JPH0542393B2 - - Google Patents
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- JPH0542393B2 JPH0542393B2 JP59231935A JP23193584A JPH0542393B2 JP H0542393 B2 JPH0542393 B2 JP H0542393B2 JP 59231935 A JP59231935 A JP 59231935A JP 23193584 A JP23193584 A JP 23193584A JP H0542393 B2 JPH0542393 B2 JP H0542393B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- firing
- lead
- molded body
- ceramic molded
- powder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Description
（産業上の利用分野）
本発明は鉛を含むセラミツクス成形体の焼成に
よる鉛の含有量の変化を抑えて均質な焼成物を得
る鉛を含むセラミツクス成形体の焼成方法に関す
る。 （従来技術） 一般に、セラミツクスコンデンサの誘電体材料
としては比較的低温で焼成することができること
から鉛を含む材料が使用されている。この鉛を含
む材料を所定の形状に成形したセラミツクス成形
体の焼成には、トンネル炉と呼ばれる横型の電気
炉やガス炉が使用されている。 この種のトンネル炉は、第２図ａに示すよう
に、トンネル状の炉体１が水平に配置されたもの
で、炉体１の内部は予熱ゾーン１ａ、焼成ゾーン
１ｂおよび冷却ゾーン１ｃに区画され、これら予
熱ゾーン１ａ、焼成ゾーン１ｂおよび冷却ゾーン
１ｃは夫々第２図ｂに折れ線h1で示すような温度
分布を有している。 上記のような構成を有するトンネル炉でセラミ
ツクスコンデンサの誘電体として使用される鉛を
含むセラミツクス成形体を焼成する場合、第３図
に示すように、焼成するセラミツクス成形体２を
鉢部３ａとその蓋部３ｂとからなる箱体状の焼成
匣３に詰め込む。この焼成匣３を第２図ａに示す
ように台板４上に積載し、図示しないプツシヤに
より、先ず、炉体１の予熱ゾーン１ａ内に矢印
A1で示すように自動的にプツシユする。この予
熱ゾーン１ａ内にてセラミツクス成形体２中のバ
インダ（成形助剤）を燃焼させた（脱バインダ工
程）後、上記台板４を炉体１の焼成ゾーン１ｂに
プツシユしてセラミツクス成形体２を焼成する。
この焼成が完了すると、セラミツクス成形体２は
炉体１の冷却ゾーン１ｃにプツシユされて冷却さ
れた後、炉体１から矢印A2で示すように引き出
される。 上記のように、鉛を含むセラミツクス成形体２
を焼成匣３に詰め込んで焼成する場合、セラミツ
クス成形体２中の鉛は蒸発しやすいので、従来、
第３図に示すように、焼成時に焼成匣３内を鉛雰
囲気化して飛散する鉛量を抑制するため、経験的
に知られた所定の鉛含有率を有する鉛雰囲気調整
用敷粉５を一定量だけ焼成匣３の鉢部３ａに敷
き、その上にセラミツクス成形体２を詰め込んで
焼成していた。 ところで、上記のように一定量の決められた種
類の鉛雰囲気調整用敷粉５を使用してセラミツク
ス成形体２を焼成しても、焼成後のセラミツクス
成形体２の焼成物はロツトによつてその組成特に
鉛成分が変化しており、すべてのロツトを通じて
化学量論的な組成を満足する均質な焼成物を得る
ことができなかつた。 （発明の目的） 本発明者等は、焼成匣内に生成される鉛雰囲気
がセラミツクス成形体の組成および焼成温度、焼
成匣の組成や種類さらには使用回数等々の焼成条
件によつて種々変化することに着目し、焼成条件
に対応して最適な鉛雰囲気を調整コントロールす
ることによつて、焼成物の重量変化特に鉛成分の
変化を皆無とすることができることを見い出し、
