JPH0541982B2 - - Google Patents
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- JPH0541982B2 JPH0541982B2 JP61211178A JP21117886A JPH0541982B2 JP H0541982 B2 JPH0541982 B2 JP H0541982B2 JP 61211178 A JP61211178 A JP 61211178A JP 21117886 A JP21117886 A JP 21117886A JP H0541982 B2 JPH0541982 B2 JP H0541982B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- alignment
- exposure
- section
- frame
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プリント基板等のワークの両面に印
刷配線等の画像を同時露光する際に、画像マスク
とワークを精度良く位置合せして能率良く露光す
ることができるアライメント付両面自動露光装置
部に関する。
刷配線等の画像を同時露光する際に、画像マスク
とワークを精度良く位置合せして能率良く露光す
ることができるアライメント付両面自動露光装置
部に関する。
近年、プリント基板等における配線パターン
は、搭載部品（特に集積回路）の集積度が向上す
るにつれ高密度、高精細度が要求され、フオトリ
ソグラフイーの露光においてワークと画像マスク
の位置合わせも高精度が要求されるようになつて
きた。
は、搭載部品（特に集積回路）の集積度が向上す
るにつれ高密度、高精細度が要求され、フオトリ
ソグラフイーの露光においてワークと画像マスク
の位置合わせも高精度が要求されるようになつて
きた。
プリント基板等のワークに所定の配線パターン
等の画像を露光焼付けするには、ワークと画像マ
スクを位置合せした後、近接または密着して平行
光等の透過照射することにより行なわれる。ワー
クの両面を同時露光する際のワークと画像マスク
の位置合せ装置に関する従来の技術として、本出
願人は昭和61年８月13日付の特許出願「両面露光
用ワークアライメント装置」において開示してい
る。この両面露光におけるワークと上下両面の画
像マスクとの位置合せ方法は、上下の焼枠で構成
された露光部の外部にアライメントステージを設
け、アライメントステージ上でワークの位置合せ
を行ない、そのワークを搬送手段で前記露光部へ
搬入し、その露光部でワークの位置ズレ量をチエ
ツクし算出して、ワークをアライメントステージ
に戻し再位置合せしたり、次回以降のワークの位
置合せに反映させたりするもので、ワークの位置
合せと露光とを流れ作業的に行ないワークの処理
能力（スループツト）を高めるとともに、ワーク
位置合せ機構の簡単化を目的としたものであつ
た。
等の画像を露光焼付けするには、ワークと画像マ
スクを位置合せした後、近接または密着して平行
光等の透過照射することにより行なわれる。ワー
クの両面を同時露光する際のワークと画像マスク
の位置合せ装置に関する従来の技術として、本出
願人は昭和61年８月13日付の特許出願「両面露光
用ワークアライメント装置」において開示してい
る。この両面露光におけるワークと上下両面の画
像マスクとの位置合せ方法は、上下の焼枠で構成
された露光部の外部にアライメントステージを設
け、アライメントステージ上でワークの位置合せ
を行ない、そのワークを搬送手段で前記露光部へ
搬入し、その露光部でワークの位置ズレ量をチエ
ツクし算出して、ワークをアライメントステージ
に戻し再位置合せしたり、次回以降のワークの位
置合せに反映させたりするもので、ワークの位置
合せと露光とを流れ作業的に行ないワークの処理
能力（スループツト）を高めるとともに、ワーク
位置合せ機構の簡単化を目的としたものであつ
た。
上記従来のアライメント装置においては、ワー
クは露光部の外部のアライメントステージでの位
置合せ後、ハンドラやトランスフアといつた搬送
手段によつて露光部の露光位置へ搬入セツトされ
るものであつたので、この搬送手段によるワーク
の保持、搬送および露光位置への到着後の保持開
放といつた動作の間にワークの位置に狂いが生ず
