JPH0536314A - 透明導電膜の成膜方法 - Google Patents
透明導電膜の成膜方法Info
- Publication number
- JPH0536314A JPH0536314A JP3191910A JP19191091A JPH0536314A JP H0536314 A JPH0536314 A JP H0536314A JP 3191910 A JP3191910 A JP 3191910A JP 19191091 A JP19191091 A JP 19191091A JP H0536314 A JPH0536314 A JP H0536314A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductive film
- transparent conductive
- electron beam
- film
- ito
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 特に透明導電膜の光学的特性及び電気的特性
を向上させることができるようにした透明導電膜の成膜
方法を提供することである。 【構成】 インジウム錫酸化物微粒子を含む電子線硬化
型インクを樹脂フィルム上に印刷後、乾燥によって脱溶
剤化処理を施し、更にスチールロールによる圧延処理
後、電子線硬化処理を施すことにより上記樹脂フィルム
上に透明導電膜を形成することを特徴とする。
を向上させることができるようにした透明導電膜の成膜
方法を提供することである。 【構成】 インジウム錫酸化物微粒子を含む電子線硬化
型インクを樹脂フィルム上に印刷後、乾燥によって脱溶
剤化処理を施し、更にスチールロールによる圧延処理
後、電子線硬化処理を施すことにより上記樹脂フィルム
上に透明導電膜を形成することを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、各種のディスプレイ装
置等において透明電極や帯電防止フィルムなどに用いら
れる特にインジウム錫酸化物（以下、ＩＴＯという）透
明導電膜を形成するための方法に関する。
置等において透明電極や帯電防止フィルムなどに用いら
れる特にインジウム錫酸化物（以下、ＩＴＯという）透
明導電膜を形成するための方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、情報表示機器において液晶ディス
プレイやエレクトロ・ルミネッセンスディスプレイ等の
フラット型ディスプレイ装置が広く用いられている。そ
してこの種のディスプレイでは、表示素子の電極又は回
路電極に透明導電膜が使用されるが、かかる透明導電膜
には、抵抗値が小さく且つ透明性が良好であることから
特にＩＴＯ透明導電膜が好適である。
プレイやエレクトロ・ルミネッセンスディスプレイ等の
フラット型ディスプレイ装置が広く用いられている。そ
してこの種のディスプレイでは、表示素子の電極又は回
路電極に透明導電膜が使用されるが、かかる透明導電膜
には、抵抗値が小さく且つ透明性が良好であることから
特にＩＴＯ透明導電膜が好適である。
【０００３】ＩＴＯ透明導電膜を形成する場合、ＩＴＯ
粒子をターゲットとしてスパッタリングを行うことによ
り基板上に透明導電膜を蒸着する方法があるが、この方
法で使用する装置は高価であり、大きな蒸着面積の成膜
加工には適していない。又、成膜後更にエッチングによ
ってパターン成形加工を行う必要がある等の問題があっ
た。そこでＩＴＯ微粒子粉を用いたインクを塗布又は印
刷することによりＩＴＯ透明導電膜を形成する方法が開
発されてきている。そしてこの方法はＩＴＯ微粒子粉を
樹脂と溶剤とに混ぜ合わせて均一に分散せしめることに
よりペーストを形成し、該ペーストを基板に印刷してか
ら乾燥するという成膜方法である（以下、単に塗布法と
いう）。
粒子をターゲットとしてスパッタリングを行うことによ
り基板上に透明導電膜を蒸着する方法があるが、この方
法で使用する装置は高価であり、大きな蒸着面積の成膜
加工には適していない。又、成膜後更にエッチングによ
ってパターン成形加工を行う必要がある等の問題があっ
た。そこでＩＴＯ微粒子粉を用いたインクを塗布又は印
刷することによりＩＴＯ透明導電膜を形成する方法が開
発されてきている。そしてこの方法はＩＴＯ微粒子粉を
樹脂と溶剤とに混ぜ合わせて均一に分散せしめることに
よりペーストを形成し、該ペーストを基板に印刷してか
ら乾燥するという成膜方法である（以下、単に塗布法と
いう）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記塗
布法により形成される導電膜の導電原理はＩＴＯ微粒子
相互の接近作用によって行われるものであるため、前記
蒸着による方法に比べて導電膜の電気的抵抗値が大きく
なってしまうので問題になっていた。又、導電膜の膜厚
が厚くなる（１〜３μｍ）上、導電膜表面の凹凸や導電
膜内部のボイド（空隙）等の原因で光の散乱が発生して
導電膜の全光線透過率やヘーズ値（曇の程度を表す数
値）が悪化するという問題があった。このためかかる塗
布法により形成された導電膜は帯電防止用等の比較的グ
レードが低い用途以外では実用化されていない。
布法により形成される導電膜の導電原理はＩＴＯ微粒子
相互の接近作用によって行われるものであるため、前記
蒸着による方法に比べて導電膜の電気的抵抗値が大きく
なってしまうので問題になっていた。又、導電膜の膜厚
が厚くなる（１〜３μｍ）上、導電膜表面の凹凸や導電
膜内部のボイド（空隙）等の原因で光の散乱が発生して
