JPH0538671A - 両面同時平面研磨機用キヤリヤ - Google Patents
両面同時平面研磨機用キヤリヤInfo
- Publication number
- JPH0538671A JPH0538671A JP3193826A JP19382691A JPH0538671A JP H0538671 A JPH0538671 A JP H0538671A JP 3193826 A JP3193826 A JP 3193826A JP 19382691 A JP19382691 A JP 19382691A JP H0538671 A JPH0538671 A JP H0538671A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier
- rectangular
- polishing
- center
- storage hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 修正キャリヤによる上下定盤の修正作業を減
少させると共にキャリヤの亀裂破損を防止し得る両面同
時平面研磨機用キャリヤを提供すること。 【構成】 被研磨物３の両面同時平面研磨機に使用され
るキャリヤ５の矩形収納孔４の形成位置を上下定盤６、
７の外周に対して適当な条件に設定することにより、上
記目的を達成した。
少させると共にキャリヤの亀裂破損を防止し得る両面同
時平面研磨機用キャリヤを提供すること。 【構成】 被研磨物３の両面同時平面研磨機に使用され
るキャリヤ５の矩形収納孔４の形成位置を上下定盤６、
７の外周に対して適当な条件に設定することにより、上
記目的を達成した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、矩形の薄いガラスまた
はこれと同様な被研磨物の両面を同時に平面状に研磨す
る両面同時平面研磨機用キャリヤに関するものである。
はこれと同様な被研磨物の両面を同時に平面状に研磨す
る両面同時平面研磨機用キャリヤに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の両面同時平面研磨機は、
図４のＡ、Ｂに示す様に、同軸配置された太陽歯車
（１）及びこの太陽歯車（１）を取り囲む内歯車（２）
と、被研磨物（３）を収納保持する矩形収納孔（４）を
有して前記太陽歯車（１）と内歯車（２）とに噛合し、
該太陽歯車（１）の周りを公転しながら自転するキャリ
ヤ（５）と、このキャリヤ（５）を挾んで上下に対向し
その対向面には研磨表面が設けられかつそれぞれ回転駆
動される上定盤（６）及び下定盤（７）とを備えてい
る。
図４のＡ、Ｂに示す様に、同軸配置された太陽歯車
（１）及びこの太陽歯車（１）を取り囲む内歯車（２）
と、被研磨物（３）を収納保持する矩形収納孔（４）を
有して前記太陽歯車（１）と内歯車（２）とに噛合し、
該太陽歯車（１）の周りを公転しながら自転するキャリ
ヤ（５）と、このキャリヤ（５）を挾んで上下に対向し
その対向面には研磨表面が設けられかつそれぞれ回転駆
動される上定盤（６）及び下定盤（７）とを備えてい
る。
【０００３】また、従来のキャリヤ（５）は、図４のＣ
に示す様に、矩形収納孔（４）の外周に近い１辺に垂直
な２等分線がキャリヤ（５）の中心を通るように形成さ
れており、かつ、研磨時、キャリヤ（５）の矩形収納孔
（４）を上下定盤（６）（７）の内外周から食み出さな
いように矩形収納孔（４）の形成位置を設定していた。
に示す様に、矩形収納孔（４）の外周に近い１辺に垂直
な２等分線がキャリヤ（５）の中心を通るように形成さ
れており、かつ、研磨時、キャリヤ（５）の矩形収納孔
（４）を上下定盤（６）（７）の内外周から食み出さな
いように矩形収納孔（４）の形成位置を設定していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記した両面同時平面
研磨機において、例えば、厚さ0.2〜0.5mmでたて、よこ
が100×100mmくらいの薄いガラスを研磨するには、スエ
ーデン鋼などの板材に矩形収納孔（４）をあけたキャリ
ヤ（５）を用いてラップ研磨を行うと、鋳鉄製の上下定
盤（６）（７）に偏摩耗が生じ、ガラスの研磨面の平行
度が悪くなる。それを解消するため、鋳鉄製の修正キャ
リヤ（図示省略）で上下定盤（６）（７）の研磨表面の
平行度を頻繁に修正する必要があり、研磨作業能率が著
しく低下する欠点があった。
研磨機において、例えば、厚さ0.2〜0.5mmでたて、よこ
が100×100mmくらいの薄いガラスを研磨するには、スエ
ーデン鋼などの板材に矩形収納孔（４）をあけたキャリ
ヤ（５）を用いてラップ研磨を行うと、鋳鉄製の上下定
盤（６）（７）に偏摩耗が生じ、ガラスの研磨面の平行
度が悪くなる。それを解消するため、鋳鉄製の修正キャ
リヤ（図示省略）で上下定盤（６）（７）の研磨表面の
平行度を頻繁に修正する必要があり、研磨作業能率が著
しく低下する欠点があった。
【０００５】そこで、本発明者は、上記修正キャリヤに
よる修正作業を少なくするため、上下定盤（６）（７）
の外径を小さくし、定盤（６）（７）の内孔の径を大き
くし、上下定盤（６）（７）の内外周から被研磨物
（３）の一部を大きく食み出させて研磨することによ
り、上下定盤（６）（７）を内周縁から外周縁まで均一
に、摩耗させて偏摩耗を防止することを試行したが、次
のような不具合があった。
よる修正作業を少なくするため、上下定盤（６）（７）
の外径を小さくし、定盤（６）（７）の内孔の径を大き
くし、上下定盤（６）（７）の内外周から被研磨物
（３）の一部を大きく食み出させて研磨することによ
り、上下定盤（６）（７）を内周縁から外周縁まで均一
に、摩耗させて偏摩耗を防止することを試行したが、次
のような不具合があった。
【０００６】即ち、上下定盤（６）（７）の内外周から
被研磨物（３）を食み出させる量が大き過ぎる場合、研
磨中に、キャリヤ（５）の外周に近い矩形収納孔（４）
の一辺が、上下定盤（６）（７）の外側に完全に食み出
し、この食み出した辺が、キャリヤ（５）の公転と自転
とによって上下定盤（６）（７）の内側へ再侵入する際
に、上下定盤（６）（７）の外周に上記辺の一部が引っ
かかり、キャリヤ（５）自体がしばしば亀裂破損した。
この傾向は、被研磨物（３）が薄くなる程、顕著であ
る。尚、円形の被研磨物の場合には、このような問題は
ない。
被研磨物（３）を食み出させる量が大き過ぎる場合、研
磨中に、キャリヤ（５）の外周に近い矩形収納孔（４）
の一辺が、上下定盤（６）（７）の外側に完全に食み出
し、この食み出した辺が、キャリヤ（５）の公転と自転
とによって上下定盤（６）（７）の内側へ再侵入する際
に、上下定盤（６）（７）の外周に上記辺の一部が引っ
かかり、キャリヤ（５）自体がしばしば亀裂破損した。
この傾向は、被研磨物（３）が薄くなる程、顕著であ
る。尚、円形の被研磨物の場合には、このような問題は
ない。
【０００７】本発明は従来の両面同時平面研磨機用キャ
リヤの上記欠点に鑑みて研究開発されたもので、その目
的とするところは、修正キャリヤによる上下定盤の修正
作業を減少させると共にキャリヤの亀裂破損を防止し得
る両面同時平面研磨機用キャリヤを提供しようとするも
のである。
リヤの上記欠点に鑑みて研究開発されたもので、その目
的とするところは、修正キャリヤによる上下定盤の修正
作業を減少させると共にキャリヤの亀裂破損を防止し得
る両面同時平面研磨機用キャリヤを提供しようとするも
のである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、同軸配置された太陽歯車及びこの太陽歯
車を取り囲む内歯車と、被研磨物を収納保持する矩形収
納孔を有して前記太陽歯車と内歯車とに噛合し、該太陽
歯車の周囲を公転しながら自転するキャリヤと、このキ
ャリヤを挾んで上下に対向しその対向面にはそれぞれ前
記被加工物の表裏面を研磨する研磨表面が設けられかつ
それぞれ回転駆動される上定盤および下定盤とを備え、
キャリヤの一部を上下定盤から食み出させて研磨する両
面同時平面研磨機において、
め、本発明は、同軸配置された太陽歯車及びこの太陽歯
車を取り囲む内歯車と、被研磨物を収納保持する矩形収
納孔を有して前記太陽歯車と内歯車とに噛合し、該太陽
歯車の周囲を公転しながら自転するキャリヤと、このキ
ャリヤを挾んで上下に対向しその対向面にはそれぞれ前
記被加工物の表裏面を研磨する研磨表面が設けられかつ
それぞれ回転駆動される上定盤および下定盤とを備え、
キャリヤの一部を上下定盤から食み出させて研磨する両
面同時平面研磨機において、
【０００９】キャリヤに形成される矩形収納孔のキャリ
ヤ外周に近い一辺に垂直な２等分線がキャリヤ中心を通
らない位置にあり、かつ、上記キャリヤの収納孔のキャ
リヤ外周に近い一辺が上下定盤から完全には食み出さず
少なくともその一部が上下定盤内に残存する位置関係に
なるように上記矩形収納孔をキャリヤに形成したもので
ある。
ヤ外周に近い一辺に垂直な２等分線がキャリヤ中心を通
らない位置にあり、かつ、上記キャリヤの収納孔のキャ
リヤ外周に近い一辺が上下定盤から完全には食み出さず
少なくともその一部が上下定盤内に残存する位置関係に
なるように上記矩形収納孔をキャリヤに形成したもので
ある。
【００１０】
【作用】本発明におけるキャリヤの矩形収納孔は、外周
に近い一辺に垂直な２等分線がキャリヤ中心を通らない
位置にあり、かつ、上記キャリヤの収納孔のキャリヤ外
周に近い一辺が上下定盤から完全には食み出さず少なく
ともその一部が上下定盤内に残存する位置関係になるよ
うに上記矩形収納孔をキャリヤに形成したから、被研磨
物が薄い矩形ガラス等であっても、キャリヤの矩形収納
孔の一辺が上下定盤の外周から完全には食み出さないた
め、上下定盤に引っかからず、破損しない。しかし、矩
形収納孔の一部は上下定盤より食み出させて研磨させる
ことができるため、上下定盤の偏摩耗が防止され修正キ
ャリヤによる上下定盤の修正作業を減少させ得る。
に近い一辺に垂直な２等分線がキャリヤ中心を通らない
位置にあり、かつ、上記キャリヤの収納孔のキャリヤ外
周に近い一辺が上下定盤から完全には食み出さず少なく
ともその一部が上下定盤内に残存する位置関係になるよ
うに上記矩形収納孔をキャリヤに形成したから、被研磨
物が薄い矩形ガラス等であっても、キャリヤの矩形収納
孔の一辺が上下定盤の外周から完全には食み出さないた
め、上下定盤に引っかからず、破損しない。しかし、矩
形収納孔の一部は上下定盤より食み出させて研磨させる
ことができるため、上下定盤の偏摩耗が防止され修正キ
ャリヤによる上下定盤の修正作業を減少させ得る。
【００１１】
【実施例】図１のＡ、Ｂ、Ｃは本発明に係るキャリヤ
（５）の３通りの実施例を示す平面図であって、矩形収
納孔（４）が５等分配置で形成してあり、各矩形収納孔
（４）の外周に近い一辺（4a）の垂直２等分線（ａ）を
キャリヤ（５）の中心を通る直線（ｂ）から夫々（ｅ）
（ｆ）（ｇ）だけ平行移動させてずらせて形成してい
る。これに伴って、各矩形収納孔（４）のキャリヤ中心
に近い一辺（4b）までのキャリヤ中心からの距離（ｈ）
（ｉ）（ｊ）も、前記ずれ量（ｅ）（ｆ）（ｇ）が大き
い程、キャリヤ中心に接近させて形成している。この場
合、各矩形収納孔（４）間の最接近距離及びキャリヤ外
周縁までの最接近距離を、キャリヤ（５）に要求される
強度を維持する範囲で小さく設定する。
（５）の３通りの実施例を示す平面図であって、矩形収
納孔（４）が５等分配置で形成してあり、各矩形収納孔
（４）の外周に近い一辺（4a）の垂直２等分線（ａ）を
キャリヤ（５）の中心を通る直線（ｂ）から夫々（ｅ）
（ｆ）（ｇ）だけ平行移動させてずらせて形成してい
る。これに伴って、各矩形収納孔（４）のキャリヤ中心
に近い一辺（4b）までのキャリヤ中心からの距離（ｈ）
（ｉ）（ｊ）も、前記ずれ量（ｅ）（ｆ）（ｇ）が大き
い程、キャリヤ中心に接近させて形成している。この場
合、各矩形収納孔（４）間の最接近距離及びキャリヤ外
周縁までの最接近距離を、キャリヤ（５）に要求される
強度を維持する範囲で小さく設定する。
【００１２】さらに、図２に示す様に、上記キャリヤ
（５）の矩形収納孔（４）のキャリヤ外周に近い一辺
（4a）が上下定盤（６）（７）から完全には食み出さず
少なくともその一部が上下定盤（６）（７）内に残存す
る位置関係になるように上記矩形収納孔（４）をキャリ
ヤ（５）に形成する。また、別の表現をすると、上下定
盤（６）（７）の外径は、図３に示す様に、矩形収納孔
（４）のキャリヤ外周に近い一辺が上下定盤（６）
（７）の接線と平行になる位置で、その接線と、前記一
辺の距離（Ｌ）をできるだけ小さく設定する。
（５）の矩形収納孔（４）のキャリヤ外周に近い一辺
（4a）が上下定盤（６）（７）から完全には食み出さず
少なくともその一部が上下定盤（６）（７）内に残存す
る位置関係になるように上記矩形収納孔（４）をキャリ
ヤ（５）に形成する。また、別の表現をすると、上下定
盤（６）（７）の外径は、図３に示す様に、矩形収納孔
（４）のキャリヤ外周に近い一辺が上下定盤（６）
（７）の接線と平行になる位置で、その接線と、前記一
辺の距離（Ｌ）をできるだけ小さく設定する。
【００１３】次に、たて、よこ、厚さが、105×105×0.
5mmの硼珪酸ガラスのラップ研磨に適用した実施例を説
明する。
5mmの硼珪酸ガラスのラップ研磨に適用した実施例を説
明する。
【００１４】この場合、使用した研磨機及びキャリヤの
寸法諸元と研磨条件等は下記の通りである。
寸法諸元と研磨条件等は下記の通りである。
【００１５】上下定盤（６）（７）の寸法：外径1060m
m、中心穴径354mm キャリヤ（５）の外径：ＰＣＤ＝402.17mm 単位面積当り荷重：120g／cm2 使用研磨剤：＃1200 下定盤回転数：60rpm 但し、キャリヤ（５）は、図１のＡ、Ｂ、Ｃの３通りの
キャリヤ（５）を製作し、ｅ=20.5mm、f=26.5mm、g=33.
5mm、h=69mm、i=67mm、j=62mmとしたものである。そし
て、このキャリヤ（５）を使用して前記した研磨物の平
行度が0.008mm以下に保持できる研磨時間を図４のＣに
示した従来のキャリヤと比較した結果を下記に示す。
m、中心穴径354mm キャリヤ（５）の外径：ＰＣＤ＝402.17mm 単位面積当り荷重：120g／cm2 使用研磨剤：＃1200 下定盤回転数：60rpm 但し、キャリヤ（５）は、図１のＡ、Ｂ、Ｃの３通りの
キャリヤ（５）を製作し、ｅ=20.5mm、f=26.5mm、g=33.
5mm、h=69mm、i=67mm、j=62mmとしたものである。そし
て、このキャリヤ（５）を使用して前記した研磨物の平
行度が0.008mm以下に保持できる研磨時間を図４のＣに
示した従来のキャリヤと比較した結果を下記に示す。
【００１６】従来のキャリヤ 24分 図１のＡのキャリヤ 120分 図１のＢのキャリヤ 240分以上 図１のＣのキャリヤ 180分 上記比較結果より明らかな通り、本発明のキャリヤ
（５）によれば、図１のＢのキャリヤが最良であり、図
１のＣおよびＡのキャリヤでも従来の場合よりも長時間
に亘って連続研磨することがきる。
（５）によれば、図１のＢのキャリヤが最良であり、図
１のＣおよびＡのキャリヤでも従来の場合よりも長時間
に亘って連続研磨することがきる。
【００１７】尚、上記具体例の各数値を適用した場合、
図３に示す距離（Ｌ）は、2mm以内であるように構成す
る。
図３に示す距離（Ｌ）は、2mm以内であるように構成す
る。
【００１８】本発明のキャリヤは以上の構成からなり、
その厚さは、被研磨物（３）よりも薄く形成され、か
つ、矩形収納孔（４）の形成数は、１個の場合でも本発
明を適用することによって同様な作用効果が得られる。
その厚さは、被研磨物（３）よりも薄く形成され、か
つ、矩形収納孔（４）の形成数は、１個の場合でも本発
明を適用することによって同様な作用効果が得られる。
【００１９】
【発明の効果】本発明にれば、修正キャリヤによる上下
定盤の修正作業を減少させて長時間連続して研磨させる
ことができ、研磨作業能率を著しく向上させることがで
きると共に、薄い矩形の研磨物に対してもキャリヤの亀
裂破損を防止することができる。
定盤の修正作業を減少させて長時間連続して研磨させる
ことができ、研磨作業能率を著しく向上させることがで
きると共に、薄い矩形の研磨物に対してもキャリヤの亀
裂破損を防止することができる。
【図１】Ａは本発明に係るキャリヤの第１実施例の平面
図 Ｂは本発明に係るキャリヤの第２実施例の平面図 Ｃは本発明に係るキャリヤの第３実施例の平面図
図 Ｂは本発明に係るキャリヤの第２実施例の平面図 Ｃは本発明に係るキャリヤの第３実施例の平面図
【図２】本発明のキャリヤと定盤の関係を示す平面図
【図３】本発明における定盤外周とキャリヤの収納孔の
外周に近い一辺の位置関係を示す平面図
外周に近い一辺の位置関係を示す平面図
【図４】Ａは従来の両面同時平面研磨機の概略構造を示
す平面図 Ｂはその縦断側面図 Ｃは従来のキャリヤの平面図
す平面図 Ｂはその縦断側面図 Ｃは従来のキャリヤの平面図
１ 太陽歯車 ２ 内歯車 ３ 被研磨物 ４ 矩形収納孔 ５ キャリヤ
Claims (1)
- 【請求項１】 同軸配置された太陽歯車及びこの太陽歯
車を取り囲む内歯車と、被研磨物を収納保持する矩形収
納孔を有して前記太陽歯車と内歯車とに噛合し、該太陽
歯車の周囲を公転しながら自転するキャリヤと、このキ
ャリヤを挾んで上下に対向しその対向面にはそれぞれ前
記被加工物の表裏面を研磨する研磨表面が設けられかつ
それぞれ回転駆動される上定盤および下定盤とを備え、
キャリヤの一部を上下定盤から食み出させて研磨する両
面同時平面研磨機において、 キャリヤに形成される矩形収納孔のキャリヤ外周に近い
一辺に垂直な２等分線がキャリヤ中心を通らない位置に
あり、かつ、上記キャリヤの収納孔のキャリヤ外周に近
い一辺が上下定盤から完全には食み出さず少なくともそ
の一部が上下定盤内に残存する位置関係になるように上
記矩形収納孔をキャリヤに形成したことを特徴とする両
面同時平面研磨機用キャリヤ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03193826A JP3139064B2 (ja) | 1991-08-02 | 1991-08-02 | 両面同時平面研磨機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03193826A JP3139064B2 (ja) | 1991-08-02 | 1991-08-02 | 両面同時平面研磨機 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0538671A true JPH0538671A (ja) | 1993-02-19 |
| JP3139064B2 JP3139064B2 (ja) | 2001-02-26 |
Family
ID=16314394
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03193826A Expired - Fee Related JP3139064B2 (ja) | 1991-08-02 | 1991-08-02 | 両面同時平面研磨機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3139064B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07101441A (ja) * | 1993-09-30 | 1995-04-18 | Tsuchida Kibutsu Kogyosho:Kk | 金属製二重容器の製造方法 |
| JP2011067906A (ja) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 板状ワーク研磨装置および板状ワーク研磨方法 |
| JP2012091315A (ja) * | 2010-09-27 | 2012-05-17 | Hoya Corp | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、反射型マスクブランクの製造方法および反射型マスクの製造方法 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5553864A (en) | 1992-05-22 | 1996-09-10 | Sitrick; David H. | User image integration into audiovisual presentation system and methodology |
| US8821276B2 (en) | 1992-05-22 | 2014-09-02 | Bassilic Technologies Llc | Image integration, mapping and linking system and methodology |
| US6435969B1 (en) | 1998-11-03 | 2002-08-20 | Nintendo Co., Ltd. | Portable game machine having image capture, manipulation and incorporation |
| US7827488B2 (en) | 2000-11-27 | 2010-11-02 | Sitrick David H | Image tracking and substitution system and methodology for audio-visual presentations |
-
1991
- 1991-08-02 JP JP03193826A patent/JP3139064B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07101441A (ja) * | 1993-09-30 | 1995-04-18 | Tsuchida Kibutsu Kogyosho:Kk | 金属製二重容器の製造方法 |
| JP2011067906A (ja) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 板状ワーク研磨装置および板状ワーク研磨方法 |
| JP2012091315A (ja) * | 2010-09-27 | 2012-05-17 | Hoya Corp | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、反射型マスクブランクの製造方法および反射型マスクの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3139064B2 (ja) | 2001-02-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3925580B2 (ja) | ウェーハ加工装置および加工方法 | |
| JP3933432B2 (ja) | ガラス基板のクランプ治具、ガラス基板の加工方法およびガラス基板 | |
| JP3139064B2 (ja) | 両面同時平面研磨機 | |
| CN110842762A (zh) | 一种大尺寸硅圆片减薄装置及其减薄工艺 | |
| JPH11254303A (ja) | ラップ盤 | |
| US6554689B2 (en) | Work holding member for mechanical abrasion, abrading method, and abrading machine | |
| JPH0713964Y2 (ja) | 平面研磨装置用キャリヤ | |
| CN213258864U (zh) | 一种水晶块棱边加工工装 | |
| JP2004058256A (ja) | 平板の面取り研磨方法 | |
| JP2000084834A (ja) | 研削加工用キャリア | |
| JP2608757B2 (ja) | 水晶振動子用水晶ウエハ | |
| CN211681557U (zh) | 一种大尺寸硅圆片减薄装置 | |
| JP2552306B2 (ja) | 片面研磨装置 | |
| JPH0340535Y2 (ja) | ||
| JP2000198068A (ja) | 枚葉式研磨機 | |
| KR101871853B1 (ko) | 평판 디스플레이용 패널 가공 장치 | |
| JP2001030161A (ja) | 研磨加工装置のキャリア | |
| JP2001328063A (ja) | 研磨装置及びその装置を用いた研磨方法 | |
| JPH06179165A (ja) | ラップ加工用定盤 | |
| JP2007098543A (ja) | ワークキャリア及び両面研磨装置 | |
| JPH04261768A (ja) | 両面ラップ加工装置 | |
| JPS5936368Y2 (ja) | 平面研削装置用キヤリア | |
| JPH09155729A (ja) | 平面研磨板及びこれを用いた平面研磨装置 | |
| JPH06218667A (ja) | 両面研磨機用キャリア | |
| SU1201117A1 (ru) | Способ изготовлени абразивного инструмента |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |