】 ステップＳ１において各ベクトル間で重複し
た点を除去する処理を行ない、ステップＳ３，Ｓ４にお
いて各ベクトル間で隣接した点を判別し、隣接していな
い点のみを塗り潰すことにより、無駄な処理をしないよ
うにし、処理を高速化する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、閉領域を示すベクト
ルの座標データを順次発生させながら領域内の塗り潰し
処理を実行して、グラフィクディスプレイ等に表示する
ための閉領域塗り潰し表示方法に関する。
ルの座標データを順次発生させながら領域内の塗り潰し
処理を実行して、グラフィクディスプレイ等に表示する
ための閉領域塗り潰し表示方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、図４に示すような閉領域Ｒを塗り
潰して表示するには、例えばベクトルＡＢ（→），ＢＣ
（→），ＣＡ（→）を順次発生しながら、塗り潰し専用
メモリ１に格納されたベクトルＡＢ（→），ＢＣ（→）
上の各点とベクトルＣＡ（→）上の各点を水平１ライン
毎に結んで行くこと（このような処理を塗り潰し処理と
もいう）により、実現している。なお、同図の符号２は
画像メモリを示し、○印はベクトル上の画素を示す。ま
た、符号１１はサインビットを示し、そのビット「１」
は座標データが塗り潰し専用メモリ１に格納されたこと
を示す。Ｙ０〜Ｙ８はＹ座標、Ｘ０〜Ｘ２はＸ座標をそ
れぞれ示す。
潰して表示するには、例えばベクトルＡＢ（→），ＢＣ
（→），ＣＡ（→）を順次発生しながら、塗り潰し専用
メモリ１に格納されたベクトルＡＢ（→），ＢＣ（→）
上の各点とベクトルＣＡ（→）上の各点を水平１ライン
毎に結んで行くこと（このような処理を塗り潰し処理と
もいう）により、実現している。なお、同図の符号２は
画像メモリを示し、○印はベクトル上の画素を示す。ま
た、符号１１はサインビットを示し、そのビット「１」
は座標データが塗り潰し専用メモリ１に格納されたこと
を示す。Ｙ０〜Ｙ８はＹ座標、Ｘ０〜Ｘ２はＸ座標をそ
れぞれ示す。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな方法では図４のＹ座標のＹ１やＹ４〜Ｙ６に示すよ
うな塗り潰し処理が発生し、処理効率が低下し高速な処
理ができないという問題がある。つまり、Ｙ１，Ｙ４，
Ｙ５はベクトル（境界線）上の点であり、Ｙ６はベクト
ルＢＣ（→）とＣＡ（→）とのダブリ点であり、塗り潰
し処理をするのは無駄というわけである。したがって、
この発明の課題はこのような無駄な処理を省き高速処理
が可能な閉領域塗り潰し処理方法を提供することにあ
る。
うな方法では図４のＹ座標のＹ１やＹ４〜Ｙ６に示すよ
うな塗り潰し処理が発生し、処理効率が低下し高速な処
理ができないという問題がある。つまり、Ｙ１，Ｙ４，
Ｙ５はベクトル（境界線）上の点であり、Ｙ６はベクト
ルＢＣ（→）とＣＡ（→）とのダブリ点であり、塗り潰
し処理をするのは無駄というわけである。したがって、
この発明の課題はこのような無駄な処理を省き高速処理
が可能な閉領域塗り潰し処理方法を提供することにあ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、この発明では、閉領域を示すベクトルの座標データ
を順次発生させながら領域内の塗り潰し処理を実行して
表示するに当たり、既に発生したベクトルの座標データ
と現在発生しているベクトルの座標データとの排他的論
理和演算をして重複する点を除去した後、現在発生して
いるベクトルの座標点と既に発生したベクトルの座標点
とが互いに隣接しているかどうかを判断し、隣接してい
ないときのみ塗り潰し処理を行なうことを特徴としてい
る。
め、この発明では、閉領域を示すベクトルの座標データ
を順次発生させながら領域内の塗り潰し処理を実行して
表示するに当たり、既に発生したベクトルの座標データ
と現在発生しているベクトルの座標データとの排他的論
理和演算をして重複する点を除去した後、現在発生して
いるベクトルの座標点と既に発生したベクトルの座標点
とが互いに隣接しているかどうかを判断し、隣接してい
ないときのみ塗り潰し処理を行なうことを特徴としてい
る。
【０００５】
【作用】各ベクトル間で重複する点を除去する処理を行
なうとともに、各ベクトル間で隣接する点を検出し隣接
点でないときのみ塗り潰し処理を実行することにより、
無駄な処理を省き高速処理を可能とする。
なうとともに、各ベクトル間で隣接する点を検出し隣接
点でないときのみ塗り潰し処理を実行することにより、
無駄な処理を省き高速処理を可能とする。
【０００６】
【実施例】図１はこの発明の実施例を示すフローチャー
トである。まず、ステップＳ１では、例えば処理装置か
らベクトルを発生するに当たり、ＥＯＲ（排他的論理
和）演算モードでベクトルを発生させる。すなわち、既
に発生したベクトルとこれから発生するベクトル間でＥ
ＯＲ演算をすることにより、重複点を除去するものであ
る。次に、ステップＳ２ではサインビットを見てサイン
ビットが立っていれば、ステップＳ３へ進み、立ってい
ないときはステップＳ１に戻る。ステップＳ３では既に
発生したベクトルとこれから発生するベクトル間でＸ座
標の比較、すなわち塗り潰し専用メモリ（ラインメモ
リ）のＸ座標Ｘ０と描画点Ｘ座標Ｘｃ±１との比較を行
ない、隣接点かどうかをステップＳ４で判断する。その
結果、隣接点のときはステップＳ２に戻り、隣接点でな
いときだけステップＳ５へ進み、塗り潰し処理を実行す
る。最後に、ステップＳ６で境界線描画が終了したかど
うかを判断し、イエス（Ｙ）ならば終了する。つまり、
ステップＳ１において各ベクトル間で重複した点を除去
する処理が行なわれ、点線で囲んで示すステップＳ３，
Ｓ４において各ベクトル間で隣接した点を判別する処理
が行なわれ、これらにより無駄な塗り潰し処理をしない
