JPH0541639B2 - - Google Patents

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JPH0541639B2
JPH0541639B2 JP63044879A JP4487988A JPH0541639B2 JP H0541639 B2 JPH0541639 B2 JP H0541639B2 JP 63044879 A JP63044879 A JP 63044879A JP 4487988 A JP4487988 A JP 4487988A JP H0541639 B2 JPH0541639 B2 JP H0541639B2
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alkyl group
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Takeshi Kato
Tomoyuki Fujii
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Takeda Pharmaceutical Co Ltd
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Takeda Chemical Industries Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07KPEPTIDES
    • C07K5/00Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof
    • C07K5/02Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof containing at least one abnormal peptide link
    • C07K5/022Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof containing at least one abnormal peptide link containing the structure -X-C(=O)-(C)n-N-C-C(=O)-Y-; X and Y being heteroatoms; n being 1 or 2

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  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
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  • Proteomics, Peptides & Aminoacids (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Peptides Or Proteins (AREA)
  • Medicines That Contain Protein Lipid Enzymes And Other Medicines (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野) 本発明はアンジオテンシン変換酵素(ACE)
阻害作用に基づく降圧作用を有するインダン誘導
体およびその製造中間体の製造法に関する。 (従来の技術および発明が解決しようとする課
題) ACE阻害作用に基づく降圧作用を有する化合
物として、式 [式中、R2は低級アルキル基(好ましくはメ
チル基)、R3はアラルキル基(好ましくはフエネ
チル基)およびR4は低級アルキル基(好ましく
はエチル基)を示す。(* 1)および(* 2)の不斉炭
素はともに(S)−配置であることが望ましい。]で
表わされるインダン誘導体およびその塩(好まし
くは塩酸塩)が知られている[特開昭57−77651
号公報;特開昭57−179141号公報;ケミカル・ア
ンド・フアーマシユーテイカル・ブレチン
(Chem.Pharm.Bull),34巻、2852頁(1986年)]。 特開昭57−77651号公報および特開昭57−
179141号公報には化合物(a)の代表的製造法
として以下の方法が記載されている。 [式中、Rは水素または低級アルキル基を示
す] 上記方法においては、化合物(a)は通常2
種の立体異性体(* 2の不斉炭素)の混合物として