る虞れがあり高精度を期待できないという問題点
があつた。
クは露光部の外部のアライメントステージでの位
置合せ後、ハンドラやトランスフアといつた搬送
手段によつて露光部の露光位置へ搬入セツトされ
るものであつたので、この搬送手段によるワーク
の保持、搬送および露光位置への到着後の保持開
放といつた動作の間にワークの位置に狂いが生ず
る虞れがあり高精度を期待できないという問題点
があつた。
したがつてこのワーク位置の狂いが生ずる虞れ
のため露光部では、ワーク位置のチエツクを頻繁
に行なう必要があり、さらに狂いの生じたワーク
はアライメント装置へ戻して再位置合せをする
か、排除するかしなければならないこともあり生
産能力をより向上させる上で問題点となつてい
た。
のため露光部では、ワーク位置のチエツクを頻繁
に行なう必要があり、さらに狂いの生じたワーク
はアライメント装置へ戻して再位置合せをする
か、排除するかしなければならないこともあり生
産能力をより向上させる上で問題点となつてい
た。
本発明は上記問題点を解決するために創案され
たもので、画像マスクとワークの高精度な位置合
せができるとともに、生産能率を向上させること
ができるアライメント付両面自動露光装置を提供
することを目的とする。
たもので、画像マスクとワークの高精度な位置合
せができるとともに、生産能率を向上させること
ができるアライメント付両面自動露光装置を提供
することを目的とする。
本発明における上記目的を達成するための手段
として、「位置決めマークを有するワークの搬入
手段と、この搬入手段により搬入されたワークを
保持し、位置合わせをするアライメント部と、こ
のアライメント部の直下に位置し、位置合済ワー
クを載置する一方の焼枠と、この焼枠をアライメ
ント位置から露光位置まで往復搬送する移動テー
ブルと、この移動テーブルの移動端で待機する他
方の焼枠と、前記一方と他方の焼枠の間にワーク
を挟着して露光を行う露光部と、この露光部で露
光を終えたワークを搬出する搬出手段とを備え、
前記アライメント部は、ワークの位置決めマーク
の位置情報を撮像して信号として送る撮像手段
と、送られてきた位置情報および予め記憶してい
る基準データとを比較してワークの位置決めマー
クの位置ズレ量を算出し、変位信号として出力す
る制御部と、この制御部からの信号によりワーク
を保持して位置合わせするアライメントテーブル
とを有し、前記一方の焼枠は、載置したワークの
位置ズレを防止する保持手段を有するアライメン
ト付両面自動露光装置。」として構成した。
として、「位置決めマークを有するワークの搬入
手段と、この搬入手段により搬入されたワークを
保持し、位置合わせをするアライメント部と、こ
のアライメント部の直下に位置し、位置合済ワー
クを載置する一方の焼枠と、この焼枠をアライメ
ント位置から露光位置まで往復搬送する移動テー
ブルと、この移動テーブルの移動端で待機する他
方の焼枠と、前記一方と他方の焼枠の間にワーク
を挟着して露光を行う露光部と、この露光部で露
光を終えたワークを搬出する搬出手段とを備え、
前記アライメント部は、ワークの位置決めマーク
の位置情報を撮像して信号として送る撮像手段
と、送られてきた位置情報および予め記憶してい
る基準データとを比較してワークの位置決めマー
クの位置ズレ量を算出し、変位信号として出力す
る制御部と、この制御部からの信号によりワーク
を保持して位置合わせするアライメントテーブル
とを有し、前記一方の焼枠は、載置したワークの
位置ズレを防止する保持手段を有するアライメン
ト付両面自動露光装置。」として構成した。
本発明では、露光部の焼枠の一方を移動テーブ
ルでアライメント部へ移動させ、このアライメン
ト部によつて一方の焼枠の画像マスクに位置合せ
されたワークをワーク保持手段によつて一方の焼
枠に直接保持し、再び露光部へ戻して他方の焼枠
との間でワークを両面露光する。従つてワークの
位置合せ後、このワークを一方の焼枠に保持する
までに搬送手段によるワークの保持、搬送や保持
解除が介在しないので、それらによるワークの位
置狂いが生じなくなる。
ルでアライメント部へ移動させ、このアライメン
ト部によつて一方の焼枠の画像マスクに位置合せ
されたワークをワーク保持手段によつて一方の焼
枠に直接保持し、再び露光部へ戻して他方の焼枠
との間でワークを両面露光する。従つてワークの
位置合せ後、このワークを一方の焼枠に保持する
