JPS61111971A - 鉛を含むセラミツクス成形体の焼成方法 - Google Patents
鉛を含むセラミツクス成形体の焼成方法Info
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- JPS61111971A JPS61111971A JP59231935A JP23193584A JPS61111971A JP S61111971 A JPS61111971 A JP S61111971A JP 59231935 A JP59231935 A JP 59231935A JP 23193584 A JP23193584 A JP 23193584A JP S61111971 A JPS61111971 A JP S61111971A
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Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は鉛を含むセラミックス成形体の焼成による鉛の
含有量の変化を抑えて均質な焼成物を得ろ鉛を含むセラ
ミックス成形体の焼成方法に関す（従来技術） 一般に、セラミックスコンデンサの誘電体材料としては
比較的低温で焼成することができることから鉛を含む材
料が使用されている。この鉛を含む材料を所定の形状に
成形したセラミックス成形体の焼成には、トンネル炉と
呼ばれる横型の電気炉やガス炉が使用されている。
含有量の変化を抑えて均質な焼成物を得ろ鉛を含むセラ
ミックス成形体の焼成方法に関す（従来技術） 一般に、セラミックスコンデンサの誘電体材料としては
比較的低温で焼成することができることから鉛を含む材
料が使用されている。この鉛を含む材料を所定の形状に
成形したセラミックス成形体の焼成には、トンネル炉と
呼ばれる横型の電気炉やガス炉が使用されている。
この種のトンネル炉は、第２図（ａ）に示すように、ト
ンネル状の炉体ｌが水平に配置されたもので、炉体ｌの
内部は予熱ゾーンｌａ、焼成ゾーン１ｂおよび冷却ゾー
ンｌｃに区画され、これら予熱ゾーンｌａ、焼成シーツ
ｌｂおよび冷却ゾーン１ｃは夫々第２図（ｂ）に折れ線
り、で示すような温度分布を有している。
ンネル状の炉体ｌが水平に配置されたもので、炉体ｌの
内部は予熱ゾーンｌａ、焼成ゾーン１ｂおよび冷却ゾー
ンｌｃに区画され、これら予熱ゾーンｌａ、焼成シーツ
ｌｂおよび冷却ゾーン１ｃは夫々第２図（ｂ）に折れ線
り、で示すような温度分布を有している。
上記のような構成を有するトンネル炉でセラミックスコ
ンデンサの誘電体として使用される鉛を含むセラミック
ス成形体を焼成する場合、第３図に示すように、焼成す
るセラミックス成形体２を鉢部３ａとその置部３ｂとか
らなる箱体状の焼成匣３に詰め込む。この焼成匣３を第
２図（ａ）に示すように台板４上に積載し、図示しない
ブツシャにより、先ず、炉体！の予熱ゾーンｌａ内に矢
印Ａ、で示すように自動的にブッノユする。この予熱ゾ
ーンｌａ内にてセラミックス成形体２中のバインダ（成
形助剤）を燃焼させた（脱パインダニ程）後、上記台板
４を炉体ｌの焼成ゾーンＩｂにブツシュしてセラミック
ス成形体２を焼成する。この焼成か完了すると、セラミ
ックス成形体２は炉体ｌの冷却ゾーンＩｃにプソノユさ
れて冷却された後、炉体１から矢印Ａ、で示すように引
き出される。
ンデンサの誘電体として使用される鉛を含むセラミック
ス成形体を焼成する場合、第３図に示すように、焼成す
るセラミックス成形体２を鉢部３ａとその置部３ｂとか
らなる箱体状の焼成匣３に詰め込む。この焼成匣３を第
２図（ａ）に示すように台板４上に積載し、図示しない
ブツシャにより、先ず、炉体！の予熱ゾーンｌａ内に矢
印Ａ、で示すように自動的にブッノユする。この予熱ゾ
ーンｌａ内にてセラミックス成形体２中のバインダ（成
形助剤）を燃焼させた（脱パインダニ程）後、上記台板
