JPH0541771Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0541771Y2 JPH0541771Y2 JP1988032400U JP3240088U JPH0541771Y2 JP H0541771 Y2 JPH0541771 Y2 JP H0541771Y2 JP 1988032400 U JP1988032400 U JP 1988032400U JP 3240088 U JP3240088 U JP 3240088U JP H0541771 Y2 JPH0541771 Y2 JP H0541771Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- deodorizing
- deodorizer
- particles
- deodorant
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Treating Waste Gases (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本考案は脱臭装置に関するもので、特に、アン
モニア含有ガス等の有臭ガスがを脱臭するための
脱臭装置に関するものである。 〔従来の技術〕 従来の脱臭機等は、基体または液体の脱臭剤ま
たは消臭剤等を使用して脱臭または消臭するもの
がある。例えば、固体である活性炭を使用するも
のでは、カートリツジに活性炭を入れ、該カート
リツジ内に有臭ガスを通過させて吸着により脱臭
するものがある。また、液体を使用するものでは
脱臭剤または消臭剤を添加した水溶液を有臭ガス
と接触させ、吸着または反応により脱臭するもの
がある。 〔考案が解決しようとする問題点〕 前記せるような従来の脱臭機のうち、活性炭を
使用する場合、脱臭能力は活性炭の粒径(または
表面積)と使用量(カートリツジの形状、即ち有
臭ガスの滞留時間)によつて決定される。 しかしながら、あまり粒径を小さくすると1mm
以下では期待の流れが悪くなり、また吸着能力の
持続時間も粒径が小さいと短くなる等の欠点があ
り、通常4.7〜2.4mm位(4〜8メツシユ)の粒径
のものを使用している。 また、活性炭の物理的強度からあまり強く詰め
ると粒子が破壊されてしまうことがある。 活性炭の場合、本質的には活性炭表面の吸着機
構であるが、実際には表面の吸着能力が飽和に達
する前にカートリツジを交換しなければならず、
また、アンモニア含有ガスのような低分子量の極
性物質を含む場合は吸着力が弱く、活性炭の細孔
空間に反応性成分を添着させることが一般的であ
るが即効性がない等の欠点を有するものである。 一方、液体を使用して脱臭、消臭を行う場合、
有臭ガスを単純に液体の中に通す爆気方式もある
が、この方式のものは、仕切られた部屋の中に消
臭剤等の液体をシヤワーあるいはスプレイノズル
等から噴霧し、ここに有臭ガスを導入して接触さ
せ、吸着または反応により脱臭するものである。
この場合、処理能力を上げるには基本的には噴霧
粒子径を小さくし、噴霧量を多量にすることであ
る。しかしながら、この条件を満たそうとすれば
例えばスプレイノズルの場合にはノズルの径を小
さくすることで解決できるが、径を小さくするに
したがつて使用するポンプは大出力のものを使う
ようになり、装置自体が大型化すると共に、使用
する消臭剤等の量も増加し、消臭液等の交換にも
手数の掛かるものであつた。 従つて、上記の方法ではランニングコストが高
いばかりでなく、付随して生じる騒音等の障害に
も対処しなければならず、装置は一層大型化して
更にコストアツプとなる欠点を有している。 〔問題点を解決するための手段〕 本考案は、以上のような従来の問題点を解決す
べく創案されたものであり、超音波により消臭剤
あるいは脱臭剤を粒子化し、該粒子を脱臭室内に
噴霧させ、該脱臭室内に有臭ガスを通過させなが
ら有臭ガスと消臭噴霧粒子とを接触させ、次いで
フイルター、ガス排出管を経てブロアーの排気口
より無臭ガスを排気するように構成したことを特
徴とし、且つ、有臭ガスの臭気成分濃度に応じて
単位体積当たりの消臭剤あるいは脱臭剤噴霧粒子
数を調節するために、該消臭剤あるいは脱臭剤噴
霧粒子の発生数を超音波発生器にて調節できるよ
うに構成したことを特徴とするものである。 〔実施例〕 以下、図面に基づき本考案の構成を説明する。
図面に於いて、第1図は本考案脱臭装置の部分切
除せる側面図、第2図は部分切除せる背面図、第
3図は正面図である。 基台1には、ブロアー12と、その上部に粒子
発生室16と脱臭室3が配置されている。 粒子発生室16内では消臭剤あるいは脱臭剤が
超音波発生器5により粒子化され、粒子送出管1
4を経て脱臭室3内へ噴霧される。 脱臭室3へは、例えばアンモニア含有ガスのよ
うな有臭ガスがガス吸入口2より吸入され、消臭
剤あるいは脱臭剤の噴霧粒子6と接触して脱臭さ
れフイルター7により噴霧粒子6の外部への排出
を防ぎ、ガス排出管9を経てブロアー12の排気
口10より無臭ガスとなつて排出される。 図中8は流量調節のためのダンパーであり、該
ダンバー8はモータードライブとして制御盤14
の操作により自動的に流量調節を行う制御回路
(図示せず)を構成することもできる。 また、ヒーター13は除湿用のものであつて、
無臭ガスを排出する室内の状況によつて使用する
ことができ、これも制御盤15の操作によつて行
う。 尚、図中11はフイルター7にて止められた噴
霧粒子6が集まつた使用済消臭液を除去するため
のドレインである。有臭ガスの臭気成分濃度に応
じて単位体積当たりの消臭剤あるいは脱臭剤噴霧
粒子数を超音波発生器5にて調節し、且つ、流量
調節をダンパー8で連動的に制御する制御回路
(図示せず)によつて制御され、使用済消臭液は
飽和直前にドレイン11より排出される。 尚、第3図のようにサービスク19を用いれ
ば、パイプ19を介してバルブ20の調節によつ
て消臭剤あるいは脱臭剤の消耗量を補充できると
ともに液面を一定に保つことにより超音波によつ
て発生する粒子の粒径及び発生量を安定させるこ
とができる。 以下は具体的な実施例である。 ジアゾ感光紙のアンモニア現像機から排出され
るアンモニア含有ガスを前記せる装置を用いて脱
臭試験を行つた結果は次の通りである。 アンモニア現像機:(株)坂口精和製・アンモニア
ドライデベロツパー・モデルKD1000から排出さ
れるアンモニア含有ガスをガス吸入口2へダクト
を用いて3.2m3/min.の流量で導入した。この時
のガス吸入口での濃度と排気口10での濃度を
JIS−K−0099(インドフエノール法)によつて測
定した結果、下表の通りであつた。
モニア含有ガス等の有臭ガスがを脱臭するための
脱臭装置に関するものである。 〔従来の技術〕 従来の脱臭機等は、基体または液体の脱臭剤ま
たは消臭剤等を使用して脱臭または消臭するもの
がある。例えば、固体である活性炭を使用するも
のでは、カートリツジに活性炭を入れ、該カート
リツジ内に有臭ガスを通過させて吸着により脱臭
するものがある。また、液体を使用するものでは
脱臭剤または消臭剤を添加した水溶液を有臭ガス
と接触させ、吸着または反応により脱臭するもの
がある。 〔考案が解決しようとする問題点〕 前記せるような従来の脱臭機のうち、活性炭を
使用する場合、脱臭能力は活性炭の粒径(または
表面積)と使用量(カートリツジの形状、即ち有
臭ガスの滞留時間)によつて決定される。 しかしながら、あまり粒径を小さくすると1mm
以下では期待の流れが悪くなり、また吸着能力の
持続時間も粒径が小さいと短くなる等の欠点があ
り、通常4.7〜2.4mm位(4〜8メツシユ)の粒径
のものを使用している。 また、活性炭の物理的強度からあまり強く詰め
ると粒子が破壊されてしまうことがある。 活性炭の場合、本質的には活性炭表面の吸着機
構であるが、実際には表面の吸着能力が飽和に達
する前にカートリツジを交換しなければならず、
また、アンモニア含有ガスのような低分子量の極
性物質を含む場合は吸着力が弱く、活性炭の細孔
空間に反応性成分を添着させることが一般的であ
るが即効性がない等の欠点を有するものである。 一方、液体を使用して脱臭、消臭を行う場合、
有臭ガスを単純に液体の中に通す爆気方式もある
が、この方式のものは、仕切られた部屋の中に消
臭剤等の液体をシヤワーあるいはスプレイノズル
等から噴霧し、ここに有臭ガスを導入して接触さ