本発明をなすに到つたものである。 すなわち、本発明は、セラミツクス成形体の焼
成条件に応じて適切な鉛雰囲気調整用敷粉の種類
および量を選択し、均質な焼成物を得るようにし
た鉛を含むセラミツクス成形体の焼成方法を提供
することを目的としている。 （発明の構成） このため、本発明は、鉛を含むセラミツクス成
形体の焼成に際し、鉛含有量の異なる鉛雰囲気調
整用敷粉を用意し、セラミツクス成形体の焼成条
件に応じて鉛雰囲気調整用敷粉の種類および使用
量を選択し、セラミツクス成形体中の鉛の含有量
が変化しないように焼成することを特徴としてい
る。すなわち、本発明は、セラミツクス成形体の
焼成条件に対応して実験により予め種類および使
用量が求められた鉛雰囲気調整用敷粉を使用する
もので、セラミツクス成形体の焼成条件に適合し
た種類および鉛雰囲気調整用敷粉を使用すること
により、均質な焼成物を得ることができる。 （発明の効果） 本発明は、実験により定めたセラミツクス成形
体の焼成条件に適合した種類および量の鉛雰囲気
調整用敷粉を使用してセラミツクス成形体を焼成
するので、焼成条件の変化によるセラミツクス成
形体からの鉛の飛散量の変化が補正され、常に均
質な焼成物を得ることができる。 （実施例） 以下、添付図面を参照して本発明を説明する。 本願の発明者等は、セラミツクス成形体の焼成
条件の変化による最適な鉛雰囲気調整用敷粉の種
類および量を知るため、以下に説明する〔実験
1.〕〔実験2.〕および〔実験3.〕を行つた。 〔実験１〕 鉛を含むセラミツクス成形体２として、チタン
酸ジルコン酸鉛の成形物（以下、PZT成形物と
記す。）を用意し、また、焼成匣としては、アル
ミナ（Al2O3）純度99.3パーセントで乾式プレス
成形したもの（以下、焼成匣Ａと記す。）、アルミ
ナ（Al2O3）純度99.8パーセントで鋳込み成形し
たもの（以下、焼成匣Ｂと記す。）を用意した。 焼成匣Ａおよび焼成匣Ｂにいずれも、ZrO2パ
ウダ90パーセントと鉛丹（Pb3O4）10パーセント
とからなる鉛雰囲気調整用敷粉（以下、単に敷粉
と記す。）を単位容積当たり30グラム敷いてその
上に焼成するPZT成形物を詰め込み、合計５回
焼成を行つて焼成完了毎にPZT焼成物の重量変
化を測定した。その結果、第１図ａに示すよう
に、焼成匣Ａおよび焼成匣Ｂについて夫々曲線
h1Aおよびh1Bで示す結果を得た。 次に、焼成匣Ａおよび焼成匣Ｂにいずれも、
ZrO2パウダ90パーセントとチタン酸ジルコン酸
鉛の仮焼物（以下、PZT仮焼物と記す。）10パー
セントとからなる敷粉を単位容積当たり10グラム
敷いてその上に焼成するPZT成形物を詰め込み、
上記と同様に、合計５回焼成を行つて焼成完了毎
にPZT焼成物の重量変化を測定した。その結果、
第１図ａに示すように、焼成匣Ａおよび焼成匣Ｂ
について夫々曲線h2Aおよびh2Bで示す結果を得
た。 上記第１図ａから分かるように、PZT成形物
の重量変化率は、焼成匣の使用回数とともに増加
し、焼成匣Ａと焼成匣ＢとではPZT成形物の重
量変化率が異なつている。また、敷粉の種類によ
りPZT成形物の重量変化率が正（プラス）とな
る場合と負（マイナス）となる場合とがある。 〔実験２〕 一方、焼成匣ＡおよびＢを使用し、これら焼成
匣ＡおよびＢの各々について、1200℃の焼成温度
にて各５回焼成を行い、焼成匣ＡおよびＢの累積
鉛吸着量を測定したところ、第１図ｂにおいて曲
線k1Aおよびk1Bで示す結果を得た。 同様に、焼成匣ＡおよびＢの各々について、
1300℃の焼成温度にて各５回焼成を行い、焼成匣
ＡおよびＢの累積鉛吸着量を測定したところ、第
１図ｂにおいて曲線k2Aおよびk2Bで示す結果を
得た。 第１図ｂは、焼成回数が増加すると焼成匣Ａお
よびＢに付着する鉛の量が変化していることを示
しているが、焼成匣Ａと焼成匣Ｂとでは鉛吸着量
が大きく異なつていることが注目される。さら
に、焼成温度によつても焼成匣ＡおよびＢへの鉛
吸着量が異なる。 以上の〔実験１〕および〔実験２〕の結果は、
PZT成形物の焼成に使用される焼成匣の種類、
その使用回数およびPZT成形物の焼成温度に関
係なく、一種類の敷粉を一定量使用してPZT成
形物を焼成しても、PZT成形物中の鉛量を制御
できないことを示している。 〔実験３〕 そこで、本願の発明者等は、PZT成形物の焼
成時の鉛雰囲気を増加させる敷粉として、ZrO2
パウダに鉛丹（Pb3O4）を混合したものを使用
し、鉛雰囲気の増加量の調整にはZrO2パウダと
鉛丹との混合比および使用量を変化させた。 また、PZT成形物の焼成時の鉛雰囲気を減少
させる敷粉として、ZrO2パウダにPZT仮焼物を
粉砕して混合したものを使用し、鉛雰囲気の減少
量の調整にはZrO2パウダとPZT仮焼物との混合
比および使用量を変化させた。 すなわち、ZrO2パウダとPZT仮焼物とを90パ
ーセントと10パーセントの割合で混合した敷粉
P1と、ZrO2パウダと鉛丹とを90パーセントと10
パーセントの割合で混合した敷粉P2と、焼成匣
Ｂを用意し、焼成匣Ｂの単位体積当たり敷粉P1
を30グラムおよび10グラム敷いて1250℃で焼成を
行つたとき、および焼成匣Ｂの単位体積当たり敷
粉P2を10グラムおよび30グラム敷いて1250℃で
焼成を行つたときのPZT成形物の重量変化率を
測定した。 その結果を次の表に示す。
よる鉛の含有量の変化を抑えて均質な焼成物を得
る鉛を含むセラミツクス成形体の焼成方法に関す
る。 （従来技術） 一般に、セラミツクスコンデンサの誘電体材料
としては比較的低温で焼成することができること
から鉛を含む材料が使用されている。この鉛を含
む材料を所定の形状に成形したセラミツクス成形
体の焼成には、トンネル炉と呼ばれる横型の電気
炉やガス炉が使用されている。 この種のトンネル炉は、第２図ａに示すよう
に、トンネル状の炉体１が水平に配置されたもの
で、炉体１の内部は予熱ゾーン１ａ、焼成ゾーン
１ｂおよび冷却ゾーン１ｃに区画され、これら予
熱ゾーン１ａ、焼成ゾーン１ｂおよび冷却ゾーン
１ｃは夫々第２図ｂに折れ線h1で示すような温度
分布を有している。 上記のような構成を有するトンネル炉でセラミ
ツクスコンデンサの誘電体として使用される鉛を
含むセラミツクス成形体を焼成する場合、第３図
に示すように、焼成するセラミツクス成形体２を
鉢部３ａとその蓋部３ｂとからなる箱体状の焼成
匣３に詰め込む。この焼成匣３を第２図ａに示す
ように台板４上に積載し、図示しないプツシヤに
より、先ず、炉体１の予熱ゾーン１ａ内に矢印
A1で示すように自動的にプツシユする。この予
熱ゾーン１ａ内にてセラミツクス成形体２中のバ
インダ（成形助剤）を燃焼させた（脱バインダ工
程）後、上記台板４を炉体１の焼成ゾーン１ｂに
プツシユしてセラミツクス成形体２を焼成する。
この焼成が完了すると、セラミツクス成形体２は
炉体１の冷却ゾーン１ｃにプツシユされて冷却さ
れた後、炉体１から矢印A2で示すように引き出
される。 上記のように、鉛を含むセラミツクス成形体２
を焼成匣３に詰め込んで焼成する場合、セラミツ
クス成形体２中の鉛は蒸発しやすいので、従来、
第３図に示すように、焼成時に焼成匣３内を鉛雰
囲気化して飛散する鉛量を抑制するため、経験的
に知られた所定の鉛含有率を有する鉛雰囲気調整
用敷粉５を一定量だけ焼成匣３の鉢部３ａに敷
き、その上にセラミツクス成形体２を詰め込んで
焼成していた。 ところで、上記のように一定量の決められた種
類の鉛雰囲気調整用敷粉５を使用してセラミツク
ス成形体２を焼成しても、焼成後のセラミツクス
成形体２の焼成物はロツトによつてその組成特に
鉛成分が変化しており、すべてのロツトを通じて
化学量論的な組成を満足する均質な焼成物を得る
ことができなかつた。 （発明の目的） 本発明者等は、焼成匣内に生成される鉛雰囲気
がセラミツクス成形体の組成および焼成温度、焼
成匣の組成や種類さらには使用回数等々の焼成条
件によつて種々変化することに着目し、焼成条件
に対応して最適な鉛雰囲気を調整コントロールす
ることによつて、焼成物の重量変化特に鉛成分の
変化を皆無とすることができることを見い出し、
本発明をなすに到つたものである。 すなわち、本発明は、セラミツクス成形体の焼
成条件に応じて適切な鉛雰囲気調整用敷粉の種類
および量を選択し、均質な焼成物を得るようにし
た鉛を含むセラミツクス成形体の焼成方法を提供
することを目的としている。 （発明の構成） このため、本発明は、鉛を含むセラミツクス成
形体の焼成に際し、鉛含有量の異なる鉛雰囲気調
整用敷粉を用意し、セラミツクス成形体の焼成条
件に応じて鉛雰囲気調整用敷粉の種類および使用
量を選択し、セラミツクス成形体中の鉛の含有量
が変化しないように焼成することを特徴としてい
る。すなわち、本発明は、セラミツクス成形体の
焼成条件に対応して実験により予め種類および使
用量が求められた鉛雰囲気調整用敷粉を使用する
もので、セラミツクス成形体の焼成条件に適合し
た種類および鉛雰囲気調整用敷粉を使用すること
により、均質な焼成物を得ることができる。 （発明の効果） 本発明は、実験により定めたセラミツクス成形
体の焼成条件に適合した種類および量の鉛雰囲気
調整用敷粉を使用してセラミツクス成形体を焼成
するので、焼成条件の変化によるセラミツクス成
形体からの鉛の飛散量の変化が補正され、常に均
質な焼成物を得ることができる。 （実施例） 以下、添付図面を参照して本発明を説明する。 本願の発明者等は、セラミツクス成形体の焼成
条件の変化による最適な鉛雰囲気調整用敷粉の種
類および量を知るため、以下に説明する〔実験
1.〕〔実験2.〕および〔実験3.〕を行つた。 〔実験１〕 鉛を含むセラミツクス成形体２として、チタン
酸ジルコン酸鉛の成形物（以下、PZT成形物と
記す。）を用意し、また、焼成匣としては、アル
ミナ（Al2O3）純度99.3パーセントで乾式プレス
成形したもの（以下、焼成匣Ａと記す。）、アルミ
ナ（Al2O3）純度99.8パーセントで鋳込み成形し
たもの（以下、焼成匣Ｂと記す。）を用意した。 焼成匣Ａおよび焼成匣Ｂにいずれも、ZrO2パ
ウダ90パーセントと鉛丹（Pb3O4）10パーセント
とからなる鉛雰囲気調整用敷粉（以下、単に敷粉
と記す。）を単位容積当たり30グラム敷いてその
上に焼成するPZT成形物を詰め込み、合計５回
焼成を行つて焼成完了毎にPZT焼成物の重量変
化を測定した。その結果、第１図ａに示すよう
に、焼成匣Ａおよび焼成匣Ｂについて夫々曲線
h1Aおよびh1Bで示す結果を得た。 次に、焼成匣Ａおよび焼成匣Ｂにいずれも、
ZrO2パウダ90パーセントとチタン酸ジルコン酸
鉛の仮焼物（以下、PZT仮焼物と記す。）10パー
セントとからなる敷粉を単位容積当たり10グラム
敷いてその上に焼成するPZT成形物を詰め込み、
上記と同様に、合計５回焼成を行つて焼成完了毎
にPZT焼成物の重量変化を測定した。その結果、
第１図ａに示すように、焼成匣Ａおよび焼成匣Ｂ
について夫々曲線h2Aおよびh2Bで示す結果を得
た。 上記第１図ａから分かるように、PZT成形物
の重量変化率は、焼成匣の使用回数とともに増加
し、焼成匣Ａと焼成匣ＢとではPZT成形物の重
量変化率が異なつている。また、敷粉の種類によ
りPZT成形物の重量変化率が正（プラス）とな
る場合と負（マイナス）となる場合とがある。 〔実験２〕 一方、焼成匣ＡおよびＢを使用し、これら焼成
匣ＡおよびＢの各々について、1200℃の焼成温度
にて各５回焼成を行い、焼成匣ＡおよびＢの累積
鉛吸着量を測定したところ、第１図ｂにおいて曲
線k1Aおよびk1Bで示す結果を得た。 同様に、焼成匣ＡおよびＢの各々について、
1300℃の焼成温度にて各５回焼成を行い、焼成匣
ＡおよびＢの累積鉛吸着量を測定したところ、第
１図ｂにおいて曲線k2Aおよびk2Bで示す結果を
得た。 第１図ｂは、焼成回数が増加すると焼成匣Ａお
よびＢに付着する鉛の量が変化していることを示
