JPH0536017A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPH0536017A JPH0536017A JP3193846A JP19384691A JPH0536017A JP H0536017 A JPH0536017 A JP H0536017A JP 3193846 A JP3193846 A JP 3193846A JP 19384691 A JP19384691 A JP 19384691A JP H0536017 A JPH0536017 A JP H0536017A
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- JP
- Japan
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- glass
- sealing
- gap
- magnetic
- cobalt
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- Pending
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- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ヘッド前面研磨工程中に１対の基板を封着し
た封着ガラスにクラックの生じない磁気ヘッドの提供を
目的とする。 【構成】 １対の基板１の突き合せ面にコバルト系アモ
ルファス合金またはコバルト系超構造窒化合金からなる
相対する磁性体２を設け、その相対する磁性体２のギャ
ップ部に石英ガラスまたはホウケイ酸ガラスと作業温度
が６００℃以下の封着用ガラスの積層膜からなるギャッ
プガラス３を設け、１対の基板１を作業温度が６００℃
以下の封着ガラス４で封着した構成とする。 【効果】 ギャップガラス中の封着ガラスが溶融して封
着強度が向上し、ヘッド前面研磨工程における封着ガラ
スのクラックに基因する磁気ヘッドの割れが抑制でき
る。
た封着ガラスにクラックの生じない磁気ヘッドの提供を
目的とする。 【構成】 １対の基板１の突き合せ面にコバルト系アモ
ルファス合金またはコバルト系超構造窒化合金からなる
相対する磁性体２を設け、その相対する磁性体２のギャ
ップ部に石英ガラスまたはホウケイ酸ガラスと作業温度
が６００℃以下の封着用ガラスの積層膜からなるギャッ
プガラス３を設け、１対の基板１を作業温度が６００℃
以下の封着ガラス４で封着した構成とする。 【効果】 ギャップガラス中の封着ガラスが溶融して封
着強度が向上し、ヘッド前面研磨工程における封着ガラ
スのクラックに基因する磁気ヘッドの割れが抑制でき
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録，再生を行なう
装置に用いられる磁気ヘッドに関する。
装置に用いられる磁気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気ディスク装置の小型，高容量
化にともない、高保磁力媒体にも充分対応し、高記録密
度を可能とする磁気ヘッドの開発が強く求められてい
る。これに応えるため、磁性体にコバルト系アモルファ
ス合金磁性体またはコバルト系超構造窒化合金磁性体
（コバルト−ニオブ−ジルコン−タンタル合金膜または
この窒化膜、以下磁性体と略称する）を使用した磁気ヘ
ッドが開発されてきている。図１はフェライトを基板と
したＭＩＧ（メタルインギャップ）磁気ヘッドの代表的
な構造を示している。フェライトからなる基板１のギャ
ップ部に磁性体２がスパッタリングによって形成されて
おり、その空隙はギャップガラス３で満たされ、非晶質
の封着ガラス４によって結合し、最後にコイル（図示せ
ず）を巻いて構成されている。
化にともない、高保磁力媒体にも充分対応し、高記録密
度を可能とする磁気ヘッドの開発が強く求められてい
る。これに応えるため、磁性体にコバルト系アモルファ
ス合金磁性体またはコバルト系超構造窒化合金磁性体
（コバルト−ニオブ−ジルコン−タンタル合金膜または
この窒化膜、以下磁性体と略称する）を使用した磁気ヘ
ッドが開発されてきている。図１はフェライトを基板と
したＭＩＧ（メタルインギャップ）磁気ヘッドの代表的
な構造を示している。フェライトからなる基板１のギャ
ップ部に磁性体２がスパッタリングによって形成されて
おり、その空隙はギャップガラス３で満たされ、非晶質
