JPH0541547Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0541547Y2 JPH0541547Y2 JP5360084U JP5360084U JPH0541547Y2 JP H0541547 Y2 JPH0541547 Y2 JP H0541547Y2 JP 5360084 U JP5360084 U JP 5360084U JP 5360084 U JP5360084 U JP 5360084U JP H0541547 Y2 JPH0541547 Y2 JP H0541547Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cassette
- electron beam
- drawing material
- drawn
- guide rollers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 28
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 claims description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、電子ビームによつて描画されるマス
クガラスなどの被描画材を保持するためのカセツ
トに関するものである。
クガラスなどの被描画材を保持するためのカセツ
トに関するものである。
この種のカセツトとして、被描画材を横方向か
ら挿入する方式のものがあるが、この場合、従来
は、カセツトに設けた案内面に沿つて被描画材を
すべり込ませていた。ところが、このすべり込ま
せ方式では、摩擦によるゴミの発生が多く、サブ
ミクロンオーダの電子ビーム描画を行なうマスク
等にあつては、前記のゴミが欠陥発生の原因とな
る欠点があつた。このゴミの発生を押えるには、
ガイドローラを設けて被描画材に対する摩擦を減
ずればよいが、このようにすると、各カセツトに
複数のガイドローラをそれぞれ取付ける必要があ
り、カセツトの構造が複雑になつて高精度が得ら
れにくくなると共に、高価になり、特にこのカセ
ツトは電子ビーム描画装置１台に対して数10個を
必要とするため、コストに及ぼす影響が大きい等
の問題がある。
ら挿入する方式のものがあるが、この場合、従来
は、カセツトに設けた案内面に沿つて被描画材を
すべり込ませていた。ところが、このすべり込ま
せ方式では、摩擦によるゴミの発生が多く、サブ
ミクロンオーダの電子ビーム描画を行なうマスク
等にあつては、前記のゴミが欠陥発生の原因とな
る欠点があつた。このゴミの発生を押えるには、
ガイドローラを設けて被描画材に対する摩擦を減
ずればよいが、このようにすると、各カセツトに
複数のガイドローラをそれぞれ取付ける必要があ
り、カセツトの構造が複雑になつて高精度が得ら
れにくくなると共に、高価になり、特にこのカセ
ツトは電子ビーム描画装置１台に対して数10個を
必要とするため、コストに及ぼす影響が大きい等
の問題がある。
本考案は、前述したような欠点および問題を解
決し、簡単な構造で高精度が得られ、トータルコ
ストを安価に押えて、ゴミの発生を押えることの
できる電子ビーム描画装置用カセツトを提供する
にある。
決し、簡単な構造で高精度が得られ、トータルコ
ストを安価に押えて、ゴミの発生を押えることの
できる電子ビーム描画装置用カセツトを提供する
にある。
かかる目的を達成するための本考案は、カセツ
ト自身にはガイドローラを設けず、被描画材のセ
ツト治具などに設けられたガイドローラを本来カ
セツトに設けられるべき位置に位置させ得るよう
に、ガイドローラを受入れるための空間のみをカ
セツトに設けたものである。
ト自身にはガイドローラを設けず、被描画材のセ
ツト治具などに設けられたガイドローラを本来カ
セツトに設けられるべき位置に位置させ得るよう
に、ガイドローラを受入れるための空間のみをカ
セツトに設けたものである。
以下本考案の一実施例を示す第１図ないし第２
図について説明する。１はカセツト本体で、その
上面側（第２図において上方側）には、２点鎖線
で示す被描画材２およびこれを上方へ押圧するた
めの押え板３やバネ４を受入れる凹所１ａが設け
られ、該凹所１ａ内へ第１，２図において左方に
設けられた出入口５から被描画材２を出入するよ
うになつている。カセツト本体１の上面には、複
数の上下方向（第２図において上下方向、これを
Ｚ方向という）の基準片６が設けられ、図示を省
略したＸ，Ｙ方向（第１図において上下、左右方
向）の基準部材によつて位置決めされた被描画材
２を押え板３によつて前記基準片６の下面に押圧
することにより被描画材２をカセツト本体１に対
してX.Y，Ｚ方向の位置決めをして固定するよう
になつている。以上述べたカセツトの構造は、従
来のものと同様であるため、詳述は避け、また被
描画材２をクランプ、アンクランプするための押
え板３の上下動機構等は図示を省略する。
図について説明する。１はカセツト本体で、その
上面側（第２図において上方側）には、２点鎖線
で示す被描画材２およびこれを上方へ押圧するた
めの押え板３やバネ４を受入れる凹所１ａが設け
られ、該凹所１ａ内へ第１，２図において左方に
設けられた出入口５から被描画材２を出入するよ
うになつている。カセツト本体１の上面には、複
数の上下方向（第２図において上下方向、これを
Ｚ方向という）の基準片６が設けられ、図示を省