得られるため、所望の光学活性体を得るためには
光学分割などの手段を用いる必要がある。 ケミカル・アンド・フアーマシユーテイカル・
ブレチン、34巻、2852頁(1986年)には以下の方
法が記載されている。 上記方法は、化合物()と()をジエチル
ホスホロシアニデート(DEPC)の存在下で縮合
させる方法である。この方法は毒性の高いDEPC
を使用すること、DEPCの加水分解によつてシア
ン化水素が発生すること、および収率がそれ程高
くない(収率:68%)ことから、工業的製造法と
しては問題がある。 また、特開昭57−176941号公報には以下に示す
方法が記載されている。 上記反応は、アミド形成条件下に化合物()
を、式()で表わされる酸のアシル誘導体と反
応させて化合物()を得る方法である。本方法
は式()の化合物のアシル誘導体を経由しなけ
ればならないこと、および収率もそれ程高くない
(収率:69.7%)ことから、工業的製造法として
は問題がある。 (課題を解決するための手段) 本発明者らは化合物(a)の工業的製造法を
鋭意研究した結果、ペプチド合成の際のカルボキ
シル基を活性化するための混合酸無水物の原料と
して知られているジフエニルホスホロクロリデー
ト類[ケミユツシエ・ベリヒテ(Chem.Ber.)、
94巻、2644頁(1961年)]が高収率で式 [式中、R1は低級アルキル基またはアラルキ
ル基を示す]で表わされる化合物と式 [式中、R2は低級アルキル基を、R3はアラル
キル基を、R4は低級アルキル基を示す]で表わ
される化合物を直接縮合させ、式 [式中、各記号は前記と同意義]で表わされる
化合物を生成させることを見い出した。 さらに驚くべきことに、化合物(XI)とジフエ
ニルホスホロクロリデート類を撹拌した後、化合
物(XII)を加えても高収率で化合物()が得ら
れることを見い出した。この事実は、ジフエニル
ホスホロクロリデート類を縮合剤として使用する
縮合反応はケミユツシエ・ベリヒテ、94巻、2644
頁(1961年)に報告されているような式()の
化合物の混合酸無水物を経由していないことを、
また、特開昭57−176941号公報に記載の式()
の化合物のアシル誘導体を経由していないことを
示している。すなわち、本発明者らはジフエニル
ホスホロクロリデート類が新しいタイプの縮合剤
であることを見い出し、本発明を完成させるに至
つた。 すなわち、本発明は式(XI)で表わされる化合
物に式 [式中、XおよびYはそれぞれ水素、低級アル
キル基、低級アルコキシ基またはハロゲンを示
す]で表わされるジフエニルホスホロクロリデー
ト類と式(XII)で表わされる化合物とを反応させ
ることを特徴とする式()で表わされる化合物
の製造法、および上記方法で得られる式()で
表わされる化合物を加水分解反応、脱離反応また
は接触還元反応に付すことを特徴とする式(
a)で表わされる化合物またはその塩の製造法を
提供するものである。 上記式に関し、R1,R2,R4,XおよびYで示
される低級アルキル基としてはメチル、エチル、
プロピル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブ
チルなどの炭素数1〜4程度のアルキル基があげ
られる。R2としてはメチル基が好ましく、また、
R4としてはエチル基が好ましい。 R1で示されるアラルキル基としてはベンジル、
フエネチル、ジフエニルメチルなどのフエニル−
低級(C1-4)アルキル基およびジフエニル−低級
(C1-4)アルキル基があげられる。該フエニル−
低級アルキル基およびジフエニル−抵級アルキル
基のフエニル部はたとえば低級(C1-4)アルキル
基(例、メチル、エチル、プロピル)、低級
(C1-4)アルコキシ基(例、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ、イソプロポキシ)、ハロゲン(例、
フツ素、塩素、臭素)などの置換基を1〜3個程
度有していてもよい。 R3で示されるアラルキル基としてはベンジル、
フエネチル、3−フエニルプロピルなどのフエニ
ル−低級(C1-4)アルキル基があげられ、なかで
もフエネチル基が好ましい。 XおよびYで示される低級アルコキシ基として
はメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポ
キシ、ブトキシなどの炭素数1〜4程度のアルコ
キシ基があげられる。 XおよびYで示されるハロゲンとしてはたとえ
ばフツ素、塩素、臭素があげられる。 R1としてはtert−ブチル基またはベンジル基が