４を炉体ｌの焼成ゾーンＩｂにブツシュしてセラミック
ス成形体２を焼成する。この焼成か完了すると、セラミ
ックス成形体２は炉体ｌの冷却ゾーンＩｃにプソノユさ
れて冷却された後、炉体１から矢印Ａ、で示すように引
き出される。
上記のように、鉛を含むセラミックス成形体２を焼成匣
３に詰め込んで焼成する場合、セラミックス成形体２中
の鉛は蒸発しやすいので、従来、第３図に示すように、
焼成時に焼成匣３内を鉛雰囲気化して飛散する鉛量を抑
制するため、経験的に知られた所定の鉛含有率を有する
鉛雰囲気調整用敷粉５を一定量だけ焼成匣３の鉢部３ａ
に敷き、その上にセラミックス成形体２を詰め込んで焼
成していた。
３に詰め込んで焼成する場合、セラミックス成形体２中
の鉛は蒸発しやすいので、従来、第３図に示すように、
焼成時に焼成匣３内を鉛雰囲気化して飛散する鉛量を抑
制するため、経験的に知られた所定の鉛含有率を有する
鉛雰囲気調整用敷粉５を一定量だけ焼成匣３の鉢部３ａ
に敷き、その上にセラミックス成形体２を詰め込んで焼
成していた。
ところで、上記のように一定量の決められた種類の鉛雰
囲気調整用敷粉５を使用してセラミックス成形体２を焼
成しても、焼成後のセラミックス成形体２の焼成物はロ
フトによってその組成特に鉛成分が変化しており、すべ
てのロフトを通じて化学量論的な組成を満足する均質な
焼成物を得ることができなかった。
囲気調整用敷粉５を使用してセラミックス成形体２を焼
成しても、焼成後のセラミックス成形体２の焼成物はロ
フトによってその組成特に鉛成分が変化しており、すべ
てのロフトを通じて化学量論的な組成を満足する均質な
焼成物を得ることができなかった。
（発明の目的）
本発明者等は、焼成匣内に生成される鉛雰囲気がセラミ
ックス成形体の組成および焼成温度、焼成匣の組成や種
類さらには使用回数等々の焼成条件によって種々変化す
ることに着目し、焼成条件に対応して最適な鉛雰囲気を
調整コントロールすることによって、焼成物の重量変化
特に鉛成分の変化を皆無とすることができることを見い
出し、本発明をなすに到ったものである。
ックス成形体の組成および焼成温度、焼成匣の組成や種
類さらには使用回数等々の焼成条件によって種々変化す
ることに着目し、焼成条件に対応して最適な鉛雰囲気を
調整コントロールすることによって、焼成物の重量変化
特に鉛成分の変化を皆無とすることができることを見い
出し、本発明をなすに到ったものである。
すなわち、本発明は、セラミックス成形体の焼成条件に
応じて適切な鉛雰囲気調整用敷粉の種類および量を選択
し、均質な焼成物を得るようにした鉛を含むセラミック
ス成形体の焼成方法を搗供することを目的としている。
応じて適切な鉛雰囲気調整用敷粉の種類および量を選択
し、均質な焼成物を得るようにした鉛を含むセラミック
ス成形体の焼成方法を搗供することを目的としている。
（発明の構成）
このため、本発明は、鉛を含むセラミックス成形体の焼
成に際し、鉛含有量の異なる鉛雰囲気調整用敷粉を用意
し、セラミックス成形体の焼成条件に応じて鉛雰囲気調
整用敷粉の種類および使用量を選択し、セラミックス成
形体中の鉛の含有量が変化しないように焼成することを
特徴としている。すなわち、本発明は、セラミックス成
形体の焼成条件に対応して実験により予め種類および使
用量が求められた鉛雰囲気調整用敷粉を使用するもので
、セラミックス成形体の焼成条件に適合した種類および
量の鉛雰囲気調整用敷粉を使用することにより、均質な
焼成物を得ることができる。
成に際し、鉛含有量の異なる鉛雰囲気調整用敷粉を用意
し、セラミックス成形体の焼成条件に応じて鉛雰囲気調
整用敷粉の種類および使用量を選択し、セラミックス成
形体中の鉛の含有量が変化しないように焼成することを
特徴としている。すなわち、本発明は、セラミックス成
形体の焼成条件に対応して実験により予め種類および使
用量が求められた鉛雰囲気調整用敷粉を使用するもので