までに搬送手段によるワークの保持、搬送や保持
解除が介在しないので、それらによるワークの位
置狂いが生じなくなる。
実施例
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
に説明する。
第１図は本発明の一実施例の正面より見た装置
構成図である。まず露光部の構成を述べる。露光
部１は一方の焼枠（以下下焼枠と記す）２と他方
の焼枠（以下上焼枠と記す）３と両面露光用の照
射光学系４ａ，４ｂから構成される。下焼枠２に
は透明なアクリル板２ａが固着され、その上面に
一方の画像マスクとして下面マスクフイルム５が
その周辺部をアクリル板２ａ上に形成された溝に
より真空吸着されている。同様に上焼枠３には透
明なアクリル板３ａが固着され、他方の画像マス
クとして上面マスクフイルム６が真空吸着されて
いる。上焼枠３はガイド軸７に支持されて上下動
可能に構成され、下焼枠２に接近可能になつてい
る。下焼枠のアクリル板２ａにはエアーシリンダ
等によりアクリル板面上に突出可能に適宜個数の
マスクフイルム位置合せ用のピン８が埋設されて
おり、上下面マスクフイルムの位置合せ時におい
て、最初に上下面マスクフイルム５，６を重ね合
せて夫々の位置合せ孔をこのピン８へ挿入載置
し、上焼枠のアクリル板３ａを下動させて接近さ
せ上面マスクフイルム６を吸着させることにより
上下面マスクフイルムの位置合せを行なう。この
位置合せ後、ピン８はアクリル板２ａ面下に埋設
させる。
構成図である。まず露光部の構成を述べる。露光
部１は一方の焼枠（以下下焼枠と記す）２と他方
の焼枠（以下上焼枠と記す）３と両面露光用の照
射光学系４ａ，４ｂから構成される。下焼枠２に
は透明なアクリル板２ａが固着され、その上面に
一方の画像マスクとして下面マスクフイルム５が
その周辺部をアクリル板２ａ上に形成された溝に
より真空吸着されている。同様に上焼枠３には透
明なアクリル板３ａが固着され、他方の画像マス
クとして上面マスクフイルム６が真空吸着されて
いる。上焼枠３はガイド軸７に支持されて上下動
可能に構成され、下焼枠２に接近可能になつてい
る。下焼枠のアクリル板２ａにはエアーシリンダ
等によりアクリル板面上に突出可能に適宜個数の
マスクフイルム位置合せ用のピン８が埋設されて
おり、上下面マスクフイルムの位置合せ時におい
て、最初に上下面マスクフイルム５，６を重ね合
せて夫々の位置合せ孔をこのピン８へ挿入載置
し、上焼枠のアクリル板３ａを下動させて接近さ
せ上面マスクフイルム６を吸着させることにより
上下面マスクフイルムの位置合せを行なう。この
位置合せ後、ピン８はアクリル板２ａ面下に埋設
させる。
次に移動テーブルの構成を述べる。移動テーブ
ル９は上記の下焼枠２を保持し、２本のレール１
０上に図示しないエアーシリンダ等により水平移
動可能に配設される。露光部１の移動テーブル９
の停止位置へはストツパ１１を設け、上記エアー
シリンダ等でこのストツパ１１に移動テーブル９
を押しつけることで精度良く位置決めされるよう
に構成している。同様にして移動テーブル９のア
ライメント部側にもストツパ１２を設け、上記エ
アーシリンダ等で移動テーブル９を押しつけ、ア
ライメントテーブルの直下に精度よく位置決めさ
れるように構成している。
ル９は上記の下焼枠２を保持し、２本のレール１
０上に図示しないエアーシリンダ等により水平移
動可能に配設される。露光部１の移動テーブル９
の停止位置へはストツパ１１を設け、上記エアー
シリンダ等でこのストツパ１１に移動テーブル９
を押しつけることで精度良く位置決めされるよう
に構成している。同様にして移動テーブル９のア
ライメント部側にもストツパ１２を設け、上記エ
アーシリンダ等で移動テーブル９を押しつけ、ア
ライメントテーブルの直下に精度よく位置決めさ
れるように構成している。
次にアライメント部の構成を述べる。アライメ
ント部１３は前述した所定位置上部に配設され、
ワークを保持して下面マスクフイルムに位置合せ
し、所定位置に移動した下焼枠２に上記位置合せ
したワークを渡すものである。このアライメント
部１３は平面上で直交する２方向（Ｘ，Ｙ）のう
ちＸ方向に移動制御されるＸテーブル１４と、Ｙ
方向に移動制御されるＹテーブル１５と、回転方
向にθ角だけ回動制御されるθテーブル１６と、
ワーク１７を吸着保持するアクリル板１８とから
なるアライメントテーブルとを有している。そし