導電膜の全光線透過率やヘーズ値（曇の程度を表す数
値）が悪化するという問題があった。このためかかる塗
布法により形成された導電膜は帯電防止用等の比較的グ
レードが低い用途以外では実用化されていない。
【０００５】本発明はかかる実情に鑑み、この種透明導
電膜の光学的特性及び電気的特性を向上させることがで
きるようにした透明導電膜の成膜方法を提供することを
目的とする。
電膜の光学的特性及び電気的特性を向上させることがで
きるようにした透明導電膜の成膜方法を提供することを
目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明による透明導電膜
の成膜方法は、ＩＴＯ微粒子を含む電子線硬化型インク
を樹脂フィルム上に印刷後、乾燥によって脱溶剤化処理
を施し、更にスチールロールによる圧延処理後、電子線
硬化処理を施すことにより行われる。
の成膜方法は、ＩＴＯ微粒子を含む電子線硬化型インク
を樹脂フィルム上に印刷後、乾燥によって脱溶剤化処理
を施し、更にスチールロールによる圧延処理後、電子線
硬化処理を施すことにより行われる。
【０００７】更に、本発明方法において、上記電子線硬
化型インクの固形成分中の上記ＩＴＯ微粒子の体積含有
率が５０〜８０％である。
化型インクの固形成分中の上記ＩＴＯ微粒子の体積含有
率が５０〜８０％である。
【０００８】
【作用】本発明によれば、先ず透明導電膜を形成すべき
ＩＴＯの超微粒子粉を用いてペースト状に形成したイン
クをロールによって圧延することにより、ＩＴＯ微粒子
を緻密化し、これにより形成された導電膜内のボイドの
発生を抑制することができる。又、かかるロールによる
圧延処理を行うことにより導電膜表面を平滑にし、この
結果、透明導電膜の光学的特性及び電気的特性の双方を
向上させることができる。電子線硬化型インクを使用す
ることにより、該インクを電子線によって硬化せしめる
前に行われる上記圧延処理においてはかかる電子線硬化
型インクが未だ硬化していない状態にあるため、圧延処
理時のロールの線圧力を比較的低く設定しても有効にＩ
ＴＯ微粒子の緻密化を図ることができる。
ＩＴＯの超微粒子粉を用いてペースト状に形成したイン
クをロールによって圧延することにより、ＩＴＯ微粒子
を緻密化し、これにより形成された導電膜内のボイドの
発生を抑制することができる。又、かかるロールによる
圧延処理を行うことにより導電膜表面を平滑にし、この
結果、透明導電膜の光学的特性及び電気的特性の双方を
向上させることができる。電子線硬化型インクを使用す
ることにより、該インクを電子線によって硬化せしめる
前に行われる上記圧延処理においてはかかる電子線硬化
型インクが未だ硬化していない状態にあるため、圧延処
理時のロールの線圧力を比較的低く設定しても有効にＩ
ＴＯ微粒子の緻密化を図ることができる。
【０００９】更に本発明によれば、基板に塗布される電
子線硬化型インクの固形成分中のＩＴＯ粒子の体積含有
率を特に５０〜８０％に設定したことにより、導電膜の
電気的特性及び光学的特性を有効且つ大幅に向上させる
ことができる。即ち上記圧延処理を行う際に緻密化され
るＩＴＯ粒子間の空隙を埋め尽くすだけの樹脂を必要と
するが、この場合、ＩＴＯ粒子の量が多過ぎると樹脂が
かかる空隙を完全に埋めることができず、従ってボイド
が発生して光線透過率及びヘーズ値が悪くなる上に、所
謂、ポーラスな導電膜になってしまいその強度が低下す
る。一方、ＩＴＯ粒子の量が少な過ぎるとかかるＩＴＯ
粒子よりも過剰に存在する樹脂によってＩＴＯ粒子同士
の相互接近が妨げられ、この場合には導電膜の光学的特
性は良好であっても電気的特性を向上させることはでき
ない。従って、インクの固形成分中の樹脂とＩＴＯ粒子
との含有割合を最適にする必要があるが、本発明方法に
おいては、ＩＴＯ粒子の体積含有率が上記のように５０
〜８０％に設定されている。
子線硬化型インクの固形成分中のＩＴＯ粒子の体積含有
率を特に５０〜８０％に設定したことにより、導電膜の
電気的特性及び光学的特性を有効且つ大幅に向上させる
ことができる。即ち上記圧延処理を行う際に緻密化され
るＩＴＯ粒子間の空隙を埋め尽くすだけの樹脂を必要と
するが、この場合、ＩＴＯ粒子の量が多過ぎると樹脂が
かかる空隙を完全に埋めることができず、従ってボイド
が発生して光線透過率及びヘーズ値が悪くなる上に、所
謂、ポーラスな導電膜になってしまいその強度が低下す
る。一方、ＩＴＯ粒子の量が少な過ぎるとかかるＩＴＯ
粒子よりも過剰に存在する樹脂によってＩＴＯ粒子同士
の相互接近が妨げられ、この場合には導電膜の光学的特
性は良好であっても電気的特性を向上させることはでき
ない。従って、インクの固形成分中の樹脂とＩＴＯ粒子
との含有割合を最適にする必要があるが、本発明方法に
おいては、ＩＴＯ粒子の体積含有率が上記のように５０
〜８０％に設定されている。
【００１０】
【実施例】以下、本発明による透明導電膜の成膜方法の
一実施例を詳細に説明する。先ず基板である樹脂フィル
ム上に塗布すべき電子線硬化型インクの構成成分である
ＩＴＯの超微粒子粉は、その平均粒径０．０３μｍのも
のを用いる。そしてかかるＩＴＯ超微粒子粉を、オリゴ
マー及びモノマーから成る電子線硬化型樹脂と混ぜ合わ
せ、これら双方を合わせた重量に対して２０％の溶剤を
添加して分散処理を行うことにより、電子線硬化型イン
クが形成される。
一実施例を詳細に説明する。先ず基板である樹脂フィル
ム上に塗布すべき電子線硬化型インクの構成成分である
ＩＴＯの超微粒子粉は、その平均粒径０．０３μｍのも
のを用いる。そしてかかるＩＴＯ超微粒子粉を、オリゴ
