JPH0536273Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0536273Y2 JPH0536273Y2 JP20119187U JP20119187U JPH0536273Y2 JP H0536273 Y2 JPH0536273 Y2 JP H0536273Y2 JP 20119187 U JP20119187 U JP 20119187U JP 20119187 U JP20119187 U JP 20119187U JP H0536273 Y2 JPH0536273 Y2 JP H0536273Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- storage case
- positioning lever
- wafers
- wafer storage
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Links
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- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 25
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 21
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 12
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 102100027340 Slit homolog 2 protein Human genes 0.000 description 1
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- 238000005478 sputtering type Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案はインライン式カセツトツーカセツト方
式のスパツタリング装置に関する。
式のスパツタリング装置に関する。
従来の技術
この種のスパツタリング装置にあつては、複数
枚のウエハーが収められたウエハー収納ケースを
予備加熱室(ローデイング室)にセツトするだけ
で、その後は予備加熱室に設けてある搬送機構に
よりウエハー収納ケースからウエハーを自動的に
取り出すとともに、取り出されたウエハーをスパ
ツタリング室に搬送するような基本構成となつて
いるが、かかる搬送機構としては、歩留り向上の
観点から、従来のベルト方式からリンクアーム方
式に取つて代わる傾向にある。
枚のウエハーが収められたウエハー収納ケースを
予備加熱室(ローデイング室)にセツトするだけ
で、その後は予備加熱室に設けてある搬送機構に
よりウエハー収納ケースからウエハーを自動的に
取り出すとともに、取り出されたウエハーをスパ
ツタリング室に搬送するような基本構成となつて
いるが、かかる搬送機構としては、歩留り向上の
観点から、従来のベルト方式からリンクアーム方
式に取つて代わる傾向にある。
第3図は従来のスパツタリング装置の説明図で
あつて、ローデイング室の内部の様子を示す斜視
図である。
あつて、ローデイング室の内部の様子を示す斜視
図である。
そこでは、ローデイング室の外下面に図外のシ
リンダ・ロツド機構が設けられており、底板70
を貫通したロツド31の先端にはウエハー収納ケ
ース20を着脱可能に載置する移動載置台32が
連結してあり、これでウエハー収納ケース20を
ローデイング室の内部にて上下移動可能としてい
る。なお、このウエハー収納ケース20は複数枚
のウエハー211を収納する開口挿入スリツト2
1で仕切られている。
リンダ・ロツド機構が設けられており、底板70
を貫通したロツド31の先端にはウエハー収納ケ
ース20を着脱可能に載置する移動載置台32が
連結してあり、これでウエハー収納ケース20を
ローデイング室の内部にて上下移動可能としてい
る。なお、このウエハー収納ケース20は複数枚
のウエハー211を収納する開口挿入スリツト2
1で仕切られている。
しかもローデイング室の内部には先端にウエハ
ー受け皿11を有するアーム機構10が設けられ
