JPH0536831U - ウエーハ洗浄装置 - Google Patents
ウエーハ洗浄装置Info
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- JPH0536831U JPH0536831U JP9138691U JP9138691U JPH0536831U JP H0536831 U JPH0536831 U JP H0536831U JP 9138691 U JP9138691 U JP 9138691U JP 9138691 U JP9138691 U JP 9138691U JP H0536831 U JPH0536831 U JP H0536831U
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- peripheral edge
- peripheral
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウエ−ハの表面を洗浄すると同時に裏面周縁
部を洗浄する。 【構成】 ウエ−ハ(2)の裏面中央部を保持し、該ウ
エ−ハを回転させるチャック(1)に隣接して周縁洗浄
ブラシ体(6)を設ける。上記ウエ−ハ(2)の表面に
洗浄ブラシ体(5)を接触させて洗浄するとき、上記周
縁洗浄ブラシ体(6)をウエ−ハ(2)の裏面周縁部に
同時に接触させて周縁部を洗浄する。
部を洗浄する。 【構成】 ウエ−ハ(2)の裏面中央部を保持し、該ウ
エ−ハを回転させるチャック(1)に隣接して周縁洗浄
ブラシ体(6)を設ける。上記ウエ−ハ(2)の表面に
洗浄ブラシ体(5)を接触させて洗浄するとき、上記周
縁洗浄ブラシ体(6)をウエ−ハ(2)の裏面周縁部に
同時に接触させて周縁部を洗浄する。
Description
【0001】
本考案は、ウエ−ハの表面をブラシにより洗浄するウエ−ハ洗浄装置に関する 。
【0002】
ウエ−ハを回転させながら、表面に洗浄液をかけ、ブラシで洗浄するようにし たウエ−ハ洗浄装置が用いられているが、従来の洗浄装置はウエ−ハの表面を洗 浄するだけである。そのため、例えばCVD装置等により表面に薄膜を形成する 際、ウエ−ハの裏面周縁にまわり込んで形成された不要な薄膜を除去することが できなかったり、表面からの除去物が裏面周縁に再付着して裏面を汚染するよう なこともあった。
【0003】
本考案の目的は、ウエ−ハをブラシ洗浄する際に、同時に裏面周縁部もブラシ 洗浄できるようにしたウエ−ハ洗浄装置を提供し、上記のような欠点を改善しよ うとするものである。
【0004】
本考案によれば、ウエ−ハを回転自在に保持するチャックに隣接して該ウエ− ハの裏面周縁に摺接する周縁洗浄ブラシ体を設けたことを特徴とするウエ−ハ洗 浄装置が提供され、上記目的が達成される。
【0005】
図において、チャック(1)は、ウエ−ハ(2)の裏面中央部を吸着保持して 回転させる真空チャック等の公知の適宜のチャック装置が用いられ、洗浄槽(3 )内に設けられている。該チャック(1)の上方には、ウエ−ハ(2)の表面に 洗浄液、リンス液、純水等を供給する適宜数のノズル(4)、ウエ−ハの表面に 接離自在に摺接する回転可能な洗浄ブラシ体(5)等が設けられている。
【0006】 上記チャック(1)に隣接して、上記ウエ−ハ(2)の裏面周縁に摺接するよ う周縁洗浄ブラシ体(6)が設けられている。該周縁洗浄ブラシ体(6)は、上 記ウエ−ハ(2)の回転に伴って従動回転するよう略断面円形に形成し、ア−ム (7)の先端に回転可能に取付けることもできるが、図においては非回転状態で ア−ム(7)に取付けてある。
【0007】 すなわち、図において、周縁洗浄ブラシ体(6)は、図3に示すように、ウエ −ハ(2)に摺接する適宜長さの直線部(8)・・・を周面に有する略断面四角 形その他の適宜の断面多角形に形成され、ア−ム(7)に設けた角軸(9)に嵌 着され、側方からねじ(10)で抜け止めされている。そして、1つの直線部(8) をウエ−ハ(2)に摺接させて使用し、摩滅したら上記ねじ(10)を外し上記周縁 洗浄ブラシ体(6)の取付位置を変えて装着し直し、他の直線部(8)をウエ− ハ(2)の裏面に対向させて使用できるようにしてある。このようにすれば、1 つのブラシ体を永く使用できる。
【0008】 上記周縁洗浄ブラシ体(6)を取付けるア−ム(7)は、レバ−(11)の一端に ねじ着(12)されている。なお、ウエ−ハ(2)のサイズが変っても常にウエ−ハ の裏面周縁部に上記周縁洗浄ブラシ体(6)が対向するように、上記ア−ムは異 なる長さのものを複数用意するとよい。
【0009】 上記レバ−(11)は、上記洗浄槽(3)に設けたブラケット(13)に枢着(14)され 、他端に形成した長溝(15)に、連結軸(16)の先端にねじ着したピン(17)を遊嵌し てある。該連結軸(16)をエアシリンダ(図示略)等で軸方向へ進退させれば、上 記レバ−(11)を介して上記ア−ム(7)はウエ−ハ(2)に近づく方向(図1、 矢印)に揺動するから、上記周縁洗浄ブラシ体(6) は、上記ウエ−ハ(2)の裏 面周縁部に対向する洗浄位置と後退位置の間を移動する。
【0010】 上記周縁洗浄ブラシ体(6)は上記洗浄位置においてウエ−ハ(2)の裏面周 縁部及び周縁端面部に接触する(図2)が、この接触状態は可変できることが望 ましい。図においては、図4に示すように上記レバ−(11)の枢着部(14)に支持筒 (18)を形成し、該支持筒(18)を上記ブラケット(13)に設けた取付孔(19)に差し込 み、その差込量を調整してねじ(20)で固定することにより、上記接触状態を微調 節できるようにしてあるが、その他適宜の手段を用いることができる。
【0011】 なお、上記ウエ−ハの裏面周縁部に洗浄液、リンス液、純水等を供給する適宜 数のノズル(21)が洗浄槽(3)内の下方位置に設けられている。
【0012】 而して、適宜の搬送手段でウエ−ハ(2)が洗浄槽(3)内に運ばれると、該 ウエ−ハ(2)はチャック(1)に保持されて回転し、表面部に洗浄液をかけな がら洗浄ブラシ体(5)を摺接して表面全体がブラシ洗浄されると共に裏面周縁 部にも洗浄液をかけながら周縁洗浄ブラシ体(6)を摺接することにより裏面周 縁部が洗浄される。
【0013】
本考案は上記のように構成され、ウエ−ハの表面全体をブラシ洗浄すると同時 に裏面周縁部もブラシ洗浄することができ、きれいに洗浄されたウエーハが得ら れる。
【図1】本考案の一実施例を示す一部を断面した平面
図。
図。
【図2】一部を断面して示す正面図。
【図3】周縁洗浄ブラシ体の斜視図。
【図4】主としてレバ−の枢着部の断面図。
1 チャック 2 ウエ−ハ 3 洗浄槽 5 洗浄ブラシ体 6 周縁洗浄ブラシ体
Claims (2)
- 【請求項1】 ウエ−ハの裏面中央部を保持する回転自
在のチャックに隣接して上記ウエ−ハの裏面周縁に摺接
する周縁洗浄ブラシ体を設けたことを特徴とするウエ−
ハ洗浄装置。 - 【請求項2】 上記周縁洗浄ブラシ体は、ウエ−ハに摺
接する直線部を周面に有する断面多角形に形成されてい
る請求項1に記載のウエ−ハ洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9138691U JPH0536831U (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | ウエーハ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9138691U JPH0536831U (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | ウエーハ洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0536831U true JPH0536831U (ja) | 1993-05-18 |
Family
ID=14024940
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9138691U Pending JPH0536831U (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | ウエーハ洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0536831U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013115207A (ja) * | 2011-11-28 | 2013-06-10 | Tokyo Electron Ltd | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 |
| KR20170100854A (ko) * | 2016-02-26 | 2017-09-05 | 삼성전자주식회사 | 기판 세정 장치 및 이를 이용한 기판 세정 설비 |
-
1991
- 1991-10-14 JP JP9138691U patent/JPH0536831U/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013115207A (ja) * | 2011-11-28 | 2013-06-10 | Tokyo Electron Ltd | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 |
| KR20170100854A (ko) * | 2016-02-26 | 2017-09-05 | 삼성전자주식회사 | 기판 세정 장치 및 이를 이용한 기판 세정 설비 |
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