JPH0536733B2 - - Google Patents
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- JPH0536733B2 JPH0536733B2 JP2207265A JP20726590A JPH0536733B2 JP H0536733 B2 JPH0536733 B2 JP H0536733B2 JP 2207265 A JP2207265 A JP 2207265A JP 20726590 A JP20726590 A JP 20726590A JP H0536733 B2 JPH0536733 B2 JP H0536733B2
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- Electronic Switches (AREA)
- Optical Radar Systems And Details Thereof (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、予め設定された検知エリア内に被検
知物体が存在するかどうかを判別して出力回路を
制御する反射型光電スイツチに関するものであ
る。
知物体が存在するかどうかを判別して出力回路を
制御する反射型光電スイツチに関するものであ
る。
第１図及び第２図は、この種の反射型光電スイ
ツチの基本例を示すもので、図中１は被検知物体
Ｘに対してパルス変調光よりなる光ビームＰを投
光する投光手段であり、投光タイミングを設定す
る同期信号を発生する発振回路１０と、ドライブ
回路１１と、発光ダイオード、レーザーダイオー
ドなどの投光素子１２と、光ビームＰを形成する
コンデンサレンズよりなる投光用光学系１３とで
形成されている。２は投光手段１から所定間隔l0
をもつて並置された受光手段であり、投、受光手
段１，２は被検知物体Ｘに対して三角測量的に配
置されている。
ツチの基本例を示すもので、図中１は被検知物体
Ｘに対してパルス変調光よりなる光ビームＰを投
光する投光手段であり、投光タイミングを設定す
る同期信号を発生する発振回路１０と、ドライブ
回路１１と、発光ダイオード、レーザーダイオー
ドなどの投光素子１２と、光ビームＰを形成する
コンデンサレンズよりなる投光用光学系１３とで
形成されている。２は投光手段１から所定間隔l0
をもつて並置された受光手段であり、投、受光手
段１，２は被検知物体Ｘに対して三角測量的に配
置されている。
この受光手段２は被検知物体Ｘによる反射光を
集光するための凸レンズよりなる受光用光学系３
と、受光用光学系３の集光面に配設され、集光ス
ポツトＳの位置に対応した位置信号を出力する位
置検出手段４とで構成されており、この位置検出
手段４は、凸レンズよりなる受光用光学系３の集
光面内に配設され、距離ｌが変化した場合におけ
る集光スポツトＳの移動方向（矢印Ｍ）に連設さ
れた２個の受光素子２０ａ，２０ｂにて形成され
ている。但し、この位置検出手段４として位置検
出素子（いわゆるPSD）を用いても良い。基本
例では、この受光素子２０ａ，２０ｂとしてホト
トランジスタ、ホトダイオード、太陽電池、CdS
などが用いられる。
集光するための凸レンズよりなる受光用光学系３
と、受光用光学系３の集光面に配設され、集光ス
ポツトＳの位置に対応した位置信号を出力する位
置検出手段４とで構成されており、この位置検出
手段４は、凸レンズよりなる受光用光学系３の集
光面内に配設され、距離ｌが変化した場合におけ
る集光スポツトＳの移動方向（矢印Ｍ）に連設さ
れた２個の受光素子２０ａ，２０ｂにて形成され
ている。但し、この位置検出手段４として位置検
出素子（いわゆるPSD）を用いても良い。基本
例では、この受光素子２０ａ，２０ｂとしてホト
トランジスタ、ホトダイオード、太陽電池、CdS
などが用いられる。
５は判別制御手段であり、位置検出手段４出力
に基づいて被検知物体Ｘが所定の検知エリアDE
内に存在するかどうかを判別して出力回路６を制
御するようになつている。この判別制御手段５