ようにしている。
トである。まず、ステップＳ１では、例えば処理装置か
らベクトルを発生するに当たり、ＥＯＲ（排他的論理
和）演算モードでベクトルを発生させる。すなわち、既
に発生したベクトルとこれから発生するベクトル間でＥ
ＯＲ演算をすることにより、重複点を除去するものであ
る。次に、ステップＳ２ではサインビットを見てサイン
ビットが立っていれば、ステップＳ３へ進み、立ってい
ないときはステップＳ１に戻る。ステップＳ３では既に
発生したベクトルとこれから発生するベクトル間でＸ座
標の比較、すなわち塗り潰し専用メモリ（ラインメモ
リ）のＸ座標Ｘ０と描画点Ｘ座標Ｘｃ±１との比較を行
ない、隣接点かどうかをステップＳ４で判断する。その
結果、隣接点のときはステップＳ２に戻り、隣接点でな
いときだけステップＳ５へ進み、塗り潰し処理を実行す
る。最後に、ステップＳ６で境界線描画が終了したかど
うかを判断し、イエス（Ｙ）ならば終了する。つまり、
ステップＳ１において各ベクトル間で重複した点を除去
する処理が行なわれ、点線で囲んで示すステップＳ３，
Ｓ４において各ベクトル間で隣接した点を判別する処理
が行なわれ、これらにより無駄な塗り潰し処理をしない
ようにしている。
【０００７】ここで、図２の具体例を参照して説明す
る。これは、黒丸印「●」を頂点とする三角形の、この
発明による塗り潰し処理を説明するもので、はベクト
ルＡＢ（→），はベクトルＢＣ（→），はベクトル
ＣＡ（→）の各画素を示し、はベクトルＢＣ（→）と
ＣＡ（→）とで重複する画素を示し、「○」は塗り潰し
領域を示している。すなわち、図１のＥＯＲ演算モード
でベクトルを発生させること（ステップＳ１の処理を実
行すること）により、図２にで示す画素がまず除去さ
れることになる。次に、図１のＳ３，Ｓ４のような処理
を実行することにより、隣接点かどうかを判断し隣接点
ならば塗り潰し処理をしないようにする。その結果、図
２のＹ１，Ｙ２、Ｙ１２〜Ｙ１８の各画素も塗り潰し処
理の対象とはならないことになり、結局は「○」印が付
された画素のみが塗り潰し処理される。図３に塗り潰し
処理される画素のみを取り出して示す。
る。これは、黒丸印「●」を頂点とする三角形の、この
発明による塗り潰し処理を説明するもので、はベクト
ルＡＢ（→），はベクトルＢＣ（→），はベクトル
ＣＡ（→）の各画素を示し、はベクトルＢＣ（→）と
ＣＡ（→）とで重複する画素を示し、「○」は塗り潰し
領域を示している。すなわち、図１のＥＯＲ演算モード
でベクトルを発生させること（ステップＳ１の処理を実
行すること）により、図２にで示す画素がまず除去さ
れることになる。次に、図１のＳ３，Ｓ４のような処理
を実行することにより、隣接点かどうかを判断し隣接点
ならば塗り潰し処理をしないようにする。その結果、図
２のＹ１，Ｙ２、Ｙ１２〜Ｙ１８の各画素も塗り潰し処
理の対象とはならないことになり、結局は「○」印が付
された画素のみが塗り潰し処理される。図３に塗り潰し
処理される画素のみを取り出して示す。
【０００８】
【発明の効果】この発明によれば、重複した塗り潰し処
理をしないようにしたので、高速な処理が可能となる利
点が得られる。
理をしないようにしたので、高速な処理が可能となる利
点が得られる。
【図１】この発明の実施例を示すフローチャートであ
る。
る。
【図２】この発明の動作を具体的に説明するための説明
図である。
図である。
【図３】この発明による塗り潰し処理を説明するための
説明図である。
説明図である。
【図４】従来の方法を説明するための説明図である。
１ 塗り潰し専用メモリ ２ 画像メモリ Ｒ 閉領域 １１ サインビット
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 閉領域を示すベクトルの座標データを順
次発生させながら領域内の塗り潰し処理を実行して表示
するに当たり、 既に発生したベクトルの座標データと現在発生している
ベクトルの座標データとの排他的論理和演算をして重複
する点を除去した後、現在発生しているベクトルの座標
点と既に発生したベクトルの座標点とが互いに隣接して
いるかどうかを判断し、隣接していないときのみ塗り潰
し処理を行なうことを特徴とする閉領域塗り潰し表示方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3186176A JPH0535882A (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | 閉領域塗り潰し表示方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3186176A JPH0535882A (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | 閉領域塗り潰し表示方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0535882A true JPH0535882A (ja) | 1993-02-12 |
Family
ID=16183723
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3186176A Pending JPH0535882A (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | 閉領域塗り潰し表示方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0535882A (ja) |
-
1991
- 1991-07-25 JP JP3186176A patent/JPH0535882A/ja active Pending
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