の封着ガラス４によって結合し、最後にコイル（図示せ
ず）を巻いて構成されている。
【０００３】上記構成においてギャップガラス３は封着
ガラス４の作業温度においても所定のギャップ幅を維持
するように石英ガラスやホウケイ酸ガラス（例えば岩城
硝子（株）製のパイレックス）のような高融点ガラス
が、スパッタリングや蒸着によって薄膜化されていた。
スパッタリングする場合のターゲットとしては石英ガラ
スやホウケイ酸ガラスが使用される。また石英ガラスの
場合、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）が使用されることもあ
る。なぜなら二酸化ケイ素は薄膜化されると非晶質化し
て石英ガラスと同等になるからである。それゆえギャッ
プガラスとして、二酸化ケイ素を使用すると言ったとき
それは石英ガラスと同じ意味である。
ガラス４の作業温度においても所定のギャップ幅を維持
するように石英ガラスやホウケイ酸ガラス（例えば岩城
硝子（株）製のパイレックス）のような高融点ガラス
が、スパッタリングや蒸着によって薄膜化されていた。
スパッタリングする場合のターゲットとしては石英ガラ
スやホウケイ酸ガラスが使用される。また石英ガラスの
場合、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）が使用されることもあ
る。なぜなら二酸化ケイ素は薄膜化されると非晶質化し
て石英ガラスと同等になるからである。それゆえギャッ
プガラスとして、二酸化ケイ素を使用すると言ったとき
それは石英ガラスと同じ意味である。
【０００４】また図２は非磁性セラミックスを基板とし
た積層形磁気ヘッドの代表的な構造を示している。非磁
性セラミックスの基板５の側面に磁性体とＳｉＯ2を交
互に積層したトラック部６があり、基板５は基板７と結
晶化ガラス８によって接着されている。ギャップの空隙
は図１と同様にギャップガラス３で満たされ、非晶質の
封着ガラス４によって結合し、最後にコイル（図示せ
ず）を巻いて構成されている。
た積層形磁気ヘッドの代表的な構造を示している。非磁
性セラミックスの基板５の側面に磁性体とＳｉＯ2を交
互に積層したトラック部６があり、基板５は基板７と結
晶化ガラス８によって接着されている。ギャップの空隙
は図１と同様にギャップガラス３で満たされ、非晶質の
封着ガラス４によって結合し、最後にコイル（図示せ
ず）を巻いて構成されている。
【０００５】ここで非晶質の封着ガラス４の作業温度は
磁性体の磁気特性を損なわないように６００℃以下でな
ければならない。
磁性体の磁気特性を損なわないように６００℃以下でな
ければならない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記の従来の構
成においては、ギャップガラス３が高融点であるため、
それ自身では基板同士を結合させる役目は有していな
い。そのためこのようなギャップガラスを使用した磁気
ヘッドはヘッド前面研磨工程中に封着ガラスにクラック
が生じて割れ易いという問題点を有していた。
成においては、ギャップガラス３が高融点であるため、
それ自身では基板同士を結合させる役目は有していな
い。そのためこのようなギャップガラスを使用した磁気
ヘッドはヘッド前面研磨工程中に封着ガラスにクラック
が生じて割れ易いという問題点を有していた。
【０００７】本発明は上記の問題を解決し、ヘッド前面
研磨工程中に封着ガラスにクラックの生じない磁気ヘッ
ドの提供を目的とする。
研磨工程中に封着ガラスにクラックの生じない磁気ヘッ
ドの提供を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明の磁気ヘッドは、１対の基板の突き合せ面にコ
バルト系アモルファス合金またはコバルト系超構造窒化
合金からなる相対する磁性体を設け、その相対する磁性
体のギャップ部に石英ガラスまたはホウケイ酸ガラスと
作業温度が６００℃以下の封着用ガラスの積層膜からな
るギャップガラスを設け、上記１対の基板を作業温度が
６００℃以下の他の封着ガラスで封着した構成とする。
め本発明の磁気ヘッドは、１対の基板の突き合せ面にコ
バルト系アモルファス合金またはコバルト系超構造窒化
合金からなる相対する磁性体を設け、その相対する磁性
体のギャップ部に石英ガラスまたはホウケイ酸ガラスと
作業温度が６００℃以下の封着用ガラスの積層膜からな
るギャップガラスを設け、上記１対の基板を作業温度が
