JPH0540480Y2 - - Google Patents

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JPH0540480Y2
JPH0540480Y2 JP14202886U JP14202886U JPH0540480Y2 JP H0540480 Y2 JPH0540480 Y2 JP H0540480Y2 JP 14202886 U JP14202886 U JP 14202886U JP 14202886 U JP14202886 U JP 14202886U JP H0540480 Y2 JPH0540480 Y2 JP H0540480Y2
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JP
Japan
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electron beam
irradiation window
shield electrode
filament
electrode
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Description

【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この考案は電子線照射装置に関するものであ
る。
(従来の技術) 電子線照射装置において、真空容器の内部に負
の高電圧に維持されるシールド電極を配置し、そ
の内部に電子線を照射するフイラメントを配置す
るとともに、前記シールド電極と向い合う真空容
器の壁面に照射窓を配置し、この照射窓を通して
電子線を照射するようにしたものは既によく知ら
れている。
第3図は従来のこの種装置を示し、1は真空容
器、2はシールド電極、3はその内部に配置され
てあるフイラメント、4は真空容器1の、シール
ド電極2と向い合う壁面5に設けられた照射窓で
ある。照射窓4は一般に壁面5の開口部分6に設
置される。そして照射窓4には真空を維持すると
ともに、電子線の透過を許容する金属製の箔7を
備えている。
ところで従来のこの種装置においては、照射窓
4を開口部分6の下面に設置するようにしている
ので、壁面5の内面にはくぼみが形成されるよう
になる。そのためシールド電極2を真空容器1と
同軸またはその軸と平行に設置しても、シールド
電極2と照射窓4との間に形成される電場の等電
位面は、図中点線で示すように照射窓4に向かつ
て凸となる。
そのためフイラメント3から放射される電子線
は、照射窓4に対して外側に広がるような軌道を
画き、電子線は真空容器の壁面に当るたようにな
る。このような電子線の衝突により真空容器の壁
面が加熱されて、装置の不安定要因となるアウト
ガスが発生する。また発生した電子線の一部を照
射窓から取りだせないので、電子線の利用効率が
低下するといつた不都合が生ずる。
これを解決するため従来では、照射窓を大きく
し、或いは真空容器の照射窓付近を水冷したりし
ているが、これでは装置が大型化したり、構成が
複雑化したりするなどの欠点が生ずる。
(考案が解決しようとする問題点) この考案は電子線照射に際し、シールド電極か
らの電子線が発散して放射されるのを、極力防止
することを目的とする。
(問題点を解決するための手段) この考案は電子線を照射するシールド電極の、
電子線引出口の周囲に、照射窓に向かつて凸状と
する補助電極を設けたことを特徴とする。
(実施例) この考案を第1図によつて説明する。なお第3
図と同じ符号を付した部分は、同一または対応す
る部分を示す、この考案に従いシールド電極2の
電線引出口(照射窓4と向い合う開口部)の周囲
に、シールド電極2と同電位で、照射窓4に向か
つて凸状の補助電極8を設ける。
このような補助電極8を設置しておくと、シー
ルド電極の電線引出口近傍が、内側に向かつてく
ぼみ状となるため、シールド電極2と照射窓4と
の間に形成される電場の等電位面は、点線で示す
ように上に向かつて凸となる。そのためフイラメ
ント3から放射されてくる電子線は、照射窓4に
対して集束されるようになるのである。
このように電子線が集束されると、電子線は照
射窓4の内側を通つて外部に放散されるようにな
り、真空容器1の壁面に衝突することが避けられ
るようになる。これによつて壁面が加熱される恐
れはなくなるとともに、電子線の利用効率も向上
するようになる。
第1図の実施例では補助電極8をシールド電極
2の長さ方向に沿う両端に設けた構成としている
が、第2図に示すようにシールド電極2の幅方向
に沿う両側に設けるようにしてもよい。或いは第
1図と第2図とに示す両補助電極を設けるように
してもよい。
(考案の効果) 以上詳述したようにこの考案によれば、シール
ド電極に補助電極を設置するだけの簡単な構成に
よつて、フイラメントから照射される電子線が真
空容器の壁面に照射するのを防止することがで
き、したがつて真空容器の温度上昇が回避できる
とともに、電子線の利用効率を高めることができ
るといつた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案の一実施例を示す断面図、第
2図はこの考案の他の実施例を示す横断面図、第
3図は従来例を示す断面図である。 1……真空容器、2……シールド電極、3……
フイラメント、4……照射窓、8……補助電極。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 電子線を放射するフイラメントを備えたシール
    ド電極を真空容器の内部に設置するとともに、前
    記電極と向い合う前記真空容器の壁面に照射窓を
    設置してなる電子線照射装置において、前記シー
    ルド電極の電子線引出口の周囲に、前記照射窓に
    向かつて凸状とする電子線集束用の補助電極を設
    置してなる電子線照射装置。
JP14202886U 1986-09-16 1986-09-16 Expired - Lifetime JPH0540480Y2 (ja)

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JP14202886U JPH0540480Y2 (ja) 1986-09-16 1986-09-16

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JPS6348200U JPS6348200U (ja) 1988-04-01
JPH0540480Y2 true JPH0540480Y2 (ja) 1993-10-14

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5962995A (en) * 1997-01-02 1999-10-05 Applied Advanced Technologies, Inc. Electron beam accelerator
JP4556678B2 (ja) * 2005-01-21 2010-10-06 株式会社Nhvコーポレーション 電子線照射装置

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JPS6348200U (ja) 1988-04-01

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