は、受光素子２０ａ，２０ｂからの出力電流IA，
IBを信号電圧VA，VBに増幅変換する受光回路２
１ａ，２１ｂと、対数増幅回路２２ａ，２２ｂ
と、対数増幅回路２２ａ出力lnVAから対数増幅
回路２２ｂ出力lnVBを減算する減算回路２３と、
減算回路２３出力ln（VA／VB）と検知エリア設定
ボリウムVRにて設定された動作レベルVSとを比
較して減算回路２３出力ln（VA／VB）が動作レベ
ルVS以下のときＨレベルを出力する比較回路２
４と、投光素子１２からの光ビームＰの投光タイ
ミング（発振回路１０から出力される同期信号）
に同期して比較回路２４出力をサンプリングする
ことにより、被検知物体Ｘが検知エリアDE内に
存在するかどうかを確実に判別するようにした信
号処理回路２５とで形成され、信号処理回路２５
出力にて負荷制御用のリレー、負荷制御用の半導
体スイツチ素子などよりなる出力回路６を制御す
るようになつている。なお、受光回路２１ａ，２
１ｂはパルス光信号のみを通し、直流光信号をカ
ツトしたり、特定の周波数のみを通すバンドパス
フイルタ回路を含むものである。
に基づいて被検知物体Ｘが所定の検知エリアDE
内に存在するかどうかを判別して出力回路６を制
御するようになつている。この判別制御手段５
は、受光素子２０ａ，２０ｂからの出力電流IA，
IBを信号電圧VA，VBに増幅変換する受光回路２
１ａ，２１ｂと、対数増幅回路２２ａ，２２ｂ
と、対数増幅回路２２ａ出力lnVAから対数増幅
回路２２ｂ出力lnVBを減算する減算回路２３と、
減算回路２３出力ln（VA／VB）と検知エリア設定
ボリウムVRにて設定された動作レベルVSとを比
較して減算回路２３出力ln（VA／VB）が動作レベ
ルVS以下のときＨレベルを出力する比較回路２
４と、投光素子１２からの光ビームＰの投光タイ
ミング（発振回路１０から出力される同期信号）
に同期して比較回路２４出力をサンプリングする
ことにより、被検知物体Ｘが検知エリアDE内に
存在するかどうかを確実に判別するようにした信
号処理回路２５とで形成され、信号処理回路２５
出力にて負荷制御用のリレー、負荷制御用の半導
体スイツチ素子などよりなる出力回路６を制御す
るようになつている。なお、受光回路２１ａ，２
１ｂはパルス光信号のみを通し、直流光信号をカ
ツトしたり、特定の周波数のみを通すバンドパス
フイルタ回路を含むものである。
今、被検知物体Ｘが第３図ａに示すように反射
型光電スイツチＹから距離la，lb，lcの位置ａ，
ｂ，ｃに存在する場合において、集光面内に配設
された受光素子２０ａ，２０ｂに対する集光スポ
ツトＳの位置はそれぞれ第３図ｂのようになり、
被検知物体Ｘの位置が光ビームＰの投光方向に変
化すると、集光スポツトＳが矢印Ｍ方向に移動し
て受光素子２０ａ，２０ｂに入射する光量の比率
が変化することになり、受光素子２０ａ，２０ｂ
の出力電流IA，IBは集光スポツトＳの位置に対応
した位置信号となる。
型光電スイツチＹから距離la，lb，lcの位置ａ，
ｂ，ｃに存在する場合において、集光面内に配設
された受光素子２０ａ，２０ｂに対する集光スポ
ツトＳの位置はそれぞれ第３図ｂのようになり、
被検知物体Ｘの位置が光ビームＰの投光方向に変
化すると、集光スポツトＳが矢印Ｍ方向に移動し
て受光素子２０ａ，２０ｂに入射する光量の比率
が変化することになり、受光素子２０ａ，２０ｂ
の出力電流IA，IBは集光スポツトＳの位置に対応
した位置信号となる。
判別制御手段５では受光回路２１ａ，２１ｂに
てこの電流IA，IBに比例した電圧VA，VBを形成
し、対数増幅回路２２ａ，２２ｂにて対数増幅し
た電圧lnVA，lnVBを減算回路２３にて減算する
ことにより、減算回路２３から受光素子２０ａ，
２０ｂに入射する光量の比率の対数値ln（VA／
VB）が出力されることになる。この減算回路２
３出力ln（VA／VB）は、反射型光電スイツチＹか
ら被検知物体Ｘまでの距離ｌに応じて変化し、距
離ｌに対する減算回路２３出力ln（VA／VB）は、
第４図に示すようになる。
てこの電流IA，IBに比例した電圧VA，VBを形成