ており、ウエハー受け皿11をウエハー収納ケー
ス20に開設してある受け皿挿通口22を介して
下方から開口挿入スリツト21に挿入する一方、
ウエハー収納ケース20を下方に移動せしめ、こ
れでウエハー211をすくい上げるようにして下
段から順次取り出し、取り出したウエハー211
をローデイング室の隣である図外のスパツタリン
グ室を順次搬送するようになつている。
ー受け皿11を有するアーム機構10が設けられ
ており、ウエハー受け皿11をウエハー収納ケー
ス20に開設してある受け皿挿通口22を介して
下方から開口挿入スリツト21に挿入する一方、
ウエハー収納ケース20を下方に移動せしめ、こ
れでウエハー211をすくい上げるようにして下
段から順次取り出し、取り出したウエハー211
をローデイング室の隣である図外のスパツタリン
グ室を順次搬送するようになつている。
考案が解決しようとする問題点
しかしながら、上記従来例による場合には、ウ
エハー211が開口挿入スリツト21に対して適
正位置になければ、ウエハー211をウエハー受
け皿11に受け止めすることができず、最悪の場
合にはウエハー211を引つ掛けて落下させてし
まいこれが破損する虞れもある。つまりローデイ
ング室を開いてウエハー収納ケース20を交換す
る状態では、ウエハー収納ケース20に収められ
たウエハー211の全てが適正位置にあるとして
も、ウエハー収納ケース20を下方移動する際に
発生する振動でウエハー211が適正位置よりず
れてしまうのである。これらの不都合はスパツタ
リング装置の製造効率の向上を図る上で障害とな
るのは勿論のこと自動化を推進する上でも問題と
なつている。
エハー211が開口挿入スリツト21に対して適
正位置になければ、ウエハー211をウエハー受
け皿11に受け止めすることができず、最悪の場
合にはウエハー211を引つ掛けて落下させてし
まいこれが破損する虞れもある。つまりローデイ
ング室を開いてウエハー収納ケース20を交換す
る状態では、ウエハー収納ケース20に収められ
たウエハー211の全てが適正位置にあるとして
も、ウエハー収納ケース20を下方移動する際に
発生する振動でウエハー211が適正位置よりず
れてしまうのである。これらの不都合はスパツタ
リング装置の製造効率の向上を図る上で障害とな
るのは勿論のこと自動化を推進する上でも問題と
なつている。
本考案は上記事情に鑑みて創案されたものであ
り、ウエハー収納ケースに収められたウエハーを
適正位置に自動復帰させるようにしてあるスパツ
タリング装置を提供することを目的とする。
り、ウエハー収納ケースに収められたウエハーを
適正位置に自動復帰させるようにしてあるスパツ
タリング装置を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段
本考案にかかるスパツタリング装置は、ウエハ
ーの位置ずれを修正する位置合せレバーと、ウエ
ハーを取り出す前の状態にあつてはウエハー収納
ケースに対する正面位置に位置合せレバーを移動
させてウエハーの飛び出し側面に当接せしめ、一
方ウエハーの取り出し又は搬送状態にあつてはウ
エハー受け皿に対する退避位置に位置合せレバー
を移動せしめる位置合せレバー駆動機構とを具備
している。
ーの位置ずれを修正する位置合せレバーと、ウエ
ハーを取り出す前の状態にあつてはウエハー収納
ケースに対する正面位置に位置合せレバーを移動
させてウエハーの飛び出し側面に当接せしめ、一
方ウエハーの取り出し又は搬送状態にあつてはウ
エハー受け皿に対する退避位置に位置合せレバー
を移動せしめる位置合せレバー駆動機構とを具備
している。
作 用
位置合せレバーが開口挿入スリツトに対して位
置ずれしているウエハーの飛び出し側面に当接す
ることで、このウエハーが適正位置に押し戻され
ることになる。
置ずれしているウエハーの飛び出し側面に当接す
ることで、このウエハーが適正位置に押し戻され
ることになる。
実施例
以下、本考案にかかるスパツタリング装置の一
実施例を図面を参照して説明する。第1図はスパ
ツタリング装置におけるローデイング室の内部の
様子を示す斜視図である。
実施例を図面を参照して説明する。第1図はスパ
ツタリング装置におけるローデイング室の内部の
様子を示す斜視図である。
ここに掲げるスパツタリング装置は、合計10枚
のウエハー211a〜211jが収められたウエ