、セラミックス成形体の焼成条件に適合した種類および
量の鉛雰囲気調整用敷粉を使用することにより、均質な
焼成物を得ることができる。
（発明の効果）
本発明は、実験により定めたセラミックス成形体の焼成
条件に適合した種類および量の鉛雰囲気調整用敷粉を使
用してセラミックス成形体を焼成するので、焼成条件の
変化によるセラミックス成形体からの鉛の飛散量の変化
が補正され、常に均質な焼成物を得ることができる。
条件に適合した種類および量の鉛雰囲気調整用敷粉を使
用してセラミックス成形体を焼成するので、焼成条件の
変化によるセラミックス成形体からの鉛の飛散量の変化
が補正され、常に均質な焼成物を得ることができる。
（実施例）
以下、添付図面を参照して本発明を説明する。
本願の発明者等は、セラミックス成形体の焼成条件の変
化による最適な鉛雰囲気調整用敷粉の種類および蛍を知
るため、以下に説明する〔実験１、〕〔実験２ 〕およ
び〔実験３．〕を行った。
化による最適な鉛雰囲気調整用敷粉の種類および蛍を知
るため、以下に説明する〔実験１、〕〔実験２ 〕およ
び〔実験３．〕を行った。
〔実験１．〕
鉛を含むセラミックス成形体２として、チタン酸ノルコ
ン酸鉛の成形物（以下、ＰＺＴ成形物と記す。）を用意
し、また、焼成匣としては、アルミナ（ＡｌｌｔＯ＊）
純度９９．３パーセントで乾式プレス成形したもの（以
下、焼成匣Ａと記す。）、アルミナ（ＡＱ＊ｏｉ）純度
９９．８パーセントで鋳込み成形したもの（以下、焼成
匣Ｂと記す。）を用意した。
ン酸鉛の成形物（以下、ＰＺＴ成形物と記す。）を用意
し、また、焼成匣としては、アルミナ（ＡｌｌｔＯ＊）
純度９９．３パーセントで乾式プレス成形したもの（以
下、焼成匣Ａと記す。）、アルミナ（ＡＱ＊ｏｉ）純度
９９．８パーセントで鋳込み成形したもの（以下、焼成
匣Ｂと記す。）を用意した。
焼成匣Ａおよび焼成匣Ｂにいずれも、ＺｒＯ，パウダ９
０パーセントと鉛丹（１） ｂ、ｏ ａ） Ｉ Ｏパー
セントとからなる鉛雰囲気調整用敷粉（以下、単に敷粉
と記す。）を単位容積当たり３０グラム敷いてその上に
焼成するＰＺＴ成形物を詰め込み、合計５回焼成を行っ
て焼成完了毎にＰＺＴ焼成物の重量変化を測定した。そ
の結果、第１図（ａ）に示すように、焼成匣Ａおよび焼
成匣Ｂについて夫々曲線り、Ａおよびり、Ｂで示す結果
を得た。
０パーセントと鉛丹（１） ｂ、ｏ ａ） Ｉ Ｏパー
セントとからなる鉛雰囲気調整用敷粉（以下、単に敷粉
と記す。）を単位容積当たり３０グラム敷いてその上に
焼成するＰＺＴ成形物を詰め込み、合計５回焼成を行っ
て焼成完了毎にＰＺＴ焼成物の重量変化を測定した。そ
の結果、第１図（ａ）に示すように、焼成匣Ａおよび焼
成匣Ｂについて夫々曲線り、Ａおよびり、Ｂで示す結果
を得た。
次に、焼成匣Ａおよび焼成匣Ｂにいずれも、ＺｒＯ，パ
ウダ９０パーセントとチタン酸ジルコン酸鉛の仮焼物（
以下、ＰＺＴ仮焼物と記す。）１０パーセントとからな
る敷粉を単位容積当たり１０グラム敷いてその上に焼成
するＰＺＴ成形物を詰め込み、上記と同様に、合計５回
焼成を行って焼成完了毎にＰＺＴ焼成物の重量変化を測
定した。その結果、第１図（ａ）に示すように、焼成匣
Ａおよび焼成匣Ｂについて夫々曲線り、ＡおよびｈｔＢ
で示す結果を得た。
ウダ９０パーセントとチタン酸ジルコン酸鉛の仮焼物（
以下、ＰＺＴ仮焼物と記す。）１０パーセントとからな
る敷粉を単位容積当たり１０グラム敷いてその上に焼成
するＰＺＴ成形物を詰め込み、上記と同様に、合計５回
焼成を行って焼成完了毎にＰＺＴ焼成物の重量変化を測
定した。その結果、第１図（ａ）に示すように、焼成匣
Ａおよび焼成匣Ｂについて夫々曲線り、ＡおよびｈｔＢ
で示す結果を得た。
上記第１図（ａ）から分かるように、ＰＺＴ成形物の重
量変化率は、焼成匣の使用回数とと乙に増加し、焼成匣
Ａと焼成匣ＢとではＰＺＴ成形物の重量変化率が異なっ
ている。また、敷粉の種類によりＰＺＴ成形物の重量変
