JPH0538894U - 半導体集積回路チツプ - Google Patents

半導体集積回路チツプ

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JPH0538894U
JPH0538894U JP8521191U JP8521191U JPH0538894U JP H0538894 U JPH0538894 U JP H0538894U JP 8521191 U JP8521191 U JP 8521191U JP 8521191 U JP8521191 U JP 8521191U JP H0538894 U JPH0538894 U JP H0538894U
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JP
Japan
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integrated circuit
circuit chip
semiconductor integrated
reduced
capacitance
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JP8521191U
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和弘 田原
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NEC Corp
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NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】マイクロ波を扱う半導体集積回路チップにおい
て、素子間,又は配線間の容量による結合を減じ、アイ
ソレーションを改善し、かつ素子面積を減らす。 【構成】チップ上の線路導体3と4の間のGaAs基板
1に溝6を形成した構造とし、誘電率の高いGaAs基
板1に作った溝6により線路3,4間の容量を減らす。 【効果】素子間又は配線間のアイソレーションなどの高
周波特性の改善ができると共に、逆に結合容量の減少し
た分だけ素子間隔を小さくし、チップ面積を小さくでき
るという効果がある。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、半導体集積回路チップに関し、特に、マイクロ波のような高周波を 扱う半導体集積回路チップの構造に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来の半導体集積回路チップは、図2に示すようにGaAs等の半絶縁性基板 1の表面に線路導体3,4のような配線が形成されていて、裏面は接地導体2が 全面に付いている。
【0003】 この従来の集積回路チップにおいて、マイクロ波のような高周波を扱う場合、 近接する線路導体3と4の間に存在する電気容量成分により線路導体3と4を通 る信号が結合してアイソレーションが悪化したり、誤動作を起こしたりすること がある。線路3,4間での結合は、電気力線5によって起こるが、この結合の大 きさは、線路3,4間の容量成分の大きさに依存している。従来、この容量成分 を減じるために、線路間の間隔を広くしていた。
【0004】
【考案が解決しようとする課題】
この従来の半導体集積回路チップの構造では、線路間の容量による結合のため アイソレーションの劣化など高周波特性が悪化していた。また、結合容量を減じ るために、線路間隔を広くしたため、チップ面積が大きくなるという問題点があ った。
【0005】 本考案の目的は、マイクロ波を扱う半導体集積回路チップにおいて、素子間又 は配線間の容量による結合を減じ、アイソレーションを改善し、チップ面積をへ らすことが出来る集積回路チップを提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】 本考案の半導体集積回路チップは、基板表面の素子又は配線にはさまれた半導 体基板部分に素子,配線間隔の1/2以上の深さを持つ溝型の凹部を備えている 。
【0007】 この構造により、素子又は配線間の結合容量を減じるという作用がある。その 結果アイソレーションを改善でき、チップ面積を小さくできるという効果が得ら れる。
【0008】
【実施例】
次に本考案について図面を参照して説明する。図1は本考案の一実施例の半導 体チップの構造を示す斜視図である。 半絶縁性GaAs基板1の表面に線路導体3,4などの素子を形成し、ドライエ ッチング技術を使って深さが線路導体3,4の間隔の1/2以上の溝6を形成し た後、裏面に接地導体2を蒸着した構造となっている。
【0009】 線路導体3,4の間には従来と同様に結合容量が存在するが、溝6により、高 誘電率(ε=12)をもつGaAs基板の一部を低誘電率(ε=1)の空気に置 き換えられるため、結合容量はおよそ3分の1まで減じられるので結合度が減少 し、線路3,4間のアイソレーションが改善される。
【0010】
【考案の効果】
以上説明したように本考案は、近接する素子又は線路の間の半導体基板に溝を 掘ることにより、素子又は線路間の結合容量を減少させ、アイソレーショの改善 などの高周波特性を改善できるという効果を有する。特にGaAsのように誘電 率が高い(ε=12)基板を使ったチップでは、溝を作ったことにより、実効的 に約1/3の基板部分を空気におきかえたとすると、結合容量は溝のないときに 比べて約1/3まで減少させることができる。また、逆に結合容量が小さくなっ た分だけ素子,配線間隔を小さくできるのでチップ面積を小さくできるという効 果も有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の一実施例の半導体チップの構造を示す
斜視図である。
【図2】従来の半導体チップの一例の断面図とその説明
用の電気力線図である。
【符号の説明】
1 GaAs基板 2 裏面接地導体 3,4 線路導体 5 電気力線 6 溝

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半絶縁半導体基板上に構成される集積回
    路チップにおいて、基板表面に形成される素子及び配線
    の中で、近接する素子又は配線にはさまれた半導体基板
    部分に、素子配線間隔の1/2以上の深さを持つ溝型の
    凹部を有することを特徴とする半導体集積回路チップ。
JP8521191U 1991-10-21 1991-10-21 半導体集積回路チツプ Pending JPH0538894U (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011193168A (ja) * 2010-03-12 2011-09-29 Omron Corp 信号線路の構造、信号線路の製造方法及び当該信号線路を用いたスイッチ
JP2015097371A (ja) * 2013-10-07 2015-05-21 三菱電機株式会社 信号伝送路

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62250657A (ja) * 1986-04-23 1987-10-31 Nec Corp 半導体集積回路

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Effective date: 19980407