ハー収納ケース20をローデイング室に設けられ
ている移動載置台32にセツトするだけで、その
後はローデイング室に備えられているアーム機構
10によりウエハー211a〜211jをウエハ
ー収納ケース20から取り出すとともに、取り出
されたウエハー211をローデイング室の隣であ
る図外の(ここにはスパツタ用電極が備えられて
いる)スパツタリング室に順次自動搬送し、ここ
でウエハー211a〜211jのスパツタリング
が行われるような基本構成となつている。更に詳
しく説明すると、図示するローデイング室は、ウ
エハー211a〜211jをウエハー収納ケース
20ごと予備加熱するチヤンバーであつて、これ
には開閉扉(図示せず)が設けられており、ロー
デイング室を大気圧雰囲気に戻した状態で開閉扉
を開け、そこで空になつたウエハー収納ケース2
0を新たなウエハー収納ケース20に交換し、そ
して開閉扉を閉じた後にローデイング室の内部空
気を排気せしめ、この圧力がスパツタリング室と
同等に達すれば、アーム機構10を伸張させて、
新たなウエハー収納ケース20から再びウエハー
211a〜211jを取り出し、そしてスパツタ
リング室に順次搬送するようになつている。な
お、ウエハー収納ケース20にはウエハー211
a〜211jを夫々収める開口挿入スリツト21
a〜21jが開設されており、しかもウエハー収
納ケース20を左面から上下にかけて切欠いて、
これを後述するウエハー受け皿11の外寸法より
若干大きい受け皿挿通口22としてある。但し、
このウエハー211a〜211jの開口挿入スリ
ツト21a〜21jに対する適正位置とは、これ
がウエハー収納ケース20の内側壁に当接する状
態にあることを意味している。
のウエハー211a〜211jが収められたウエ
ハー収納ケース20をローデイング室に設けられ
ている移動載置台32にセツトするだけで、その
後はローデイング室に備えられているアーム機構
10によりウエハー211a〜211jをウエハ
ー収納ケース20から取り出すとともに、取り出
されたウエハー211をローデイング室の隣であ
る図外の(ここにはスパツタ用電極が備えられて
いる)スパツタリング室に順次自動搬送し、ここ
でウエハー211a〜211jのスパツタリング
が行われるような基本構成となつている。更に詳
しく説明すると、図示するローデイング室は、ウ
エハー211a〜211jをウエハー収納ケース
20ごと予備加熱するチヤンバーであつて、これ
には開閉扉(図示せず)が設けられており、ロー
デイング室を大気圧雰囲気に戻した状態で開閉扉
を開け、そこで空になつたウエハー収納ケース2
0を新たなウエハー収納ケース20に交換し、そ
して開閉扉を閉じた後にローデイング室の内部空
気を排気せしめ、この圧力がスパツタリング室と
同等に達すれば、アーム機構10を伸張させて、
新たなウエハー収納ケース20から再びウエハー
211a〜211jを取り出し、そしてスパツタ
リング室に順次搬送するようになつている。な
お、ウエハー収納ケース20にはウエハー211
a〜211jを夫々収める開口挿入スリツト21
a〜21jが開設されており、しかもウエハー収
納ケース20を左面から上下にかけて切欠いて、
これを後述するウエハー受け皿11の外寸法より
若干大きい受け皿挿通口22としてある。但し、
このウエハー211a〜211jの開口挿入スリ
ツト21a〜21jに対する適正位置とは、これ
がウエハー収納ケース20の内側壁に当接する状
態にあることを意味している。
このローデイング室の外部下面には図外のシリ
ンダ・ロツド機構を設けてあり、しかも底板70
を貫通したロツド31の先端にはウエハー収納ケ
ース20を着脱自在に載置する移動載置台32を
連結せしめて、これでウエハー収納ケース20を
ローデイング室の内部にて上下移動可能としてあ
る。
ンダ・ロツド機構を設けてあり、しかも底板70
を貫通したロツド31の先端にはウエハー収納ケ
ース20を着脱自在に載置する移動載置台32を
連結せしめて、これでウエハー収納ケース20を
ローデイング室の内部にて上下移動可能としてあ
る。
またローデイング室の内部には、先端にウエハ
ー受け皿11を有するアーム機構10が設けられ
ている。かかるアーム機構10は図示されていな
いがリンク機構を主構成としており、ウエハー受
け皿11をウエハー収納ケース20の載置位置か
らスパツタリング室の内部位置にまで移動せしめ
るような構成となつている。なお、このウエハー
受け皿11の横幅寸法は円盤形のウエハー211
の径寸法よりも小さく、しかもこの上面にはウエ
ハー211を受け止める凹部111が設けられて
いる。
ー受け皿11を有するアーム機構10が設けられ
ている。かかるアーム機構10は図示されていな
いがリンク機構を主構成としており、ウエハー受
け皿11をウエハー収納ケース20の載置位置か
らスパツタリング室の内部位置にまで移動せしめ
るような構成となつている。なお、このウエハー
受け皿11の横幅寸法は円盤形のウエハー211
の径寸法よりも小さく、しかもこの上面にはウエ
ハー211を受け止める凹部111が設けられて
いる。
更にローデイング室の内部には、位置合せレバ
ー40を回動自在に移動せしめる位置合せレバー
駆動機構50が設けられている。以下、この位置
合せレバー駆動機構50の詳細について説明す
る。
ー40を回動自在に移動せしめる位置合せレバー
駆動機構50が設けられている。以下、この位置
合せレバー駆動機構50の詳細について説明す
る。
ローデイング室の底板70に軸支されている回
転軸51には、先端に位置合せレバー40を有す
るアーム52が固着されており、アーム52の先
端下面にシリンダ・ロツド機構(ロツド54のみ
が図示されている)を連結して、これで位置合せ
レバー40が回転軸51の回りで回動自在として
ある。即ち、ロツド54が伸張されれば、位置合
せレバー40の先端エツジ部がウエハー211j
の開口側エツジ部に当接する状態に置かれる一
方、ロツド54が伸縮されれば、一連の動作を行
うアーム機構ウエハー受け皿11等が位置合せレ
バー40に接触しないような退避状態に置かれ
る。
転軸51には、先端に位置合せレバー40を有す
るアーム52が固着されており、アーム52の先
端下面にシリンダ・ロツド機構(ロツド54のみ
が図示されている)を連結して、これで位置合せ
レバー40が回転軸51の回りで回動自在として
ある。即ち、ロツド54が伸張されれば、位置合
せレバー40の先端エツジ部がウエハー211j
の開口側エツジ部に当接する状態に置かれる一
方、ロツド54が伸縮されれば、一連の動作を行
うアーム機構ウエハー受け皿11等が位置合せレ
バー40に接触しないような退避状態に置かれ
る。
更に詳しく説明すると、アーム52の先端部に
Lアングル部材53を挟み込んで固着されている
位置合せレバー40は、Lアングル部材53に軸
支されたシヤフト532を回転軸として揺動可能
となつており、位置合せレバー40のエツジ部が
Lアングル部材53の上方に固着されている受け
止め板531に当接することで位置規制され、し
かもシヤフト532に取り付けてあるクツシヨン
バネ533により受け止め板531に常時付勢す
るようになつている。つまりこのクツシヨンバネ
533は、位置合せレバー40の先端エツジ部が
ウエハー211jの開口側エツジ部に当接する際
の衝撃を抑止する役目を果たすことになる。
Lアングル部材53を挟み込んで固着されている
位置合せレバー40は、Lアングル部材53に軸
支されたシヤフト532を回転軸として揺動可能
となつており、位置合せレバー40のエツジ部が
Lアングル部材53の上方に固着されている受け
止め板531に当接することで位置規制され、し
かもシヤフト532に取り付けてあるクツシヨン
バネ533により受け止め板531に常時付勢す
るようになつている。つまりこのクツシヨンバネ
533は、位置合せレバー40の先端エツジ部が
ウエハー211jの開口側エツジ部に当接する際
の衝撃を抑止する役目を果たすことになる。
なお、60a,60bは一対の透過型の光電セ
ンサであつて、位置合せレバー40がウエハー2
11jの開口側エツジ部に当接する状態では、位
置合せレバー40により照射光が遮蔽されるよう
な位置に置かれている。
ンサであつて、位置合せレバー40がウエハー2
11jの開口側エツジ部に当接する状態では、位
置合せレバー40により照射光が遮蔽されるよう
な位置に置かれている。
次に上記のように構成されたスパツタリング装
置でウエハー収納ケース20に収納されたウエハ
ー211a〜211jを適正位置に自動修正でき
る原理について説明する。なお、ローデイング室
に備えられた移動載置台32にウエハー収納ケー
ス20をセツトした状態では、これに収められて