し、対数増幅回路２２ａ，２２ｂにて対数増幅し
た電圧lnVA，lnVBを減算回路２３にて減算する
ことにより、減算回路２３から受光素子２０ａ，
２０ｂに入射する光量の比率の対数値ln（VA／
VB）が出力されることになる。この減算回路２
３出力ln（VA／VB）は、反射型光電スイツチＹか
ら被検知物体Ｘまでの距離ｌに応じて変化し、距
離ｌに対する減算回路２３出力ln（VA／VB）は、
第４図に示すようになる。
従つて、比較回路２４の検知エリア設定ボリウ
ムVRにて動作レベルVSを適当に設定することに
より、正確な検知エリアDEが容易に設定でき、
減算回路２３出力ln（VA／VB）が動作レベルVS以
上となつたとき、比較回路２４出力がＨレベルと
なり、信号処理回路２５を介して出力回路６が作
動される。
ムVRにて動作レベルVSを適当に設定することに
より、正確な検知エリアDEが容易に設定でき、
減算回路２３出力ln（VA／VB）が動作レベルVS以
上となつたとき、比較回路２４出力がＨレベルと
なり、信号処理回路２５を介して出力回路６が作
動される。
この場合、判別制御手段５は、受光素子２０
ａ，２０ｂ出力のレベル比を演算し、そのレベル
比が予め設定された動作レベルVSのとき、出力
回路６を作動させるようになつており、被検知物
体Ｘによる反射光Ｒのレベルと関係なく検知エリ
アDEが設定されるようになつているので、検知
エリアDEの後方に存在する光反射率の大きい物
体による誤動作が防止できるとともに、被検知物
体Ｘの光反射率に関係なく検知エリアDEを設定
でき、さらに投、受光用光学系１３，３の汚れの
影響を受けることがないようになつている。
ａ，２０ｂ出力のレベル比を演算し、そのレベル
比が予め設定された動作レベルVSのとき、出力
回路６を作動させるようになつており、被検知物
体Ｘによる反射光Ｒのレベルと関係なく検知エリ
アDEが設定されるようになつているので、検知
エリアDEの後方に存在する光反射率の大きい物
体による誤動作が防止できるとともに、被検知物
体Ｘの光反射率に関係なく検知エリアDEを設定
でき、さらに投、受光用光学系１３，３の汚れの
影響を受けることがないようになつている。
ところで、このような基本例において、被検知
物体Ｘが光ビームＰを遮るように例えば、光ビー
ムＰの投光方向と直交する方向（矢印Ｚ）に移動
し、光ビームＰが一定のビーム径（ΔP）を有し
ている場合において、被検知物体Ｘに光ビームＰ
が完全に照射（P1〜P3部分が照射）されている
か否かによつて誤動作が発生するという問題があ
つた。すなわち、光ビームＰが第５図ａに示すよ
うに、被検知物体Ｘに完全に照射されている場合
にあつては、位置検出手段４上の集光スポツトＳ
のスポツト径はx1−x3であり、その中心位置はx2
となり、被検知物体Ｘの距離l2に対応する位置情
報として集光スポツトＳの中心位置x2に基づいた
位置信号IA，IBが出力されることになる。
物体Ｘが光ビームＰを遮るように例えば、光ビー
ムＰの投光方向と直交する方向（矢印Ｚ）に移動
し、光ビームＰが一定のビーム径（ΔP）を有し
ている場合において、被検知物体Ｘに光ビームＰ
が完全に照射（P1〜P3部分が照射）されている
か否かによつて誤動作が発生するという問題があ
つた。すなわち、光ビームＰが第５図ａに示すよ
うに、被検知物体Ｘに完全に照射されている場合
にあつては、位置検出手段４上の集光スポツトＳ
のスポツト径はx1−x3であり、その中心位置はx2
となり、被検知物体Ｘの距離l2に対応する位置情
報として集光スポツトＳの中心位置x2に基づいた
位置信号IA，IBが出力されることになる。
同様にして、被検知物体Ｘまでの距離がl1，l3
で光ビームＰが被検知物体Ｘに完全に照射されて
いる場合、その場合の集光スポツトＳの中心位置
x1，x3に基づいた位置信号IA，IBが被検知物体Ｘ
の距離l1，l3に対応する位置情報として出力され
る。この場合、集光スポツトＳの中心位置ｘは、
ｘ＝（l0×ｆ）／ｌとなる。但し、ｆは受光用光
学系３の焦点距離である。
で光ビームＰが被検知物体Ｘに完全に照射されて