マー及びモノマーから成る電子線硬化型樹脂と混ぜ合わ
せ、これら双方を合わせた重量に対して２０％の溶剤を
添加して分散処理を行うことにより、電子線硬化型イン
クが形成される。
【００１１】上記オリゴマーとしての２官能基ウレタン
アクリレートもしくは２官能基エポキシアクリレートと
上記モノマーとしての３官能基アクリレート（例えばト
リメチロールプロパントリアクリレート）との重量比は
６０：４０程度に設定される。かかる電子線硬化型イン
クの固形成分（樹脂成分，ＩＴＯ粒子，添加剤等）中の
ＩＴＯ粒子の体積含有率５０〜８０％程度であることが
好ましいが、ここではウレタンアクリレート系インクに
ついては５０％，６０％及び７５％、また、エポキシア
クリレート系については６０％となるように合計４種類
のインクを形成した。
アクリレートもしくは２官能基エポキシアクリレートと
上記モノマーとしての３官能基アクリレート（例えばト
リメチロールプロパントリアクリレート）との重量比は
６０：４０程度に設定される。かかる電子線硬化型イン
クの固形成分（樹脂成分，ＩＴＯ粒子，添加剤等）中の
ＩＴＯ粒子の体積含有率５０〜８０％程度であることが
好ましいが、ここではウレタンアクリレート系インクに
ついては５０％，６０％及び７５％、また、エポキシア
クリレート系については６０％となるように合計４種類
のインクを形成した。
【００１２】次に、上記４種類の電子線硬化型インクの
それぞれをスクリーン印刷法により基板樹脂フィルムの
ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍで、密着性を良好にす
るためにプライマー処理が施されている）上に印刷し、
この後、赤外線加熱により８０°Ｃの温度で３０分間乾
燥せしめられる。そしてこの乾燥によって、電子線硬化
型インク中に含まれている上記溶剤は揮発せしめられる
が、この時点では電子線硬化型インクの他の成分である
オリゴマー及びモノマーが液状であるためＰＥＴフィル
ム上に膜は未だ硬化してはいない。尚、上記４種類の電
子線硬化型インクのいずれの場合も１２ｃｍ×１５ｃｍ
程度の広さの印刷領域を形成して行ったが、塗膜の厚さ
はウレタンアクリレート系インクではおよそ３μｍ、ま
たエポキシアクリレート系インクではおよそ５μｍであ
った。尚、これらの塗膜厚さの違いは、使用するインク
の粘度の相違に起因している。
それぞれをスクリーン印刷法により基板樹脂フィルムの
ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍで、密着性を良好にす
るためにプライマー処理が施されている）上に印刷し、
この後、赤外線加熱により８０°Ｃの温度で３０分間乾
燥せしめられる。そしてこの乾燥によって、電子線硬化
型インク中に含まれている上記溶剤は揮発せしめられる
が、この時点では電子線硬化型インクの他の成分である
オリゴマー及びモノマーが液状であるためＰＥＴフィル
ム上に膜は未だ硬化してはいない。尚、上記４種類の電
子線硬化型インクのいずれの場合も１２ｃｍ×１５ｃｍ
程度の広さの印刷領域を形成して行ったが、塗膜の厚さ
はウレタンアクリレート系インクではおよそ３μｍ、ま
たエポキシアクリレート系インクではおよそ５μｍであ
った。尚、これらの塗膜厚さの違いは、使用するインク
の粘度の相違に起因している。
【００１３】更に、基板樹脂フィルム上に上記スクリー
ン印刷法によって塗布されたインクはスチールロールに
よって圧延処理されるが、この圧延処理においてはその
表面がハードクロムメッキされた直径１５０ｍｍの２本
のスチールロールを使用し、その処理スピードが略１０
ｃｍ／秒となるように該スチールロールの回転速度を設
定した。又、このスチールロールによる圧延処理を行う
場合、スチールロールの線圧力は２００ｋｇｆ／ｃｍ以
上であれば、必要且つ十分である。ここで、かかる線圧
力が高過ぎると基板樹脂フィルムに機械的歪みを生じて
しまうが、本発明ではかかる歪みが生じないように設定
されている。これは使用される基板樹脂フィルムの種
類，材質及び厚さ等により、本実施例では上記設定値が
好ましい。そして線圧力の上限は１０００ｋｇｆ／ｃｍ
以下が好ましい。
ン印刷法によって塗布されたインクはスチールロールに
よって圧延処理されるが、この圧延処理においてはその
表面がハードクロムメッキされた直径１５０ｍｍの２本
のスチールロールを使用し、その処理スピードが略１０
ｃｍ／秒となるように該スチールロールの回転速度を設
定した。又、このスチールロールによる圧延処理を行う
場合、スチールロールの線圧力は２００ｋｇｆ／ｃｍ以
上であれば、必要且つ十分である。ここで、かかる線圧
力が高過ぎると基板樹脂フィルムに機械的歪みを生じて
しまうが、本発明ではかかる歪みが生じないように設定
されている。これは使用される基板樹脂フィルムの種
類，材質及び厚さ等により、本実施例では上記設定値が
好ましい。そして線圧力の上限は１０００ｋｇｆ／ｃｍ
以下が好ましい。
【００１４】上記スチールロールによる圧延処理後、本
実施例のインクに対してはアルゴン等の不活性ガス雰囲
気中で電子線硬化処理が行われる。即ち、基板樹脂フィ
ルム上に塗布されている電子線硬化型インクに対して、
電子線の加速電圧１７５ｋＶで照射線量１０〜４０Ｍｒ
ａｄの電子線が照射される。ここで上記のように不活性
ガスを用いるのは、例えば空気中で電子線処理を行った
場合には空気中の酸素が、生じたラジカルを消費してし
まう所謂、酸素禁止作用により重合反応が阻害されてし
まうのを防ぐためである。
実施例のインクに対してはアルゴン等の不活性ガス雰囲