好ましく(さらに好ましくはベンジル基)、Xお
よびYとしては水素が好ましい。化合物(XII)と
してはN−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−
フエニルプロピル]−L−アラニンが好ましい。 上記化合物(XI)、(XII)および()の反応
は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。用いら
れる塩基としては反応に関与しない第3級アミン
(例、トリエチルアミン、N−メチルピペリジン、
ジメチルアニリン、ピリジン,4−ジメチルアミ
ノピリジン)が好ましく、トリエチルアミンがさ
らに好ましい。溶媒としては反応に関与しないも
のであればいかなるものであつてもよいが、塩化
メチレン、酢酸エチル、クロロホルム、四塩化エ
タン、テトラヒドロフランなどの比較的低沸点の
有機溶媒が好ましい。また上記塩基を溶媒として
用いることもできる。反応温度は通常−20゜〜+
50℃であり、好ましくは−5゜〜+30℃である。化
合物(XI)、()および塩基の使用量は特に制
限されないが、一般に化合物(XII)に対し、化合
物(XI)は1.0〜1.5当量を、化合物()は1.0
〜2.0当量を、また塩基は1〜4当量を用いるこ
とが経済上効率的である。反応時間は特に限定さ
れないが、化合物(XI)および(XII)を化合物
()の存在下に縮合させる場合には0.5〜5時
間であることが好ましい。 また、化合物(XI)と()を塩基の存在
下、溶媒中で撹拌した後、化合物(XII)を該反応
混合物に添加してもよい。用いられる塩基、溶媒
の種類および量、および反応温度は前記と同様で
ある。化合物(XI)と()の溶媒中での撹拌
時間は特に限定されないが、一般には1〜20時間
であることが好ましい。 反応混合物からの化合物()の分離精製は通
常の手段(例、抽出、濃縮、カラムクロマトグラ
フイ)を用いて行うことができる。 化合物(XI)はたとえば、特開昭57−77651号
公報;特開昭57−179141号公報;ケミカル・アン
ド・フアーマシユーテイカル・ブレチン、34巻、
2852頁(1986年)に記載の方法により合成するこ
とができる。 化合物(XII)はたとえば、特開昭58−103364号
公報;特開昭61−178954号公報;ケミカル・アン
ド・フアーマシユーテイカル・ブレチン、34巻、
2852頁(1986年)に記載の方法により合成するこ
とができる。 化合物()はたとえば、特開昭47−14127
号公報;特開昭47−16422号公報;特開昭48−
1001号公報に記載の方法により合成することがで
きる。また、塩基の存在下、オキシ塩化リンと、
オキシ塩化リンの約2倍モルのフエノール類
【式】とを−5℃〜+30℃で0.5〜3 時間反応させ、化合物()を分離精製するこ
となく、反応混合物のまま化合物(XI)と(XII)
の縮合反応に使用することもできる。 本発明で得られる化合物()は、たとえば加
水分解反応、脱離反応または接触還元反応によ
り、容易に化合物(a)に導くことができ、加
水分解反応(R1が低級アルキル基またはアラル
キル基の場合)あるいは脱離反応(R1がtert−ブ
チル基の場合)は水またはたとえばメタノール、
エタノール、酢酸エチル、クロロホルム、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ピリジン、酢酸、ア
セトン、塩化メチレンなどの有機溶媒あるいはそ
れらの混合溶媒中で行なわれ、酸(例、塩化水
素、臭化水素、フツ化水素、沃化水素、硫酸、メ
タンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、トリ
フルオロ酢酸)あるりいは塩基(例、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸水
素ナトリウム、炭酸ナトリウム、酢酸ナトリウ
ム)を添加して行なうこともできる。上記反応は
通常−20〜+150℃程度で範囲で行なわれる。ま
た接触還元反応(R1がベンジル基の場合)は水
またはたとえばメタノール、エタノール、酢酸エ
チル、ジオキサン、テトラヒドロフランなどの有
機溶媒あるいはそれらの混合溶媒中、たとえばパ
ラジウム−炭素などの適当な触媒の存在下に行わ
れる。本反応は常圧ないし150Kg/cm2程度までの
圧力下、−20゜〜+150℃の温度で行われる。 前記接触還元反応は、化合物()に対してパ