いる場合、その場合の集光スポツトＳの中心位置
x1，x3に基づいた位置信号IA，IBが被検知物体Ｘ
の距離l1，l3に対応する位置情報として出力され
る。この場合、集光スポツトＳの中心位置ｘは、
ｘ＝（l0×ｆ）／ｌとなる。但し、ｆは受光用光
学系３の焦点距離である。
しかしながら、今、光ビームＰを遮るように例
えば、Ｚ方向に移動する被検知物体Ｘが第５図ｂ
のような位置にあり、光ビームＰのP1部分のみ
が被検知物体Ｘに照射されている場合には、位置
検出手段４上の集光スポツトＳのスポツト径は微
小な値となり、集光スポツトＳの中心位置はほぼ
x1となる。この場合、集光スポツトＳの中心位置
に基づいた位置信号IA，IBが被検知物体Ｘの位置
情報として出力され、この位置情報は、被検知物
体Ｘが距離l1に存在する場合のものと同一である
ので、被検知物体Ｘの位置を実際の位置よりも近
いと判断してしまうという問題がある。
えば、Ｚ方向に移動する被検知物体Ｘが第５図ｂ
のような位置にあり、光ビームＰのP1部分のみ
が被検知物体Ｘに照射されている場合には、位置
検出手段４上の集光スポツトＳのスポツト径は微
小な値となり、集光スポツトＳの中心位置はほぼ
x1となる。この場合、集光スポツトＳの中心位置
に基づいた位置信号IA，IBが被検知物体Ｘの位置
情報として出力され、この位置情報は、被検知物
体Ｘが距離l1に存在する場合のものと同一である
ので、被検知物体Ｘの位置を実際の位置よりも近
いと判断してしまうという問題がある。
また、被検知物体Ｘが第５図ｃのような位置に
移動し、光ビームＰのP3部分のみが被検知物体
Ｘに照射している場合には、位置検出手段４上の
集光スポツトＳの中心位置はほぼx3となり、集光
スポツトＳの中心位置x3に基づいた位置信号IA，
IBが被検知物体Ｘの位置情報として出力され、あ
たかも被検知物体Ｘが距離l3の位置にあると認識
され、実際の位置よりも遠いと判断してしまうと
いう問題があつた。つまり、被検知物体Ｘが光ビ
ームＰに入るときと出るときに誤動作が生じるこ
とになる。
移動し、光ビームＰのP3部分のみが被検知物体
Ｘに照射している場合には、位置検出手段４上の
集光スポツトＳの中心位置はほぼx3となり、集光
スポツトＳの中心位置x3に基づいた位置信号IA，
IBが被検知物体Ｘの位置情報として出力され、あ
たかも被検知物体Ｘが距離l3の位置にあると認識
され、実際の位置よりも遠いと判断してしまうと
いう問題があつた。つまり、被検知物体Ｘが光ビ
ームＰに入るときと出るときに誤動作が生じるこ
とになる。
ところで、集光スポツトＳの中心位置のずれ
Δx（x1−x2、x3−x2）は、 Δx＝（ΔP×ｆ）／2l であり、集光スポツトＳの中心位置ｘは前述のよ
うに、 ｘ＝（l0×ｆ）／ｌ であり、 （Δx／ｘ）＝（ΔP／2l0） を小さくすれば上記誤動作を軽減できることにな
るが、投光手段１と受光手段２との間の距離l0を
長くすること、及びビーム径ΔPを細くすること
に対しては種々の制限があり、根本的解決にはな
らないものである。
Δx（x1−x2、x3−x2）は、 Δx＝（ΔP×ｆ）／2l であり、集光スポツトＳの中心位置ｘは前述のよ
うに、 ｘ＝（l0×ｆ）／ｌ であり、 （Δx／ｘ）＝（ΔP／2l0） を小さくすれば上記誤動作を軽減できることにな
るが、投光手段１と受光手段２との間の距離l0を
長くすること、及びビーム径ΔPを細くすること
に対しては種々の制限があり、根本的解決にはな
らないものである。
本発明は、上述の点に鑑みて提供したものであ
つて、被検知物体が投光手段から投光される光ビ
ームを遮るように移動し、光ビームがビーム径を
有している場合における誤動作を防止することを
目的としたものである。
つて、被検知物体が投光手段から投光される光ビ
ームを遮るように移動し、光ビームがビーム径を
有している場合における誤動作を防止することを
目的としたものである。
（実施例）
以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明
する。第６図及び第７図は本発明一実施例を示す