気中で電子線硬化処理が行われる。即ち、基板樹脂フィ
ルム上に塗布されている電子線硬化型インクに対して、
電子線の加速電圧１７５ｋＶで照射線量１０〜４０Ｍｒ
ａｄの電子線が照射される。ここで上記のように不活性
ガスを用いるのは、例えば空気中で電子線処理を行った
場合には空気中の酸素が、生じたラジカルを消費してし
まう所謂、酸素禁止作用により重合反応が阻害されてし
まうのを防ぐためである。
【００１５】本発明による透明導電膜の成膜方法は上記
のように構成されているから、先ず上記スチールロール
による圧延処理を行うことにより、形成されたＩＴＯ透
明導電膜の光学的特性を著しく向上させることができ
る。即ち、この圧延処理を施す前の状態の塗膜の全光線
透過率は高々６０％程度に過ぎなかったが圧延処理後は
８０％程度にまで達し、又、導電膜のヘーズ値は２０％
程度であったものが１０％程度に向上した。この圧延処
理におけるスチールロールの線圧力は大きい程かかる効
果も大きくなる。
のように構成されているから、先ず上記スチールロール
による圧延処理を行うことにより、形成されたＩＴＯ透
明導電膜の光学的特性を著しく向上させることができ
る。即ち、この圧延処理を施す前の状態の塗膜の全光線
透過率は高々６０％程度に過ぎなかったが圧延処理後は
８０％程度にまで達し、又、導電膜のヘーズ値は２０％
程度であったものが１０％程度に向上した。この圧延処
理におけるスチールロールの線圧力は大きい程かかる効
果も大きくなる。
【００１６】一方、圧延処理を施される電子線硬化型イ
ンクは通常、０〜２０％の溶剤を含んでいるが、基板樹
脂フィルム上に印刷・乾燥後に脱溶剤化処理が行われた
後でも液状のオリゴマー及びモノマーが存在しているた
めに硬化していない。従ってこのような状態で圧延処理
が行われるので、スチールロールの線圧力を比較的低く
設定しても塗膜は容易且つ有効に圧延せしめられＩＴＯ
粒子を容易に緻密化することができる。そしてこれによ
り導電膜表面が平滑化され、この点でも光学的特性を向
上させることができるが、一般の熱可塑性樹脂を用いて
インクを形成した場合には塗膜の圧延処理時に５００ｋ
ｇｆ／ｃｍ以上の高い線圧力が必要になるのに比べて線
圧力を低く設定することができるという利点がある。こ
のように線圧力を低くすることにより基板樹脂フィルム
の歪みの発生をなくすることができる。
ンクは通常、０〜２０％の溶剤を含んでいるが、基板樹
脂フィルム上に印刷・乾燥後に脱溶剤化処理が行われた
後でも液状のオリゴマー及びモノマーが存在しているた
めに硬化していない。従ってこのような状態で圧延処理
が行われるので、スチールロールの線圧力を比較的低く
設定しても塗膜は容易且つ有効に圧延せしめられＩＴＯ
粒子を容易に緻密化することができる。そしてこれによ
り導電膜表面が平滑化され、この点でも光学的特性を向
上させることができるが、一般の熱可塑性樹脂を用いて
インクを形成した場合には塗膜の圧延処理時に５００ｋ
ｇｆ／ｃｍ以上の高い線圧力が必要になるのに比べて線
圧力を低く設定することができるという利点がある。こ
のように線圧力を低くすることにより基板樹脂フィルム
の歪みの発生をなくすることができる。
【００１７】又、かかるスチールロールによる圧延処理
によりＩＴＯ透明導電膜の電気的特性も向上させること
できる。即ち、この圧延処理を施さずに電子線硬化させ
ると塗膜の表面抵抗は１０〜２０ｋオーム／□にまで達
するが、圧延処理後に電子線硬化させると２００〜６０
０オーム／□に低下する。
によりＩＴＯ透明導電膜の電気的特性も向上させること
できる。即ち、この圧延処理を施さずに電子線硬化させ
ると塗膜の表面抵抗は１０〜２０ｋオーム／□にまで達
するが、圧延処理後に電子線硬化させると２００〜６０
０オーム／□に低下する。
【００１８】次に本発明により形成されたＩＴＯ透明導
電膜の光学的特性及び電気的特性についての測定結果を
図１乃至図５を参照して説明する。尚、これらの測定を
行うに際してＩＴＯ粒子の平均粒径は米国カウンターク
ローム社製のＱｕａｎｔａｓｏｒｂ ＱＳ−１０によ
り、又、透明導電膜の全光線透過率及びヘーズ値は基板
であるＰＥＴフィルムと一緒にスガ試験機株式会社製の
直読ヘーズコンピュータＨＧＭ−ＺＤＰにより、更に表
面抵抗は上記ＰＥＴフィルムを５０ｍｍ×５０ｍｍの寸
法に切り出した後三菱油化製のローレスタＭＣＰ−Ｔ４
００によりそれぞれ測定した。
電膜の光学的特性及び電気的特性についての測定結果を
図１乃至図５を参照して説明する。尚、これらの測定を
行うに際してＩＴＯ粒子の平均粒径は米国カウンターク
ローム社製のＱｕａｎｔａｓｏｒｂ ＱＳ−１０によ
り、又、透明導電膜の全光線透過率及びヘーズ値は基板
であるＰＥＴフィルムと一緒にスガ試験機株式会社製の
直読ヘーズコンピュータＨＧＭ−ＺＤＰにより、更に表
面抵抗は上記ＰＥＴフィルムを５０ｍｍ×５０ｍｍの寸
法に切り出した後三菱油化製のローレスタＭＣＰ−Ｔ４
００によりそれぞれ測定した。
【００１９】図１は、ＩＴＯ粒子の体積含有率を６０％
にしたウレタンアクリレート系の電子線硬化型インクを
用いて、スチールロールによるロール線圧力を変化させ
て形成された電子線硬化処理後のＩＴＯ透明導電膜の表
面抵抗値及び光学的特性（全光線透過率，ヘーズ値）に
ついての測定結果を示している。この測定結果によれ
ば、ロール線圧力が２００ｋｇｆ／ｃｍ以上で５００オ
ーム／□以下の表面抵抗と良好な光学特性とが得られ
た。
にしたウレタンアクリレート系の電子線硬化型インクを
用いて、スチールロールによるロール線圧力を変化させ
て形成された電子線硬化処理後のＩＴＯ透明導電膜の表