せ、吸着または反応により脱臭するものである。
この場合、処理能力を上げるには基本的には噴霧
粒子径を小さくし、噴霧量を多量にすることであ
る。しかしながら、この条件を満たそうとすれば
例えばスプレイノズルの場合にはノズルの径を小
さくすることで解決できるが、径を小さくするに
したがつて使用するポンプは大出力のものを使う
ようになり、装置自体が大型化すると共に、使用
する消臭剤等の量も増加し、消臭液等の交換にも
手数の掛かるものであつた。 従つて、上記の方法ではランニングコストが高
いばかりでなく、付随して生じる騒音等の障害に
も対処しなければならず、装置は一層大型化して
更にコストアツプとなる欠点を有している。 〔問題点を解決するための手段〕 本考案は、以上のような従来の問題点を解決す
べく創案されたものであり、超音波により消臭剤
あるいは脱臭剤を粒子化し、該粒子を脱臭室内に
噴霧させ、該脱臭室内に有臭ガスを通過させなが
ら有臭ガスと消臭噴霧粒子とを接触させ、次いで
フイルター、ガス排出管を経てブロアーの排気口
より無臭ガスを排気するように構成したことを特
徴とし、且つ、有臭ガスの臭気成分濃度に応じて
単位体積当たりの消臭剤あるいは脱臭剤噴霧粒子
数を調節するために、該消臭剤あるいは脱臭剤噴
霧粒子の発生数を超音波発生器にて調節できるよ
うに構成したことを特徴とするものである。 〔実施例〕 以下、図面に基づき本考案の構成を説明する。
図面に於いて、第1図は本考案脱臭装置の部分切
除せる側面図、第2図は部分切除せる背面図、第
3図は正面図である。 基台1には、ブロアー12と、その上部に粒子
発生室16と脱臭室3が配置されている。 粒子発生室16内では消臭剤あるいは脱臭剤が
超音波発生器5により粒子化され、粒子送出管1
4を経て脱臭室3内へ噴霧される。 脱臭室3へは、例えばアンモニア含有ガスのよ
うな有臭ガスがガス吸入口2より吸入され、消臭
剤あるいは脱臭剤の噴霧粒子6と接触して脱臭さ
れフイルター7により噴霧粒子6の外部への排出
を防ぎ、ガス排出管9を経てブロアー12の排気
口10より無臭ガスとなつて排出される。 図中8は流量調節のためのダンパーであり、該
ダンバー8はモータードライブとして制御盤14
の操作により自動的に流量調節を行う制御回路
(図示せず)を構成することもできる。 また、ヒーター13は除湿用のものであつて、
無臭ガスを排出する室内の状況によつて使用する
ことができ、これも制御盤15の操作によつて行
う。 尚、図中11はフイルター7にて止められた噴
霧粒子6が集まつた使用済消臭液を除去するため
のドレインである。有臭ガスの臭気成分濃度に応
じて単位体積当たりの消臭剤あるいは脱臭剤噴霧
粒子数を超音波発生器5にて調節し、且つ、流量
調節をダンパー8で連動的に制御する制御回路
(図示せず)によつて制御され、使用済消臭液は
飽和直前にドレイン11より排出される。 尚、第3図のようにサービスク19を用いれ
ば、パイプ19を介してバルブ20の調節によつ
て消臭剤あるいは脱臭剤の消耗量を補充できると
ともに液面を一定に保つことにより超音波によつ
て発生する粒子の粒径及び発生量を安定させるこ
とができる。 以下は具体的な実施例である。 ジアゾ感光紙のアンモニア現像機から排出され
るアンモニア含有ガスを前記せる装置を用いて脱
臭試験を行つた結果は次の通りである。 アンモニア現像機:(株)坂口精和製・アンモニア
ドライデベロツパー・モデルKD1000から排出さ
れるアンモニア含有ガスをガス吸入口2へダクト
を用いて3.2m3/min.の流量で導入した。この時
のガス吸入口での濃度と排気口10での濃度を
JIS−K−0099(インドフエノール法)によつて測
定した結果、下表の通りであつた。
本考案脱臭装置は以上説明したような構成であ
るので、従来の装置に比べて消臭効率もよく装置
をコンパクトに構成でき、ランニングコストも低
くできる等多くの利点を有しており実用的価値の
高い考案である。
るので、従来の装置に比べて消臭効率もよく装置
をコンパクトに構成でき、ランニングコストも低
くできる等多くの利点を有しており実用的価値の
高い考案である。
図面は本考案の実施例を示すもので、第1図は
本考案脱臭装置の部分切除せる側面図、第2図は
本考案脱臭装置の部分切除せる背面図、第3図は
正面図である。 1……基台、2……ガス吸入口、3……脱臭
室、4……ノズル、5……超音波発生器、6……
噴霧粒子、7……フイルター、8……ダンパー、
9……ガス排出管、10……排気口、11……ド
レイン、12……ブロアー、13……ヒーター、
14……粒子送出管、15……制御盤、16……
粒子発生室、17……消臭剤あるいは脱臭剤、1
8……サービスタンク、19……パイプ、20…
…バルブ。
本考案脱臭装置の部分切除せる側面図、第2図は
本考案脱臭装置の部分切除せる背面図、第3図は
正面図である。 1……基台、2……ガス吸入口、3……脱臭
室、4……ノズル、5……超音波発生器、6……
噴霧粒子、7……フイルター、8……ダンパー、
9……ガス排出管、10……排気口、11……ド
レイン、12……ブロアー、13……ヒーター、
14……粒子送出管、15……制御盤、16……
粒子発生室、17……消臭剤あるいは脱臭剤、1
8……サービスタンク、19……パイプ、20…
…バルブ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 基台1上に超音波発生器5を備えた粒子発生
室16と粒子送出管14により連結された脱臭
室3及びブロアー12を設置した脱臭装置にお
いて、粒子発生室16内で消臭剤あるいは脱臭
剤を超音波発生器5により粒子化し、粒子送出
管14を経て脱臭室3へ噴霧し、通過する有臭
ガスと噴霧粒子6とを接触させ、次いで噴霧粒
子捕捉用フイルター7、ガス排出管9を経てブ
ロアー12の排気口10より無臭ガスとして排
気するように構成したことを特徴とする脱臭装
置。 (2) 有臭ガスの臭気成分濃度に応じて単位体積当
たりの消臭剤あるいは脱臭剤噴霧粒子数を調節
するために、該消臭剤あるいは脱臭剤噴霧粒子
数を超音波発生器5にて調節できるように構成
したことを特徴とする実用新案登録請求の範囲
第(1)項記載の脱臭装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988032400U JPH0541771Y2 (ja) | 1988-03-11 | 1988-03-11 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988032400U JPH0541771Y2 (ja) | 1988-03-11 | 1988-03-11 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01137719U JPH01137719U (ja) | 1989-09-20 |
| JPH0541771Y2 true JPH0541771Y2 (ja) | 1993-10-21 |
Family
ID=31258871
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988032400U Expired - Lifetime JPH0541771Y2 (ja) | 1988-03-11 | 1988-03-11 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0541771Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004050061A (ja) * | 2002-07-19 | 2004-02-19 | Takeo Kamigaki | 消臭装置および消臭方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5367854U (ja) * | 1976-11-10 | 1978-06-07 |
-
1988
- 1988-03-11 JP JP1988032400U patent/JPH0541771Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01137719U (ja) | 1989-09-20 |
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