JPH0543603A - （ガラクトピラノシル）シクロマルトヘプタオース、その製造方法、及び製造中間体 - Google Patents
（ガラクトピラノシル）シクロマルトヘプタオース、その製造方法、及び製造中間体Info
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- JPH0543603A JPH0543603A JP20771091A JP20771091A JPH0543603A JP H0543603 A JPH0543603 A JP H0543603A JP 20771091 A JP20771091 A JP 20771091A JP 20771091 A JP20771091 A JP 20771091A JP H0543603 A JPH0543603 A JP H0543603A
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- JP
- Japan
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- group
- cyclomaltoheptaose
- galactopyranosyl
- alkyl group
- compound
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- Pending
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- Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 以下の式：
【化１】
で示される（ガラクトピラノシル）シクロマルトヘプタ
オース、（グルコピラノシル）シクロマルトヘプタオー
スの分枝したグルオピラノシル基の４位及び６位の水酸
基を選択的に保護し、該４位水酸基の立体配置を反転さ
せることを特徴とする該（ガラクトピラノシル）シクロ
マルトヘプタオースの製造方法及びその製造中間体。 【効果】 本発明の（ガラクトピラノシル）シクロマル
トヘプタオースは、サイクロデキストリンの包接機能と
ガラクトースレセプターに対する親和性を併せもち、ド
ラッグデリバリーシステムの構築等に有用である。
オース、（グルコピラノシル）シクロマルトヘプタオー
スの分枝したグルオピラノシル基の４位及び６位の水酸
基を選択的に保護し、該４位水酸基の立体配置を反転さ
せることを特徴とする該（ガラクトピラノシル）シクロ
マルトヘプタオースの製造方法及びその製造中間体。 【効果】 本発明の（ガラクトピラノシル）シクロマル
トヘプタオースは、サイクロデキストリンの包接機能と
ガラクトースレセプターに対する親和性を併せもち、ド
ラッグデリバリーシステムの構築等に有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、（ガラクトピラノシ
ル）シクロマルトヘプタオース及びその製造方法、並び
に該（ガラクトピラノシル）シクロマルトヘプタオース
の製造に有用な製造中間体に関する。
ル）シクロマルトヘプタオース及びその製造方法、並び
に該（ガラクトピラノシル）シクロマルトヘプタオース
の製造に有用な製造中間体に関する。
【０００２】
【従来の技術】サイクロデキストリンは６ないし８個の
グルコースが環状に結合した包接機能を有するオリゴ糖
であり、化粧品や食品分野で使用されている。しかし、
サイクロデキストリンそのものは水に難溶であり、用途
が限定されるという問題があった。このため、水溶性が
改善されたサイクロデキストリンとして、サイクロデキ
ストリンをグルコピラノシル化した（グルコピラノシ
ル）シクロマルトヘプタオース（小林昭一、見沼圭二、
鈴木繁男；日本農芸化学会誌、５１ ６９１−６９８
（１９７７））が開発され、香気成分の保持や脂肪酸の
可溶化等に実用に共されている。しかし、サイクロデキ
ストリンをガラクトピラノシル化した例は知られていな
い。
グルコースが環状に結合した包接機能を有するオリゴ糖
であり、化粧品や食品分野で使用されている。しかし、
サイクロデキストリンそのものは水に難溶であり、用途
が限定されるという問題があった。このため、水溶性が
改善されたサイクロデキストリンとして、サイクロデキ
ストリンをグルコピラノシル化した（グルコピラノシ