面抵抗値及び光学的特性（全光線透過率，ヘーズ値）に
ついての測定結果を示している。この測定結果によれ
ば、ロール線圧力が２００ｋｇｆ／ｃｍ以上で５００オ
ーム／□以下の表面抵抗と良好な光学特性とが得られ
た。
【００２０】図２は圧延処理時の線圧力４００ｋｇｆ／
ｃｍにおいてＩＴＯ粒子の体積含有率５０％，６０％及
び７５％の３種類のウレタンアクリレート系の電子線硬
化型インクを用いて形成した電子線硬化処理後のＩＴＯ
透明導電膜の光学的特性及び電気的特性の測定結果を示
している。図から明らかなようにいずれの電子線硬化型
インクの場合にも良好な膜特性になっているが、この測
定結果よりＩＴＯ粒子の体積含有率は５０〜８０％程度
の範囲が光学的特性及び電気的特性を向上させる上で特
に好ましい。
ｃｍにおいてＩＴＯ粒子の体積含有率５０％，６０％及
び７５％の３種類のウレタンアクリレート系の電子線硬
化型インクを用いて形成した電子線硬化処理後のＩＴＯ
透明導電膜の光学的特性及び電気的特性の測定結果を示
している。図から明らかなようにいずれの電子線硬化型
インクの場合にも良好な膜特性になっているが、この測
定結果よりＩＴＯ粒子の体積含有率は５０〜８０％程度
の範囲が光学的特性及び電気的特性を向上させる上で特
に好ましい。
【００２１】図３及び図４は、電子線の照射線量を変え
た場合のＩＴＯ透明導電膜の表面抵抗及び光学特性（全
光線透過率，ヘーズ値）についての測定結果を、ウレタ
ンアクリレート系インク及びエポキシアクリレート系イ
ンクのそれぞれについて示したものである。図３及び図
４から明らかなように、ＩＴＯ膜の膜物性は電子線の照
射量には大きく影響を受けず、１０Ｍｒａｄ以上あれば
充分である。そしてこの１０Ｍｒａｄ以上の電子線によ
って硬化せしめた膜は塗膜をメチルエチルケトンを含ま
せた布で２０回擦っても膜に剥離が生じなかった。ま
た、図３及び図４によれば、ウレタンアクリレート系イ
ンクは光学特性に優れており、一方、エポキシアクリレ
ート系インクは電気的特性に優れていることが分かる
が、このことからウレタンアクリレート系インク及びエ
ポキシアクリレート系インクの混合割合を適宜調整する
ことにより光学特性及び電気的特性について所望の特性
を有するように透明導電膜を成膜することができる。
た場合のＩＴＯ透明導電膜の表面抵抗及び光学特性（全
光線透過率，ヘーズ値）についての測定結果を、ウレタ
ンアクリレート系インク及びエポキシアクリレート系イ
ンクのそれぞれについて示したものである。図３及び図
４から明らかなように、ＩＴＯ膜の膜物性は電子線の照
射量には大きく影響を受けず、１０Ｍｒａｄ以上あれば
充分である。そしてこの１０Ｍｒａｄ以上の電子線によ
って硬化せしめた膜は塗膜をメチルエチルケトンを含ま
せた布で２０回擦っても膜に剥離が生じなかった。ま
た、図３及び図４によれば、ウレタンアクリレート系イ
ンクは光学特性に優れており、一方、エポキシアクリレ
ート系インクは電気的特性に優れていることが分かる
が、このことからウレタンアクリレート系インク及びエ
ポキシアクリレート系インクの混合割合を適宜調整する
ことにより光学特性及び電気的特性について所望の特性
を有するように透明導電膜を成膜することができる。
【００２２】更に図５は電子線硬化せしめられたウレタ
ンアクリレート系及びエポキシアクリレート系のＩＴＯ
透明導電膜の経時変化の例を示しており、この例では２
０Ｍｒａｄの電子線量での硬化により、ウレタンアクリ
レート系の場合は表面抵抗が４００オーム／□弱まで低
下するが、その後は次第に増加して十数日後にほぼ安定
し、また、エポキシアクリレート系の場合は硬化後、表
面抵抗の変化が殆どない。
ンアクリレート系及びエポキシアクリレート系のＩＴＯ
透明導電膜の経時変化の例を示しており、この例では２
０Ｍｒａｄの電子線量での硬化により、ウレタンアクリ
レート系の場合は表面抵抗が４００オーム／□弱まで低
下するが、その後は次第に増加して十数日後にほぼ安定
し、また、エポキシアクリレート系の場合は硬化後、表
面抵抗の変化が殆どない。
【００２３】
【発明の効果】上述したように、本発明方法によれば電
子線硬化型樹脂の選択により、この種導電膜の電気的特
性及び光学的特性を適宜調整することができ、特に表面
抵抗５００オーム／□以下、或いは全光線透過率約８０
％及びヘーズ値１０％以下である耐溶剤性に優れたＩＴ
Ｏ透明導電膜を形成することができる。
子線硬化型樹脂の選択により、この種導電膜の電気的特
性及び光学的特性を適宜調整することができ、特に表面
抵抗５００オーム／□以下、或いは全光線透過率約８０
％及びヘーズ値１０％以下である耐溶剤性に優れたＩＴ
Ｏ透明導電膜を形成することができる。
【図１】本発明方法により形成したウレタンアクリレー
ト系ＩＴＯ透明導電膜の電気的特性及び光学特性とロー
ル線圧力との関係を示すグラフである。
ト系ＩＴＯ透明導電膜の電気的特性及び光学特性とロー
ル線圧力との関係を示すグラフである。
【図２】本発明方法により３種類のウレタンアクリレー
ト系電子線硬化型インクを用いて形成したＩＴＯ透明導
電膜の光学的特性と電気的特性の測定結果を示すグラフ
である。
ト系電子線硬化型インクを用いて形成したＩＴＯ透明導
電膜の光学的特性と電気的特性の測定結果を示すグラフ
である。
【図３】本発明方法により形成したウレタンアクリレー
ト系のＩＴＯ透明導電膜の光学的特性及び電気的特性と
電子線照射量との関係を示すグラフである。
ト系のＩＴＯ透明導電膜の光学的特性及び電気的特性と
電子線照射量との関係を示すグラフである。
【図４】本発明方法により形成したエポキシアクリレー