もので、前述の基本例と同様の投光手段１を有
し、投光手段１の両側に夫々所定間隔l0をもつて
受光手段２1，２2を配設したものである。投光手
段１の光軸に対して対称に配置された受光手段２
１，２2の受光用光学系３1，３2は被検知物体Ｘに
よる光ビームＰの反射光をそれぞれ集光するよう
になつており、両受光用光学系３1，３2の集光面
には集光スポツトＳの位置に対応した位置信号を
出力する位置検出手段４1，４2がそれぞれ配設さ
れている。
する。第６図及び第７図は本発明一実施例を示す
もので、前述の基本例と同様の投光手段１を有
し、投光手段１の両側に夫々所定間隔l0をもつて
受光手段２1，２2を配設したものである。投光手
段１の光軸に対して対称に配置された受光手段２
１，２2の受光用光学系３1，３2は被検知物体Ｘに
よる光ビームＰの反射光をそれぞれ集光するよう
になつており、両受光用光学系３1，３2の集光面
には集光スポツトＳの位置に対応した位置信号を
出力する位置検出手段４1，４2がそれぞれ配設さ
れている。
位置検出手段４1，４2はそれぞれ一対の受光素
子２０1A，２０1B，２０2A，２０2BをＭ方向に連
設して形成されている。なお、実施例では受光手
段２1，２2と投光手段１との間隔は同一となつて
いるが、夫々異なつた間隔に設定しても良く、こ
の場合、受光素子２０1A，２０1B，２０2A，２０2
Ｂの寸法を変えるか、後述する判別制御手段５の
演算にて補正すれば良い。また、受光用光学系３
１，３2の光軸を投光手段１の光ビームＰと交叉さ
せるようにしても良く、更にまた、実施例では受
光用光学系３1，３2と投光用光学系１３と、受光
素子２０1A，２０1B，２０2A，２０2Bは互いに平
行となつているが、必ずしも平行でなくても良
い。
子２０1A，２０1B，２０2A，２０2BをＭ方向に連
設して形成されている。なお、実施例では受光手
段２1，２2と投光手段１との間隔は同一となつて
いるが、夫々異なつた間隔に設定しても良く、こ
の場合、受光素子２０1A，２０1B，２０2A，２０2
Ｂの寸法を変えるか、後述する判別制御手段５の
演算にて補正すれば良い。また、受光用光学系３
１，３2の光軸を投光手段１の光ビームＰと交叉さ
せるようにしても良く、更にまた、実施例では受
光用光学系３1，３2と投光用光学系１３と、受光
素子２０1A，２０1B，２０2A，２０2Bは互いに平
行となつているが、必ずしも平行でなくても良
い。
位置検出手段４1，４2の出力は、前述の基本例
と同様の判別制御手段５出力に基づいて被検知物
体Ｘが所定検知エリアDE内に存在するかどうか
を判別して出力回路６を制御するようになつてお
り、両位置検出手段４からは被検知物体Ｘに光ビ
ームＰの一部が照射された場合において相反的な
位置信号が出力されるので、光ビームＰの一部が
被検知物体Ｘに照射された場合における異常位置
信号を補正することができ、被検知物体Ｘに光ビ
ームＰが完全に照射されない場合の誤動作を防止
することができるようになつている。
と同様の判別制御手段５出力に基づいて被検知物
体Ｘが所定検知エリアDE内に存在するかどうか
を判別して出力回路６を制御するようになつてお
り、両位置検出手段４からは被検知物体Ｘに光ビ
ームＰの一部が照射された場合において相反的な
位置信号が出力されるので、光ビームＰの一部が
被検知物体Ｘに照射された場合における異常位置
信号を補正することができ、被検知物体Ｘに光ビ
ームＰが完全に照射されない場合の誤動作を防止
することができるようになつている。
すなわち、実施例１にあつては、受光素子２０
２Ａ，２０1Aから出力される信号電流I2A，I1Aの和
を位置信号IAとして受光回路２１ａに入力すると
ともに、受光素子２０2B，２０1Bから出力される
信号電流I2B，I1Bの和を位置信号IBとして受光回
路２１ｂに入力し、基本例と同様に位置信号IA，
IBに比例した電圧VA，VBを形成し、対数増幅回
路２２ａ，２２ｂにて対数増幅した電圧lnVA，
lnVBを減算回路２３にて減算し、減算回路２３
出力ln（VA／VB）に基づいて被検知物体Ｘまでの