ラジウム−炭素、1〜100(W/W)%(さらに好
ましくは2〜20(W/W)%)[乾燥物換算]を用
い、低級(C1-4)アルコール(例、メタノール、
エタノール、プロパノール)または水および前記
低級アルコールの混合溶媒中、常圧ないし10Kg/
cm2の水素圧中、0゜〜+40℃で行われることが望ま
しい。反応時間は0.5〜5時間程度であり、溶媒
中に酸(例、塩化水素)が添加されることが好ま
しい。 化合物(a)の塩(好ましくは薬理学的に許
容されうる酸付加塩)は化合物(a)を製造す
るための反応自体で得られることもあるが、化合
物(a)に酸(例、塩化水素)を加えて製造す
ることもできる。 (実施例) 以下に、実施例をあげて本発明を説明するが、
もとより本発明はこれらに限定されるものではな
い。生成物の純度は高速液体クロマトグラフイー
(HPLC)を用い、標準品との比較、あるいはピ
ーク面積百分率法により算出した。また分析には
下記条件を使用した。 カラム:Nucleosil 10C18(4.0mmID×300mm) 移動相:アセトニトリル/0.03Mリン酸二水素カ
リウム溶液=65/35 流速:1ml/min 検出:254nm 実施例 1 N−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フエ
ニルプロピル]−L−アラニン5.0g(18mmol)と
tert−ブチル、N−(インダン−2−イル)グリ
シナート5.5g(22mmol)を塩化メチレン200mlに
加えた後氷冷し、トリエチルアミン2.6ml
(19mmol)を加えた。氷冷下反応液をかき混ぜ
ながらジフエニルホスホロクロリデート(市販
品)7.2g(27mmol)を加えた後トリエチルアミン
2.6ml(19mmol)の塩化メチレン溶液(30ml)を
滴下した。反応液を10℃以下で2時間かき混ぜた
後水400mlと塩化メチレン200mlの混液に注ぎ、有
機層を分取した。有機層を10%リン酸水300ml、
1Nカセイソーダ溶液300mlおよび水400mlで洗い、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧で
留去して黄色油状物13.9gを得た。本油状物中の
目的物tert−ブチル N−[N−[(S)−1−エトキ
シカルボニル−3−フエニルプロピル]−L−ア
ラニル]−N−(インダン−2−イル)グリシナー
トをHPLCで標準品と比較して定量すると純度
65.6%で収率は98%であつた。 上記油状物を酢酸エチル100mlに溶かし、10%
重曹水100mlを加え室温で30分撹拌した。酢酸エ
チル層を分取し、減圧で濃縮すると目的物の純度
は94%となつた。 なお標準品はChem.Pharm.Bull.,34巻.2852
頁(1986年)の記載の方法によつて製造した。 実施例 2 tert−ブチル N−(インダン−2−イル)グ
リシナート3.54g(14.3mmol)を塩化メチレン90
mlに溶かし、5℃以下に冷却した。撹拌下同温度
でジフエニルホスホロクロリデート4.81g
(17.9mmol)の塩化メチレン溶液(10ml)および
トリエチルアミン2.5g(25mmol)を加え、さらに
2時間撹拌した後室温で一夜放置した。反応液に
N−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フエニ
ルプロピル]−L−アラニン3.33g(11.9mmol)を
加え室温で2時間かき混ぜた。反応混合物を水
100mlおよび10%リン酸溶液60mlで洗つた後溶媒
を留去した。残留物を酢酸エチル100mlに溶かし、
10%炭酸ソーダ溶液50mlおよび水60mlで洗つた後
酢酸エチルを減圧で留去すると7.61gの黄色油状
物が得られた。本油状物中のtert−ブチル N−
[N−(S)−1−エトキシカルボニル−3−フエニ
ルプロピル]−L−アラニル]−N−(インダン−
2−イル)グリシナートを定量すると純度80.0%
で収率は100%であつた。 実施例 3 塩化メチレン250mlにN−[(S)−1−エトキシカ
ルボニル−3−フエニルプロピル]−L−アラニ
ン10.0g(35.8mmol)とエチル N−(インダン−
2−イル)グリシナート9.42g(43.0mmol)を懸
濁させて氷冷し、トリエチルアミン5.2ml
(37mmol)を加え溶解させた。ジフエニルホス
ホロクロリデート8.9ml(43mmol)を添加後トリ
エチルアミン5.2ml(37mmol)の塩化メチレン溶
液(25mm)を滴下し、10℃以下で2時間撹拌し