６００℃以下の他の封着ガラスで封着した構成とする。
【０００９】
【作用】本発明は上記構成とすることにより、ギャップ
中の封着ガラスが溶融して封着強度を向上することにな
る。
中の封着ガラスが溶融して封着強度を向上することにな
る。
【００１０】
【実施例】以下本発明の実施例について説明する。
【００１１】（実施例１）重量％でＳｉＯ2＝５％，Ｂ2
Ｏ3＝９．７％，ＰｂＯ＝８２％，Ａｌ2Ｏ3＝３％，Ａ
ｓ2Ｏ3＝０．３％のガラス（作業温度４８０℃）を封着
ガラスとして使用して、図１と同じ構成のＭＩＧ磁気ヘ
ッドを製造した。ギャップガラスは上記封着ガラスとホ
ウケイ酸ガラスの積層膜とした。それぞれの膜厚は、片
方の基板において０．０３μｍ，０．１２μｍとした。
ここで磁性体はコバルト−ニオブ−ジルコン−タンタル
よりなるアモルファス合金膜（たとえば小俣雄二ほか、
Ｎational Ｔechnical Ｒeport,31,136（1985）に記載
のもの）である。比較例としてギャップガラスをホウケ
イ酸ガラスのみ（膜厚０．１５μｍ）としたＭＩＧヘッ
ドも製造した。これら２種類のＭＩＧヘッドの各１０チ
ップについて材料試験機による破壊試験をしたところ、
ギャップガラスを封着ガラスとホウケイ酸ガラスの積層
膜とした本実施例のものは１１０ｇで割れたが、ホウケ
イ酸ガラスのみとした比較例のものは５０ｇで破壊し
た。
Ｏ3＝９．７％，ＰｂＯ＝８２％，Ａｌ2Ｏ3＝３％，Ａ
ｓ2Ｏ3＝０．３％のガラス（作業温度４８０℃）を封着
ガラスとして使用して、図１と同じ構成のＭＩＧ磁気ヘ
ッドを製造した。ギャップガラスは上記封着ガラスとホ
ウケイ酸ガラスの積層膜とした。それぞれの膜厚は、片
方の基板において０．０３μｍ，０．１２μｍとした。
ここで磁性体はコバルト−ニオブ−ジルコン−タンタル
よりなるアモルファス合金膜（たとえば小俣雄二ほか、
Ｎational Ｔechnical Ｒeport,31,136（1985）に記載
のもの）である。比較例としてギャップガラスをホウケ
イ酸ガラスのみ（膜厚０．１５μｍ）としたＭＩＧヘッ
ドも製造した。これら２種類のＭＩＧヘッドの各１０チ
ップについて材料試験機による破壊試験をしたところ、
ギャップガラスを封着ガラスとホウケイ酸ガラスの積層
膜とした本実施例のものは１１０ｇで割れたが、ホウケ
イ酸ガラスのみとした比較例のものは５０ｇで破壊し
た。
【００１２】さらにＭＩＧヘッドの前面を円錐状に仕上
げるため２０００番の研磨テープ（富士フィルム（株）
製）で研磨したとき、比較例では５０個中１６個に封着
ガラスにクラックが生じたが、本実施例では２個しかク
ラックを生じなかった。
げるため２０００番の研磨テープ（富士フィルム（株）
製）で研磨したとき、比較例では５０個中１６個に封着
ガラスにクラックが生じたが、本実施例では２個しかク
ラックを生じなかった。
【００１３】なお、上記実施例ではホウケイ酸ガラスを
用いたが、石英ガラスの場合でも同等の効果が得られ
た。
用いたが、石英ガラスの場合でも同等の効果が得られ
た。
【００１４】（実施例２）重量％でＳｉＯ2＝２２％，
Ｂ2Ｏ3＝４．９％，ＰｂＯ＝６６．５％，ＺｎＯ＝２
％，Ａｌ2Ｏ3＝１．５％，Ｋ2Ｏ＝３％の封着ガラス
（作業温度６００℃）を使用して図２の積層形磁気ヘッ
ドを製造した。ギャップガラスは上記封着ガラスと石英
ガラスの積層膜とした。それぞれの膜厚は、片方の基板
において０．０３μｍ，０．１２μｍとした。ここで磁
性体はコバルト−ニオブ−ジルコンよりなる超構造窒化
合金膜（たとえば、榊間博ほか、電子情報通信学会技術
研究報告ＭＲ−８６−４（１９８６），８７−１４（１
９８７）に記載のもの）である。
Ｂ2Ｏ3＝４．９％，ＰｂＯ＝６６．５％，ＺｎＯ＝２
％，Ａｌ2Ｏ3＝１．５％，Ｋ2Ｏ＝３％の封着ガラス
（作業温度６００℃）を使用して図２の積層形磁気ヘッ
ドを製造した。ギャップガラスは上記封着ガラスと石英
ガラスの積層膜とした。それぞれの膜厚は、片方の基板
において０．０３μｍ，０．１２μｍとした。ここで磁
性体はコバルト−ニオブ−ジルコンよりなる超構造窒化
合金膜（たとえば、榊間博ほか、電子情報通信学会技術
研究報告ＭＲ−８６−４（１９８６），８７−１４（１
９８７）に記載のもの）である。
【００１５】比較例としてギャップガラスを石英ガラス
（膜厚０．１５μｍ）のみとした積層形ヘッドも製造し
た。これら２種類の積層形ヘッドの各１０チップについ
て材料試験機による破壊試験をしたところ、本実施例の
ものは１９０ｇで割れたが、比較例のものは９０ｇで破
壊した。
（膜厚０．１５μｍ）のみとした積層形ヘッドも製造し
た。これら２種類の積層形ヘッドの各１０チップについ
て材料試験機による破壊試験をしたところ、本実施例の
ものは１９０ｇで割れたが、比較例のものは９０ｇで破
壊した。
【００１６】さらにヘッドの前面を円錐状に仕上げるた
め２０００番の研磨テープ（富士フィルム（株）製）で
研磨したとき、比較例では５０個中１４個に封着ガラス
にクラックが生じたが、本実施例ではクラックを生じな
かった。
め２０００番の研磨テープ（富士フィルム（株）製）で
研磨したとき、比較例では５０個中１４個に封着ガラス
にクラックが生じたが、本実施例ではクラックを生じな
かった。
【００１７】なお、上記実施例では石英ガラスを用いた
が、ホウケイ酸ガラスの場合でも同等の効果が得られ
た。
が、ホウケイ酸ガラスの場合でも同等の効果が得られ
た。
【００１８】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、ギャップ
ガラスとして石英ガラスまたはホウケイ酸ガラスと作業
温度が６００℃以下の封着用ガラスの積層膜からなるも
のを用いて同じ封着ガラスで封着するのでギャップ中の
封着ガラスが溶融して封着強度を向上することになり、
ヘッド前面研磨工程中に封着ガラスにクラックの生じな
い磁気ヘッドが得られる。
ガラスとして石英ガラスまたはホウケイ酸ガラスと作業
温度が６００℃以下の封着用ガラスの積層膜からなるも
のを用いて同じ封着ガラスで封着するのでギャップ中の
封着ガラスが溶融して封着強度を向上することになり、
ヘッド前面研磨工程中に封着ガラスにクラックの生じな
い磁気ヘッドが得られる。
【図１】ＭＩＧ磁気ヘッドの斜視図
【図２】積層形磁気ヘッドの斜視図
１，５，７ 基板
２ 磁性体
３ ギャップガラス
４ 封着ガラス
６ トラック部
フロントページの続き
(72)発明者 吉田 昭彦
大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器
産業株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】１対の基板の突き合せ面にコバルト系アモ
ルファス合金またはコバルト系超構造窒化合金からなる
相対する磁性体を設け、その相対する磁性体のギャップ
部に石英ガラスまたはホウケイ酸ガラスと作業温度が６
００℃以下の封着用ガラスの積層膜からなるギャップガ
ラスを設け、上記１対の基板を作業温度が６００℃以下
の他の封着ガラスで封着した磁気ヘッド。 - 【請求項２】１対の基板の間に酸化ケイ素とコバルト系
アモルファス合金またはコバルト系超構造窒化合金から
なる磁性体が交互に積層されたトラック部からなる一方
の磁気コアと前記磁気コアと同じ構成の他方の磁気コア
の突き合せ面のギャップ部に石英ガラスまたはホウケイ
酸ガラスと作業温度が６００℃以下の封着用ガラスの積
層膜からなるギャップガラスを設け、上記１対の磁気コ
アを作業温度が６００℃以下の他の封着ガラスで封着し
た磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3193846A JPH0536017A (ja) | 1991-08-02 | 1991-08-02 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3193846A JPH0536017A (ja) | 1991-08-02 | 1991-08-02 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0536017A true JPH0536017A (ja) | 1993-02-12 |
Family
ID=16314722
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3193846A Pending JPH0536017A (ja) | 1991-08-02 | 1991-08-02 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0536017A (ja) |
-
1991
- 1991-08-02 JP JP3193846A patent/JPH0536017A/ja active Pending
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