距離ｌを判別して出力回路６を制御するようにな
つている。
２Ａ，２０1Aから出力される信号電流I2A，I1Aの和
を位置信号IAとして受光回路２１ａに入力すると
ともに、受光素子２０2B，２０1Bから出力される
信号電流I2B，I1Bの和を位置信号IBとして受光回
路２１ｂに入力し、基本例と同様に位置信号IA，
IBに比例した電圧VA，VBを形成し、対数増幅回
路２２ａ，２２ｂにて対数増幅した電圧lnVA，
lnVBを減算回路２３にて減算し、減算回路２３
出力ln（VA／VB）に基づいて被検知物体Ｘまでの
距離ｌを判別して出力回路６を制御するようにな
つている。
（実施例の動作）
今、被検知物体Ｘに光ビームＰが完全に照射さ
れている場合、位置検出手段４1上の集光スポツ
トS1のスポツト径は、x1−x3となり、その中心位
置はx2となるとともに、位置検出手段４2上の集
光スポツトS2のスポツト径は、x1′−x3′となり、
その中心位置はx2′となり、同一の位置検出手段
４1，４2を投光手段１の光ビームＰに対して対称
に配置しているので、x1＝x1′、，x2＝x2′、x3＝
x3′となる。従つて、位置検出手段４1，４2の各
受光素子２０1A，２０1B，２０2A，２０2Bに対応
する信号電流I1A，I1B，I2A，I2Bが出力され、この
場合、I1A＝I2A、I1B＝I2Bとなつており、信号電流
I1A，I2Aの和（2I1A＝IA）と、信号電流I1B，I2Bの
和（2I1B＝IB）との比、すなわちVA／VBは、
I1A／I1Bとなり、基本例と全く同様にして被検知
物体Ｘまでの距離ｌが判別され、出力回路６が制
御される。
れている場合、位置検出手段４1上の集光スポツ
トS1のスポツト径は、x1−x3となり、その中心位
置はx2となるとともに、位置検出手段４2上の集
光スポツトS2のスポツト径は、x1′−x3′となり、
その中心位置はx2′となり、同一の位置検出手段
４1，４2を投光手段１の光ビームＰに対して対称
に配置しているので、x1＝x1′、，x2＝x2′、x3＝
x3′となる。従つて、位置検出手段４1，４2の各
受光素子２０1A，２０1B，２０2A，２０2Bに対応
する信号電流I1A，I1B，I2A，I2Bが出力され、この
場合、I1A＝I2A、I1B＝I2Bとなつており、信号電流
I1A，I2Aの和（2I1A＝IA）と、信号電流I1B，I2Bの
和（2I1B＝IB）との比、すなわちVA／VBは、
I1A／I1Bとなり、基本例と全く同様にして被検知
物体Ｘまでの距離ｌが判別され、出力回路６が制
御される。
一方、被検知物体Ｘに光ビームＰのP1部分の
みが照射されている場合、各位置検出手段４1，
４2上の集光スポツトS1，S2の中心位置は、x1，
x3′となり、この中心位置x1，x3′は、 x1＝ｆ／ｌ（ｌ＋ΔP／２） x3′＝ｆ／ｌ（l0−ΔP／２） となる。ここに、位置検出手段４1，４2の信号電
流I1A，I2Aの和IA及び信号電流I1B，I2Bの和IBをと
ることにより、 x1＋x3′＝ｆ／ｌ（l0＋P／２）＋ｆ／ｌ（l0−ΔP
／２） ＝２×（ｆ／ｌ）l0＝２・x2 に対応する位置情報が得られることになり、上式
から明らかなようにx1＋x3′／２は、被検知物体
Ｘの正確な距離ｌを示しており、判別制御手段５
にてln（IA／IB）を演算することにより、被検知物
体Ｘの位置を正確に判断できることになる。同様
にして被検知物体Ｘに光ビームＰのP3部分のみ
が照射された場合にも被検知物体Ｘの位置を正確
に判断でき、被検知物体Ｘが光ビームＰと直交す
る方向（Ｚ方向）に移動し、光ビームＰが一定の
ビーム径ΔPを有する場合にあつても、被検知物
体Ｘの位置が正確に判断され、被検知物体Ｘが光
ビームＰに入るときと、出るときにおける誤動作
を防止できる。
みが照射されている場合、各位置検出手段４1，
４2上の集光スポツトS1，S2の中心位置は、x1，
x3′となり、この中心位置x1，x3′は、 x1＝ｆ／ｌ（ｌ＋ΔP／２） x3′＝ｆ／ｌ（l0−ΔP／２） となる。ここに、位置検出手段４1，４2の信号電
