JPH0542977Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0542977Y2 JPH0542977Y2 JP1985089623U JP8962385U JPH0542977Y2 JP H0542977 Y2 JPH0542977 Y2 JP H0542977Y2 JP 1985089623 U JP1985089623 U JP 1985089623U JP 8962385 U JP8962385 U JP 8962385U JP H0542977 Y2 JPH0542977 Y2 JP H0542977Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- chuck
- receiving surface
- guide
- holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Feeding Of Articles By Means Other Than Belts Or Rollers (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔考案の技術分野〕
本考案は、バキユームを用いないで、チヤツク
爪によりウエハを保持するメカニカルなウエハ搬
送チヤツクに係り、特にアンチヤツク時における
ウエハの横ズレ防止に関するものである。
爪によりウエハを保持するメカニカルなウエハ搬
送チヤツクに係り、特にアンチヤツク時における
ウエハの横ズレ防止に関するものである。
従来のウエハ搬送チヤツクは、バキユームを用
いその吸着力でウエハを保持するのが一般的であ
る。この場合の欠点として、ウエハとフイラ(吸
口)の接触による損傷や清浄度の低下またはウエ
ハに付着している処理液の吸引によるバキユーム
装置の作動不良等があり、さらにコスト面を考慮
してバキユームによらないチヤツクを必要とする
場合がある。一方メカニカルなウエハ搬送チヤツ
クの場合には、チヤツク爪の先端部がウエハ表面
よりオーバハングし、ウエハの受取りや受渡しの
際相手側の保持具や搬送チヤツクに干渉するた
め、アプローチの途中でアンチヤツクしてから持
込みする必要があり、ウエハの横ズレを生じ、チ
ヤツク外に落下する恐れがあつた。
いその吸着力でウエハを保持するのが一般的であ
る。この場合の欠点として、ウエハとフイラ(吸
口)の接触による損傷や清浄度の低下またはウエ
ハに付着している処理液の吸引によるバキユーム
装置の作動不良等があり、さらにコスト面を考慮
してバキユームによらないチヤツクを必要とする
場合がある。一方メカニカルなウエハ搬送チヤツ
クの場合には、チヤツク爪の先端部がウエハ表面
よりオーバハングし、ウエハの受取りや受渡しの
際相手側の保持具や搬送チヤツクに干渉するた
め、アプローチの途中でアンチヤツクしてから持
込みする必要があり、ウエハの横ズレを生じ、チ
ヤツク外に落下する恐れがあつた。
本考案は、バキユームを用いないでチヤツク爪
によりウエハを保持するものにおいてアンチヤツ
ク状態でウエハを受渡す際ウエハの横ズレを生じ
ないメカニカルなウエハ搬送チヤツクを提供する
ことを目的とする。
によりウエハを保持するものにおいてアンチヤツ
ク状態でウエハを受渡す際ウエハの横ズレを生じ
ないメカニカルなウエハ搬送チヤツクを提供する
ことを目的とする。
本考案は、上記の目的を達成するため、複数の
チヤツク爪でチヤツク本体側のウエハ受面との間
でウエハを保持するようにし、かつウエハの外周
部にスプリング等の弾性体により前記ウエハ受面
より飛び出しうるガイドを具備し、このガイドに
よつてアンチヤツク状態でウエハを受渡す際にお
いてもウエハの横ズレを防止するようにしたもの
である。
チヤツク爪でチヤツク本体側のウエハ受面との間
でウエハを保持するようにし、かつウエハの外周
部にスプリング等の弾性体により前記ウエハ受面
より飛び出しうるガイドを具備し、このガイドに
よつてアンチヤツク状態でウエハを受渡す際にお
いてもウエハの横ズレを防止するようにしたもの
である。
以下本考案の一実施例を示す第1図ないし第5
図について説明する。第1図は、本発明によるウ
エハ搬送チヤツクAがウエハ3を保持して機械の
保持具または他のウエハ搬送チヤツク(以下保持
具として説明する)Bの同心位置の真下に移送さ
れた状態を示す。このウエハ搬送チヤツクAのチ
ヤツク本体1は、アームCの先端に取付けられて
いる。アームCは図示しない移送機構により上下
移動、水平移動(旋回も含む)を与えられるほか
必要に応じて回転しウエハ搬送チヤツクAを反転
し得るように構成されている。
図について説明する。第1図は、本発明によるウ
エハ搬送チヤツクAがウエハ3を保持して機械の
保持具または他のウエハ搬送チヤツク(以下保持
具として説明する)Bの同心位置の真下に移送さ
れた状態を示す。このウエハ搬送チヤツクAのチ
ヤツク本体1は、アームCの先端に取付けられて
いる。アームCは図示しない移送機構により上下
移動、水平移動(旋回も含む)を与えられるほか
必要に応じて回転しウエハ搬送チヤツクAを反転
し得るように構成されている。
チヤツク本体1の第1図において上面2には凹
部2′が設けられ、この凹部2′の囲りの僅かな巾
(2〜4mm)のリング状の上面(以下ウエハ受面
という)2によつて、ウエハ3の外周寄り部分を
支持するようになつている。
部2′が設けられ、この凹部2′の囲りの僅かな巾
(2〜4mm)のリング状の上面(以下ウエハ受面
という)2によつて、ウエハ3の外周寄り部分を
支持するようになつている。
チヤツク本体1の外周部には支点ピン4で支え
られた複数のチヤツク爪5が設けられている。チ
ヤツク爪5はシリンダ等の駆動装置9によつて前
記支点ピン4を中心に揺動されるようになつてい
る。チヤツク爪5は、第4図に拡大して示すよう
に、駆動装置9によりチヤツク状態にあるとき、
チヤツク本体1のストツパ面8で動きを制限さ
れ、ウエハ3の上面および外周面でのそれぞれに
対し僅少のスキマを持つようになつている。
られた複数のチヤツク爪5が設けられている。チ
ヤツク爪5はシリンダ等の駆動装置9によつて前
記支点ピン4を中心に揺動されるようになつてい
る。チヤツク爪5は、第4図に拡大して示すよう
に、駆動装置9によりチヤツク状態にあるとき、
チヤツク本体1のストツパ面8で動きを制限さ
れ、ウエハ3の上面および外周面でのそれぞれに
対し僅少のスキマを持つようになつている。
また、チヤツク本体1の外周部には、上下に滑
動可能で背部のスプリング等の弾性体6によりウ
エハ受面2に対し垂直方向へ一定量飛び出し可能
な複数のピン状のガイド(チヤツク爪5に当る部
分を切欠したリング状体のものなどでもよい)7
が設けられている。このガイド7は、第5図に拡
大して示すように、ウエハ3の外周面に対し僅少
のスキマを持つようになつている。
動可能で背部のスプリング等の弾性体6によりウ
エハ受面2に対し垂直方向へ一定量飛び出し可能
な複数のピン状のガイド(チヤツク爪5に当る部
分を切欠したリング状体のものなどでもよい)7
が設けられている。このガイド7は、第5図に拡
大して示すように、ウエハ3の外周面に対し僅少
のスキマを持つようになつている。
次にウエハ3の保持具Bに対する受渡しの動作
について説明する。先づチヤツク爪5を開き、機
械または装置外から図示しない搬送ベルトなどに
より所定位置に位置付けされているウエハ3に対
し、アームCの移動によつてウエハ受面2を接触
または僅少なスキマを置いて対向させ、駆動装置
9によりチヤツク爪5を閉じてウエハ3をウエハ
搬送チヤツクAに保持する。なお、このウエハ搬
送チヤツクAは、ウエハ3の表面すなわち実際に
半導体装置が形成される側の面(第1図において
下側の面)をウエハ受面2に対向させるようにな
つており、保持具Bによつて吸着される側すなわ
ち図において上面は裏面である。このウエハ3の
表面は、ウエハ受面2に設けた凹部2′により外
周部のみが支持され、かつチヤツク爪5による保
持を第4図に示したように僅少なスキマを持つて
行なうようにすることにより、損傷が避けられ
る。次いで、アームCの移動により第1図に示す
ように、ウエハ搬送チヤツクAを保持具Bの同心
位置の真下に対向させ、さらにアームCを上昇さ
せる。ウエハ搬送チヤツクAのチヤツク爪5が保
持具Bに当たる手前でチヤツク爪5を、第2図に
示すように、その先端がウエハ3の上面より後方
(第2図において下方)へ退避するまで開く。こ
のとき、チヤツク爪5によるウエハ3の保持は解
除されるが、ウエハ受面2より所定量突出してい
るガイド7があるため、ウエハ3は横ズレを生ず
ることなく、ウエハ受面2上に保持され続ける。
について説明する。先づチヤツク爪5を開き、機
械または装置外から図示しない搬送ベルトなどに
より所定位置に位置付けされているウエハ3に対
し、アームCの移動によつてウエハ受面2を接触
または僅少なスキマを置いて対向させ、駆動装置
9によりチヤツク爪5を閉じてウエハ3をウエハ
搬送チヤツクAに保持する。なお、このウエハ搬
送チヤツクAは、ウエハ3の表面すなわち実際に
半導体装置が形成される側の面(第1図において
下側の面)をウエハ受面2に対向させるようにな
つており、保持具Bによつて吸着される側すなわ
ち図において上面は裏面である。このウエハ3の
表面は、ウエハ受面2に設けた凹部2′により外
周部のみが支持され、かつチヤツク爪5による保
持を第4図に示したように僅少なスキマを持つて
行なうようにすることにより、損傷が避けられ
る。次いで、アームCの移動により第1図に示す
ように、ウエハ搬送チヤツクAを保持具Bの同心
位置の真下に対向させ、さらにアームCを上昇さ
せる。ウエハ搬送チヤツクAのチヤツク爪5が保
持具Bに当たる手前でチヤツク爪5を、第2図に
示すように、その先端がウエハ3の上面より後方
(第2図において下方)へ退避するまで開く。こ
のとき、チヤツク爪5によるウエハ3の保持は解
除されるが、ウエハ受面2より所定量突出してい
るガイド7があるため、ウエハ3は横ズレを生ず
ることなく、ウエハ受面2上に保持され続ける。
さらにウエハ搬送チヤツクAを上昇させると、
先づガイド7の先端が保持具Bに当たるが、この
ガイド7は弾性体6に抗して押込められ、第3図
に示すように、ウエハ3の上面が保持具Bに接触
または僅少なスキマを置いて対向する。この状態
で、保持具Bを作動させ、例えばバキユームによ
る吸着力などによつてウエハ3を保持具Bによつ
て保持する。このとき、ウエハ3を強く保持具B
へ押圧することは好ましくないので、一般には極
く軽く接触させるかまたは前記のように僅少なス
キマを置いて対向させるため、前記吸着に伴つて
ウエハ3が横スベリを生じようとするが、このウ
エハ3の横スベリはガイド7によつて阻止され、
ウエハ3は保持具Bの所定位置に正確に保持され
る。
先づガイド7の先端が保持具Bに当たるが、この
ガイド7は弾性体6に抗して押込められ、第3図
に示すように、ウエハ3の上面が保持具Bに接触
または僅少なスキマを置いて対向する。この状態
で、保持具Bを作動させ、例えばバキユームによ
る吸着力などによつてウエハ3を保持具Bによつ
て保持する。このとき、ウエハ3を強く保持具B
へ押圧することは好ましくないので、一般には極
く軽く接触させるかまたは前記のように僅少なス
キマを置いて対向させるため、前記吸着に伴つて
ウエハ3が横スベリを生じようとするが、このウ
エハ3の横スベリはガイド7によつて阻止され、
ウエハ3は保持具Bの所定位置に正確に保持され
る。
こうしてウエハ3を保持具Bへ渡し終つたなら
ば、チヤツク爪5を開いたまま、アームCを下降
させ、さらに機械および装置外にアームCを移動
させ、次の動作に供える。
ば、チヤツク爪5を開いたまま、アームCを下降
させ、さらに機械および装置外にアームCを移動
させ、次の動作に供える。
前記保持具Bに保持されているウエハ3をウエ
ハ搬送チヤツクAに受取る場合は、前述した動作
と逆になるが、ウエハ3をウエハ受面2側へ確実
に受取るために、保持具Bに保持されているウエ
ハ3に対し、ウエハ受面2を若干離して対向さ
せ、保持具B側のバキユームを加圧に変えてウエ
ハ3を積極的に離脱することが好ましい。このよ
うな場合にも、ガイド7はウエハ3の横ズレを防
止するため、ウエハ3はウエハ受面2上に位置ズ
レを生ずることなく、移換えられる。
ハ搬送チヤツクAに受取る場合は、前述した動作
と逆になるが、ウエハ3をウエハ受面2側へ確実
に受取るために、保持具Bに保持されているウエ
ハ3に対し、ウエハ受面2を若干離して対向さ
せ、保持具B側のバキユームを加圧に変えてウエ
ハ3を積極的に離脱することが好ましい。このよ
うな場合にも、ガイド7はウエハ3の横ズレを防
止するため、ウエハ3はウエハ受面2上に位置ズ
レを生ずることなく、移換えられる。
なお、上記のアームCの上下動の一部または全
部は保持具B側がおこなつても良い。
部は保持具B側がおこなつても良い。
〔考案の効果〕
本考案は以上説明したように、バキユームを用
いないためローコストであり、フイラ(吸口)に
よるウエハの損傷や洗浄度の低下もなく、また最
終的に製品として使用されないウエハの外周部を
チヤツク面と受面に使用することによりウエハの
表面に損傷等の悪影響を与えず、しかもウエハの
受授に際しアンチヤツク状態でも、ウエハの横ズ
レを防ぐことができるという効果をもつものであ
る。
いないためローコストであり、フイラ(吸口)に
よるウエハの損傷や洗浄度の低下もなく、また最
終的に製品として使用されないウエハの外周部を
チヤツク面と受面に使用することによりウエハの
表面に損傷等の悪影響を与えず、しかもウエハの
受授に際しアンチヤツク状態でも、ウエハの横ズ
レを防ぐことができるという効果をもつものであ
る。
第1図乃至第5図は本考案の実施例を示すもの
で第1図はウエハを保持した状態、第2図は保持
具にアプローチし、チヤツク爪の干渉防止上アン
チヤツクした状態、第3図はウエハの受渡しと受
取りの状態、第4図はチヤツクした時の拡大図、
第5図はガイドの拡大図である。 A……ウエハ搬送チヤツク、B……相手保持
具、C……アーム、1……チヤツク本体、2……
ウエハ受面、3……ウエハ、4……支点ピン、5
……チヤツク爪、6……スプリング、7……ガイ
ド、8……ストツパ面、9……シリンダ。
で第1図はウエハを保持した状態、第2図は保持
具にアプローチし、チヤツク爪の干渉防止上アン
チヤツクした状態、第3図はウエハの受渡しと受
取りの状態、第4図はチヤツクした時の拡大図、
第5図はガイドの拡大図である。 A……ウエハ搬送チヤツク、B……相手保持
具、C……アーム、1……チヤツク本体、2……
ウエハ受面、3……ウエハ、4……支点ピン、5
……チヤツク爪、6……スプリング、7……ガイ
ド、8……ストツパ面、9……シリンダ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) ウエハを複数のチヤツク爪で保持する搬送チ
ヤツクにおいて、 チヤツク本体のウエハ受面上に前記ウエハを
保持すべく前記チヤツク本体の外周部に半径方
向へ揺動可能に設けられた複数のチヤツク爪
と、 前記ウエハの外周部と僅かなスキマをもつ
て、弾性体により前記ウエハ受面に対し上下垂
直に滑動可能に設けられたガイドとを具備し、 前記チヤツクの爪の先端は、チヤツク状態に
あるとき、ウエハの外周および上面に対向可能
に形成されると共に、アンチヤツク状態にある
とき、ウエハ受面上のウエハ上面より後方へ退
避可能に形成されている ことを特徴とするウエハ搬送チヤツク。 (2) ガイドが複数のピンであることを特徴とする
実用新案登録請求の範囲第1項のウエハ搬送チ
ヤツク。 (3) ガイドがチヤツク爪部を切欠したリング状体
であることを特徴とする実用新案登録請求の範
囲第1項のウエハ搬送チヤツク。 (4) ウエハ受面が前記ウエハの外周部より内側の
極く少ない巾に限定されていることを特徴とす
る実用新案登録請求の範囲第1項のウエハ搬送
チヤツク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985089623U JPH0542977Y2 (ja) | 1985-06-14 | 1985-06-14 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985089623U JPH0542977Y2 (ja) | 1985-06-14 | 1985-06-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61206537U JPS61206537U (ja) | 1986-12-26 |
| JPH0542977Y2 true JPH0542977Y2 (ja) | 1993-10-28 |
Family
ID=30643874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985089623U Expired - Lifetime JPH0542977Y2 (ja) | 1985-06-14 | 1985-06-14 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0542977Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6298364B2 (ja) * | 2014-06-09 | 2018-03-20 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5338291Y2 (ja) * | 1973-08-14 | 1978-09-16 | ||
| JPS6018310Y2 (ja) * | 1980-01-21 | 1985-06-03 | シ−ケ−デイ株式会社 | 半軟質シ−ト用保持装置 |
-
1985
- 1985-06-14 JP JP1985089623U patent/JPH0542977Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61206537U (ja) | 1986-12-26 |
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