略したＸ，Ｙ方向（第１図において上下、左右方
向）の基準部材によつて位置決めされた被描画材
２を押え板３によつて前記基準片６の下面に押圧
することにより被描画材２をカセツト本体１に対
してX.Y，Ｚ方向の位置決めをして固定するよう
になつている。以上述べたカセツトの構造は、従
来のものと同様であるため、詳述は避け、また被
描画材２をクランプ、アンクランプするための押
え板３の上下動機構等は図示を省略する。
前記カセツト本体１および押え板３には、挿入
されてくる被描画材２の側方の両端（第１図にお
いて上下の端部）に相当する個所に複数の貫通穴
７が設けられている。なお、この貫通穴７は、カ
セツト本体１および押え板３などから構成されて
いるカセツトＡ（全体）として見たときに穴とな
るもので、例えば本実施例の押え板３のように１
つの部品では切欠きでしかない場合も含んでい
る。
されてくる被描画材２の側方の両端（第１図にお
いて上下の端部）に相当する個所に複数の貫通穴
７が設けられている。なお、この貫通穴７は、カ
セツト本体１および押え板３などから構成されて
いるカセツトＡ（全体）として見たときに穴とな
るもので、例えば本実施例の押え板３のように１
つの部品では切欠きでしかない場合も含んでい
る。
前記の各貫通穴７は、２点鎖線で示すセツト治
具８の位置決め用突部９によつて所定の位置関係
をもつて該セツト治具８に置かれたとき、このセ
ツト治具８の上面に突起１０を介して設けられた
複数のガイドローラ１１，１２のうち、第１，２
図において右方に位置するいくつかのガイドロー
ラ１１，１２をそれぞれ受入れるようになつてい
る。前記ガイドローラ１１，１２のうち、ガイド
ローラ１１は、第２図に示すように、被描画材２
の下面を受け、他方のガイドローラ１２は、被描
画材２の側方の両端を比較的小さなすき間をもつ
て案内し、該被描画材２をカセツト本体１の凹所
１ａ内へ導き入れるようになつている。
具８の位置決め用突部９によつて所定の位置関係
をもつて該セツト治具８に置かれたとき、このセ
ツト治具８の上面に突起１０を介して設けられた
複数のガイドローラ１１，１２のうち、第１，２
図において右方に位置するいくつかのガイドロー
ラ１１，１２をそれぞれ受入れるようになつてい
る。前記ガイドローラ１１，１２のうち、ガイド
ローラ１１は、第２図に示すように、被描画材２
の下面を受け、他方のガイドローラ１２は、被描
画材２の側方の両端を比較的小さなすき間をもつ
て案内し、該被描画材２をカセツト本体１の凹所
１ａ内へ導き入れるようになつている。
次いで前記のカセツトＡへの被描画材２の装填
について説明する。まず、カセツトＡをセツト治
具８の位置決め用突部９に合わせてセツトする。
このセツトにより、セツト治具８に設けられたガ
イドローラ１１，１２は貫通穴７に入り、カセツ
トＡの凹所１ａに対して所定の位置関係に置かれ
る。次に、図示しない押下げハンドルにより押え
板３をバネ４に抗して第２図に示す下降位置に置
き、カセツトＡ左方に位置しているガイドローラ
１１の上に、第１図に示すように、被描画材２を
載せ、ガイドローラ１２によつて案内させつつ該
被描画材２を図において右方へ押せば、該被描画
材２は、前記ガイドローラ１１，１２およびカセ
ツトＡの貫通穴７内に位置するガイドローラ１
１，１２の回転によりすべり摩擦を生ずることな
く凹所１ａ内に導かれる。
について説明する。まず、カセツトＡをセツト治
具８の位置決め用突部９に合わせてセツトする。
このセツトにより、セツト治具８に設けられたガ
イドローラ１１，１２は貫通穴７に入り、カセツ
トＡの凹所１ａに対して所定の位置関係に置かれ
る。次に、図示しない押下げハンドルにより押え
板３をバネ４に抗して第２図に示す下降位置に置
き、カセツトＡ左方に位置しているガイドローラ
１１の上に、第１図に示すように、被描画材２を
載せ、ガイドローラ１２によつて案内させつつ該
被描画材２を図において右方へ押せば、該被描画
材２は、前記ガイドローラ１１，１２およびカセ
ツトＡの貫通穴７内に位置するガイドローラ１
１，１２の回転によりすべり摩擦を生ずることな
く凹所１ａ内に導かれる。
凹所１ａ内へ挿入された被描画材２は、図示し
ないＸ，Ｙ方向の基準部材によつて位置決めさ
れ、次いで、図示しない前記押下げハンドルを元
位置へ復帰させることにより、バネ４による押え
板３の押圧力によつて基準片６の下面の押付けら
れて固定される。
ないＸ，Ｙ方向の基準部材によつて位置決めさ
れ、次いで、図示しない前記押下げハンドルを元
位置へ復帰させることにより、バネ４による押え
板３の押圧力によつて基準片６の下面の押付けら
れて固定される。
このようにして被描画材２を装填したカセツト
Ａは、セツト治具８から外し、電子ビーム描画装
置へ送られるが、被描画材２はガイドローラ１
１，１２に関係なく、Ｘ，Ｙ，Ｚ方向の基準部材
および基準片６と押え板３によつて所定位置に保
持・固定されているため、全く問題はなく、むし
ろガイドローラ１１，１２を磁性材料で形成して
も、描画時にはカセツトＡにはないため、電子ビ
ームに悪影響を及ぼすことがないなどの利点があ
る。
Ａは、セツト治具８から外し、電子ビーム描画装
置へ送られるが、被描画材２はガイドローラ１
１，１２に関係なく、Ｘ，Ｙ，Ｚ方向の基準部材
および基準片６と押え板３によつて所定位置に保
持・固定されているため、全く問題はなく、むし
ろガイドローラ１１，１２を磁性材料で形成して
も、描画時にはカセツトＡにはないため、電子ビ
ームに悪影響を及ぼすことがないなどの利点があ