流I1A，I2Aの和IA及び信号電流I1B，I2Bの和IBをと
ることにより、 x1＋x3′＝ｆ／ｌ（l0＋P／２）＋ｆ／ｌ（l0−ΔP
／２） ＝２×（ｆ／ｌ）l0＝２・x2 に対応する位置情報が得られることになり、上式
から明らかなようにx1＋x3′／２は、被検知物体
Ｘの正確な距離ｌを示しており、判別制御手段５
にてln（IA／IB）を演算することにより、被検知物
体Ｘの位置を正確に判断できることになる。同様
にして被検知物体Ｘに光ビームＰのP3部分のみ
が照射された場合にも被検知物体Ｘの位置を正確
に判断でき、被検知物体Ｘが光ビームＰと直交す
る方向（Ｚ方向）に移動し、光ビームＰが一定の
ビーム径ΔPを有する場合にあつても、被検知物
体Ｘの位置が正確に判断され、被検知物体Ｘが光
ビームＰに入るときと、出るときにおける誤動作
を防止できる。
本発明は上述のように、移動する被検知物体に
対して光ビームを投光する投光手段と、投光手段
の両側に夫々所定間隔をもつて配設され、被検知
物体による光ビームの反射光を集光する第１、第
２の受光用光学系と、第１、第２の受光用光学系
の集光面にそれぞれ配設され集光スポツトの位置
に対応した位置信号を出力する第１、第２の一対
の受光素子と、第１の受光素子の出力をI1A，I1B
とし、第２の受光素子の出力をI2A，I2Bとして、
両受光素子出力を式 I1A＋I2A／I1B＋I2B について演算を行い、この出力に基いて被検知物
体が所定エリア内に存在するかどうかを判別して
出力回路を制御する判別制御手段とを具備してい
るものであるから、被検知物体が光ビームの一部
を遮る場合において第１、第２の一対の受光素子
から出力される相反的な位置信号に基づいて異常
位置データを補正することができ、被検知物体が
投光手段から投光される光ビームを遮るように移
動し、光ビームがビーム径を有している場合にお
いても、誤動作を防止することができる効果を奏
するものである。
対して光ビームを投光する投光手段と、投光手段
の両側に夫々所定間隔をもつて配設され、被検知
物体による光ビームの反射光を集光する第１、第
２の受光用光学系と、第１、第２の受光用光学系
の集光面にそれぞれ配設され集光スポツトの位置
に対応した位置信号を出力する第１、第２の一対
の受光素子と、第１の受光素子の出力をI1A，I1B
とし、第２の受光素子の出力をI2A，I2Bとして、
両受光素子出力を式 I1A＋I2A／I1B＋I2B について演算を行い、この出力に基いて被検知物
体が所定エリア内に存在するかどうかを判別して
出力回路を制御する判別制御手段とを具備してい
るものであるから、被検知物体が光ビームの一部
を遮る場合において第１、第２の一対の受光素子
から出力される相反的な位置信号に基づいて異常
位置データを補正することができ、被検知物体が
投光手段から投光される光ビームを遮るように移
動し、光ビームがビーム径を有している場合にお
いても、誤動作を防止することができる効果を奏
するものである。
第１図は本発明に係る基本例の構成を示す図、
第２図は同上のブロツク回路図、第３図乃至第５
図は同上の動作説明図、第６図は本発明の一実施
例の概略構成及び動作を示す図、第７図は同上の
ブロツク回路図である。 １は投光手段、３1，３2は受光用光学系、５は
判別制御手段、６は出力回路、２０1A，２０1B，
２０2A，２０2Bは受光素子である。
第２図は同上のブロツク回路図、第３図乃至第５
図は同上の動作説明図、第６図は本発明の一実施
例の概略構成及び動作を示す図、第７図は同上の
ブロツク回路図である。 １は投光手段、３1，３2は受光用光学系、５は
判別制御手段、６は出力回路、２０1A，２０1B，
２０2A，２０2Bは受光素子である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 移動する被検知物体に対して光ビームを投光
する投光手段と、投光手段の両側に夫々所定間隔
をもつて配設され、被検知物体による光ビームの
反射光を集光する第１、第２の受光用光学系と、
第１、第２の受光用光学系の集光面にそれぞれ配