いる全てのウエハー211a〜211jは適正位
置からずれていると仮定する。
置でウエハー収納ケース20に収納されたウエハ
ー211a〜211jを適正位置に自動修正でき
る原理について説明する。なお、ローデイング室
に備えられた移動載置台32にウエハー収納ケー
ス20をセツトした状態では、これに収められて
いる全てのウエハー211a〜211jは適正位
置からずれていると仮定する。
まず退避状態にある位置合せレバー40を回動
させると、当接されたウエハー211jが押され
るとともに、ウエハー211jの開口反対側エツ
ジ部がウエハー収納ケース20の内側壁で位置規
制されて、これでウエハー211jが適正位置に
戻されることになる。その後、位置合せレバー4
0を退避状態に再び戻し、この状態でアーム機構
10を伸張させてウエハー受け皿11を受け皿挿
入口22の最下部に挿入せしめる。そして移動載
置台32を開口挿入スリツト21の間隔分だけ下
げると、適正位置に修正されたウエハー211j
がウエハー受け皿11の凹部111に嵌り込みこ
とになり、この状態でアーム機構10を伸縮させ
ると、これでウエハー211jの取り出しが完了
する。
させると、当接されたウエハー211jが押され
るとともに、ウエハー211jの開口反対側エツ
ジ部がウエハー収納ケース20の内側壁で位置規
制されて、これでウエハー211jが適正位置に
戻されることになる。その後、位置合せレバー4
0を退避状態に再び戻し、この状態でアーム機構
10を伸張させてウエハー受け皿11を受け皿挿
入口22の最下部に挿入せしめる。そして移動載
置台32を開口挿入スリツト21の間隔分だけ下
げると、適正位置に修正されたウエハー211j
がウエハー受け皿11の凹部111に嵌り込みこ
とになり、この状態でアーム機構10を伸縮させ
ると、これでウエハー211jの取り出しが完了
する。
その後ウエハー211jの搬送が完了すれば、
再び退避状態にあつた位置合せレバー40を回動
させて、今度はウエハー211jの上段のウエハ
ー211iの位置修正を行う。以下、同様の動作
を順次繰り返して、全てのウエハー211a〜2
11iを取り出し、そしてスパツタリング室への
搬送を円滑に順次行うのである。
再び退避状態にあつた位置合せレバー40を回動
させて、今度はウエハー211jの上段のウエハ
ー211iの位置修正を行う。以下、同様の動作
を順次繰り返して、全てのウエハー211a〜2
11iを取り出し、そしてスパツタリング室への
搬送を円滑に順次行うのである。
ところでウエハー収納ケース20に収められて
いるウエハー211a〜211jの中で例えばウ
エハー211bが最初から無かつたと仮定する
と、ウエハー211bの位置修正を行うべく、位
置合せレバー40を回動させても受け止められる
べきウエハー211bがないので、位置合せレバ
ー40が行き過ぎることになる。つまり光電セン
サ60a,60bの検知結果によりウエハー収納
ケース20に収められたウエハー211a〜21
1jの有無が判定できることになる。
いるウエハー211a〜211jの中で例えばウ
エハー211bが最初から無かつたと仮定する
と、ウエハー211bの位置修正を行うべく、位
置合せレバー40を回動させても受け止められる
べきウエハー211bがないので、位置合せレバ
ー40が行き過ぎることになる。つまり光電セン
サ60a,60bの検知結果によりウエハー収納
ケース20に収められたウエハー211a〜21
1jの有無が判定できることになる。
なお、本考案にかかるスパツタリング装置は上
記実施例に限定されず、位置合せレバー駆動機構
50にあつては、第2図に示すように位置合せレ
バー40の基端部を底板70に設けた駆動ギア5
5に連結して、これで位置合せレバー40を同様
にウエハー211jに当接せしめるような構成で
あつても構わず、また移動載置台32を固定状態
にするとともに、アーム機構10のウエハー受け
皿11を上方に移動せしめて、ウエハー211を
すくい上げる如く取り出すようにしても構わな
い。
記実施例に限定されず、位置合せレバー駆動機構
50にあつては、第2図に示すように位置合せレ
バー40の基端部を底板70に設けた駆動ギア5
5に連結して、これで位置合せレバー40を同様
にウエハー211jに当接せしめるような構成で
あつても構わず、また移動載置台32を固定状態
にするとともに、アーム機構10のウエハー受け