ル）シクロマルトヘプタオース（小林昭一、見沼圭二、
鈴木繁男；日本農芸化学会誌、５１ ６９１−６９８
（１９７７））が開発され、香気成分の保持や脂肪酸の
可溶化等に実用に共されている。しかし、サイクロデキ
ストリンをガラクトピラノシル化した例は知られていな
い。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題及び課題を解決するため
の手段】本発明者はガラクトピラノシル基を含有する新
規サイクロデキストリン誘導体を提供することを目的と
して鋭意検討を進め、サイクロデキストリンのガラクト
ース誘導体として（ガラクトピラノシル）シクロマルト
ヘプタオースを選択し、本発明を完成するに至った。該
化合物はサイクロデキストリンの包接機能を保持し、か
つ水溶性に優れるものであるので有用である。また、本
発明の化合物に導入されたガラクトースは種々の生理的
作用、例えば分化や増殖、細胞の識別、情報の受容や応
答等に関与するので、本発明の化合物はガラクトースレ
セプターに対する親和性等の生理機能も有するので有用
である。さらに本発明によれば、該（ガラクトピラノシ
ル）シクロマルトヘプタオースの効率的製造方法、並び
に該製造方法に使用される製造中間体が提供される。
の手段】本発明者はガラクトピラノシル基を含有する新
規サイクロデキストリン誘導体を提供することを目的と
して鋭意検討を進め、サイクロデキストリンのガラクト
ース誘導体として（ガラクトピラノシル）シクロマルト
ヘプタオースを選択し、本発明を完成するに至った。該
化合物はサイクロデキストリンの包接機能を保持し、か
つ水溶性に優れるものであるので有用である。また、本
発明の化合物に導入されたガラクトースは種々の生理的
作用、例えば分化や増殖、細胞の識別、情報の受容や応
答等に関与するので、本発明の化合物はガラクトースレ
セプターに対する親和性等の生理機能も有するので有用
である。さらに本発明によれば、該（ガラクトピラノシ
ル）シクロマルトヘプタオースの効率的製造方法、並び
に該製造方法に使用される製造中間体が提供される。
【０００４】本発明の（ガラクトピラノシル）シクロマ
ルトヘプタオースは以下の式（Ｉ）で示される化合物で
ある。
ルトヘプタオースは以下の式（Ｉ）で示される化合物で
ある。
【０００５】
【化５】
【０００６】該化合物の製造方法の１例を、以下のスキ
ームに示す。該方法は、（グルコピラノシル）シクロマ
ルトヘプタオースの分枝したグルコピラノシル基の４位
及び６位の水酸基を選択的に保護し、該４位水酸基の立
体配置を反転させることを特徴とする方法である。該製
造方法において出発原料として使用される化合物１［６
A −Ｏ−（α−Ｄ−グルコピラノシル）−シクロマルト
ヘプタオース］は小林昭一、見沼圭二、鈴木繁男；日本
農芸化学会誌、５１ ６９１−６９８（１９７７）、に
記載された化合物であり、該文献に記載された方法によ
り製造することができる。
ームに示す。該方法は、（グルコピラノシル）シクロマ
ルトヘプタオースの分枝したグルコピラノシル基の４位
及び６位の水酸基を選択的に保護し、該４位水酸基の立
体配置を反転させることを特徴とする方法である。該製
造方法において出発原料として使用される化合物１［６
A −Ｏ−（α−Ｄ−グルコピラノシル）−シクロマルト
ヘプタオース］は小林昭一、見沼圭二、鈴木繁男；日本
農芸化学会誌、５１ ６９１−６９８（１９７７）、に
記載された化合物であり、該文献に記載された方法によ
り製造することができる。
【０００７】
【化６】
【０００８】
【化７】
【０００９】化合物２において、 Rは独立に水素原子、
アシル基、又はアルキル基を示し、R1は水素原子又はア
ルキル基を示し、R2はアルキル基、置換基を有すること
もあるアリール基、またはR1とともに-(CH2)n - （ｎは
４ないし６の整数を示す）を示す。本明細書において、
アシル基とは、例えば炭素原子数が１ないし２０の脂肪
族アシル基又はアリールアシル基を示し、具体的にはホ
ルミル基、アセチル基、プロピオニル基等の脂肪族アシ
ル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等の芳香
族アシル基等であり、アルキル基とは、例えば炭素原子
数が１ないし１０のアルキル基をいい、具体的にはメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチ
ル、sec-ブチル基、 tert-ブチル基等をいい、置換基を
有することもあるアリール基とは、例えばフェニル基、
ピリジル基、クロロフェニル基、トリル基等である。化
合物２において、 Rがアセチル基、R1とR2がそれぞれ水
素原子、フェニル基であることが好ましい。R1とR2とに
より形成される-(CH2)n -基としてはテトラメチレン
基、ペンタメチレン基、またはヘキサメチレン基を挙げ
ることができるが、これらのうち、ｎが５のペンタメチ
レン基が好ましい。
アシル基、又はアルキル基を示し、R1は水素原子又はア
ルキル基を示し、R2はアルキル基、置換基を有すること
もあるアリール基、またはR1とともに-(CH2)n - （ｎは
４ないし６の整数を示す）を示す。本明細書において、
アシル基とは、例えば炭素原子数が１ないし２０の脂肪
族アシル基又はアリールアシル基を示し、具体的にはホ
ルミル基、アセチル基、プロピオニル基等の脂肪族アシ
ル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等の芳香
族アシル基等であり、アルキル基とは、例えば炭素原子
数が１ないし１０のアルキル基をいい、具体的にはメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチ
ル、sec-ブチル基、 tert-ブチル基等をいい、置換基を
有することもあるアリール基とは、例えばフェニル基、
ピリジル基、クロロフェニル基、トリル基等である。化
合物２において、 Rがアセチル基、R1とR2がそれぞれ水
素原子、フェニル基であることが好ましい。R1とR2とに
より形成される-(CH2)n -基としてはテトラメチレン
基、ペンタメチレン基、またはヘキサメチレン基を挙げ
ることができるが、これらのうち、ｎが５のペンタメチ
レン基が好ましい。
【００１０】化合物３において、 Rは独立に水素原子、
アシル基、又はアルキル基を示し、R3独立にはアルキル
基、ハロゲン化アルキル基、または置換基を有すること
もあるアリール基を示す。本明細書においてハロゲン化
アルキル基とは、例えば炭素原子数１ないし２のハロゲ
ン化アルキル基をいい、具体的にはモノフルオロメチル
基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基等をい
う。
アシル基、又はアルキル基を示し、R3独立にはアルキル
基、ハロゲン化アルキル基、または置換基を有すること
もあるアリール基を示す。本明細書においてハロゲン化
アルキル基とは、例えば炭素原子数１ないし２のハロゲ
ン化アルキル基をいい、具体的にはモノフルオロメチル
基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基等をい
う。
【００１１】化合物４において、 Rは独立に水素原子、
アシル基、又はアルキル基を示し、R4独立にはアルキル
基または置換基を有することもあるアリール基を示す。
これらの化合物は、本発明の（ガラクトピラノシル）シ
クロマルトヘプタオースの製造中間体として有用であ
る。上記反応スキームにおいて、好適に使用できる試
薬、反応条件等を以下に記す。 １．１ → ２ （第１工程） 溶媒：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド等、非プロトン性極性溶媒 温度：室温〜１００℃（５０〜７０℃が好適） 時間：１〜２４時間 試薬：ｄ−１０−カンファースルホン酸、ｐ−トルエン
スルホン酸等の酸触媒とα，α−ジメトキシトルエン、
２，２−ジメトキシプロパン、１，１−ジメトキシシク
ロヘキサン等のアセタール類との組み合わせ、又は、ア
セトン等のケトン、ベンズアルデヒド等のアルデヒドと
硫酸等の酸触媒、無水硫酸銅等の脱水剤の組み合わせ （第２工程） 温度：−５０〜１００℃ 時間：１〜４８時間 試薬：無水酢酸等の酸無水物、塩化ベンゾイル等の酸ク
ロリドとピリジン等のアミン類の組み合わせ、又は、臭
化ベンジル等のアルキルハライドと水素化ナトリウム等
の塩基の組み合わせ ２．２ → ３ （第１工程） 溶媒：水、メタノール、エタノール、含水ジオキサン、
テトラヒドロフラン、酢酸等 温度：０〜１００℃ 時間：１分〜１０時間 試薬：塩酸、硫酸、トルエンスルホン酸、酢酸、トリフ
ルオロ酢酸等の酸 （第２工程） 温度：−５０〜１００℃ 時間：１〜４８時間 試薬：塩化メタンスルホニル、無水トリフルオロメタン
スルホン酸、塩化ｐ−トルエンスルホニル等のスルホニ
ル化剤とピリジン、トリエチルアミン等の組み合わせ ３．３ → ４ 溶媒：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサンメチル
ホスホルアミド等の非プロトン性極性溶媒 温度：８０〜１５０℃ 時間：１０〜７２時間 試薬：安息香酸、酢酸等カルボン酸のアルカリ金属ある
いはアンモニウム塩 ４．４ → （Ｉ） 常法による水酸基の保護基の除去、たとえば、"Protect
ive Groups in Organic Synthesis" T.W. Green 著、Jo
hn Wiley and Sons (1981)に記載の方法による
アシル基、又はアルキル基を示し、R4独立にはアルキル
基または置換基を有することもあるアリール基を示す。
これらの化合物は、本発明の（ガラクトピラノシル）シ
クロマルトヘプタオースの製造中間体として有用であ
る。上記反応スキームにおいて、好適に使用できる試
薬、反応条件等を以下に記す。 １．１ → ２ （第１工程） 溶媒：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド等、非プロトン性極性溶媒 温度：室温〜１００℃（５０〜７０℃が好適） 時間：１〜２４時間 試薬：ｄ−１０−カンファースルホン酸、ｐ−トルエン
スルホン酸等の酸触媒とα，α−ジメトキシトルエン、
２，２−ジメトキシプロパン、１，１−ジメトキシシク
ロヘキサン等のアセタール類との組み合わせ、又は、ア
セトン等のケトン、ベンズアルデヒド等のアルデヒドと
硫酸等の酸触媒、無水硫酸銅等の脱水剤の組み合わせ （第２工程） 温度：−５０〜１００℃ 時間：１〜４８時間 試薬：無水酢酸等の酸無水物、塩化ベンゾイル等の酸ク
ロリドとピリジン等のアミン類の組み合わせ、又は、臭
化ベンジル等のアルキルハライドと水素化ナトリウム等
の塩基の組み合わせ ２．２ → ３ （第１工程） 溶媒：水、メタノール、エタノール、含水ジオキサン、
テトラヒドロフラン、酢酸等 温度：０〜１００℃ 時間：１分〜１０時間 試薬：塩酸、硫酸、トルエンスルホン酸、酢酸、トリフ
ルオロ酢酸等の酸 （第２工程） 温度：−５０〜１００℃ 時間：１〜４８時間 試薬：塩化メタンスルホニル、無水トリフルオロメタン
スルホン酸、塩化ｐ−トルエンスルホニル等のスルホニ
ル化剤とピリジン、トリエチルアミン等の組み合わせ ３．３ → ４ 溶媒：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサンメチル
ホスホルアミド等の非プロトン性極性溶媒 温度：８０〜１５０℃ 時間：１０〜７２時間 試薬：安息香酸、酢酸等カルボン酸のアルカリ金属ある
いはアンモニウム塩 ４．４ → （Ｉ） 常法による水酸基の保護基の除去、たとえば、"Protect
ive Groups in Organic Synthesis" T.W. Green 著、Jo
hn Wiley and Sons (1981)に記載の方法による
【００１２】
【実施例】以下，実施例により本発明の好ましい１実施
態様を詳細に説明する。本発明の範囲は、この実施例に
限定されるものではない。 実施例１ 化合物１→化合物２ ６1 −Ｏ−（２，３−ジ−Ｏ−アセチル−４，６−Ｏ−
ベンジリデン−α−Ｄ−グルコピラノシル）−２1 ，２
2 ，２3 ，２4 ，２5 ，２6 ，２7 ，３1 ，３ 2 ，
３3 ，３4 ，３5 ，３6 ，３7 ，６2 ，６3 ，６4 ，６
5 ，６6 ，６7 −イコサ−Ｏ−アセチルシクロマルトヘ
プタオース（２） ６A −Ｏ−（α−Ｄ−グリコピラノシル）−シクロマル
トヘプタオース（１） （5.０ｇ、3.９mmol）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
（１００ml）に溶解し、α，α−ジメトキシトルエン
（１ml，6.６mmol）およびｄ−１０−カンファースルホ
ン酸（１ｇ）を加えた。この溶液を、約２０mmHgに減圧
下、６０−７０℃で６時間加熱攪拌した。さらに、氷冷
下ピリジン（６０ml）および無水酢酸（５０ml）を加え
て、室温で一晩ついで１００℃に加熱して2.５時間攪拌
を行なった。室温に冷却した反応混合物を氷水（５００
ml）中にあけ、一晩放置後クロロホルムで抽出した。有
機層を１Ｍ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減
圧下溶媒を留去した。得られたシラップをシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（クロロホルム−酢酸エチル−
２−プロパノール：５０：５０：３→５０：５０：５）
で精製して化合物２（5.０ｇ、５３％）が得られた。 〔α〕24 D ＋１０７°（ C 0.15,クロロホルム) IR(KBr); 2950, 1750, 1370, 1230, 1040cm -1 NMR (CDCl3, δ); 7.33-7.43 (m, 5H, Ph), 5.49 (s, 1
H, PhCＨ）, 5.04-5.55(m, 16H, 8xH-1,3), 4.92 (dd,
1H, J 4.0, 8.3Hz, H-2), 4.88 (dd, 1H, J 3.7, 10.0H
z, H-2), 4.86 (dd, 1H, J 3.7 10.1Hz, H-2), 4.83 (d
d, 1H,J 3.7, 8.9Hz, H-2), 4.78 (dd, 1H, J 4.0 9.5H
z, H-2), 4.76 (dd, 1H, J 4.0, 10.0Hz, H-2), 4.73
(dd, 1H, J 3.4, 9.8Hz, H-2), 4.69 (dd, 1H, J 3.6,
10.3Hz, H-2), 2.02-2.16 (m, 66H, 22xOAc) 元素分析：測定値；C,51.29; H, 5.59 C103H134O65 として計算値；C, 51.29; H, 5.60. 実施例２ 化合物２→化合物３ ６1 −Ｏ−（２，３−ジ−Ｏ−アセチル−４，６−ジ−
Ｏ−メタンスルホニル−α−Ｄ−グルコピラノシル）−
２1 ，２2 ，２3 ，２4 ，２5 ，２6 ，２7 ，３1 ，３
2 ，３3 ，３4 ，３5 ，３6 ，３7 ，６2 ，６3 ，
６4 ，６5 ，６6 ，６7 −イコサ−Ｏ−アセチルシクロ
マルトヘプタオース（３） 化合物２（2.６０ｇ、1.１２mmol）を８０％含水酢酸に
とかし、８０℃で４時間加熱攪拌を行なった。溶媒を減
圧下留去し、さらにトルエンを加えて、残留溶媒を共沸
除去した。残渣をピリジン（５０ml）に溶解し、氷冷下
塩化メタンスルホニル（２ml）を少量ずつ加えた。反応
混合物を室温で一晩攪拌したのち、氷水中にあけクロロ
ホルムで抽出した。抽出液を１Ｍ塩酸、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、および飽和食塩水で順次洗浄、無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られ
たシラップをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ク
ロロホルム−メタノール ９８：２→９６：４）で精製
してガラス状の化合物３（2.３５ｇ、８５％）が得られ
た。 〔α〕24 D ＋１１７°（ C 0.28,クロロホルム) IR(KBr); 2950, 1750, 1370, 1230, 1170, 1040cm -1 NMR (CDCl3, δ); 5.49 (t, 1H, J 9.27Hz, H-4), 5.04
-5.40 (m, 16H, 8xH-1,3), 4.68-4.90 (m, 8H, 8xH-2),
3.10 (s,3H, OMs), 3.08 (s, 3H, OMs), 2.00-2.14
(m, 66H, 22xOAc). 元素分析：測定値；C,47.12; H, 5.49; S,2.92. C98H134O69S2・H2O として計算値；C, 47.12; H, 5.49;
S, 2.57. 実施例３ 化合物３→化合物４ ６1 −Ｏ−（２，３−ジ−Ｏ−アセチル−４，６−ジ−
Ｏ−ベンゾイル）−２ 1 ，２2 ，２3 ，２4 ，２5 ，２
6 ，２7 ，３1 ，３2 ，３3 ，３4 ，３5 ，３ 6 ，
３7 ，６2 ，６3 ，６4 ，６5 ，６6 ，６7 −イコサ−
Ｏ−アセチルシクロマルトヘプタオース（４） 化合物３（1.０ｇ、0.４mmol）をＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（４０ml）に溶解し、安息香酸ナトリウム（0.
７ｇ）を加えて１２０−１３０℃で３６時間加熱攪拌を
行なった。減圧下溶媒を留去し、残渣にジクロロメタン
−水を加えて溶解した。分離した有機層を２、３回水洗
したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、さらに減圧濃
縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（ベンゼン−テトラヒドロフラン；３：１→２：１）
で精製して化合物４（0.７４ｇ、７３％）が得られた。 〔α〕24 D ＋１０８°（C 0.24,クロロホルム) IR(KBr); 2950, 1750, 1275, 1240, 1040cm -1 NMR (CDCl3, δ); 7.30-7.60, 7.98-8.09(m, 10H, 2xP
h) 5.89 (d, 1H, J 3.0Hz, H-4 （ガラクトース))，5.0
3-5.50 (m, 16H, 8xH-1.3), 4.70-4.90 (m, 8H,8xH-2)
1.94-2.12 (m, 66H, 22xOAC) 元素分析：測定値；C,52.33; H, 5.54 C110H138O67 としての計算値；C, 52.18; H, 5.49. 実施例５ 化合物４→化合物（Ｉ） ６1 −Ｏ−（α−Ｄ−ガラクトピラノシル）シクロマル
トヘプタオース（５）−化合物４（３００mg、0.１２mm
ol）をメタノール（５ml）−１Ｍナトリウムメトキシド
メタノール溶液（0.２ml）に溶解し室温で１日間攪拌を
行なった。生じた沈殿を濾過し、メタノールで洗浄し
て、化合物（Ｉ）の白色粉末を得た（１４５mg、９３
％）。 m.p;２７０℃（分解） 〔α〕24 D ＋１５０°（C 0.96,水） NMR (CDCl3, δ); 5.00 (m, 7H, 7xH-1), 4.91 (d, 1H,
J 3.7Hz, H-1) 元素分析：測定値；C,41.81; H, 6.08 C48H80O40 ・4H2O として計算値；C, 42.11; H, 6.48.
態様を詳細に説明する。本発明の範囲は、この実施例に
限定されるものではない。 実施例１ 化合物１→化合物２ ６1 −Ｏ−（２，３−ジ−Ｏ−アセチル−４，６−Ｏ−
ベンジリデン−α−Ｄ−グルコピラノシル）−２1 ，２
2 ，２3 ，２4 ，２5 ，２6 ，２7 ，３1 ，３ 2 ，
３3 ，３4 ，３5 ，３6 ，３7 ，６2 ，６3 ，６4 ，６
5 ，６6 ，６7 −イコサ−Ｏ−アセチルシクロマルトヘ
プタオース（２） ６A −Ｏ−（α−Ｄ−グリコピラノシル）−シクロマル
トヘプタオース（１） （5.０ｇ、3.９mmol）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
（１００ml）に溶解し、α，α−ジメトキシトルエン
（１ml，6.６mmol）およびｄ−１０−カンファースルホ
ン酸（１ｇ）を加えた。この溶液を、約２０mmHgに減圧
下、６０−７０℃で６時間加熱攪拌した。さらに、氷冷
下ピリジン（６０ml）および無水酢酸（５０ml）を加え
て、室温で一晩ついで１００℃に加熱して2.５時間攪拌
を行なった。室温に冷却した反応混合物を氷水（５００
ml）中にあけ、一晩放置後クロロホルムで抽出した。有
機層を１Ｍ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減
圧下溶媒を留去した。得られたシラップをシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（クロロホルム−酢酸エチル−
２−プロパノール：５０：５０：３→５０：５０：５）
で精製して化合物２（5.０ｇ、５３％）が得られた。 〔α〕24 D ＋１０７°（ C 0.15,クロロホルム) IR(KBr); 2950, 1750, 1370, 1230, 1040cm -1 NMR (CDCl3, δ); 7.33-7.43 (m, 5H, Ph), 5.49 (s, 1
H, PhCＨ）, 5.04-5.55(m, 16H, 8xH-1,3), 4.92 (dd,
1H, J 4.0, 8.3Hz, H-2), 4.88 (dd, 1H, J 3.7, 10.0H
z, H-2), 4.86 (dd, 1H, J 3.7 10.1Hz, H-2), 4.83 (d
d, 1H,J 3.7, 8.9Hz, H-2), 4.78 (dd, 1H, J 4.0 9.5H
z, H-2), 4.76 (dd, 1H, J 4.0, 10.0Hz, H-2), 4.73
(dd, 1H, J 3.4, 9.8Hz, H-2), 4.69 (dd, 1H, J 3.6,
10.3Hz, H-2), 2.02-2.16 (m, 66H, 22xOAc) 元素分析：測定値；C,51.29; H, 5.59 C103H134O65 として計算値；C, 51.29; H, 5.60. 実施例２ 化合物２→化合物３ ６1 −Ｏ−（２，３−ジ−Ｏ−アセチル−４，６−ジ−
Ｏ−メタンスルホニル−α−Ｄ−グルコピラノシル）−
２1 ，２2 ，２3 ，２4 ，２5 ，２6 ，２7 ，３1 ，３
2 ，３3 ，３4 ，３5 ，３6 ，３7 ，６2 ，６3 ，
６4 ，６5 ，６6 ，６7 −イコサ−Ｏ−アセチルシクロ
マルトヘプタオース（３） 化合物２（2.６０ｇ、1.１２mmol）を８０％含水酢酸に
とかし、８０℃で４時間加熱攪拌を行なった。溶媒を減
圧下留去し、さらにトルエンを加えて、残留溶媒を共沸
除去した。残渣をピリジン（５０ml）に溶解し、氷冷下
塩化メタンスルホニル（２ml）を少量ずつ加えた。反応
混合物を室温で一晩攪拌したのち、氷水中にあけクロロ
ホルムで抽出した。抽出液を１Ｍ塩酸、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液、および飽和食塩水で順次洗浄、無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られ
たシラップをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ク
ロロホルム−メタノール ９８：２→９６：４）で精製
してガラス状の化合物３（2.３５ｇ、８５％）が得られ
た。 〔α〕24 D ＋１１７°（ C 0.28,クロロホルム) IR(KBr); 2950, 1750, 1370, 1230, 1170, 1040cm -1 NMR (CDCl3, δ); 5.49 (t, 1H, J 9.27Hz, H-4), 5.04
-5.40 (m, 16H, 8xH-1,3), 4.68-4.90 (m, 8H, 8xH-2),
3.10 (s,3H, OMs), 3.08 (s, 3H, OMs), 2.00-2.14
(m, 66H, 22xOAc). 元素分析：測定値；C,47.12; H, 5.49; S,2.92. C98H134O69S2・H2O として計算値；C, 47.12; H, 5.49;
S, 2.57. 実施例３ 化合物３→化合物４ ６1 −Ｏ−（２，３−ジ−Ｏ−アセチル−４，６−ジ−
Ｏ−ベンゾイル）−２ 1 ，２2 ，２3 ，２4 ，２5 ，２
6 ，２7 ，３1 ，３2 ，３3 ，３4 ，３5 ，３ 6 ，
３7 ，６2 ，６3 ，６4 ，６5 ，６6 ，６7 −イコサ−
Ｏ−アセチルシクロマルトヘプタオース（４） 化合物３（1.０ｇ、0.４mmol）をＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（４０ml）に溶解し、安息香酸ナトリウム（0.
７ｇ）を加えて１２０−１３０℃で３６時間加熱攪拌を
行なった。減圧下溶媒を留去し、残渣にジクロロメタン
−水を加えて溶解した。分離した有機層を２、３回水洗
したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、さらに減圧濃
縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（ベンゼン−テトラヒドロフラン；３：１→２：１）
で精製して化合物４（0.７４ｇ、７３％）が得られた。 〔α〕24 D ＋１０８°（C 0.24,クロロホルム) IR(KBr); 2950, 1750, 1275, 1240, 1040cm -1 NMR (CDCl3, δ); 7.30-7.60, 7.98-8.09(m, 10H, 2xP
h) 5.89 (d, 1H, J 3.0Hz, H-4 （ガラクトース))，5.0
3-5.50 (m, 16H, 8xH-1.3), 4.70-4.90 (m, 8H,8xH-2)
1.94-2.12 (m, 66H, 22xOAC) 元素分析：測定値；C,52.33; H, 5.54 C110H138O67 としての計算値；C, 52.18; H, 5.49. 実施例５ 化合物４→化合物（Ｉ） ６1 −Ｏ−（α−Ｄ−ガラクトピラノシル）シクロマル
トヘプタオース（５）−化合物４（３００mg、0.１２mm
ol）をメタノール（５ml）−１Ｍナトリウムメトキシド
メタノール溶液（0.２ml）に溶解し室温で１日間攪拌を
行なった。生じた沈殿を濾過し、メタノールで洗浄し
て、化合物（Ｉ）の白色粉末を得た（１４５mg、９３
％）。 m.p;２７０℃（分解） 〔α〕24 D ＋１５０°（C 0.96,水） NMR (CDCl3, δ); 5.00 (m, 7H, 7xH-1), 4.91 (d, 1H,
J 3.7Hz, H-1) 元素分析：測定値；C,41.81; H, 6.08 C48H80O40 ・4H2O として計算値；C, 42.11; H, 6.48.
【００１３】
【発明の効果】本発明の（ガラクトピラノシル）シクロ
マルトヘプタオースは、サイクロデキストリンの包接機
能とガラクストースレセプターに対する親和性を併せも
ち、ドラッグデリバリーシステムの構築等に有用であ
る。また、（グルコピラノシル）シクロマルトヘプタオ
ースを出発原料にして（ガラクピラノシル）シクロマル
トヘプタオースを製造する本発明の方法は、分枝サイク
ロデキストリンを化学修飾し、新規包接剤を合成するの
に有用である。
マルトヘプタオースは、サイクロデキストリンの包接機
能とガラクストースレセプターに対する親和性を併せも
ち、ドラッグデリバリーシステムの構築等に有用であ
る。また、（グルコピラノシル）シクロマルトヘプタオ
ースを出発原料にして（ガラクピラノシル）シクロマル
トヘプタオースを製造する本発明の方法は、分枝サイク
ロデキストリンを化学修飾し、新規包接剤を合成するの
に有用である。
Claims (5)
- 【請求項１】 以下の式： 【化１】 で示される（ガラクトピラノシル）シクロマルトヘプタ
オース。 - 【請求項２】 （グルコピラノシル）シクロマルトヘプ
タオースの分枝したグルコピラノシル基の４位及び６位
の水酸基を選択的に保護し、該４位水酸基の立体配置を
反転させることを特徴とする請求項１記載の（ガラクト
ピラノシル）シクロマルトヘプタオースの製造方法。 - 【請求項３】 以下の式： 【化２】 （式中、 Rは独立に水素原子、アシル基、又はアルキル
基を示し、R1は水素原子又はアルキル基を示し、R2はア
ルキル基、置換基を有することもあるアリール基、また
はR1とともに-(CH2)n - （ｎは４ないし６の整数を示
す）を示す）で示される、請求項１記載の（ガラクトピ
ラノシル）シクロマルトヘプタオースの製造中間体。 - 【請求項４】 以下の式： 【化３】 （式中、 Rは独立に水素原子、アシル基、又はアルキル
基を示し、R3は独立にアルキル基、ハロゲン化アルキル
基、または置換基を有することもあるアリール基を示
す）で示される、請求項１記載の（ガラクトピラノシ
ル）シクロマルトヘプタオースの製造中間体。 - 【請求項５】 以下の式： 【化４】 （式中、 Rは独立に水素原子、アシル基、又はアルキル
基を示し、R4は独立にアルキル基または置換基を有する
こともあるアリール基を示す）で示される、請求項１記
載の（ガラクトピラノシル）シクロマルトヘプタオース
の製造中間体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20771091A JPH0543603A (ja) | 1991-08-20 | 1991-08-20 | （ガラクトピラノシル）シクロマルトヘプタオース、その製造方法、及び製造中間体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20771091A JPH0543603A (ja) | 1991-08-20 | 1991-08-20 | （ガラクトピラノシル）シクロマルトヘプタオース、その製造方法、及び製造中間体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0543603A true JPH0543603A (ja) | 1993-02-23 |
Family
ID=16544283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20771091A Pending JPH0543603A (ja) | 1991-08-20 | 1991-08-20 | （ガラクトピラノシル）シクロマルトヘプタオース、その製造方法、及び製造中間体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0543603A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5523218A (en) * | 1992-04-08 | 1996-06-04 | Ensuiko Sugar Refining Co., Ltd. | Method of producing a galactosyl-cyclodextrin |
| FR2839313A1 (fr) * | 2002-05-03 | 2003-11-07 | Chelator | Nouveaux derives de cyclodextrines, leur procede de preparation et leurs applications |
-
1991
- 1991-08-20 JP JP20771091A patent/JPH0543603A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5523218A (en) * | 1992-04-08 | 1996-06-04 | Ensuiko Sugar Refining Co., Ltd. | Method of producing a galactosyl-cyclodextrin |
| US5622844A (en) * | 1992-04-08 | 1997-04-22 | Ensuiko Sugar Refining Co., Ltd. | Method of preparing a mannosyl-cyclodextrin |
| US5623071A (en) * | 1992-04-08 | 1997-04-22 | Ensuiko Sugar Refining Co., Ltd. | Galactosyl and mannosyl cyclodextrins |
| FR2839313A1 (fr) * | 2002-05-03 | 2003-11-07 | Chelator | Nouveaux derives de cyclodextrines, leur procede de preparation et leurs applications |
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