JPS62122131A

JPS62122131A - ブラシスクラブ方法

Info

Publication number: JPS62122131A
Application number: JP60262045A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiko Yamaguchi; 和彦山口
Original assignee: Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd; Kansai Nippon Electric Co Ltd
Current assignee: Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd; Kansai Nippon Electric Co Ltd
Priority date: 1985-11-21
Filing date: 1985-11-21
Publication date: 1987-06-03

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】皮粟上生科里公立本発明は、半導体ウェーハに付着した塵埃等を除去する
ブラシスクラブ方法に関するものである。

従漣４１九避第３図および第４図は半導体ウェーハに付着した塵埃等
を除去する従来のブラシスクラブ方法を説明するための
図である。同図において、（１）は半導体ウェーハ、（
２）は支持台、（３）は支持台（２）上に回転可能に設
置された回転台で、この回転台（３）上に上記半導体ウ
ェーハ（１）をエアー吸引保持する。（４）は基端部（
４ａ）を支点に左右方向に回動動作する支持棒、（５）
は支持棒（４）の先端に回転軸（６）を介して回転可能
に装着した回転刷子で、この回転刷子（５）を適宜の駆
動モータ〔図示省略〕で低速回転させ、上記半導体つ工
−ハ（１）の表面（１ａ）に付着した塵埃等を払拭する
。（７）は上記回転刷子（５）の洗浄に使用する水槽で
、この水槽（７）は上記支持台（２）の隣接位置に設置
しである。（８）は水槽（７）の上部開口部（９）の所
定位置に支持されたノズルで、このノズル（８）から噴
射する高純度の水液で、回転刷子（５）を洗浄して該回
転刷子（５）に付着した塵埃等を払拭する。

而して、上記半導体ウェーハ（１）の表面（ｌａ）に付
着した塵埃等を払拭する場合は、回転台（３）を所定方
向に回転させると共に、支持棒（４）を基端部（４ａ）
を支点に矢印方向に回動させて、回転刷子（５）を回転
台（３）上に吸引保持された半導体ウェーハ（１）の表
面（１ａ）に当接させ、該回転刷子（５）の回転によっ
て半導体ウェーハ（１）の表面（１ａ）に付着した塵埃
等を擦り取る。上記半導体ウェーハ（１）の表面（１ａ
）の塵埃等を回転刷子（５）で擦り取ると、支持棒（４
）が基端部（４ａ）を中心に反対方向に回動して回転刷
子（５）は第３図の如く水槽（７）の内部に収容される
。上記回転刷子（５）は水槽（７）内でも回転している
ので、ノズル（８）から噴射する水液で全周にわたって
水洗いされ、該回転刷子（５）に付着した塵埃等は払拭
される。こうして水洗いされた回転刷子（５）は、回転
台（３）上に新たに吸引保持された半導体ウェーハ（１
）の表面（１ａ）に当接せしめられ、上記と同様に該表
面（１ａ）に付着し、た塵埃等を擦り取る。このように
回転刷子（５）は水！１　（７）内においてノズル（８
）から噴射する水液で水洗いされ、反復使用に供される
。

−８＜　°　しようと」ｊｌ那１怠上記回転刷子（５）は水槽（７）においてノズル（８）
から噴射する水液に°ζ回転しながら水洗いされるが、
この水洗いは上記ノズル（７プから噴射する水液を回転
刷子（５）に吹き当てるだけであったので、回転刷子（
５）の毛足が長いことと相俟って、回転刷子（５）に付
着した塵埃等を完全に除去することは困難である。

そのため水洗い済みの上記回転刷子（５）でその後移送
されてきた半導体ウェーハ（１）の表面（１ａ）を擦る
と、回転刷子（５）に残留した塵埃等をかえって、該半
導体ウェーハ（１）に付着して汚染してしまうという問
題があった。

附」瀘玉１ＵロンＶ［艷Δ１没本発明は、上記問題点に鑑み、提案されたもので、定位
置に保持された半導体ウェーハの表面に付着した塵埃等
を、回転刷子の回転によって擦り取った後、該回転刷子
に水液を吹き付けて洗浄するブラシスクラブ方法におい
て、上記回転刷子の洗浄時、低速回転する回転刷子に水
液を吹き当てた後、該回転刷子を高速回転させるブラシ
スクラブ方法である。

１朋本発明は、塵埃等の付着した低速回転する回転刷子に水
液を噴射して該塵埃等の付着力を弱めた後、回転刷子を
高速回転させ、その強い遠心力で回転刷子に付着した塵
埃等を水液とともに振り切る。

ｌ上口第１図および第２図は本発明の実施例を示す概念図であ
る。尚、第３図および第４図と同一物は同一符号で示し
説明を省略する。本発明の特徴は、前記支持棒（４）の
先端に回転軸（１））を介して回転速度を二段に変更可
能な回転刷子（１２）を装着し、該回転刷子（１２）を
適宜の駆動モータ〔図示省略〕でブラシスクラブ動作に
応じて低速回転および高速回転させることにある。

そうして、上記半導体ウェーハ（１）の表面（１ａ）に
付着した塵埃等を払拭する場合は、回転台（３）を所定
方向に回転させると共に、回転刷子（１２）を低速回転
させる。しかる後、前記支持棒（４）を基端部（４ａ）
を支点に矢印方向に回転させて、低速回転している回転
刷子（１２）を回転台（３）上に吸引保持された半導体
ウェーハ（１）の表面（ｌａ）に当接させ、該回転刷子
（１２）の回転によって半導体ウェーハ（１）の表面に
付着した塵埃等を擦り取る。上記半導体ウェーハ（１）
の表面（１ａ）の塵埃等を回転刷子（１２）で擦り取る
と、支持棒（４）が基端部（４ａ）を中心に反対方向に
回動して回転刷子（１２）は第１図の如く水槽（７）の
内部に収容される。そして、上記回転刷子（１２）は水
槽（７）内でも低速回転しているので、ノズル（８）か
ら噴射した純水の水液が回転刷子（１２）の全周にわた
って吹き当てられ、該回転刷子（１２）に付着した塵埃
等が膨潤化する。こうして回転刷子（１２）の全周にわ
たって水液が吹き当てられると、該回転刷子（１２）は
駆動モ−タによって高速回転せしめられる。すると回転
刷子（１２）に付着した塵埃等は、膨潤化して付着力が
弱まっているので、回転刷子（１２）の高速回転により
生じる大きな遠心力で、水液と一緒に振り切られて完全
に払拭される。上記回転刷子（１２）は、洗浄されて塵
埃等が払拭されると、低速回転となり、回転台（３）上
に新たに吸引保持された半導体ウェーハ（１）の表面（
１８）に当接せしめられ、上記と同様に該表面（１ａ）
に付着した塵埃等を擦り取る。

会所■立来本発明は、塵埃等の付着した回転刷子に水液を吹き当て
て該塵埃等の付着力を弱めた後、該回転刷子を高速回転
させ、その遠心力で付着した塵埃等を水液と一緒に振り
切るので、上記回転刷子に付着した塵埃等を確実、かつ
、完全に払拭することができると共に、回転刷子を反復
使用しても従来の如く半導体ウェーハが塵埃等で汚染す
ることがない。しかも、回転刷子をブラシスクラブ動作
に応じて低速回転および高速回転させるだけでよいので
スクラブ装置の構造が複雑化することがなく、製作コス
トが安価となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明方法の概念図、第２図はその方法を用い
るブラシスクラブ装置の要部断面斜視図である。第３図
は従来の方法の概念図、第４図はその方法を用いるブラ
シスクラブ装置の要部断面斜視図である。（１）−・半導体つ、Ｌ−ハ、（ｂ＋）・・−ウェー八表面、（１２）−・一回転刷子。ｒ７−、−一□ 特　許　出　願　人　　関西日本電気株式会社　１）．
・−代　　　　理　　　　人　　江　　原　　省　　吾
　１′”−ヒ：−−−−− 第１図　餐襞ｓＡ方琢情張Ｌ　Ｉｍ第２図　デラシＬフうフ゛′区１隼各Ｐこｌ凛１ネル昌
／Ｚ

Claims

【特許請求の範囲】

（１）定位置に保持された半導体ウェーハの表面に付着
した塵埃等を、回転刷子の回転によって擦り取った後、
該回転刷子に水液を吹き付けて洗浄するブラシスクラブ
方法において、上記回転刷子の洗浄時、低速回転する回
転刷子に水液を吹き当てた後、該回転刷子を高速回転さ
せることを特徴とするブラシスクラブ方法。