た。反応液を水300ml、10%リン酸溶液300mlで2
回、水300mlで洗浄した後有機層を減圧濃縮した。
残留物を酢酸エチル300mlに溶かし、10%リン酸
溶液300ml、10%炭酸ナトリウム溶液300ml、希食
塩水300mlで順番に洗浄後無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を減圧下で留去してエチル N
−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フエニル
プロピル]−L−アラニル]−N−(インダン−2
−アル)グリシナートを主成分とする油17.12gを
得た。HPLCピーク面積百分率91.5%、収率91.1
%。 NMRスペクトル(CDCl3)δ:1.23,1.26(各々
3H,t.CH3×2),1.32(3H,d,CH3),4.12,
4.15(各々2H,q,CH2),6.9−7.3(9H,m,
Ph)。 但し、sは一重線、dは二重線、tは三重線、
qは四重線、mは多重線、Phはフエニル基を意
味する(以下の実施例においても同様である)。 IRスペクトルNeat naxcm-1:3300,1740,1645。 実施例 4 N−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フエ
ニルプロピル]−L−アラニン8.00g(28.6mmol)
とベンジル N−(インダン−2−イル)グリシ
ナート9.67g(34.4mmol)を実施例3と同様に反
応・処理してベンジル N−[N−[(S)−1−エト
キシカルボニル−3−フエニルプロピル]−L−
アラニル]−N−(インダン−2−イル)グリシナ
ートを主成分とする油17.04gを得た。 HPLCピーク面積百分率87.5%、収率 96.0%。 NMRスペクトル(CDCl3)δ:1.29(3H,t,
CH3)、1.33(3H,d,CH3),4.16(2H,q,
CH2),5.07(2H,s,CH2)7.0−7.4(14H,
m,Ph)。 IRスペクトルNeat naxcm-1:3300,1740,1645。 実施例 5 塩化メチレン240mlにエチル N−(インダン−
2−イル)グリシナート8.16g(37.2mmol)、ジフ
エニルホスホロクロリデート7.2ml(34mmol)お
よびトリエチルアミン4.8ml(34mmol)を溶か
し、室温で7時間撹拌した後一夜放置した。反応
液にN−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フ
エニルプロピル]−L−アラニン8.00g
(28.6mmol)を加え、氷冷後トリエチルアミン
4.2ml(30mmol)の塩化メチレン溶液(12ml)を
滴下した後10℃以下で2時間撹拌した後、実施例
3と同様に処理してエチル N−[N−[(S)−1−
エトキシカルボニル−3−フエニルプロピル]−
L−アラニル]−N−(インダン−2−イル)グリ
シナートを主成分とする油13.46gを得た。HPLC
ピーク面積百分率91.6%、収率89.6%。 実施例 6 塩化メチレン200mlにベンジル N−(インダン
−2−イル)グリシナート9.67g(34.4mmol)、ジ
フエニルホスホロクロリデート7.2ml(34mmol)
およびトリエチルアミン4.8ml(34mmol)を溶か
し、室温で6時間撹拌した後一夜放置した。反応
液にN−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フ
エニルプロピル]−L−アラニン8.00g
(28.6mmol)を加え、氷冷後トリエチルアミン42
ml(30mmol)の塩化メチレン溶液(20ml)を滴
下した後10℃以下で2時間撹拌した後、実施例3
と同様に処理してベンジル N−[N−[(S)−1−
エトキシカルボニル−3−フエニルプロピル]−
L−アラニル]−N−(インダン−2−イル)グリ
シナートを主成分とする油16.94gを得た。HPLC
ピーク面積百分率88.7%、収率96.7%。 実施例 7 塩化メチレン100mlにフエノール10.1g
(0.107mol)を溶かし、5℃以下に冷却してオキ
シ塩化リン8.23g(54mmol)を加え、さらに同温
度でトリエチルアミン10.9g(0.107mol)のジクロ
ルメタン溶液(30ml)を滴下した後10℃以下で11
時間撹拌した。 別に塩化メチレン300ml,N−[(S)−1−エトキ
シカルボニル−3−フエニルプロピル]−L−ア