る。
前述した実施例は、ガイドローラ１１，１２を
受入れるため、カセツトＡに貫通穴７を設けた例
を示したが、これに限らず、カセツト本体１およ
び押え板３の形状を適宜に定めることにより、特
別に穴を明けることなしに前記ガイドローラ１
１，１２を受入れるための空間を形成するように
してもよく、またガイドローラは、被描画材２の
下面を受けるものだけとしてもよい等、種々変更
可能である。
受入れるため、カセツトＡに貫通穴７を設けた例
を示したが、これに限らず、カセツト本体１およ
び押え板３の形状を適宜に定めることにより、特
別に穴を明けることなしに前記ガイドローラ１
１，１２を受入れるための空間を形成するように
してもよく、またガイドローラは、被描画材２の
下面を受けるものだけとしてもよい等、種々変更
可能である。
以上述べたように本考案によれば、カセツト自
身にはガイドローラを設けないため、該カセツト
の部品点数は増加せず、単に穴などの空間を設け
るのみでよく、このため多数個を必要とするカセ
ツトを高価にすることなく、また加工誤差や加工
に伴なう歪などの増加もないより高精度のカセツ
トでありながら、被描画材の装填には、予じめ用
意したカセツト治具と組合わせることにより、す
べり摩擦を押えて、ゴミの発生を押えることがで
きる。なお、セツト治具は、通常１台あればよ
く、精度もあまり必要でなく、電子ビームに対す
る影響も考慮する必要がないので、通常用いられ
る材料でよい。
身にはガイドローラを設けないため、該カセツト
の部品点数は増加せず、単に穴などの空間を設け
るのみでよく、このため多数個を必要とするカセ
ツトを高価にすることなく、また加工誤差や加工
に伴なう歪などの増加もないより高精度のカセツ
トでありながら、被描画材の装填には、予じめ用
意したカセツト治具と組合わせることにより、す
べり摩擦を押えて、ゴミの発生を押えることがで
きる。なお、セツト治具は、通常１台あればよ
く、精度もあまり必要でなく、電子ビームに対す
る影響も考慮する必要がないので、通常用いられ
る材料でよい。
第１図は本考案による電子ビーム描画装置用カ
セツトとそれに用いるセツト治具を示す概要平面
図、第２図は第１図の−線断面図である。 Ａ……カセツト、１……カセツト本体、１ａ…
…凹所、２……被描画材、３……押え板、４……
バネ、５……出入口、６……基準片、７……貫通
穴（空間）、８……セツト治具、９……位置決め
用突部、１０……突起、１１，１２……ガイドロ
ーラ。
セツトとそれに用いるセツト治具を示す概要平面
図、第２図は第１図の−線断面図である。 Ａ……カセツト、１……カセツト本体、１ａ…
…凹所、２……被描画材、３……押え板、４……
バネ、５……出入口、６……基準片、７……貫通
穴（空間）、８……セツト治具、９……位置決め
用突部、１０……突起、１１，１２……ガイドロ
ーラ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 １ マスクガラスなどの被描画材を横方向から挿
入して装填する方式の電子ビーム描画装置用カ
セツトにおいて、装填状態にある被描画材の下
方に位置する部分に下側から複数のガイドロー
ラを受入れるための空間を有することを特徴と
する電子ビーム描画装置用カセツト。 ２ 空間が貫通穴によつて形成されていることを
特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項記載
の電子ビーム描画装置用カセツト。 ３ 空間が、挿入される被描画材の側方の両端に
沿つて設けられていることを特徴とする実用新
案登録請求の範囲第１または２項記載の電子ビ
ーム描画装置用カセツト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5360084U JPS60166143U (ja) | 1984-04-12 | 1984-04-12 | 電子ビ−ム描画装置用カセツト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5360084U JPS60166143U (ja) | 1984-04-12 | 1984-04-12 | 電子ビ−ム描画装置用カセツト |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60166143U JPS60166143U (ja) | 1985-11-05 |
| JPH0541547Y2 true JPH0541547Y2 (ja) | 1993-10-20 |
Family
ID=30574618
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5360084U Granted JPS60166143U (ja) | 1984-04-12 | 1984-04-12 | 電子ビ−ム描画装置用カセツト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60166143U (ja) |
-
1984
- 1984-04-12 JP JP5360084U patent/JPS60166143U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60166143U (ja) | 1985-11-05 |
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