化率が正（プラス）となる場合と負（マイナス）となる
場合とがある。
量変化率は、焼成匣の使用回数とと乙に増加し、焼成匣
Ａと焼成匣ＢとではＰＺＴ成形物の重量変化率が異なっ
ている。また、敷粉の種類によりＰＺＴ成形物の重量変
化率が正（プラス）となる場合と負（マイナス）となる
場合とがある。
〔実験２ 〕
一方、焼成匣ＡおよびＢを使用し、これら焼成匣Ａおよ
びＢの各々について、１２００℃の焼成温度にて各５回
焼成を行い、焼成匣ＡおよびＢの累積鉛吸着量を測定し
たところ、第１図（ｂ）において曲線に、Ａおよびに、
Ｂで示す結果を得た。
びＢの各々について、１２００℃の焼成温度にて各５回
焼成を行い、焼成匣ＡおよびＢの累積鉛吸着量を測定し
たところ、第１図（ｂ）において曲線に、Ａおよびに、
Ｂで示す結果を得た。
同様に、焼成匣ＡおよびＢの各々について、１３００℃
の焼成温度にて各５回焼成を行い、焼成匣ＡおよびＢの
累積鉛吸着量を測定したところ、第１図（ｂ）において
曲線に、Ａおよびに、Ｂで示す結果を得た。
の焼成温度にて各５回焼成を行い、焼成匣ＡおよびＢの
累積鉛吸着量を測定したところ、第１図（ｂ）において
曲線に、Ａおよびに、Ｂで示す結果を得た。
第１図（ｂ）は、焼成回数が増加すると焼成匣Ａおよび
Ｂに付着する鉛の量が変化していることを示しているが
、焼成匣Ａと焼成匣Ｂとでは鉛板着量が大きく異なって
いることが注目される。さらに、焼成温度によっても焼
成匣ＡおよびＢへの鉛板着量が異なる。
Ｂに付着する鉛の量が変化していることを示しているが
、焼成匣Ａと焼成匣Ｂとでは鉛板着量が大きく異なって
いることが注目される。さらに、焼成温度によっても焼
成匣ＡおよびＢへの鉛板着量が異なる。
以上の〔実験１．〕および〔実験２、〕の結果は、ＰＺ
Ｔ成形物の焼成に使用される焼成匣の種類、その使用回
数およびＰＺＴ成形物の焼成温度に関係なく、一種類の
敷粉を一定量使用してＰＺＴ成形物を焼成しても、ＰＺ
Ｔ成形物中の鉛量を制御できないことを示している。
Ｔ成形物の焼成に使用される焼成匣の種類、その使用回
数およびＰＺＴ成形物の焼成温度に関係なく、一種類の
敷粉を一定量使用してＰＺＴ成形物を焼成しても、ＰＺ
Ｔ成形物中の鉛量を制御できないことを示している。
〔実験３ 〕
そこで、本願の発明者等は、ＰＺＴ成形物の焼成時の鉛
雰囲気を増加させる敷粉として、ＺｒＯ２パウダに鉛丹
（Ｐ ｂ、 ０４）を混合したものを使用し、鉛雰囲気
の増加量の調整にはＺｒＯ＋パウダと鉛丹との混合比お
よび使用量を変化させた。
雰囲気を増加させる敷粉として、ＺｒＯ２パウダに鉛丹
（Ｐ ｂ、 ０４）を混合したものを使用し、鉛雰囲気
の増加量の調整にはＺｒＯ＋パウダと鉛丹との混合比お
よび使用量を変化させた。
また、ＰＺＴ成形物の焼成時の鉛雰囲気を減少させる敷
扮七して、Ｚｒ０ｔパウダにＰＺＴＩＩＩｉｉ焼物を粉
砕して混合したものを使用し、鉛雰囲気の減少量の調整
にはＺｒ０ｙパウダとＰＺＴ仮焼物との混合比および使
用量を変化させた。
扮七して、Ｚｒ０ｔパウダにＰＺＴＩＩＩｉｉ焼物を粉
砕して混合したものを使用し、鉛雰囲気の減少量の調整
にはＺｒ０ｙパウダとＰＺＴ仮焼物との混合比および使
用量を変化させた。
すなわち、Ｚｒ０ｔパウダとＰＺＴ仮焼物とを９０パー
セントと１０パーセントの割合で混合した敷粉ｌ）ｌと
、Ｚｒ０ｔパウダと鉛丹とを９０パーセントとｌＯペパ
ーントの割合で混合した敷粉Ｐ、と、焼成匣Ｂとを用意
し、焼成匣Ｂの単位体積当たり敷粉Ｐ、を３θグラムお
よび１０グラム敷いて１２５０℃で焼成を行ったとき、
および焼成匣Ｂの単位体積当たり敷粉Ｐ、を１θグラム
および３０ダラム敷いて１２５０℃で焼成を行ったとき
のＰＺＴ成形物の重量変化率を測定した。
セントと１０パーセントの割合で混合した敷粉ｌ）ｌと
、Ｚｒ０ｔパウダと鉛丹とを９０パーセントとｌＯペパ
ーントの割合で混合した敷粉Ｐ、と、焼成匣Ｂとを用意