ラニン10.0g(35.8mmol),tert−ブチルN−(イン
ダン−2−イル)グリシナート10.6g(42.9mmol)
およびトリエチルアミン3.78g(37.8mmol)の溶
液を調製した。本溶液に前記ジフエニルホスホロ
クロリデート溶液を10℃以下で滴下した後トリエ
チルアミン3.78g(37.3mmol)を滴下し、さらに
同温度で2時間撹拌した。反応液を水400ml、10
%リン酸溶液300mlで2回、水400mlで洗浄した後
溶媒を留去した。残留物を酢酸エチル150mlに溶
かし、10%リン酸溶液100ml、10%炭酸ソーダ溶
液150ml、水150mlで洗つた後濃縮して残留物
20.56gを得た。本油状物中のtert−ブチル N−
[N−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フエニ
ルプロピル]−L−アラニル]−N−(インダン−
2−イル)グリシナートの純度は82.7%で収率は
93.4%であつた。 実施例 8〜15 実施例7と同一条件で各種フエノール(3当
量)とオキシ塩化リン(1.5当量)からビス置換
フエニルホスホロクロリデートを製造し、tert−
ブチル N−[N−[(S)−1−エトキシカルボニル
−3−フエニルプロピル]−L−アラニル]−N−
(インダン−2−イル)グリシナートを得た。本
品をHPLCで定量し、収率を算出した。
【表】 実施例 16 塩化メチレン90mlにm−クレゾール11.50g
(0.106mol)を溶かし、氷冷下オキシ塩化リン
7.41g(48.3mmol)を加え、さらにトリエチルア
ミン10.76g(0.106mol)の塩化メチレン溶液(10
ml)を滴下した後1時間撹拌した。後10℃以下で
tert−ブチル N−(インダン−2−イル)グリ
シナート9.56g(38.7mmol)を加えた後トリエチ
ルアミン3.78g(37.3mmol)を加え、さらに室温
で7時間撹拌して一夜放置した。別に塩化メチレ
ン290ml、N−[(S)−1−エトキシカルボニル−3
−フエニルプロピル]−L−アラニン9.0g
(32.2mmol)およびトリエチルアミン3.40g
(33.6mmol)の溶液を調製し、氷冷下前記の反応
液を滴下した。後10℃以下で2時間撹拌後実施例
7と同様に処理・定量した。収量21.9g、純度
61.8%、収率82.7%。 実施例 17 実施例4と同様にして得られたベンジル N−
[N−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フエニ
ルプロピル]−L−アラニル]−2−(インダン−
2−イル)グリシナート30.0g(純度81.1%)をエ
タノール250mlに溶解し、35%塩酸9.3gおよび5
%パラジウム炭素(50%湿性)5.0gを加えた後約
30℃で水素を通導した(約1時間)。反応終了後
触媒をろ去し、エタノールで洗つた後、ろ液およ
び洗液を減圧で濃縮した。残留物に酢酸エチル
200mlを加えて再濃縮した後酢酸エチル250mlを加
え、10℃以下に冷却した。析出結晶をろ取、酢酸
エチルで洗つた後減圧で乾燥し、21.9g(純度94.7
%)のN−[N−[(S)−1−エトキシカルボニル−
3−フエニルプロピル]−L−アラニル]−N−
(インダン−2−イル)グリシン塩酸塩を得た。
収率94.3%。なお母液には3.0%に相当する目的
物が認められた。 実施例 18 酢酸エエチル 70mlにtert−ブチル N−[N
−[(S)−1−エトキシカルボニル−3−フエニル
プロピル]−L−アラニル]−N−(インダン−2
−イル)グリシナート19.4g(純度83.6%)を溶か
し、10℃以下に冷却しながら、塩酸ガスを17.5g
吹き込んだ。冷浴をはずし、室温で3時間撹拌し
た。反応液を減圧濃縮した後、酢酸エチル70mlを
加え、10℃以下に冷却しながら1時間撹拌した。
析出結晶をろ取、酢酸エチルで洗つた後減圧で乾
燥し、14.7g(純度96.0%)のN−[N−[(S)−1−
エトキシカルボニル−3−フエニルプロピル]−
L−アラニル]−N−(インダン−2−イル)グリ
シン塩酸塩を得た。収率91%。 (発明の作用および効果) 本発明により、ACE阻害作用に基づく降圧作
用を有するインダン誘導体の製造中間体が安全
に、しかも収率よく得られ、また、得られた製造
中間体は容易に降圧作用を有するインダン誘導体
に導くことができ、本発明はインダン誘導体の工
業的製造法として有用である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式 [式中、R1は低級アルキル基またはアラルキ