ト系のＩＴＯ透明導電膜の光学的特性及び電気的特性と
電子線照射量との関係を示すグラフである。
ト系のＩＴＯ透明導電膜の光学的特性及び電気的特性と
電子線照射量との関係を示すグラフである。
【図５】本発明方法により形成したＩＴＯ透明導電膜の
表面抵抗の経時変化の例を示したグラフである。
表面抵抗の経時変化の例を示したグラフである。
Claims (2)
- 【請求項１】 インジウム錫酸化物微粒子を含む電子線
硬化型インクを樹脂フィルム上に印刷後、乾燥によって
脱溶剤化処理を施し、更にスチールロールによる圧延処
理後、電子線硬化処理を施すことにより上記樹脂フィル
ム上に透明導電膜を形成する透明導電膜の成膜方法。 - 【請求項２】 上記電子線硬化型インクの固形成分中の
上記インジウム錫酸化物微粒子の体積含有率が５０〜８
０パーセントであることを特徴とする請求項１に記載の
透明導電膜の成膜方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19191091A JP3072862B2 (ja) | 1991-07-31 | 1991-07-31 | 透明導電膜の成膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19191091A JP3072862B2 (ja) | 1991-07-31 | 1991-07-31 | 透明導電膜の成膜方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0536314A true JPH0536314A (ja) | 1993-02-12 |
| JP3072862B2 JP3072862B2 (ja) | 2000-08-07 |
Family
ID=16282485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19191091A Expired - Fee Related JP3072862B2 (ja) | 1991-07-31 | 1991-07-31 | 透明導電膜の成膜方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3072862B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0947566A1 (en) * | 1998-04-03 | 1999-10-06 | Sumitomo Chemical Company Limited | Conductive coating composition and antistatic plate |
| WO2000068330A1 (fr) * | 1999-05-10 | 2000-11-16 | Shunichi Haruyama | Film organique-inorganique, composition liquide de depart afferente et son procede de preparation et ses applications et leur procede de preparation |
| JP2006202739A (ja) * | 2004-12-21 | 2006-08-03 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 分散型エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
| JP2006202738A (ja) * | 2004-12-21 | 2006-08-03 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 分散型エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
| WO2007039969A1 (ja) * | 2005-10-05 | 2007-04-12 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | 透明導電層付フィルムとフレキシブル機能性素子、フレキシブル分散型エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法並びにそれを用いた電子デバイス |
| WO2008001418A1 (fr) * | 2006-06-26 | 2008-01-03 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Élément électroluminescent dispersif et son procédé de fabrication |
| WO2008001417A1 (fr) * | 2006-06-26 | 2008-01-03 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Élément électroluminescent dispersif et son procédé de fabrication |
| JP2008004502A (ja) * | 2006-06-26 | 2008-01-10 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 分散型エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