設され集光スポツトの位置に対応した位置信号を
出力する第１、第２の一対の受光素子と、第１の
受光素子の出力をI1A，I1Bとし、第２の受光素子
の出力をI2A，I2Bとして、両受光素子出力を式 I1A＋I2A／I1B＋I2B について演算を行い、この出力に基いて被検知物
体が所定エリア内に存在するかどうかを判別して
出力回路を制御する判別制御手段とを具備して成
る反射型光電スイツチ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2207265A JPH03179211A (ja) | 1990-08-03 | 1990-08-03 | 反射型光電スイッチ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2207265A JPH03179211A (ja) | 1990-08-03 | 1990-08-03 | 反射型光電スイッチ |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58032355A Division JPS59158029A (ja) | 1983-02-28 | 1983-02-28 | 反射型光電スイツチ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03179211A JPH03179211A (ja) | 1991-08-05 |
| JPH0536733B2 true JPH0536733B2 (ja) | 1993-05-31 |
Family
ID=16536932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2207265A Granted JPH03179211A (ja) | 1990-08-03 | 1990-08-03 | 反射型光電スイッチ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03179211A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4538928B2 (ja) * | 2000-09-12 | 2010-09-08 | 住友金属工業株式会社 | 結晶粒度異常判定装置および結晶粒度異常判定方法 |
| CN110320327B (zh) * | 2019-06-05 | 2023-12-15 | 浙江杭可科技股份有限公司 | 烟感自动测试装置及检测方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59762B2 (ja) * | 1979-03-09 | 1984-01-09 | 安立電気株式会社 | 変位測定装置 |
| JPS57104809A (en) * | 1980-12-22 | 1982-06-30 | Minolta Camera Co Ltd | Range finder |
| EP0071667A1 (en) * | 1981-08-11 | 1983-02-16 | Karl-Erik Morander | Device for determining the real or the virtual distance of a source of light from a measuring plane |
| JPS5952514A (ja) * | 1982-09-20 | 1984-03-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | エアロゾルの浄化方法 |
-
1990
- 1990-08-03 JP JP2207265A patent/JPH03179211A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03179211A (ja) | 1991-08-05 |
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