て、下面マスクフイルム５の位置合せ基準マーク
およびワーク１７の位置合せマークを読み取る２
台のテレビカメラ１９と、各テーブルの位置制御
を行なう制御部などから構成され、上記各テーブ
ルはガイド軸２０によつて上下動可能な基台２１
に保持されている。上記のアライメント部１３の
構成の詳細は第２図および第３図に示されてい
る。第２図は下面より見たアライメント部１３の
構成と制御部の構成を示す図であり、第３図は各
テーブルの支持部材の断面図である。各テーブル
はその上側のテーブルまたは基台２１に支持部材
２２によつて要所をスライド可能に支持される。
まずＸテーブル１４は支持部材２２ａにより基台
２１にＸ方向にスライド可能に支持されている。
基台２１のＸ方向の一方の辺部にはパルスモータ
等によつて指定量だけＸ方向に進退するＸテーブ
ル押圧手段１４ａが設けられ、その他方の辺部に
はＸーブル付勢部材１４ｂがＸテーブル押圧手段
１４ａの退却方向にＸテーブルを付勢するように
配設される。上記の構成によりＸテーブルはＸ方
向に位置決め制御される。Ｙテーブル１５はＸテ
ーブル１４に支持部材２２ｂによりＹ方向へ摺動
可能に支持される。Ｘテーブル１４のＹ方向の一
方の辺部には、パルスモータ等によつて指定量だ
けＹ方向に進退するＹテーブル押圧手段１５ａが
設けられ、その他方の辺部にはＹテーブル付勢部
材１５ｂがＹテーブル押圧手段１５ａの退却方向
にＹテーブルを付勢するように配設される。上記
構成によりＹテーブルはＹ方向に位置決め制御さ
れる。θテーブル１６は支持部材２２ｃによつて
Ｙテーブル１５へ回動可能に支持される。Ｙテー
ブル１５にはパルスモータ等によつて指定量だけ
θテーブル１６の回動方向に進退するθテーブル
押圧手段１６ａが設けられ、このθテーブル押圧
手段１６ａはθテーブル１６の縁部に固着された
突起片１６ｂを進退させる。この突起片１６ｂは
Ｙテーブル１５に設けられたθテーブル付勢部材
１６ｃによつて押圧手段１６ａの進退方向へ付勢
される。上記構成によりθテーブルは回動方向に
指定角度θだけ回動制御がなされる。上記におい
てＸ，Ｙ移動用の支持部材２２ａ，２２ｂはボー
ルベアリング２２ｄを保持するＶ溝２２ｅを直線
に形成され、回動用の支持部材２２ｃはＶ溝２２
ｅを円弧状に形成される。アクリル板１８はθテ
ーブル１６に取り付けられていて、ワーク１７は
アクリル板１８の下面に配設された格子状の溝１
８ａにより真空吸着される。なお、各テーブルの
支持構造および移動機構は上記に限定するもので
はなく、例えば移動機構はスクリユー棒とナツト
を使用するものなど他のものでも良い。
ント部１３は前述した所定位置上部に配設され、
ワークを保持して下面マスクフイルムに位置合せ
し、所定位置に移動した下焼枠２に上記位置合せ
したワークを渡すものである。このアライメント
部１３は平面上で直交する２方向（Ｘ，Ｙ）のう
ちＸ方向に移動制御されるＸテーブル１４と、Ｙ
方向に移動制御されるＹテーブル１５と、回転方
向にθ角だけ回動制御されるθテーブル１６と、
ワーク１７を吸着保持するアクリル板１８とから
なるアライメントテーブルとを有している。そし
て、下面マスクフイルム５の位置合せ基準マーク
およびワーク１７の位置合せマークを読み取る２
台のテレビカメラ１９と、各テーブルの位置制御
を行なう制御部などから構成され、上記各テーブ
ルはガイド軸２０によつて上下動可能な基台２１
に保持されている。上記のアライメント部１３の
構成の詳細は第２図および第３図に示されてい
る。第２図は下面より見たアライメント部１３の
構成と制御部の構成を示す図であり、第３図は各
テーブルの支持部材の断面図である。各テーブル
はその上側のテーブルまたは基台２１に支持部材
２２によつて要所をスライド可能に支持される。
まずＸテーブル１４は支持部材２２ａにより基台
２１にＸ方向にスライド可能に支持されている。
基台２１のＸ方向の一方の辺部にはパルスモータ
等によつて指定量だけＸ方向に進退するＸテーブ
ル押圧手段１４ａが設けられ、その他方の辺部に
はＸーブル付勢部材１４ｂがＸテーブル押圧手段
１４ａの退却方向にＸテーブルを付勢するように
配設される。上記の構成によりＸテーブルはＸ方
向に位置決め制御される。Ｙテーブル１５はＸテ
ーブル１４に支持部材２２ｂによりＹ方向へ摺動
可能に支持される。Ｘテーブル１４のＹ方向の一
方の辺部には、パルスモータ等によつて指定量だ
けＹ方向に進退するＹテーブル押圧手段１５ａが
設けられ、その他方の辺部にはＹテーブル付勢部
材１５ｂがＹテーブル押圧手段１５ａの退却方向
にＹテーブルを付勢するように配設される。上記
構成によりＹテーブルはＹ方向に位置決め制御さ
れる。θテーブル１６は支持部材２２ｃによつて
Ｙテーブル１５へ回動可能に支持される。Ｙテー
ブル１５にはパルスモータ等によつて指定量だけ
θテーブル１６の回動方向に進退するθテーブル
押圧手段１６ａが設けられ、このθテーブル押圧
手段１６ａはθテーブル１６の縁部に固着された
突起片１６ｂを進退させる。この突起片１６ｂは
Ｙテーブル１５に設けられたθテーブル付勢部材
１６ｃによつて押圧手段１６ａの進退方向へ付勢
される。上記構成によりθテーブルは回動方向に
指定角度θだけ回動制御がなされる。上記におい
てＸ，Ｙ移動用の支持部材２２ａ，２２ｂはボー
ルベアリング２２ｄを保持するＶ溝２２ｅを直線
に形成され、回動用の支持部材２２ｃはＶ溝２２
ｅを円弧状に形成される。アクリル板１８はθテ
ーブル１６に取り付けられていて、ワーク１７は
アクリル板１８の下面に配設された格子状の溝１
８ａにより真空吸着される。なお、各テーブルの
支持構造および移動機構は上記に限定するもので
はなく、例えば移動機構はスクリユー棒とナツト
を使用するものなど他のものでも良い。
制御部２３は基台２１に固定された２台のテレ
ビカメラ１９に接続され、最初にアライメント部
１３の所定位置に移動された下面マスクフイルム
５の２点の位置合せ基準マークを読み取り記憶す
る。以後この記憶基準マークに基づいて保持した
ワーク１７の位置合せマークを読み取り、そのズ
レ量を算出し、Ｘ駆動部２４、Ｙ駆動部２５、θ
駆動部２６を介して各押圧手段１４ａ，１５ａ，
１６ａに指定移動量、指定角度をパルス数として
与える。ワーク１７の位置合せマーク寸法と基準
マーク寸法との間に誤差があるときは、その誤差
を夫々の基準マークに対し案分して位置合せする
のが好適である。
ビカメラ１９に接続され、最初にアライメント部
１３の所定位置に移動された下面マスクフイルム
５の２点の位置合せ基準マークを読み取り記憶す
る。以後この記憶基準マークに基づいて保持した
ワーク１７の位置合せマークを読み取り、そのズ
レ量を算出し、Ｘ駆動部２４、Ｙ駆動部２５、θ
駆動部２６を介して各押圧手段１４ａ，１５ａ，
１６ａに指定移動量、指定角度をパルス数として
与える。ワーク１７の位置合せマーク寸法と基準
マーク寸法との間に誤差があるときは、その誤差
を夫々の基準マークに対し案分して位置合せする
のが好適である。
第４図はアライメントされたワークをアライメ
ント部１３から受け取りこれを下焼枠２に保持す
るワーク保持手段の実施例の縦断面図である。こ
のワーク保持手段２７は下焼枠のアクリル板２ａ
の辺部に埋設されたエアーシリンダ２８により、
レバー２９を回動可能とする。このレバー２９の
先端にはワーク押え爪２９ａが形成され、エアー
シリンダ２８のロツド２８ａに突出させたときに
ワーク１７の縁部を押えて保持する。このワーク
持手段２７が突出する部分の上面および下面マス
クフイルム５，６には切欠が設けられ、さらに上
焼枠のアクリル板３ａには露光時に接近するため
の逃げ部分として凹部３が設けられる。ワーク保
持手段はこの実施例に限定するものではなく、ア
クリル板２ａとマスクフイルム５に連動して設け
た溝または多数の孔によりワークの辺部を真空吸
着するなどの手段を用いても良い。
ント部１３から受け取りこれを下焼枠２に保持す
るワーク保持手段の実施例の縦断面図である。こ
のワーク保持手段２７は下焼枠のアクリル板２ａ
の辺部に埋設されたエアーシリンダ２８により、
レバー２９を回動可能とする。このレバー２９の
先端にはワーク押え爪２９ａが形成され、エアー
シリンダ２８のロツド２８ａに突出させたときに
ワーク１７の縁部を押えて保持する。このワーク
持手段２７が突出する部分の上面および下面マス
クフイルム５，６には切欠が設けられ、さらに上
焼枠のアクリル板３ａには露光時に接近するため
の逃げ部分として凹部３が設けられる。ワーク保
持手段はこの実施例に限定するものではなく、ア
クリル板２ａとマスクフイルム５に連動して設け
た溝または多数の孔によりワークの辺部を真空吸
着するなどの手段を用いても良い。
次に露光前のワークを供給するローダ部と露光
後のワークを取り出すアンローダ部とを第１図で
説明する。ローダ部３０は露光前のワークをスト
ツクし、このワークをハンドラ３１が下動して真
空吸着等で保持し、再び上動してアライメント部
１３へ搬入する。この搬入時には移動テーブル９
は露光のため露光部１に移動し、アライメント部
１３の所定位置下方に上下動可能に配設されたワ
ーク受取テーブル３２がマスクフイルムの位置ま
で上昇しハンドラ３１よりワークを受け取る。こ
こでハンドラ３１は復帰し、アライメント部１３
は下降してワーク受取テーブル３２のワーク１７
をθテーブルに吸着し、Ｘ，Ｙ，θの位置合せを
行なう。一方アンローダ部３３はハンドラ３４を
備え、露光後のワークを上焼枠３が上昇退避した
後に真空吸着等により搬出する。
後のワークを取り出すアンローダ部とを第１図で
説明する。ローダ部３０は露光前のワークをスト
ツクし、このワークをハンドラ３１が下動して真
空吸着等で保持し、再び上動してアライメント部
１３へ搬入する。この搬入時には移動テーブル９
は露光のため露光部１に移動し、アライメント部
１３の所定位置下方に上下動可能に配設されたワ
ーク受取テーブル３２がマスクフイルムの位置ま
で上昇しハンドラ３１よりワークを受け取る。こ
こでハンドラ３１は復帰し、アライメント部１３
は下降してワーク受取テーブル３２のワーク１７
をθテーブルに吸着し、Ｘ，Ｙ，θの位置合せを
行なう。一方アンローダ部３３はハンドラ３４を
備え、露光後のワークを上焼枠３が上昇退避した
後に真空吸着等により搬出する。
以上のように構成された実施例の作用を述べ
る。まず、始めにマスクフイルムの上下位置合せ
セツトが手操作で行なわれる。このとき移動テー
ブル９は露光部１に位置決めし、下焼わく２のマ
スクフイルムの位置合せ用ピン８は突出させてお
く。そのピン８にマスクフイルム５と６の位置合
せ用孔を重ねて嵌入し、夫々上下の焼枠のアクリ
ル板３ａ，２ａに吸着させる。以上のマスクフイ
ルムのセツトが終了したらピン８は埋没させ、上
焼枠３は上昇させて待機させ、移動テーブル９は
アライメント部１３の所定位置へ位置決めする。
続いてアライメントテーブル１４，１５，１６，
１８は下降しテレビカメラ１９によつて下面マス
クフイルム５の位置合せ基準マークを読み取り、
制御部２３に記憶する。以上の準備段階が終了す
ると移動テーブル９は露光部１へ戻り、以下の順
序でワーク露光工程が実行される。
る。まず、始めにマスクフイルムの上下位置合せ
セツトが手操作で行なわれる。このとき移動テー
ブル９は露光部１に位置決めし、下焼わく２のマ
スクフイルムの位置合せ用ピン８は突出させてお
く。そのピン８にマスクフイルム５と６の位置合
せ用孔を重ねて嵌入し、夫々上下の焼枠のアクリ
ル板３ａ，２ａに吸着させる。以上のマスクフイ
ルムのセツトが終了したらピン８は埋没させ、上
焼枠３は上昇させて待機させ、移動テーブル９は
アライメント部１３の所定位置へ位置決めする。
続いてアライメントテーブル１４，１５，１６，
１８は下降しテレビカメラ１９によつて下面マス
クフイルム５の位置合せ基準マークを読み取り、
制御部２３に記憶する。以上の準備段階が終了す
ると移動テーブル９は露光部１へ戻り、以下の順
序でワーク露光工程が実行される。
(1) アライメント部１３下のワーク受取テーブル
３２をマスクフイルムが来る位置まで上昇さ
せ、ローダ部３０のハンドラ３１によりワーク
１７を受け取る。
３２をマスクフイルムが来る位置まで上昇さ
せ、ローダ部３０のハンドラ３１によりワーク
１７を受け取る。
(2) アライメント部１３が下降しワーク１７を吸
着保持して上昇した後、ワークの位置合せマー
クをテレビカメラ１９で読み取り、Ｘ，Ｙ，θ
のアライメントを行なう。
着保持して上昇した後、ワークの位置合せマー
クをテレビカメラ１９で読み取り、Ｘ，Ｙ，θ
のアライメントを行なう。
(3) ワーク受取テーブル３２は待機し、ワークな
しの移動テーブル９がアライメント部１３の所
定位置へ移動してアライメント部１３の下降に
よりアライメント済みのワーク１７を受け取
る。
しの移動テーブル９がアライメント部１３の所
定位置へ移動してアライメント部１３の下降に
よりアライメント済みのワーク１７を受け取
る。
(4) 受け取つたワークはワーク押え爪２９ａによ
つて下焼枠２に固定された後、移動テーブル９
によつて露光部１へ移動され位置決めされる。
つて下焼枠２に固定された後、移動テーブル９
によつて露光部１へ移動され位置決めされる。
(5) 上焼枠３が下降し、アクリル板２ａ，３ａ間
の真空引き等によつてワーク１７を間にしてマ
スクフイルム５，６が近接ないし密着され露光
が行なわれる。
の真空引き等によつてワーク１７を間にしてマ
スクフイルム５，６が近接ないし密着され露光
が行なわれる。
(6) 上焼枠３は上昇して待機し、露光後のワーク
はハンドラ３４によつてアンローダ部３３へ搬
出される。
はハンドラ３４によつてアンローダ部３３へ搬
出される。
以上において、(1)，(2)のアライメント動作と
(5)，(6)の露光動作とは２回目以降は流れ作業的に
同時に行なう。このことによつて作業時間のムダ
がなくなり、生産能率が向上する。またアライメ
ントされたワークは直接焼枠に保持されるので露
光時における位置合せの精度を高めることができ
る。
(5)，(6)の露光動作とは２回目以降は流れ作業的に
同時に行なう。このことによつて作業時間のムダ
がなくなり、生産能率が向上する。またアライメ
ントされたワークは直接焼枠に保持されるので露
光時における位置合せの精度を高めることができ
る。
なお、本発明は以上の実施例に限るものではな
く、本発明の主旨に沿つて種々の応用と実施例態
様を取り得るものである。例えば一方の焼枠や一
方の画像マスクは上焼枠と上面の画像マスクであ
つても良い。この場合上下の機構は逆にすれば良
い。またローダ部、アンローダ部の構成はハンド
ラに限るものではなくロボツト等を用いても良
い。ローダ部ではワークを反転して搬入し直接ア
ライメント部へワークを渡せばワーク受取テーブ
ルは省略できる。
く、本発明の主旨に沿つて種々の応用と実施例態
様を取り得るものである。例えば一方の焼枠や一
方の画像マスクは上焼枠と上面の画像マスクであ
つても良い。この場合上下の機構は逆にすれば良
い。またローダ部、アンローダ部の構成はハンド
ラに限るものではなくロボツト等を用いても良
い。ローダ部ではワークを反転して搬入し直接ア
ライメント部へワークを渡せばワーク受取テーブ
ルは省略できる。
以上述べたように本発明によれば、露光部の外
部でアライメントしたワークを直接一方の焼枠に
保持するので、高精度なワークと画像マスクとの
位置合せができる。またワークのアライメント動
作と露光動作が流れ作業的に同時に実行でき、露
光部における位置合せのチエツクや位置合せ不良
時の処理が不要なので生産能率を向上させること
ができる。
部でアライメントしたワークを直接一方の焼枠に
保持するので、高精度なワークと画像マスクとの
位置合せができる。またワークのアライメント動
作と露光動作が流れ作業的に同時に実行でき、露
光部における位置合せのチエツクや位置合せ不良
時の処理が不要なので生産能率を向上させること
ができる。
第１図は本発明の一実施例の正面より見た装置
構成図、第２図はアライメント部の下面より見た
構成と制御部の構成を示す図、第３図はアライメ
ント部の支持部材の断面図、第４図はワーク保持
手段の実施例の縦断面図である。 １…露光部、２…下焼枠（一方の焼枠）、３…
上焼枠（他方の焼枠）、５…下面マスクフイルム
（一方の画像マスク）、６…下面マスクフイルム
（他方の画像マスク）、９…移動テーブル、１３…
アライメント部、１７…ワーク、２７…ワーク保
持手段。
構成図、第２図はアライメント部の下面より見た
構成と制御部の構成を示す図、第３図はアライメ
ント部の支持部材の断面図、第４図はワーク保持
手段の実施例の縦断面図である。 １…露光部、２…下焼枠（一方の焼枠）、３…
上焼枠（他方の焼枠）、５…下面マスクフイルム
（一方の画像マスク）、６…下面マスクフイルム
（他方の画像マスク）、９…移動テーブル、１３…
アライメント部、１７…ワーク、２７…ワーク保
持手段。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 位置決めマークを有するワークの搬入手段
と、この搬入手段により搬入されたワークを保持
し、位置合わせをするアライメント部と、このア
ライメント部の直下に位置し、位置合済ワークを
載置する一方の焼枠と、この焼枠をアライメント
位置から露光位置まで往復搬送する移動テーブル
と、この移動テーブルの移動端で待機する他方の
焼枠と、前記一方と他方の焼枠の間にワークを挟
着して露光を行う露光部と、この露光部で露光を