しているが、焼成匣Ａと焼成匣Ｂとでは鉛吸着量
が大きく異なつていることが注目される。さら
に、焼成温度によつても焼成匣ＡおよびＢへの鉛
吸着量が異なる。 以上の〔実験１〕および〔実験２〕の結果は、
PZT成形物の焼成に使用される焼成匣の種類、
その使用回数およびPZT成形物の焼成温度に関
係なく、一種類の敷粉を一定量使用してPZT成
形物を焼成しても、PZT成形物中の鉛量を制御
できないことを示している。 〔実験３〕 そこで、本願の発明者等は、PZT成形物の焼
成時の鉛雰囲気を増加させる敷粉として、ZrO2
パウダに鉛丹（Pb3O4）を混合したものを使用
し、鉛雰囲気の増加量の調整にはZrO2パウダと
鉛丹との混合比および使用量を変化させた。 また、PZT成形物の焼成時の鉛雰囲気を減少
させる敷粉として、ZrO2パウダにPZT仮焼物を
粉砕して混合したものを使用し、鉛雰囲気の減少
量の調整にはZrO2パウダとPZT仮焼物との混合
比および使用量を変化させた。 すなわち、ZrO2パウダとPZT仮焼物とを90パ
ーセントと10パーセントの割合で混合した敷粉
P1と、ZrO2パウダと鉛丹とを90パーセントと10
パーセントの割合で混合した敷粉P2と、焼成匣
Ｂを用意し、焼成匣Ｂの単位体積当たり敷粉P1
を30グラムおよび10グラム敷いて1250℃で焼成を
行つたとき、および焼成匣Ｂの単位体積当たり敷
粉P2を10グラムおよび30グラム敷いて1250℃で
焼成を行つたときのPZT成形物の重量変化率を
測定した。 その結果を次の表に示す。
【表】
上記表から分かるように、敷粉をP1からP2に
変え、その使用量を変えることにより、PZT成
形物の重量変化率は負（マイナス）から正（プラ
ス）に変化している。従つて、焼成匣Ｂを使用す
る場合、敷粉P2を使用し、その使用量を適切な
値に選択することにより、PZT成形物重量変化
率を零とすることができる。 すなわち、PZT成形物の焼成温度、焼成匣の
種類および焼成匣の使用回数等の焼成条件に対応
して敷粉の種類および使用量を定めておけば、
PZT成形物重量変化率を零とすることができる。 なお、上記〔実験１〕、〔実験２〕および〔実験
３〕で使用したPZT仮焼物は、Pb3O4、TiO2お
よびZrO2を規定量混合して800℃ないし1000℃で
仮焼し、この仮焼によりできた仮焼物を、粒度
0.5μｍないし30μｍに粉砕したものである。この
PZT仮焼物は、周知のPZT組成、PZ組成、PT
組成、および変性PZT組成を有するものを使用
することができる。 本発明は上記のようなPZT成形物に限らず、
鉛を含むセラミツクス成形体の焼成に広く適用す
ることができる。 以上のように、本発明は鉛を含むセラミツクス
成形体の焼成条件に適合した種類および量の敷粉
を使用し、鉛の飛散量を制御するようにしたの
で、均質な焼成物を得ることができる。
変え、その使用量を変えることにより、PZT成
形物の重量変化率は負（マイナス）から正（プラ
ス）に変化している。従つて、焼成匣Ｂを使用す
る場合、敷粉P2を使用し、その使用量を適切な
値に選択することにより、PZT成形物重量変化
率を零とすることができる。 すなわち、PZT成形物の焼成温度、焼成匣の
種類および焼成匣の使用回数等の焼成条件に対応
して敷粉の種類および使用量を定めておけば、
PZT成形物重量変化率を零とすることができる。 なお、上記〔実験１〕、〔実験２〕および〔実験
３〕で使用したPZT仮焼物は、Pb3O4、TiO2お
よびZrO2を規定量混合して800℃ないし1000℃で
仮焼し、この仮焼によりできた仮焼物を、粒度
0.5μｍないし30μｍに粉砕したものである。この
PZT仮焼物は、周知のPZT組成、PZ組成、PT
組成、および変性PZT組成を有するものを使用
することができる。 本発明は上記のようなPZT成形物に限らず、
鉛を含むセラミツクス成形体の焼成に広く適用す
ることができる。 以上のように、本発明は鉛を含むセラミツクス