し、焼成匣Ｂの単位体積当たり敷粉Ｐ、を３θグラムお
よび１０グラム敷いて１２５０℃で焼成を行ったとき、
および焼成匣Ｂの単位体積当たり敷粉Ｐ、を１θグラム
および３０ダラム敷いて１２５０℃で焼成を行ったとき
のＰＺＴ成形物の重量変化率を測定した。
その結果を次の表に示す。
表
上記表から分かるように、敷粉をＰ、からＰａに変え、
その使用量を変えることにより、ＰＺＴ成形物の重量変
化率は負（マイナス）から正（プラス）に変化している
。従って、焼成匣Ｂを使用する場合、敷粉Ｐｔを使用し
、その使用量を適切な値に選択することにより、ＰＺＴ
成形物重量変化率を零とすることができる。
その使用量を変えることにより、ＰＺＴ成形物の重量変
化率は負（マイナス）から正（プラス）に変化している
。従って、焼成匣Ｂを使用する場合、敷粉Ｐｔを使用し
、その使用量を適切な値に選択することにより、ＰＺＴ
成形物重量変化率を零とすることができる。
すなわち、ＰＺＴ成形物の焼成温度、焼成匣の種類およ
び焼成匣の使用回数等の焼成条件に対応して敷粉の種類
および使用量を定めておけば、ＰＺＴ成形物重量変化率
を零とすることができる。
び焼成匣の使用回数等の焼成条件に対応して敷粉の種類
および使用量を定めておけば、ＰＺＴ成形物重量変化率
を零とすることができる。
なお、上記〔実験１．）、（実験２ 〕および〔実験３
〕で使用したＰＺＴ仮焼物は、Ｐｂ、０４．ＴｉＯ２
およびＺｒＯ＋を規定量混合して８００℃ないし１００
０℃で仮焼し、この仮焼によりできた仮焼物を、粒度０
５μ鋤ないし３０μｍに粉砕したものである。このＰＺ
Ｔ仮焼物は、周知のＰＺＴ組成、ＰＺ組成、ＰＴ組成、
および変性ＰＺＴ組成を有するものを使用することがで
きる。
〕で使用したＰＺＴ仮焼物は、Ｐｂ、０４．ＴｉＯ２
およびＺｒＯ＋を規定量混合して８００℃ないし１００
０℃で仮焼し、この仮焼によりできた仮焼物を、粒度０
５μ鋤ないし３０μｍに粉砕したものである。このＰＺ
Ｔ仮焼物は、周知のＰＺＴ組成、ＰＺ組成、ＰＴ組成、
および変性ＰＺＴ組成を有するものを使用することがで
きる。
本発明は上記のようなＰＺＴ成形物に限らず、鉛を含む
セラミックス成形体の焼成に広く適用することができる
。
セラミックス成形体の焼成に広く適用することができる
。
以上のように、本発明は鉛を含むセラミックス成形体の
焼成条件に適合した種類および量の敷粉を使用し、鉛の
飛散量を制御するようにしたので、均質な焼成物を得る
ことができる。
焼成条件に適合した種類および量の敷粉を使用し、鉛の
飛散量を制御するようにしたので、均質な焼成物を得る
ことができる。
第１図（ａ）は焼成匣の使用回数とセラミックス成形体
の重量変化率の関係を示すグラフ、第１図（ｂ）は焼成
匣の使用回数と焼成匣への累積鉛板着量を示すグラフ、
第２図（ａ）はセラミックス成形体の焼成炉の説明図、
第２図（ｂ）は第２図（ａ）の焼成炉の炉体内部の温度
分布図、第３図は鉛を含むセラミックス成形体の焼成匣
の横断面図である。 ２・・・鉛を含むセラミックス成形体、３・・・焼成匣
、 ５・・・鉛雰囲気調整用敷粉。 特許出願人 株式会社 村 １）製 作 折代 理
人 弁理士 青 山 葆 ほか２名第１図 （Ｇ） 第１図 （ｂ） □ イ史 用 回 客３（
の重量変化率の関係を示すグラフ、第１図（ｂ）は焼成
匣の使用回数と焼成匣への累積鉛板着量を示すグラフ、
第２図（ａ）はセラミックス成形体の焼成炉の説明図、
第２図（ｂ）は第２図（ａ）の焼成炉の炉体内部の温度
分布図、第３図は鉛を含むセラミックス成形体の焼成匣
の横断面図である。 ２・・・鉛を含むセラミックス成形体、３・・・焼成匣
、 ５・・・鉛雰囲気調整用敷粉。 特許出願人 株式会社 村 １）製 作 折代 理
人 弁理士 青 山 葆 ほか２名第１図 （Ｇ） 第１図 （ｂ） □ イ史 用 回 客３（
Claims (1)
- （１）鉛を含むセラミックス成形体を鉛雰囲気調整用敷