| US20130187104A1 (en) * | 2010-10-26 | 2013-07-25 | Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd. | Indium tin oxide powder, method for producing same, dispersion, paint, and functional thin film |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007066711A (ja) | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Tdk Corp | 透明導電体及びこれを用いた透明導電フィルム |
-
1991
- 1991-07-31 JP JP19191091A patent/JP3072862B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0947566A1 (en) * | 1998-04-03 | 1999-10-06 | Sumitomo Chemical Company Limited | Conductive coating composition and antistatic plate |
| WO2000068330A1 (fr) * | 1999-05-10 | 2000-11-16 | Shunichi Haruyama | Film organique-inorganique, composition liquide de depart afferente et son procede de preparation et ses applications et leur procede de preparation |
| JP2006202739A (ja) * | 2004-12-21 | 2006-08-03 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 分散型エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
| JP2006202738A (ja) * | 2004-12-21 | 2006-08-03 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 分散型エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
| US8269416B2 (en) | 2005-10-05 | 2012-09-18 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Film with transparent conductive layer, flexible functional element and flexible dispersion-type electroluminescent element, and method for producing the same and electronic device by the use thereof |
| WO2007039969A1 (ja) * | 2005-10-05 | 2007-04-12 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | 透明導電層付フィルムとフレキシブル機能性素子、フレキシブル分散型エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法並びにそれを用いた電子デバイス |
| JP5190758B2 (ja) * | 2005-10-05 | 2013-04-24 | 住友金属鉱山株式会社 | 透明導電層付フィルムとフレキシブル機能性素子、フレキシブル分散型エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法並びにそれを用いた電子デバイス |
| WO2008001417A1 (fr) * | 2006-06-26 | 2008-01-03 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Élément électroluminescent dispersif et son procédé de fabrication |
| US8110986B2 (en) | 2006-06-26 | 2012-02-07 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Dispersion-type electroluminescent element and method for manufacturing the same |
| US8167675B2 (en) | 2006-06-26 | 2012-05-01 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd | Dispersion-type electroluminescent element and method for manufacturing the same |
| JP2008004502A (ja) * | 2006-06-26 | 2008-01-10 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 分散型エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