成形体の焼成条件に適合した種類および量の敷粉
を使用し、鉛の飛散量を制御するようにしたの
で、均質な焼成物を得ることができる。
第１図ａは焼成匣の使用回数とセラミツクス成
形体の重量変化率の関係を示すグラフ、第１図ｂ
は焼成匣の使用回数と焼成匣への累積鉛吸着量を
示すグラフ、第２図ａはセラミツクス成形体の焼
成炉の説明図、第２図ｂは第２図ａの焼成炉の炉
体内部の温度分布図、第３図は鉛を含むセラミツ
クス成形体の焼成匣の横断面図である。 ２……鉛を含むセラミツクス成形体、３……焼
成匣、５……鉛雰囲気調整用敷粉。
形体の重量変化率の関係を示すグラフ、第１図ｂ
は焼成匣の使用回数と焼成匣への累積鉛吸着量を
示すグラフ、第２図ａはセラミツクス成形体の焼
成炉の説明図、第２図ｂは第２図ａの焼成炉の炉
体内部の温度分布図、第３図は鉛を含むセラミツ
クス成形体の焼成匣の横断面図である。 ２……鉛を含むセラミツクス成形体、３……焼
成匣、５……鉛雰囲気調整用敷粉。
Claims (1)
- １ 鉛を含むセラミツクス成形体を鉛雰囲気調整
用敷粉を敷いた焼成匣内に収容し、この焼成匣を
焼成炉内に送り込んでセラミツクス成形体を焼成
するセラミツクス成形体の焼成方法であつて、鉛
含有量の異なる鉛雰囲気調整用敷粉を用意し、セ
ラミツクス成形体の焼成温度、焼成匣の種類およ
び焼成匣の使用回数等の焼成条件に対応して鉛雰
囲気調整用敷粉の種類および使用量を選択し、セ
ラミツクス成形体中の鉛の含有量が変化しないよ
うに焼成することを特徴とする鉛を含むセラミツ
クス成形体の焼成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59231935A JPS61111971A (ja) | 1984-11-02 | 1984-11-02 | 鉛を含むセラミツクス成形体の焼成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59231935A JPS61111971A (ja) | 1984-11-02 | 1984-11-02 | 鉛を含むセラミツクス成形体の焼成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61111971A JPS61111971A (ja) | 1986-05-30 |
| JPH0542393B2 true JPH0542393B2 (ja) | 1993-06-28 |
Family
ID=16931367
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59231935A Granted JPS61111971A (ja) | 1984-11-02 | 1984-11-02 | 鉛を含むセラミツクス成形体の焼成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61111971A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4776439B2 (ja) * | 2005-11-28 | 2011-09-21 | 京セラ株式会社 | ジルコニア焼結体 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6045149B2 (ja) * | 1979-10-17 | 1985-10-08 | 松下電器産業株式会社 | チタン酸バリウム系半導体磁器の製造方法 |
-
1984
- 1984-11-02 JP JP59231935A patent/JPS61111971A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61111971A (ja) | 1986-05-30 |
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