皿11を上方に移動せしめて、ウエハー211を
すくい上げる如く取り出すようにしても構わな
い。
考案の効果
以上の本案スパツタリング装置による場合に
は、ウエハーを取り出す前の状態にて位置合せレ
バーがウエハーの飛び出し側面に当接せしめる構
成となつているので、ウエハー収納ケースに収め
られたウエハーを適正位置に自動修正できること
になる。それゆえ、装置自体の製造効率の向上を
図ることができることは勿論のこと自動化を推進
する上でも大きなメリツトを有する。
は、ウエハーを取り出す前の状態にて位置合せレ
バーがウエハーの飛び出し側面に当接せしめる構
成となつているので、ウエハー収納ケースに収め
られたウエハーを適正位置に自動修正できること
になる。それゆえ、装置自体の製造効率の向上を
図ることができることは勿論のこと自動化を推進
する上でも大きなメリツトを有する。
第1図は本考案にかかるスパツタリング装置の
一実施例の説明図であつて、ローデイング室の内
部の様子を示す斜視図、第2図はスパツタリング
装置の他の実施例の説明図であつて、ローデイン
グ室の内部の様子を示す斜視図、第3図は従来の
スパツタリング装置の説明図であつて、ローデイ
ング室の内部の様子を示す斜視図である。 10……アーム機構、11……ウエハー受け
皿、20……ウエハー収納ケース、21a〜21
j……開口挿入スリツト、211a〜211j…
…ウエハー、40……位置合せレバー、50……
位置合せレバー駆動機構。
一実施例の説明図であつて、ローデイング室の内
部の様子を示す斜視図、第2図はスパツタリング
装置の他の実施例の説明図であつて、ローデイン
グ室の内部の様子を示す斜視図、第3図は従来の
スパツタリング装置の説明図であつて、ローデイ
ング室の内部の様子を示す斜視図である。 10……アーム機構、11……ウエハー受け
皿、20……ウエハー収納ケース、21a〜21
j……開口挿入スリツト、211a〜211j…
…ウエハー、40……位置合せレバー、50……
位置合せレバー駆動機構。
Claims (1)
- 先端に設けてあるウエハー受け皿をウエハー搬
入位置に配置したウエハー収納ケースの開口挿入
スリツトに挿入して収納されたウエハーをすくい
上げて取り出すとともに、取り出されたウエハー
をスパツタ用電極の配置方向に順次搬送するアー
ム機構を備えるスパツタリング装置において、前
記ウエハーの位置ずれを修正する位置合せレバー
と、前記ウエハーを取り出す前の状態にあつては
前記ウエハー収納ケースに対する正面位置に前記
位置合せレバーを移動させて前記ウエハーの飛び
出し側面に当接せしめ、一方前記ウエハーを取り
出し又は搬送する状態にあつては前記ウエハー受
け皿に対する退避位置に前記位置合せレバーを移
動せしめる位置合せレバー駆動機構とを具備する
ことを特徴とするスパツタリング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20119187U JPH0536273Y2 (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20119187U JPH0536273Y2 (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01104724U JPH01104724U (ja) | 1989-07-14 |
| JPH0536273Y2 true JPH0536273Y2 (ja) | 1993-09-14 |
Family
ID=31491563
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20119187U Expired - Lifetime JPH0536273Y2 (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0536273Y2 (ja) |
-
1987
- 1987-12-28 JP JP20119187U patent/JPH0536273Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01104724U (ja) | 1989-07-14 |
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