粉を敷いた焼成匣内に収容し、この焼成匣を焼成炉内に
送り込んでセラミックス成形体を焼成するセラミックス
成形体の焼成方法であって、鉛含有量の異なる鉛雰囲気
調整用敷粉を用意し、セラミックス成形体の焼成温度、
焼成匣の種類および焼成匣の使用回数等の焼成条件に対
応して鉛雰囲気調整用敷粉の種類および使用量を選択し
、セラミックス成形体中の鉛の含有量が変化しないよう
に焼成することを特徴とする鉛を含むセラミックス成形
体の焼成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59231935A JPS61111971A (ja) | 1984-11-02 | 1984-11-02 | 鉛を含むセラミツクス成形体の焼成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59231935A JPS61111971A (ja) | 1984-11-02 | 1984-11-02 | 鉛を含むセラミツクス成形体の焼成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61111971A true JPS61111971A (ja) | 1986-05-30 |
| JPH0542393B2 JPH0542393B2 (ja) | 1993-06-28 |
Family
ID=16931367
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59231935A Granted JPS61111971A (ja) | 1984-11-02 | 1984-11-02 | 鉛を含むセラミツクス成形体の焼成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61111971A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007169142A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-07-05 | Kyocera Corp | ジルコニア焼結体 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5659675A (en) * | 1979-10-17 | 1981-05-23 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Manufacture of barium titanate semiconductor ceramic |
-
1984
- 1984-11-02 JP JP59231935A patent/JPS61111971A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5659675A (en) * | 1979-10-17 | 1981-05-23 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Manufacture of barium titanate semiconductor ceramic |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007169142A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-07-05 | Kyocera Corp | ジルコニア焼結体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0542393B2 (ja) | 1993-06-28 |
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