JPH0543572A - １−アルキル置換スルトン類の製造方法 - Google Patents
１−アルキル置換スルトン類の製造方法Info
- Publication number
- JPH0543572A JPH0543572A JP22632391A JP22632391A JPH0543572A JP H0543572 A JPH0543572 A JP H0543572A JP 22632391 A JP22632391 A JP 22632391A JP 22632391 A JP22632391 A JP 22632391A JP H0543572 A JPH0543572 A JP H0543572A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bis
- alkyl
- substituted
- sultones
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000008053 sultones Chemical class 0.000 title claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 24
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000010992 reflux Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 125000005278 alkyl sulfonyloxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- -1 cyclic tertiary amines Chemical class 0.000 abstract description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 6
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 2
- 125000005949 ethanesulfonyloxy group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 abstract description 2
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 abstract description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 abstract 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 25
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- JFCIMCOALUQRSM-UHFFFAOYSA-N 2-ethylsulfonyloxyethyl ethanesulfonate Chemical compound CCS(=O)(=O)OCCOS(=O)(=O)CC JFCIMCOALUQRSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 4
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 4
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 4
- WCASXYBKJHWFMY-NSCUHMNNSA-N 2-Buten-1-ol Chemical compound C\C=C\CO WCASXYBKJHWFMY-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 3
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 3
- WCASXYBKJHWFMY-UHFFFAOYSA-N gamma-methylallyl alcohol Natural products CC=CCO WCASXYBKJHWFMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- FSSPGSAQUIYDCN-UHFFFAOYSA-N 1,3-Propane sultone Chemical compound O=S1(=O)CCCO1 FSSPGSAQUIYDCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QSQFARNGNIZGAW-UHFFFAOYSA-N 2-methylsulfonyloxyethyl methanesulfonate Chemical compound CS(=O)(=O)OCCOS(C)(=O)=O QSQFARNGNIZGAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MAIFZJHANFOZHK-UHFFFAOYSA-N 3-methylsulfonyloxypropyl methanesulfonate Chemical compound CS(=O)(=O)OCCCOS(C)(=O)=O MAIFZJHANFOZHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000564 Raney nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- NPXOKRUENSOPAO-UHFFFAOYSA-N Raney nickel Chemical compound [Al].[Ni] NPXOKRUENSOPAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 2
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 2
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- FRYHCSODNHYDPU-UHFFFAOYSA-N ethanesulfonyl chloride Chemical compound CCS(Cl)(=O)=O FRYHCSODNHYDPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 2
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000013847 iso-butane Nutrition 0.000 description 2
- NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N isobutane Chemical compound CC(C)C NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N lithium amide Chemical compound [Li+].[NH2-] AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- MHYFEEDKONKGEB-UHFFFAOYSA-N oxathiane 2,2-dioxide Chemical compound O=S1(=O)CCCCO1 MHYFEEDKONKGEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 2
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N sec-butylidene Natural products CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 2
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 2
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 2
- LCWMHNKAZGZKAQ-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutane-2-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(C)CCO LCWMHNKAZGZKAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical compound C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005684 Liebig rearrangement reaction Methods 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N acetone Substances CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005957 chlorosulfonylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N crotonaldehyde Chemical compound C\C=C\C=O MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N crotonaldehyde Natural products CC=CC=O MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- 238000006798 ring closing metathesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】製造適性に優れた１−アルキル置換スルトン類
の製造方法を提供する。 【構成】下記一般式（Ｉ）で表わされる１−アルキル置
換スルトン類を下記一般式（II）で表わされるビス（ア
ルキルスルホニルオキシ）アルカンを用いて製造する方
法 一般式（Ｉ） 【化１】 式中Ｒは炭素数１〜１２のアルキル基、ｎは２〜４の整
数を表す。 一般式（II） RCH2SO2O −(CH2) n −OSO2CH2R 式中、Ｒ、ｎは一般式（Ｉ）と同じ意味を持つ。
の製造方法を提供する。 【構成】下記一般式（Ｉ）で表わされる１−アルキル置
換スルトン類を下記一般式（II）で表わされるビス（ア
ルキルスルホニルオキシ）アルカンを用いて製造する方
法 一般式（Ｉ） 【化１】 式中Ｒは炭素数１〜１２のアルキル基、ｎは２〜４の整
数を表す。 一般式（II） RCH2SO2O −(CH2) n −OSO2CH2R 式中、Ｒ、ｎは一般式（Ｉ）と同じ意味を持つ。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は１−アルキル置換スルト
ン類の製造方法に関するもので、更に詳しくは、ビス
（アルキルスルホニルオキシ）アルカンを用いることを
特徴とする１−アルキル置換スルトン類の製造方法に関
するものである。
ン類の製造方法に関するもので、更に詳しくは、ビス
（アルキルスルホニルオキシ）アルカンを用いることを
特徴とする１−アルキル置換スルトン類の製造方法に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】スルトン類は写真用分光増感色素や写真
用染料の環状第３級アミンのスルホアルキル化剤とし
て、あるいは医薬品や界面活性剤の中間体として重要で
ある。
用染料の環状第３級アミンのスルホアルキル化剤とし
て、あるいは医薬品や界面活性剤の中間体として重要で
ある。
【０００３】スルトン類は一般にハロアルカンスルホン
酸類またはヒドロキシアルカンスルホン酸類の分子内エ
ステル化反応により製造することができる。それらは高
温、真空下での、蒸留を伴なう環化反応である。１−ア
ルキル置換スルトン類も同様に分子内エステル化反応を
用いて製造することができ、例えば、ハロアルカンスル
ホン酸を用いる方法として、ヨハンＨ．ヘルバーガー
（Johann H. Helberger)著、コスタス リービッヒ ア
ナーレンデアケミイ（Justus Liebigs Aunalen der(Che
mie)第５６２巻、２３−３５頁（１９４９年）に記載さ
れている下記の方法が知られている。
酸類またはヒドロキシアルカンスルホン酸類の分子内エ
ステル化反応により製造することができる。それらは高
温、真空下での、蒸留を伴なう環化反応である。１−ア
ルキル置換スルトン類も同様に分子内エステル化反応を
用いて製造することができ、例えば、ハロアルカンスル
ホン酸を用いる方法として、ヨハンＨ．ヘルバーガー
（Johann H. Helberger)著、コスタス リービッヒ ア
ナーレンデアケミイ（Justus Liebigs Aunalen der(Che
mie)第５６２巻、２３−３５頁（１９４９年）に記載さ
れている下記の方法が知られている。
【０００４】
【化２】
【０００５】この方法ではクロルスルホニル化工程で位
置異性体が生成するため、目的の１−アルキル置換スル
トンを収率良く得ることができない。また、ヒドロキシ
アルカンスルホン酸を用いる方法としてはＪ．ウィレム
ス（J. Willems) 著、ブレタン・デ・ソシエーツ・キミ
ークス・ベルジュス（Bull.Soc. Chim. Belges)第６４
巻、４０９−４４１頁（１９５５年）に記載されてい
る、クロチルアルコール又はクロトンアルデヒドを出発
原料として３−ヒドロキシ−１−メチルプロピルスルホ
ン酸へ導いた後、脱水閉環により１−メチルプロパンス
ルトンを得る下記の方法が知られている。
置異性体が生成するため、目的の１−アルキル置換スル
トンを収率良く得ることができない。また、ヒドロキシ
アルカンスルホン酸を用いる方法としてはＪ．ウィレム
ス（J. Willems) 著、ブレタン・デ・ソシエーツ・キミ
ークス・ベルジュス（Bull.Soc. Chim. Belges)第６４
巻、４０９−４４１頁（１９５５年）に記載されてい
る、クロチルアルコール又はクロトンアルデヒドを出発
原料として３−ヒドロキシ−１−メチルプロピルスルホ
ン酸へ導いた後、脱水閉環により１−メチルプロパンス
ルトンを得る下記の方法が知られている。
【０００６】
【化３】
【０００７】しかし、これらの方法においても、クロチ
ルアルコールへのスルホ基の付加反応で位置異性体が生
じることにより収率の低下がおこったり、アルデヒドの
ラネーニッケル触媒による還元が製造適性上好ましくな
いという問題点がある。又、ハロゲン化水素脱離、水脱
離、いずれの閉環工程も収率は高くない。スルトン合成
の別法として、１，２−ビス（メタンスルホニルオキ
シ）エタンからプロパンスルトンを、１，３−ビス（メ
タンスルホニルオキシ）プロパンからブタンスルトンを
合成する方法が、Ｔ．ドルスト（T. Drust) 著、カナデ
ィアン ジャーナル オブ ケミストリー（Canadian J
ournal of Chemistry)、第４８巻、８４５−８５１頁
（１９７０年）に記載されている。
ルアルコールへのスルホ基の付加反応で位置異性体が生
じることにより収率の低下がおこったり、アルデヒドの
ラネーニッケル触媒による還元が製造適性上好ましくな
いという問題点がある。又、ハロゲン化水素脱離、水脱
離、いずれの閉環工程も収率は高くない。スルトン合成
の別法として、１，２−ビス（メタンスルホニルオキ
シ）エタンからプロパンスルトンを、１，３−ビス（メ
タンスルホニルオキシ）プロパンからブタンスルトンを
合成する方法が、Ｔ．ドルスト（T. Drust) 著、カナデ
ィアン ジャーナル オブ ケミストリー（Canadian J
ournal of Chemistry)、第４８巻、８４５−８５１頁
（１９７０年）に記載されている。
【０００８】
【化４】
【０００９】しかし、この文献記載の反応条件はテトラ
ヒドロフラン中、窒素気流下、ｎ−ブチルリチウムを用
いて−７８℃という低温で反応させるもので、製造適性
上好ましくない。更にこの文献には１−アルキル置換ス
ルトンに関する記述がない。
ヒドロフラン中、窒素気流下、ｎ−ブチルリチウムを用
いて−７８℃という低温で反応させるもので、製造適性
上好ましくない。更にこの文献には１−アルキル置換ス
ルトンに関する記述がない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】以上のような、反応に
由来する収率低下が克服され、更には製造適性も付与さ
れたスルトン製造方法の開発が望まれていた。
由来する収率低下が克服され、更には製造適性も付与さ
れたスルトン製造方法の開発が望まれていた。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の従
来法の欠点を克服するため、鋭意研究を重ねた結果、下
記一般式（II）で表わされるビス（アルキルスルホニル
オキシ）アルカンを用いて下記一般式（Ｉ）で表わされ
る１−アルキル置換スルトン類が得られることを見出し
た。すなわち、本発明は一般式（Ｉ）で表わされる１−
アルキル置換スルトン類を製造するにあたり、一般式
（II）で表わされるビス（アルキルスルホニルオキシ）
アルカン類を用いることを特徴とする１−アルキル置換
スルトン類の製造方法である。 一般式（Ｉ）
来法の欠点を克服するため、鋭意研究を重ねた結果、下
記一般式（II）で表わされるビス（アルキルスルホニル
オキシ）アルカンを用いて下記一般式（Ｉ）で表わされ
る１−アルキル置換スルトン類が得られることを見出し
た。すなわち、本発明は一般式（Ｉ）で表わされる１−
アルキル置換スルトン類を製造するにあたり、一般式
（II）で表わされるビス（アルキルスルホニルオキシ）
アルカン類を用いることを特徴とする１−アルキル置換
スルトン類の製造方法である。 一般式（Ｉ）
【００１２】
【化５】
【００１３】式中Ｒは炭素数１〜１２のアルキル基を表
わすが、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基である。
式中ｎは２〜４の整数を表わすが特にｎ＝２の場合が好
ましい。 一般式（II） R−CH2SO2−O −(CH2) n −O −SO2CH2−R 式中、Ｒ、ｎは一般式（Ｉ）と同じ意味を持つ。
わすが、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基である。
式中ｎは２〜４の整数を表わすが特にｎ＝２の場合が好
ましい。 一般式（II） R−CH2SO2−O −(CH2) n −O −SO2CH2−R 式中、Ｒ、ｎは一般式（Ｉ）と同じ意味を持つ。
【００１４】本発明によれば、１−アルキル置換スルト
ン類は、ビス（アルキルスルホニルオキシ）アルカン類
を溶媒に溶解又は分散させ、ある種の塩基を作用させる
ことにより製造できる。溶媒としては、ベンゼン、トル
エン、キシレン、アニソール、ジクロロベンゼン、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、
アセトントリル、を用いることができるが、特に、トル
エン、キシレン、テトラヒドロフランを用いることが好
ましい。塩基としては、ｎ−ブチルリチウム、カリム−
ｔ−ブトキシド、水素化ナトリウム、リチウムアミド、
ナトリウムアミド、炭酸カリウム、水酸化カリウムを用
いることができるが、水酸化カリウム、カリウム−ｔ−
ブトキシドを用いることが好ましい。反応温度は−７８
℃から２００℃で製造が可能であるが、好ましくは０℃
から１５０℃、より好ましくは２５℃から１４０℃で反
応させるとよい。反応液中に副生成物として水が生じる
場合は、ディーン・スターク装置により脱水するか、脱
水剤を反応液内に添加してやると良好に反応が進行す
る。好ましい合成方法の例としては一般式（III)の化合
物から出発して、下記の方法が挙げられる。
ン類は、ビス（アルキルスルホニルオキシ）アルカン類
を溶媒に溶解又は分散させ、ある種の塩基を作用させる
ことにより製造できる。溶媒としては、ベンゼン、トル
エン、キシレン、アニソール、ジクロロベンゼン、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、
アセトントリル、を用いることができるが、特に、トル
エン、キシレン、テトラヒドロフランを用いることが好
ましい。塩基としては、ｎ−ブチルリチウム、カリム−
ｔ−ブトキシド、水素化ナトリウム、リチウムアミド、
ナトリウムアミド、炭酸カリウム、水酸化カリウムを用
いることができるが、水酸化カリウム、カリウム−ｔ−
ブトキシドを用いることが好ましい。反応温度は−７８
℃から２００℃で製造が可能であるが、好ましくは０℃
から１５０℃、より好ましくは２５℃から１４０℃で反
応させるとよい。反応液中に副生成物として水が生じる
場合は、ディーン・スターク装置により脱水するか、脱
水剤を反応液内に添加してやると良好に反応が進行す
る。好ましい合成方法の例としては一般式（III)の化合
物から出発して、下記の方法が挙げられる。
【００１５】
【化６】
【００１６】以下に本発明の方法により合成される一般
式（Ｉ）で表わされる化合物の具体例を示すが、本発明
の範囲はこれらのみに限られるものではない。
式（Ｉ）で表わされる化合物の具体例を示すが、本発明
の範囲はこれらのみに限られるものではない。
【００１７】
【化７】
【００１８】
【発明の効果】本発明により、種々の１−アルキル置換
スルトン類が高収率に得られるのみでなく、コスト、操
作性等の製造適性を向上させることができた。
スルトン類が高収率に得られるのみでなく、コスト、操
作性等の製造適性を向上させることができた。
【００１９】
実施例１ 次に本発明を実施例に基づき、さらに詳細に説明する。 （化合物１の合成） （１）１，２−ビス（エタンスルホニルオキシ）エタン
の合成 塩化メチレン１５０mlにエチレングリコール１４ml
（０．２５ml）とエタンスルホニルクロライド５２．３
ml（０．５５mol ）を加え、内温を−８℃に冷却した
後、攪拌下、トリエチルアミン７７ml（０．５５mol ）
を３０分かけて滴下しさらに、室温で１０分攪拌した。
反応終了後水１５０mlを加え、反応液を水洗した。塩化
メチレン層を減圧濃縮して得られたシロップ状残渣をメ
タノールに溶解し、活性炭を加えて１０分間加熱還流し
て脱色した。活性炭を濾別した後、メタノールを減圧濃
縮真空乾燥すると、透明シロップ状の１，２−ビス（エ
タンスルホニルオキシ）エタン６０．３ｇ（収率９８
％）が得られた。 （２）１−メチルプロパンサルトンの合成 水酸化カリウム８．４ｇ（０．１５mol ）を水５０mlに
溶解した水溶液を１５０mlのキシレンに加え、続いてDe
an-Stark装置を用いて攪拌下、脱水を伴なう加熱還流を
行ない、系内の水を除去した。次に１，２−ビス（エタ
ンスルホニルオキシ）エタンを１２．３ｇ（０．０５mo
l ）加え、反応で生じる水をDean-Stark装置で除去しな
がら１時間加熱還流を行なった。反応終了後、反応液を
１Ｎ塩酸に注加した後、酢酸エチル５００mlで抽出し
た。得られた酢酸エチル層を減圧濃縮した後、減圧下で
精留を行ない、１−メチルプロパンサルトン４．８ｇ
（収率７０％）を得た。 実施例２ １，２−ビス（エタンスルホニルオキシ）エタン４０ｇ
（０．１６mol ）をテトラヒドロフラン１００mlに溶解
した後、窒素気流下−７８℃まで冷却した。次にｎブチ
ルリチウムの２．５Ｍヘキサン溶液２２mlを１０分間か
けて滴下した後、反応液を室温に戻し、さらに３０分間
攪拌した。反応液を水５００mlに注加してから塩化メチ
レン１リットルで抽出し、得られた有機層を減圧濃縮後
更に減圧下で精留を行なって１−メチルプロパンサルト
ン１６．６ｇ（収率７５％）を得た。
の合成 塩化メチレン１５０mlにエチレングリコール１４ml
（０．２５ml）とエタンスルホニルクロライド５２．３
ml（０．５５mol ）を加え、内温を−８℃に冷却した
後、攪拌下、トリエチルアミン７７ml（０．５５mol ）
を３０分かけて滴下しさらに、室温で１０分攪拌した。
反応終了後水１５０mlを加え、反応液を水洗した。塩化
メチレン層を減圧濃縮して得られたシロップ状残渣をメ
タノールに溶解し、活性炭を加えて１０分間加熱還流し
て脱色した。活性炭を濾別した後、メタノールを減圧濃
縮真空乾燥すると、透明シロップ状の１，２−ビス（エ
タンスルホニルオキシ）エタン６０．３ｇ（収率９８
％）が得られた。 （２）１−メチルプロパンサルトンの合成 水酸化カリウム８．４ｇ（０．１５mol ）を水５０mlに
溶解した水溶液を１５０mlのキシレンに加え、続いてDe
an-Stark装置を用いて攪拌下、脱水を伴なう加熱還流を
行ない、系内の水を除去した。次に１，２−ビス（エタ
ンスルホニルオキシ）エタンを１２．３ｇ（０．０５mo
l ）加え、反応で生じる水をDean-Stark装置で除去しな
がら１時間加熱還流を行なった。反応終了後、反応液を
１Ｎ塩酸に注加した後、酢酸エチル５００mlで抽出し
た。得られた酢酸エチル層を減圧濃縮した後、減圧下で
精留を行ない、１−メチルプロパンサルトン４．８ｇ
（収率７０％）を得た。 実施例２ １，２−ビス（エタンスルホニルオキシ）エタン４０ｇ
（０．１６mol ）をテトラヒドロフラン１００mlに溶解
した後、窒素気流下−７８℃まで冷却した。次にｎブチ
ルリチウムの２．５Ｍヘキサン溶液２２mlを１０分間か
けて滴下した後、反応液を室温に戻し、さらに３０分間
攪拌した。反応液を水５００mlに注加してから塩化メチ
レン１リットルで抽出し、得られた有機層を減圧濃縮後
更に減圧下で精留を行なって１−メチルプロパンサルト
ン１６．６ｇ（収率７５％）を得た。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成３年１０月２日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００３】スルトン類は一般にハロアルカンスルホン
酸類またはヒドロキシアルカンスルホン酸類の分子内エ
ステル化反応により製造することができる。それらは高
温、真空下での、蒸留を伴なう環化反応である。１−ア
ルキル置換スルトン類も同様に分子内エステル化反応を
用いて製造することができ、例えば、ハロアルカンスル
ホン酸を用いる方法として、ヨハンＨ．ヘルバーガー
（ＪｏｈａｎｎＨ・Ｈｅｌｂｅｒｇｅｒ）著、ユスタス
リービッヒ アナーレンデアケミイ（ＪｕｓｔｕｓＬ
ｉｅｂｉｇｓＡｕｎａｌｅｎ ｄｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ）
第５６２巻、２３−３５頁（１９４９年）に記載されて
いる下記の方法が知られている。
酸類またはヒドロキシアルカンスルホン酸類の分子内エ
ステル化反応により製造することができる。それらは高
温、真空下での、蒸留を伴なう環化反応である。１−ア
ルキル置換スルトン類も同様に分子内エステル化反応を
用いて製造することができ、例えば、ハロアルカンスル
ホン酸を用いる方法として、ヨハンＨ．ヘルバーガー
（ＪｏｈａｎｎＨ・Ｈｅｌｂｅｒｇｅｒ）著、ユスタス
リービッヒ アナーレンデアケミイ（ＪｕｓｔｕｓＬ
ｉｅｂｉｇｓＡｕｎａｌｅｎ ｄｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ）
第５６２巻、２３−３５頁（１９４９年）に記載されて
いる下記の方法が知られている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００７】しかし、これらの方法においても、クロチ
ルアルコールへのスルホ基の付加反応で位置異性体が生
じることによる収率の低下がおこったり、アルデヒドの
ラネーニッケル触媒による還元が製造適性上好ましくな
いという問題点がある。又、ハロゲン化水素脱離、水脱
離、いずれの閉環工程も収率は高くない。スルトン合成
の別法として、１，２−ビス（メタンスルホニルオキ
シ）エタンからプロパンスルトンを、１，３−ビス（メ
タンスルホニルオキシ）プロパンからブタンスルトンを
合成する方法が、Ｔ．ドルスト（Ｔ．Ｄｒｕｓｔ）著、
カナディアン ジャーナル オブ ケミストリー（Ｃａ
ｎａｄｉａｎ Ｊｏｕｒｎａｌｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒ
ｙ）、第４８巻、８４５−８５１頁（１９７０年）に記
載されている。
ルアルコールへのスルホ基の付加反応で位置異性体が生
じることによる収率の低下がおこったり、アルデヒドの
ラネーニッケル触媒による還元が製造適性上好ましくな
いという問題点がある。又、ハロゲン化水素脱離、水脱
離、いずれの閉環工程も収率は高くない。スルトン合成
の別法として、１，２−ビス（メタンスルホニルオキ
シ）エタンからプロパンスルトンを、１，３−ビス（メ
タンスルホニルオキシ）プロパンからブタンスルトンを
合成する方法が、Ｔ．ドルスト（Ｔ．Ｄｒｕｓｔ）著、
カナディアン ジャーナル オブ ケミストリー（Ｃａ
ｎａｄｉａｎ Ｊｏｕｒｎａｌｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒ
ｙ）、第４８巻、８４５−８５１頁（１９７０年）に記
載されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１４】本発明によれば、１−アルキル置換スルト
ン類は、ビス（アルキルスルホニルオキシ）アルカン類
を溶媒に溶解又は分散させ、ある種の塩基を作用させる
ことにより製造できる。溶媒としては、ベンゼン、トル
エン、キシレン、アニソール、ジクロロベンゼン、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、
アセトニトリル、を用いることができるが、特に、トル
エン、キシレン、テトラヒドロフランを用いることが好
ましい。塩基としては、ｎ−ブチルリチウム、カリウム
−ｔ−ブトキシド、水素化ナトリウム、リチウムアミ
ド、ナトリウムアミド、炭酸カリウム、水酸化カリウム
を用いることができるが、水酸化カリウム、カリウムー
ｔ−ブトキシドを用いることが好ましい。反応温度は−
７８℃から２００℃で製造が可能であるが、好ましくは
０℃から１５０℃、より好ましくは２５℃から１４０℃
で反応させるとよい。反応液中に副生成物として水が生
じる場合は、ディーン・スターク装置により脱水する
か、脱水剤を反応液内に添加してやると良好に反応が進
行する。好ましい合成方法の例としては一般式（ＩＩ
Ｉ）の化合物から出発して、下記の方法が挙げられる。
ン類は、ビス（アルキルスルホニルオキシ）アルカン類
を溶媒に溶解又は分散させ、ある種の塩基を作用させる
ことにより製造できる。溶媒としては、ベンゼン、トル
エン、キシレン、アニソール、ジクロロベンゼン、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、
アセトニトリル、を用いることができるが、特に、トル
エン、キシレン、テトラヒドロフランを用いることが好
ましい。塩基としては、ｎ−ブチルリチウム、カリウム
−ｔ−ブトキシド、水素化ナトリウム、リチウムアミ
ド、ナトリウムアミド、炭酸カリウム、水酸化カリウム
を用いることができるが、水酸化カリウム、カリウムー
ｔ−ブトキシドを用いることが好ましい。反応温度は−
７８℃から２００℃で製造が可能であるが、好ましくは
０℃から１５０℃、より好ましくは２５℃から１４０℃
で反応させるとよい。反応液中に副生成物として水が生
じる場合は、ディーン・スターク装置により脱水する
か、脱水剤を反応液内に添加してやると良好に反応が進
行する。好ましい合成方法の例としては一般式（ＩＩ
Ｉ）の化合物から出発して、下記の方法が挙げられる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１９】
【実施例】 実施例１ 次に本発明を実施例に基づき、さらに詳細に説明する。 （化合物１の合成） （１）１，２−ビス（エタンスルホニルオキシ）エタン
の合成 塩化メチレン１５０ｍｌにエチレングリコール１４ｍｌ
（０．２５ｍｏｌ）とエタンスルホニルクロライド５
２．３ｍｌ（０．５５ｍｏｌ）を加え、内温を−８℃に
冷却した後、攪拌下、トリエチルアミン７７ｍｌ（０．
５５ｍｏｌ）を３０分かけて滴下しさらに、室温で１０
分攪拌した。反応終了後水１５０ｍｌを加え、反応液を
水洗した。塩化メチレン層を減圧濃縮して得られたシロ
ップ状残渣をメタノールに溶解し、活性炭を加えて１０
分間加熱還流して脱色した。活性炭を濾別した後、メタ
ノールを減圧濃縮真空乾燥すると、透明シロップ状の
１，２−ビス（エタンスルホニルオキシ）エタン６０．
３ｇ（収率９８％）が得られた。 （２）１−メチルプロパンサルトンの合成 水酸化カリウム８．４ｇ（０・１５ｍｏｌ）を水５０ｍ
ｌに溶解した水溶液を１５０ｍｌのキシレンに加え、続
いてＤｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置を用いて攪拌下、脱水を
伴なう加熱還流を行ない、系内の水を除去した。次に
１，２−ビス（エタンスルホニルオキシ）エタンを１
２．３ｇ（０．０５ｍｏｌ）加え、反応で生じる水をＤ
ｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置で除去しながら１時間加熱還流
を行なった。反応終了後、反応液を１Ｎ塩酸に注加した
後、酢酸エチル５００ｍｌで抽出した。得られた酢酸エ
チル層を減圧濃縮した後、減圧下で精留を行ない、１−
メチルプロパンサルトン４．８ｇ（収率７０％）を得
た。実施例２１，２−ビス（エタンスルホニルオキシ）
エタン４０ｇ（０．１６ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン
１００ｍｌに溶解した後、窒素気流下−７８℃まで冷却
した。次にｎブチルリチウムの２．５Ｍヘキサン溶液２
２ｍｌを１０分間かけて滴下した後、反応液を室温に戻
し、さらに３０分間攪拌した。反応液を水５００ｍｌに
注加してから塩化メチレン１リットルで抽出し、得られ
た有機層を減圧濃縮後更に減圧下で精留を行なって１−
メチルプロパンサルトン１６．６ｇ（収率７５％）を得
た。
の合成 塩化メチレン１５０ｍｌにエチレングリコール１４ｍｌ
（０．２５ｍｏｌ）とエタンスルホニルクロライド５
２．３ｍｌ（０．５５ｍｏｌ）を加え、内温を−８℃に
冷却した後、攪拌下、トリエチルアミン７７ｍｌ（０．
５５ｍｏｌ）を３０分かけて滴下しさらに、室温で１０
分攪拌した。反応終了後水１５０ｍｌを加え、反応液を
水洗した。塩化メチレン層を減圧濃縮して得られたシロ
ップ状残渣をメタノールに溶解し、活性炭を加えて１０
分間加熱還流して脱色した。活性炭を濾別した後、メタ
ノールを減圧濃縮真空乾燥すると、透明シロップ状の
１，２−ビス（エタンスルホニルオキシ）エタン６０．
３ｇ（収率９８％）が得られた。 （２）１−メチルプロパンサルトンの合成 水酸化カリウム８．４ｇ（０・１５ｍｏｌ）を水５０ｍ
ｌに溶解した水溶液を１５０ｍｌのキシレンに加え、続
いてＤｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置を用いて攪拌下、脱水を
伴なう加熱還流を行ない、系内の水を除去した。次に
１，２−ビス（エタンスルホニルオキシ）エタンを１
２．３ｇ（０．０５ｍｏｌ）加え、反応で生じる水をＤ
ｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置で除去しながら１時間加熱還流
を行なった。反応終了後、反応液を１Ｎ塩酸に注加した
後、酢酸エチル５００ｍｌで抽出した。得られた酢酸エ
チル層を減圧濃縮した後、減圧下で精留を行ない、１−
メチルプロパンサルトン４．８ｇ（収率７０％）を得
た。実施例２１，２−ビス（エタンスルホニルオキシ）
エタン４０ｇ（０．１６ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン
１００ｍｌに溶解した後、窒素気流下−７８℃まで冷却
した。次にｎブチルリチウムの２．５Ｍヘキサン溶液２
２ｍｌを１０分間かけて滴下した後、反応液を室温に戻
し、さらに３０分間攪拌した。反応液を水５００ｍｌに
注加してから塩化メチレン１リットルで抽出し、得られ
た有機層を減圧濃縮後更に減圧下で精留を行なって１−
メチルプロパンサルトン１６．６ｇ（収率７５％）を得
た。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表わされる１−アル
キル置換スルトン類を製造するにあたり、下記一般式
（II）で表わされるビス（アルキルスルホニルオキシ）
アルカン類を用いることを特徴とする１−アルキル置換
スルトン類の製造方法 一般式（Ｉ） 【化１】 式中Ｒは炭素数１〜１２のアルキル基、ｎは２〜４の整
数を表わす。一般式（II） R−CH2SO2O −(CH2) n −OSO2CH2R 式中、Ｒ、ｎは一般式（Ｉ）と同じ意味を持つ。 - 【請求項２】 一般式（II）で表わされるビス（アルキ
ルスルホニルオキシ）アルカン類を水酸化カリウムを分
散させたキシレン中で加熱還流することにより、請求項
１に記載の１−アルキル置換スルトン類を製造する方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22632391A JPH0543572A (ja) | 1991-08-13 | 1991-08-13 | １−アルキル置換スルトン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22632391A JPH0543572A (ja) | 1991-08-13 | 1991-08-13 | １−アルキル置換スルトン類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0543572A true JPH0543572A (ja) | 1993-02-23 |
Family
ID=16843391
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22632391A Pending JPH0543572A (ja) | 1991-08-13 | 1991-08-13 | １−アルキル置換スルトン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0543572A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7891827B2 (en) | 2006-03-09 | 2011-02-22 | Seiko Epson Corporation | Projector |
| US11180469B2 (en) * | 2018-06-27 | 2021-11-23 | Samhwa Paints Industries Co., Ltd. | Method for preparing sultone derivatives |
| CN114805287A (zh) * | 2021-01-18 | 2022-07-29 | 石家庄圣泰化工有限公司 | 4-羟基-2-丁烷磺酸γ-内酯的合成方法 |
-
1991
- 1991-08-13 JP JP22632391A patent/JPH0543572A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7891827B2 (en) | 2006-03-09 | 2011-02-22 | Seiko Epson Corporation | Projector |
| US11180469B2 (en) * | 2018-06-27 | 2021-11-23 | Samhwa Paints Industries Co., Ltd. | Method for preparing sultone derivatives |
| CN114805287A (zh) * | 2021-01-18 | 2022-07-29 | 石家庄圣泰化工有限公司 | 4-羟基-2-丁烷磺酸γ-内酯的合成方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Kokubo et al. | Chiral zinc (II) and copper (II)-catalyzed asymmetric ring-opening reactions of meso-epoxides with aniline and indole derivatives | |
| TW201109301A (en) | Method for making cyclic sulfonic acid ester and intermediate thereof | |
| JP3973941B2 (ja) | δ−アミノペンタジエン酸エステル誘導体の製造方法 | |
| Nordstrøm et al. | Iridium catalysed synthesis of piperazines from diols | |
| KR20020005648A (ko) | 삼환성 아미노알콜 유도체의 아지드를 경유하는 제조법 | |
| JPH0543572A (ja) | １−アルキル置換スルトン類の製造方法 | |
| JPH0755925B2 (ja) | 新規なオキシムエステル化合物及びその合成法 | |
| Banfi et al. | Synthesis of new chiral phase-transfer catalysts and their application to michael additions. | |
| CN114315609B (zh) | 一种制备顺式2-氨基环己醇的工艺方法 | |
| CN108727323A (zh) | 一种氮杂环卡宾催化合成三氟甲基取代高异黄酮类化合物的方法 | |
| CN104271549B (zh) | 一种新的制备维生素b6的中间体化合物 | |
| JP4944136B2 (ja) | 高光学純度のカルベジロールの製造方法 | |
| CN115710213A (zh) | 一种顺式手性3-氟-4-羟基哌啶及其衍生物的制备方法 | |
| CN101921240A (zh) | 2位取代的(4s,5r)-4-氟甲基-5-（4-甲砜基苯基）-4,5-二氢噁唑啉的合成方法 | |
| Shafiee et al. | Synthesis of trans-1, 3-diaryl-2-(5-methylisoxazol-3-yl)-2, 3-dihydro-1 H-naphtho [1, 2-e][1, 3] oxazines via bismuth (III)-catalyzed one-pot pseudo-four component reaction | |
| CN111100085A (zh) | 一种3-芳基-2H-苯并[β][1,4]苯并恶嗪-2-酮化合物的制备方法 | |
| JP2016538251A (ja) | ３−アルキルチオ−２−ブロモピリジンの製造方法 | |
| CN115477607B (zh) | 一种光稳定剂中间体及其制备方法 | |
| JP4899385B2 (ja) | ３−アミノメチルオキセタン化合物の製法 | |
| WO2023097678A1 (zh) | 一种合成（R）-5-（2,2-二甲基-4H-苯并[d][1,3]二恶英-6-基）恶唑烷-2-酮的方法 | |
| KR20000023020A (ko) | 유기합성용 링커 결합 지지체, 그의 제조 방법 및 용도 | |
| JP2662162B2 (ja) | ３−アルキルピロールの製造法 | |
| KR100914849B1 (ko) | 2-설포닐옥시-1-(4-하이드록시페닐)에탄올 유도체의 제조방법 | |
| US6559323B1 (en) | Process for the preparation of an oxirane, aziridine or cyclopropane | |
| JPH0597735A (ja) | 光学活性二級アルコ−ルの製造方法 |