    ル基を示す]で表わされる化合物に式 [式中、XおよびYはそれぞれ水素、低級アル
    キル基、低級アルコキシ基またはハロゲンを示
    す]で表わされるジフエニルホスホロクロリデー
    ト類と式 [式中、R2は低級アルキル基、R3はアラルキ
    ル基を、R4は低級アルキル基を示す]で表わさ
    れる化合物とを反応させることを特徴とする式 [式中、各記号は前記と同意義]で表わされる
    インダン誘導体の製造法。 2 R1がtert−ブチル基である請求項1記載の製
    造法。 3 R1がベンジル基である請求項1記載の製造
    法。 4 式 [式中、R1は低級アルキル基またはアラルキ
    ル基を示す]で表わされる化合物に式 [式中、XおよびYはそれぞれ水素、低級アル
    キル基、低級アルコキシ基またはハロゲンを示
    す]で表わされるジフエニルホスホロクロリデー
    ト類と式 [式中、R2は低級アルキル基を、R3はアラル
    キル基を、R4は低級アルキル基を示す]で表わ
    される化合物とを反応させ、得られる式 [式中、各信号は前記と同意義]で表わされる
    化合物を加水分解反応に付すことを特徴とする式 [式中、各記号は前記と同意義]で表わされる
    インダン誘導体またはその塩の製造法。 5 式 [式中、R1はtert−ブチル基を示す]で表わさ
    れる化合物に式 [式中、XおよびYはそれぞれ水素、低級アル
    キル基、低級アルコキシ基またはハロゲンを示
    す]で表わされるジフエニルホスホロクロリデー
    ト類と式 [式中、R2は低級アルキル基を、R3はアラル
    キル基を、R4は低級アルキル基を示す]で表わ
    される化合物とを反応させ、得られる式 [式中、各記号は前記と同意義]で表わされる
    化合物を脱離反応に付すことを特徴とする式 [式中、各記号は前記と同意義]で表わされる
    インダン誘導体またはその塩の製造法。 6 式 [式中、R1は置換されていてもよいベンジル
    基を示す]で表わされる化合物に式 [式中、XおよびYはそれぞれ水素、低級アル
    キル基、低級アルコキシ基またはハロゲンを示
    す]で表わされるジフエニルホスホロクロリデー
    ト類と式 [式中、R2は低級アルキル基を、R3はアラル
    キル基を、R4は低級アルキル基を示す]で表わ
    される化合物とを反応させ、得られる式 [式中、各記号は前記と同意義]で表わされる
    化合物を接触還元反応に付すことを特徴とする式 [式中、各記号は前記と同意義]で表わされる
    インダン誘導体またはその塩の製造法。
JP63-44879A 1987-03-04 1988-02-26 インダン誘導体の製造法 Granted JPH01100A (ja)

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JP62-50876 1987-03-04
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JPS64100A JPS64100A (en) 1989-01-05
JPH01100A JPH01100A (ja) 1989-01-05
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JPS64100A (en) 1989-01-05
US4835302A (en) 1989-05-30
HU200476B (en) 1990-06-28
DE3882744T2 (de) 1994-02-17
ES2058253T3 (es) 1994-11-01
HUT47308A (en) 1989-02-28
CA1312995C (en) 1993-01-19
DK100788D0 (da) 1988-02-26
ATE92500T1 (de) 1993-08-15
KR880011080A (ko) 1988-10-26
EP0281393B1 (en) 1993-08-04
EP0281393A3 (en) 1990-01-03
DE3882744D1 (de) 1993-09-09
DK100788A (da) 1988-09-05
EP0281393A2 (en) 1988-09-07

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