終えたワークを搬出する搬出手段とを備え、 前記アライメント部は、ワークの位置決めマー
クの位置情報を撮像して信号として送る撮像手段
と、送られてきた位置情報および予め記憶してい
る基準データとを比較してワークの位置決めマー
クの位置ズレ量を算出し、変位信号として出力す
る制御部と、この制御部からの信号によりワーク
を保持して位置合わせするアライメントテーブル
とを有し、 前記一方の焼枠は、載置したワークの位置ズレ
を防止する保持手段を有する、 ことを特徴とするアライメント付両面自動露光装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61211178A JPS6365443A (ja) | 1986-09-08 | 1986-09-08 | アライメント付両面自動露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61211178A JPS6365443A (ja) | 1986-09-08 | 1986-09-08 | アライメント付両面自動露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6365443A JPS6365443A (ja) | 1988-03-24 |
| JPH0541982B2 true JPH0541982B2 (ja) | 1993-06-25 |
Family
ID=16601702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61211178A Granted JPS6365443A (ja) | 1986-09-08 | 1986-09-08 | アライメント付両面自動露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6365443A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9170483B2 (en) | 2012-09-13 | 2015-10-27 | Nippon Mektron, Ltd. | Photomask, photomask set, exposure apparatus and exposure method |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0487390A (ja) * | 1990-07-31 | 1992-03-19 | Toppan Printing Co Ltd | 基板の露光装置及び露光方法 |
| JPH04271355A (ja) * | 1991-02-27 | 1992-09-28 | Ii & S:Kk | フィーチャアライナ |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5080122A (ja) * | 1973-11-14 | 1975-06-30 |
-
1986
- 1986-09-08 JP JP61211178A patent/JPS6365443A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9170483B2 (en) | 2012-09-13 | 2015-10-27 | Nippon Mektron, Ltd. | Photomask, photomask set, exposure apparatus and exposure method |
| US9274415B2 (en) | 2012-09-13 | 2016-03-01 | Nippon Mektron, Ltd. | Photomask, photomask set, exposure apparatus and exposure method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6365443A (ja) | 1988-03-24 |
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Legal Events
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