| WO2008001418A1 (fr) * | 2006-06-26 | 2008-01-03 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Élément électroluminescent dispersif et son procédé de fabrication |
| US20130187104A1 (en) * | 2010-10-26 | 2013-07-25 | Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd. | Indium tin oxide powder, method for producing same, dispersion, paint, and functional thin film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3072862B2 (ja) | 2000-08-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8395059B2 (en) | Electromagnetic wave shielding material, and method for manufacturing same | |
| MX2008002344A (es) | Materiales conductores. | |
| US20140335312A1 (en) | Substrate film for manufacturing transparent electrode film | |
| JPH0536314A (ja) | 透明導電膜の成膜方法 | |
| TW201030768A (en) | High conductivity polymer thick film silver conductor composition for use in RFID and other applications | |
| CN106782773A (zh) | 透明导电性薄膜 | |
| JP2994767B2 (ja) | 透明導電膜の成膜方法 | |
| JP2994764B2 (ja) | 透明導電膜の成膜方法 | |
| CN103443749A (zh) | 具有导电聚合物电极层的透明电极膜 | |
| WO2001048764A1 (fr) | Film conducteur transparent et son procede de production | |
| WO2005022559A1 (ja) | 転写用導電性フィルム、それを用いた透明導電膜の形成方法及び透明導電膜 | |
| JP4666961B2 (ja) | 透明導電層が付与された物体、及び転写用導電性フィルム | |
| TWI428064B (zh) | 薄膜電路板 | |
| JP3129140B2 (ja) | 導電膜の形成用組成物と形成方法 | |
| WO2017018427A1 (ja) | 導電フィルムの製造方法及び導電フィルム | |
| JP2007066711A (ja) | 透明導電体及びこれを用いた透明導電フィルム | |
| JPH01249436A (ja) | 透明導電性フィルムおよびその製造方法 | |
| JP2007257963A (ja) | 転写用導電性フィルム及びそれを用いた透明導電層が付与された物体 | |
| JP2003016842A (ja) | 透明導電フィルム及びその製造方法 | |
| JP4783993B2 (ja) | 帯電防止ハードコート樹脂組成物およびその形成品 | |
| JPH0473809A (ja) | 透明導電膜 | |
| JP4097234B2 (ja) | 透明導電性転写材 | |
| JP4958144B2 (ja) | 透明導電膜形成用組成物、透明導電膜及びディスプレイ | |
| JP4074288B2 (ja) | 透明導電体 | |
| JP2007253425A (ja) | 転写用導電性フィルム及びそれを用いた透明導電層が付与された物体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090602 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100602 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100602 Year of fee payment: 10 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100602 Year of fee payment: 10 |
|
| R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100602 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100602 Year of fee payment: 10 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100602 Year of fee payment: 10 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |