JPH0545592B2 - - Google Patents

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【発明の詳細な説明】 本発明の新規なチオホルムアミド誘導体は、一
般式 （式中、Ｒは水素原子または１〜４個の炭素原子
を有する直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表わ
し、Hetはピリジン−３−イルまたはキノリン−
３−イルを表わし、そしてＹは原子価結合または
メチレン基を表わす） の化合物である。

環のイオウ原子上の酸素原子の存在は、この分
子において非対称を生じ、これは隣接する不斉炭
素原子と関連して、理論的には４種類の可能な立
体異性体に導き、これらの立体異性体は、必要に
応じて、２種類のラセミ体の対に分割することが
でき、これらの対を「Ａ型」すなわち「極性に優
れる型」または「Ｂ型」すなわち「極性に劣る
型」（極性は薄膜クロマトグラフイーにより決定
する）で表示する。これらの型は、それ自体分割
することができる。本発明はすべての立体異性体
の型およびそれらの混合物に関することを、理解
すべきである。

本発明によれば、一般式（）のチオホルムア
ミド誘導体は、アンモニアまたは一般式 Ｒ−NH₂ （） （式中、ＲおよびHetは上に定義したとおりであ
る） のアミンを、一般式 （式中、記号およびHetは上に定義したとおりで
あり、そしてR′は１〜４個の炭素原子を有する
直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基またはベンジル
基またはカルボキシメチル基を表わす） のジチオエステルと反応させ、次いで得られたチ
オホルムアミドを単離し、そして必要に応じて、
立体異性体の型を分割する、ことによつて製造さ
れる。

一般に、この反応は、過剰のアンモニアまたは
一般式（）のアミンを用いて、溶媒の不存在下
に、あるいは有機溶媒たとえば芳香族炭化水素、
低分子量のエーテルまたはアルコール、またはこ
れらの溶媒の混合物中で、20〜130℃の温度にお
いて、必要に応じて過圧下に、実施する。

チオール受容体たとえば塩化第二水銀を用い
て、反応中に生成するチオールを重金属塩の形で
固定することは、とくに有利である。

Ａ型またはＢ型は、得られた混合物の結晶化に
よりあるいはクロマトグラフイーにより、分割す
ることができる。

一般式（）のジチオエステルスルホキシド
は、次の方法によつて得ることができる： (1) 強塩基を一般式 （式中、HetおよびＹは上に定義したとおりで
ある） の複素環式化合物と反応させ、次いで得られた
生成物を二硫化炭素と反応させ、次いで一般式 R′−Ｚ （） （式中、R′は上に定義したとおりであり、そ
してＺはハロゲン原子、好ましくは塩素、臭素
または臭素の原子、あるいは反応性エステル
基、好ましくはメチルオキシまたはトシルオキ
シ基を表わす） の化合物と反応させる。

反応は、一般に、ヘキサメチルホスホルアミ
ドを一般に加えてあるテトラヒドロフランのよ
うなエーテル中で−20℃〜＋50℃の温度におい
て実施する。

強塩基としてtert−ブトキシドを用いること
が、とくに有利である。

このようにして得られた一般式（）の生成
物は異なる立体化学の型のスルホキシド類の混
合物の形であり、それらの相対的百分率は、Ｙ
の性質に従つて変化し；Ｙが原子価結合を表わ
すとき、一般式（）のスルホキシドは、アン
モニアまたは一般式（）のアミンで処理する
とき、一般式（）のチオアミドのＢ型（極性
に劣る型）に導びく型で本質的に存在し；Ｙが
メチレン基を表わすとき、一般式（）のスル
ホキシドは、アンモニアまたは一般式（）の
アミンで処理するとき、一般式（）のチオア
ミドのＡ型（極性に優れる型）に導びく型で本
質的に存在する。

一般式（）の複素環式化合物は、次の方法
の１つによつて製造できる： (a) 一般式 （式中、Hetは上に定義したとおりであり、
ｍは３または４を表わし、そしてＸはハロゲ
ン原子、好ましくは塩素また臭素原子あるい
は反応性エステル基、好ましくはメシルオキ
シまたはトシルオキシ基を表わす） の化合物を環化する。

反応は、一般に、無水有機溶媒、たとえ
ば、テトラヒドロフランまたはヘキサメチル
ホスホルアミド、またはこれらの溶媒の混合
物中に、−20℃〜＋50℃の温度において、有
機塩基、たとえばカリウムtert−ブトキシド
の存在下に実施する。

実施において、一般式（）の生成物から
一般式（）のジチオエステルを、一般式
（）の生成物を単離せずに、製造すること
ができる。この場合において、一般式（）
の生成物を上に示した条件下に環化し、ここ
で少なくとも２当量のカリウムtert−ブトキ
シドを使用し、次いで二硫化炭素と一般式
（）の化合物を上に示した手順後に加える。

一般式（）の化合物は、一般式 Het−CH₂S（CH₂）_nＸ （） （式中、Hetは上に定義したとおりであり、
ｍは３または４を表わし、そしてＸはハロゲ
ン原子、好ましくは塩素または臭素原子、あ
るいは反応性エステル基、好ましくはメシル
オキシまたはトシルオキシ基を表わす） のサルフアイドを酸化することによつて得る
ことができる。

酸化はサルフアイドをスルホキシドに転化
するために普通に使用される化合物の１当量
を用いて実施し、この反応は適当な溶媒中で
実施する。たとえば、過酸化水素をアセトン
または酢酸中で、アルカリ金属過ヨウ素酸塩
を水性有機溶媒たとえば水／エタノールまた
は水／アセトニトリル中で、あるいはペルオ
キシカルボン酸（例、過酢酸、過安息香酸、
ｍ−クロロ過安息香酸、ｐ−ニトロ過安息香
酸または過フタル酸）を塩素化溶媒（例、塩
化メチレンまたはジクロロエタン）中、酢酸
中またはこれらの溶媒の混合物中で、使用で
きる。反応は一般に−10℃〜＋30℃の温度に
おいて実施する。

実施において、ｍ−クロロ過安息香酸を使
用することがとくに有利であり、この反応は
塩化メチレン中で約20℃の温度において実施
する。

式（）のサルフアイドは、欧州特許公開
第0046417（特開昭57−42687号）に記載され
る方法によつて得ることができる。

(b) 一般式 （式中、ＹおよびHetは上に定義したとおり
である） の化合物を酸化する。

この酸化は、一般式（）の生成物の製造
について前述した条件下で実施する。

一般式（）の化合物は、欧州特許公開第
0046417号（特開昭57−42687号）に記載され
ている方法により製造することができる。

(2) 一般式 （式中、記号Het、ＹおよびR′は上に定義した
とおりである） のジチオエステルの酸化による。

一般式（）のジチオエステルの酸化は、一
般式（）の化合物の製造について前述した条
件下で実施できる。

方法(2)によりこのようにして得られた一般式
（）のジチオエステル生成物は、ジアステレオ
イソマーのスルホキシドの混合物の形であり、そ
れらの相対的百分率は記号Ｙ、R′およびHetの性
質に従い50−50および75−25の間で変化する。

前述の方法(1)および(2)により得られた一般式
（）のジチオエステル生成物は、ジアステレオ
イソマーの型の混合物の形で直接、あるいはこれ
らの型の分割後、使用して、一般式（）のチオ
ホルムアミド化合物を製造することができる。こ
れらの生成物のジアステレオイソマーの型の分割
は、分別結晶により、あるいは、好ましくは、ク
ロマトグラフイーにより、実施できる。

一般式（）のジチオエステルは、欧州特許公
開第0046417号（特開昭57−42687号）に記載され
る方法により製造できる。

本発明による新規なチオホルムアミド生成物
は、通常の物理的方法、とくに結晶化およびクロ
マトグラフイーにより精製できる。

欧州公開特許第0046417号（特開昭57−42687
号）は、本発明の生成物に相当するサルフアイド
をすでに開示している。従来知られているサルフ
アイドは、抗高血圧剤として活性である。

本発明による新規なチオホルムアミド誘導体
は、先行技術の知識から予測できない改良された
抗高血圧性を有する。

0.02〜50mg／Kg動物体重の適量において、経口
的に投与すると、チオホルムアミド誘導体は
OKAMOTO−AOKI系統の自発的に高血圧性の
ラツト（SHR）において動脈圧力を低下させる。
抗高血圧性生成物の研究のための自発的に高血圧
性のラツトの使用は、J.L.ROBA、Lab.Anim.
Sci.、26、305（1976）に記載されている。

マウスにおける致死投与量（LD₅₀）は、経口
的投与で、一般に300mg／Kg動物体重より多い。

前述のように、イオウ原子上の酸素原子の存在
はこの分子において非対称をつくり、隣接する不
斉炭素原子と関連して、２種のラセミ体の対を形
成する４種の立体異性体に導びき、これらの対は
「Ａ型」すなわち「極性に優れる型」および「Ｂ
型」すなわち「極性に劣る型」で表示される。

一般に、極性に優れる型である一般式（）の
生成物はとくに価値がある。

極性に優れる型の一般式（）のこれらの生成
物のうちで、とくに価値あるものは、記号Ｒが１
〜３個の炭素原子を有するアルキル基を表わし、
Hetがピリジン−３−イルまたはキノリン−３−
イル基を表わし、そしてＹがメチレン基を表わす
ものである。

よりとくに価値があるものは、記号Ｒがメチル
またはエチル基を表わし、Hetがピリジン−３−
イルまたはキノリン−３−イル基を表わし、そし
てＹがメチレン基を表わすものである。

次の生成物は、著しく興味があるものである：
Ｎ−メチル−２−（ピリジン−３−イル）テトラ
ヒドロチオピラン−２−カルボチオアミド１−オ
キシド、Ａ型（極性に優れる型）、 Ｎ−エチル−２−（ピリジン−３−イル）テト
ラヒドロチオピラン−２−カルボチオアミド１−
オキシド、Ａ型（極性に優れる型）、 Ｎ−メチル−２−（キノリン−３−イル）テト
ラヒドロチオピラン−２−カルボチオアミド１−
オキシド、Ａ型（極性に優れる型）、および Ｎ−メチル−２−（ピリジン−３−イル）テト
ラヒドロチオフエン−２−カルボチオアミド１−
オキシド、Ａ型（極性に優れる型）。

次の実施例により、本発明を説明する。

実施例 １ エタノール（10.2c.c.）中のメチルアミンの33％
（重量／容量）の溶液を、５分間にわたり、25〜
30℃に保持したエタノール（150c.c.）中のメチル
２−（ピリジン−３−イル）テトラヒドロチオピ
ラン−２−カーボジチオエート１−オキシド（単
一の立体異性体の型；10.2ｇ）の溶液に加える。
次いでこの溶液を約22℃の温度において１時間35
分間かきまぜ、次いでエタノール（1.5c.c.）中の
メチルアミンの33％（重量／容量）の溶液の追加
量を加える。同じ温度で１時間さらにかきまぜた
液、反応混合物を40℃において減圧（25mmHg；
3.4kPa）濃縮乾固する。得られた生成物（9.8ｇ）
を約20℃の温度においてアセトニトリル（15c.c.）
中に溶かし、この溶液を約５℃の温度に１時間保
持する。生ずる結晶を過し、アセトニトリル
（合計10c.c.）で２回洗浄し、20℃で減圧（25mm
Hg；3.4kPa）乾燥する。得られた生成物（3.4
ｇ）を、これに同じ条件下に製造した0.8ｇを加
えた後、沸とうするアセトニトリル（80c.c.）中に
溶解する；この溶液を脱色炭（0.1ｇ）で処理し、
熱時過し、次いで液を約５℃の温度に２時間
冷却する。得られた結晶を過し、アセトニトリ
ル（合計10c.c.）で２回洗浄し、60℃で減圧（１mm
Hg；0.13kPa）乾燥する。これにより、Ｎ−メ
チル−２−（ピリジン−３−イル）テトラヒドロ
チオピラン−２−カルボチオアミド１−オキシド
のＡ型、融点228℃、が得られる〔Rf＝0.22（シリ
カゲルの薄層クロマトグラフイー；溶媒：酢酸エ
チル／メタノール（80／20容量）〕。

メチル２−（ピリジン−３−イル）テトラヒド
ロピラン−２−カルボチオエート１−オキシド
（単一の立体異性体の型）は、次の方法で製造で
きる： 無水テトラヒドロフラン（90c.c.）中の３−（４
−クロロブチル）スルフイニルメチルピリジン
（16.7ｇ）の溶液を、20分間にわたり、無水テト
ラヒドロフラン（90c.c.）と無水ヘキサメチルホス
ホルアミド（19c.c.）との混合物中のカリウムtert
−ブトキシド（16.2ｇ）の溶液へ滴々加え、温度
を12℃以下に保つ。約10℃の温度で30分間かきま
ぜた後、無水テトラヒドロフラン（15c.c.）中の二
硫化炭素（16.5ｇ）の溶液を、同じ温度において
５分間滴々加える。この混合物を10分間かきま
ぜ、次いで無水テトラヒドロフラン（15c.c.）中の
ヨウ化メチル（30.8ｇ）を加える。次いでこの反
応混合物を30分間かきまぜ、温度を約20℃に徐々
に上昇させる。蒸留水（500c.c.）を加えた後、酢
酸エチル（合計450c.c.）で４回抽出する。有機抽
出液を合わせ、蒸留水（合計600c.c.）で４回洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、40℃で減圧
（25mmHg；3.4kPa）濃縮乾燥する。得られた生
成物（12.6ｇ）を直径3.7cmのカラム中に含有さ
れる中性シリカゲル（130ｇ）のクロマトグラフ
イーに付す。溶離は増大する比率で酢酸エチルを
含有するシクロヘキサンおよび酢酸エチルとの混
合物を用いて実施して、期待する生成物より極性
に劣る不純物を除去する〔Rf＝0.39；シリカゲル
の薄層クロマトグラフイー；溶媒：酢酸エチル／
メタノール（80／20容量）〕。次いで純粋な酢酸エ
チルで溶離を実施し、14の分画300c.c.を集める；
これらを合わせ、40℃で減圧（25mmHg；
3.4kPa）濃縮乾固する。

これにより、メチル２−（ピリジン−３−イル）
テトラヒドロチオピラン−２−カルボジチオオエ
ート１−オキシド（単一の立体異性体の型；4.4
ｇ）、融点150℃、が得られる。

３−（４−クロロブチル）スルフイニルメチル
ピリジンは、次の方法で製造することができる： 塩化メチレン（900c.c.）中の85％の純度のｍ−
クロロ安息香酸（107ｇ）を、塩化メチレン（900
c.c.）中の４−クロロブチルピリジン−３−イル−
メチルサルフアイド（103ｇ）の溶液に、約20℃
の温度において１時間30分間かけて、滴々加え
る。同じ温度で17時間かきまぜた後、重炭酸ナト
リウムの10重量％の水溶液（３）をゆつくり加
える。有機溶液をデカントし、次いで重炭酸ナト
リウムの10％溶液（１）を加える。水相を合わ
せ、塩化メチレン（500c.c.）で抽出する。有機相
を合わせ、蒸留水（合計２）で２回洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、35℃において減圧
（25mmHg；3.4kPa）濃縮乾固する。得られた生
成物（87ｇ）を、直径4.7cmのカラム中に含有さ
れる中性シリカゲル（400ｇ）のクロマトグラフ
イーに付す。溶離を塩化メチレン（10）で実施
し、３つの１の分画、10の100c.c.の分画および
12の500c.c.の分画および12の500c.c.の分画を順次に
集める。分画11〜25を合わせ、35℃で減圧（25mm
Hg；3.4kPa）濃縮乾固すると、３−（４−クロ
ロブチル）スルフイニルメチルピリジン（25.4
ｇ）がオレンジ色油の形で得られる〔Rf＝0.22；
シリカゲルの薄層クロマトグラフイー；溶媒：酢
酸エチル／メタノール（80／20容量）〕。

実施例 ２ エチルアミン（34ｇ）を、20〜25℃に保持し
た、エタノール（120c.c.）中のエチル２−（ピリジ
ン−３−イル）テトラヒドロチオピラン−２−カ
ルボジチオエート１−オキシド（10.7ｇ）の溶液
に、５分間かけて滴々加える。次いでこの溶液を
同じ温度で１時間30分間かきまぜ、次いで50℃で
減圧（20mmHg；2.7kPa）濃縮乾固する。得られ
た生成物（12ｇ）を、直径４cmのカラム中に含有
される中性シリカゲル（0.040〜0.063mm；145ｇ）
のクロマトグラフイーに、40kPaの圧力下に付
す。分画16〜33を合わせ、40℃で減圧（20mm
Hg；2.7kPa）濃縮乾固する。得られた生成物
（４ｇ）をメチルエチルケトン（９c.c.）とジイソ
プロピルエーテル（２c.c.）との沸とうする混合物
中に溶解する；この溶液を約０℃に２時間保持す
る。生ずる結晶を過し、メチルエチルケトン
（３c.c.）およびジイソプロピルエーテル（0.5c.c.）
で洗浄し、約20℃の温度において減圧（20mm
Hg；2.7kPa）乾燥する。得られた生成物（2.6
ｇ）に、前の実施例で同じ条件下に製造した1.2
ｇを加え、沸とうするメチルエチルケトン（25
c.c.）中に溶かし、この溶液を脱色炭（0.2ｇ）で
処理し、熱時過し、液を冷却し、約０℃に１
時間30分間保持する。生ずる結晶を過し、メチ
ルエチルケトン（６c.c.）で洗浄し、60℃で減圧
（１mmHg；0.13kPa）乾燥する。これにより、Ｎ
−エチル−２−（ピリジン−３−イル）テトラヒ
ドロチオピラン−２−カルボジアミド１−オキシ
ドのＡ型（３ｇ）、融点、初め約169℃、次いで再
固化後183℃、が得られる〔Rf＝0.30；シリカゲ
ルの薄層クロマトグラフイー；溶媒：酢酸エチ
ル／メタノール（80／20容量）〕が得られる。

実施例 ３ 実施例２の手順に従うが、プロピルアミンを出
発物質として使用すると、Ｎ−プロピル−２−
（ピリジン−３−イル）テトラヒドロチオピラン
−２−カルボチオアミド１−オキシド、融点184
℃、が得られる〔Rf＝0.34；シリカゲルの薄層ク
ロマトグラフイー；溶媒；酢酸エチル／メタノー
ル（80／20容量）〕。

実施例 ４ 実施例２の手順に従うが、イソプロピルアミン
を出発物質として使用すると、Ｎ−イソプロピル
−２−（ピリジン−３−イル）テトラヒドロチオ
ピラン−２−カルボチオアミド１−オキシド、融
点209℃、が得られる〔Rf＝0.36；シリカゲルの
薄層クロマトグラフイー；溶媒；酢酸エチル／メ
タノール（80／20容量）〕。

実施例 ５ エタノール（55c.c.）中のメチルアミンの33％
（重量／容量）溶液を、約20℃の温度に保持され
た、エタノール（160c.c.）中のメチル２−（キノリ
ン−３−イル）テトラヒドロチオピラン−２−カ
ルボジチオエート１−オキシド（7.7ｇ）の溶液
に、25分間かけて滴々加える。次いで溶液を同じ
温度で15時間かきまぜる。生ずる結晶を過し、
エタノール（10c.c.）で洗浄し、次いでジイソプロ
ピルエーテル（合計45c.c.）で３回洗浄し、50℃で
減圧（0.2mmHg；0.027kPa）乾燥する。得られた
生成物（3.8ｇ）に、他の前の実施において同じ
条件下に製造した0.95ｇを加えた後、沸とうメタ
ノール（600c.c.）中に溶解し、この溶液を脱色炭
（４ｇ）を加え、熱時過し、液を冷却し、次
いで約５℃の温度に15時間保持する。生ずる固体
を過し、メタノール（合計80c.c.）で４回洗浄
し、約60℃の温度で減圧（0.2mmHg；0.027kPa）
乾燥する。これにより、Ｎ−メチル−２−（キノ
リン−３−イル）テトラヒドロチオピラン−２−
カルボチオアミド１−オキシド（4.3ｇ）、融点
280℃、が得られる〔Rf＝0.38；シリカゲルの薄
層クロマトグラフイー；溶媒：酢酸エチル／メタ
ノール（80／20容量）〕。

メチル２−（キノリン−３−イル）テトラヒド
ロチオピラン−２−カルボジチオエート１−オキ
シドは、次の方法で得られる： 無水テトラヒドロフラン（280c.c.）中の２−（キ
ノリン−３−イル）テトラヒドロチオピラン１−
オキシド（34.5ｇ）の懸濁液を、無水テトラヒド
ロフラン（800c.c.）中のカリウムtert−ブトキシ
ド（34.9ｇ）の溶液に、約20℃の温度において45
分間かけて、滴々加える。次いでこの混合物を同
じ温度において１時間かきまぜ、次いで無水テト
ラヒドロフラン（60c.c.）中の二硫化炭素（27ｇ）
の溶液を、−４℃の温度において15分間かけて、
滴々加える。30分間かきまぜた後、無水テトラヒ
ドロフラン（60c.c.）中のヨウ化メチル（51ｇ）の
溶液を、同じ温度において15分間かけて、滴々加
える。次いでこの混合物を30分間かきまぜ、温度
を徐々に12℃に上げる。生ずる固体を過し、塩
化メチレン（200c.c.）で洗浄し、廃棄する。液
および洗液を合わせ、45℃で減圧（25mmHg；
3.4kPa）濃縮乾固する。得られた生成物を塩化
メチレン（250c.c.）中に溶解する；この溶液を蒸
留水（150c.c.）で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、直径７cmのカラム中に含有された中性
シリカゲル（0.063〜0.200mm；770ｇ）上へ注ぐ。
このカラムを塩化メチレンと酢酸エチルとの混合
物（50／50容量；13）で溶離し、1000c.c.の分画
を集める。分画９〜13を合わせ、40℃で減圧（20
mmHg；2.7kPa）濃縮乾固する。これにより、メ
チル−２−（キノリン−３−イル）テトラヒドロ
チオピラン−２−カルボジチオエート１−オキシ
ド（7.85ｇ）、融点210℃、が得られる〔Rf＝
0.39；シリカゲルのクロマトグラフイー；溶媒：
酢酸エチル〕。

２−（キノリン−３−イル）テトラヒドロチオ
ピラン１−オキシドは、次の方法で得ることがで
きる： 無水テトラヒドロフラン（450c.c.）中の３−（４
−クロロブチル）スルフイニルメチルキノリン
（58.4ｇ）の溶液を、無水テトラヒドロフラン
（200c.c.）中のカリウムtert−ブトキシド（44.8ｇ）
の溶液に、約０℃の温度で１時間15分間にわたつ
て、滴々加える。次いでこの混合物を16時間かき
まぜ、温度を18℃に上げ、次いで酢酸（15c.c.）
を、２〜10℃の温度において15分間にわたり、
滴々加える。生ずる固体を過し、塩化メチレン
（合計360c.c.）で２回洗浄し、廃棄する。液と洗
液を合わせ、45℃で減圧（20mmHg；2.7kPa）濃
縮する。得られた生成物（51ｇ）を、直径6.8cm
のカラム中に含有される中性シリカ（0.063〜
0.200mm；185ｇ）のクロマトグラフイーに付す。
このカラムを塩化メチレン（200c.c.）で、次いで
酢酸エチル（2200c.c.）で、最後に酢酸エチレンと
メタノールとの混合物（90／10容量；1600c.c.）で
溶離し、40の100c.c.の分画が集められる。分画25
〜40を合わせ、45℃で減圧（20mmHg；2.7kPa）
濃縮乾固する。これにより、２−（キノリン−３
−イル）テトラヒドロチオピラン１−オキシドの
２種の型の混合物（35.8ｇ）、融点152℃〜154℃、
が得られる〔Rf＝0.09および0.17；シリカゲルの
薄層クラマトグラフイー；溶媒：酢酸エチル〕。

３−（４−クロロブチル）スルフイニルメチル
キノリンは、次の方法で製造することができる： 塩化メチレン（450c.c.）中の82.5％純度のｍ−
クロロ過安息香酸（44.4ｇ）の溶液を、塩化メチ
レン（1160c.c.）中の４−クロロブチルキノリン−
３−イルメチルサルフアイド）（54.8ｇ）の溶液
に、約20℃の温度で１時間15分間かけて、滴々加
える。同じ温度で18時間かきまぜた後、重炭酸ナ
トリウムの８％（重量／容量）の水溶液（5600
c.c.）をゆつくり加える。有機溶液をデカントし、
重炭酸ナトリウムの８％の水溶液で洗浄し、次い
で蒸留水（合計300c.c.）で２回洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、45℃で減圧（20mmHg：
2.7kPa）濃縮乾燥する。これにより、３−（４−
クロロブチル）スルフイニルメチルキノリン
（58.1ｇ）、融点103℃、が得られる。

４−クロロブチルキノリン−３−イルメチルサ
ルフアイドは、次の方法で製造できる： 水酸化ナトリウム10N水溶液を、約０℃の温度
に保持した。蒸留水（200c.c.）中の２−（キノリン
−３−イルメチル）イソチオ尿素二塩酸塩（87
ｇ）の溶液に、12分間かけて、加える。約70℃の
温度に20分間加熱し、次いで12℃に冷却し、塩化
トリエチルベンジルアンモニウム（３ｇ）および
塩化メチレン（125c.c.）を加え、次いで１−ブロ
モ−４−クロロブタン（51.5ｇ）を約４℃の温度
で滴々加え、かきまぜを約20℃の温度で16時間続
ける。有機相をデカンテーシヨンにより分離し、
水相を塩化メチレン（合計100c.c.）で２回抽出す
る。有機抽出液を合わせ、蒸留水（合計100c.c.）
で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
直径4.2cmのカラム中に含有される中性シリカゲ
ル（0.063〜0.200mm；230ｇ）上へ注ぐ。このカ
ラムで塩化メチレン（1380c.c.）で溶離し、１つの
220c.c.の分画が集められ、これを廃棄し、そして
１つの1160c.c.の分画が集められ、これは４−クロ
ロブチルキノリン−３−イルメチルサルフアイド
（54.8ｇ；過塩素酸を含む溶液の定量により決定
された重量）を含有しかつ生成物を単離せずに合
成の残部においてこれを使用する〔Rf＝0.65；シ
リカゲルの薄層クロマトグラフイー；溶媒：酢酸
エチル。〕 ２−（キノリン−３−イルメチル）イソチオ尿
素二塩酸塩は、欧州特許公開第0046417号（特開
昭57−42687号）に記載されているように製造で
きる。

実施例 ６ エタノール（２c.c.）中のメチルアミンの33％
（重量／容量）を、エタノール（２c.c.）中のメチ
ル２−（ピリジン−３−イル）テトラヒドロチオ
ピラン−２−カルボジチオエート１−オキシド
〔極性に劣る型；Rf＝0.13；シリカゲルの薄層ク
ラマトグラフイー；溶媒：酢酸エチル〕（0.35ｇ）
の溶液に、約20℃の温度において５分間かけて、
滴々加える。同じ温度において２時間かきまぜた
後、反応混合物を30℃で減圧（20mmHg；
2.7kPa）濃縮乾固する。得られた生成物（0.28
ｇ）を、直径２cmのカラム中に含有された中性シ
リカゲル（0.040〜0.063mm；35ｇ）のクロマトグ
ラフイーに、40kPaの圧力下に付す。溶離を順次
に塩化メチレン（100c.c.）、酢酸エチル（100c.c.）
および酢酸エチルとメタノールとの混合物（90／
10容量；100c.c.）で実施し、12の20c.c.の分画を集
める。分画６〜11を合わせ、40℃で減圧（20mm
Hg；2.7kPa）濃縮乾固する。これにより、Ｎ−
メチル−２−（ピリジン−３−イル）テトラヒド
ロチオピラン−２−カルボチオアミド１−オキシ
ド（0.22ｇ）の粗製Ｂ型、すなわち、極性に劣る
型〔Rf＝0.48；シリカゲルの薄層クロマトグラフ
イー；溶媒：酢酸エチル／メタノール（80／20容
量）〕が得られる。

メチル−２−（ピリジン−３−イル）テトラヒ
ドロチオピラン−２−カルボキシチオエート１−
オキシドは、次の方法で製造できる： 塩化メチレン（10c.c.）中の82.5％の純度のｍ−
クロロ過安息香酸の溶液を、塩化メチレン（15
c.c.）中のメチル２−（ピリジン−３−イル）テト
ラヒドロチオピラン−２−カルボジチオエート
（1.6ｇ）の溶液に、約20℃の温度において30分間
かけて、滴々加える。同じ温度で20時間かきま
ぜ、この反応混合物を直径2.6cmのカラム中に含
有される中性シリカゲル（40ｇ）上に注ぐ。次い
でこのカラムを順次に塩化メチレン（300c.c.）、塩
化メチレンと酢酸エチルとの混合物（50／50容
量；400c.c.）および酢酸エチルで溶離し、１つの
300c.c.の分画、１つの400c.c.の分画および39の25c.c.
の分画が順次に集められる。

分画８〜28を合わせ、40℃で減圧（15mmHg；
2kPa）濃縮乾固する。これにより、メチル２−
（ピリジン−３−イル）テトラヒドロチオピラン
−２−カルボジチオエート１−オキシドの極性に
劣る型（0.5ｇ）〔Rf＝0.13；シリカゲルの薄層ク
ロマトグラフイー；溶媒：酢酸エチル〕が得られ
る。

分画30〜41を合わせ、40℃で減圧（15mmHg；
2kPa）濃縮乾固する。これにより、メチル２−
（ピリジン−３−イル）テトラヒドロチオピラン
−２−カルボジチオエート１−オキシドの極性に
優れる型（１ｇ）〔Rf＝0.07；シリカゲルの薄層
クロマトグラフイー；溶媒：酢酸エチル〕が得ら
れ、これは実施例１に記載するように製造された
ジチオエステルと同一である。

メチル２−（ピリジン−３−イル）テトラヒド
ロチオピラン−２−カルボジチオエートは、次の
方法で製造できる： 無水塩化ヘキサメチルホスホルアミドと無水テ
トラヒドロフランとの混合物（47／53容量；30
c.c.）中のジイソプロピルアミン（7.6ｇ）の溶液
を、窒素雰囲気下に保持しかつ−61℃に冷却され
た、ヘキサン（47c.c.）中のｎ−ブチルリチウムの
1.6モル溶液へ、７分間かけて滴々加える。次い
で無水ヘキサメチルホスホルアミドと無水テトラ
ヒドロフランとの混合物（47／53容量；30c.c.）中
の４−クロロブチルピリジン−３−イルメチルサ
ルフアイド（6.45ｇ）の溶液を、10分間かけて加
える。約−60℃の温度で１時間かきまぜた後、無
水ヘキサメチルホスホルアミドと無水テトラヒド
ロフランとの混合物（47／53容量；30c.c.）中の二
硫化炭素（9.1ｇ）の溶液を10分間かけて加える。
同じ温度で10分間かきまぜた後、無水ヘキサメチ
ルホスホルアミドと無水テトラヒドロフランとの
混合物（47／53容量；30c.c.）中のヨウ化メチルの
溶液を10分間かけて加える。次いで反応混合物を
約−60℃の温度で30分間、次いで60分間かきま
ぜ、温度を徐々に10℃に上昇させる。蒸留水
（100c.c.）を添加した後、反応混合物を酢酸エチル
（合計400c.c.）で５回抽出する。有機抽出液を合わ
せ、蒸留水（合計300c.c.）で３回洗浄する。無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、過し、濃縮乾固した
後、かつ色油（15.9ｇ）が得られ、これを3.7cm
のカラム中に含有された中性シリカゲル160ｇの
クロマトグラフイーに付す。シクロヘキサン
（500c.c.）、シクロヘキサンと酢酸エチルとの混合
物（98／２容量；400c.c.）、シクロヘキサンと酢酸
エチルとの混合物（95／５容量；400c.c.）、シクロ
ヘキサンと酢酸エチルとの混合物（92／８容量；
400c.c.）、シクロヘキサンと酢酸エチルとの混合物
（90／10容量；400c.c.）およびシクロヘキサンと酢
酸エチルとの混合物（88／12容量；1000c.c.）を用
いて溶離を実施し、１つの500c.c.の分画、８つの
200c.c.の分画および10の100c.c.の分画を集める。分
画12〜19を合わせ、濃縮乾固する。これにより、
メチル２−（ピリジン−３−イル）テトラヒドロ
チオピラン−２−カルボジチオエート（2.1ｇ）、
融点90℃、が得られる。

実施例 ７ 塩化メチレン（130c.c.）中の82.5％純度のｍ−
クロロ過安息香酸（9.8ｇ）の溶液を、塩化メチ
レン（120c.c.）中のメチル２−ピリジン−３−イ
ル）テトラヒドロチオピラン−２−カルボジチオ
エート（12.5ｇ）の溶液に、約20℃の温度におい
て45分間かけて、滴々加える。同じ温度で21時間
かきまぜ、反応混合物を５cmの直径のカラム中に
含有される中性シリカゲル（0.063〜0.200mm；
375ｇ）上へ注ぎ；次いでこのカラムを順次に塩
化メチレン（１）、酢酸エチル（600c.c.）および
酢酸エチルとメタノールとの混合物（80／20容
量；800c.c.）で溶離し、１つの１の分画および
７つの200c.c.の分画を集める。分画５〜８を合わ
せ、40℃で減圧（15mmHg；2kPa）濃縮する。こ
れにより、メチル２−（ピリジン−３−イル）テ
トラヒドロチオピラン−２−カルボジチオエート
１−オキシド（12.5ｇ）の２種の型の混合物が得
られる。エタノール（35c.c.）中のメチルアミンの
33％（重量／容量）溶液を、エタノール（50c.c.）
中の後者の混合（６ｇ）の溶液に、約20℃の温度
において35分間かけて、滴々加える。同じ温度に
おいて４時間かきまぜた後、反応混合物を45℃で
濃縮乾固する。これにより粗生成物（6.2ｇ）が
得られ、これはシリカゲルの薄層クロマトグラフ
イーにおいて、Rf値＝0.48および0.22に相当する
２つのスポツト〔溶離用溶媒：酢酸メチル／メタ
ノール（80／20容量）〕を与える。２種の対応す
る生成物を、次の方法で分割する： 得られた生成物を塩化メチレン（55c.c.）中に溶
かし、この溶液を直径2.6cmのカラム中に含有さ
れる中性シリカゲル（0.040〜0.063mm；100ｇ）
上へ注ぐ。このカラムを酢酸エチル（480c.c.）で
40kPaの圧力下に溶離し、６つの80c.c.の分画が集
められる。分画４〜６を合わせ、40℃で減圧（15
mmHg；2kPa）濃縮乾固する。得られた生成物
（1.1ｇ）を、これの前の実施において同じ条件下
に製造した1.7ｇを加えた後、塩化メチレン（25
c.c.）中に溶かし、この溶液を脱色炭（0.5ｇ）で
処理し、過し、液を塩化メチレン（合計15
c.c.）で３回で洗浄し、シクロヘキサン（125c.c.）
を加え、この混合物を約５℃の温度に15時間保持
する。生ずる結晶を過し、シクロヘキサンで
（合計50c.c.）洗浄し、50℃で減圧（0.1mmHg；
0.013kPa）乾燥する。これにより、Ｎ−メチル
−２−（ピリジン−３−イル）テトラヒドロチオ
ピラン−２−カルボチオアミド１−オキシドのＢ
型、すなわち、極性に劣る型（1.9ｇ）、融点154
℃〔Rf＝0.48；シリカゲルの薄層クロマトグラフ
イー；溶媒：酢酸エチル／メタノール（80／20容
量）〕が得られる。

クロマトグラフイーを続けることにより、Ａ
型、すなわち、極性に優れる型〔Rf＝0.22；シリ
カゲルの薄層クラマトグラフイー；溶媒：酢酸エ
チル／メタノール（80／20容量）〕融点228℃、を
得ることが可能である。

実施例 ８ 塩化第二水銀（2.7ｇ）および蒸留水（５c.c.）
を、エタノール（25c.c.）中のメチル２−（ピリジ
ン−３−イル）テトラヒドロチオフエン−２−カ
ルボジチオエート１−オキシド（２種の立体異性
体の型）（2.7ｇ）の溶液に加え、次いでエタノー
ル（５c.c.）中のメチルアミンの33％（重量／容
量）溶液を、約15℃の温度において10分間、滴々
加える。この混合物を同じ温度で30分間かきま
ぜ、エタノール（３c.c.）中のメチルアミンの水溶
液の追加量を加える。30分間かきまぜた後、現わ
れた不溶性物質を過し、液を40℃で減圧（20
mmHg；2.7kPa）濃縮乾固する。これにより、粗
生成物（５ｇ）が得られ、これは、シリカゲルの
薄層クロマトグラフイーにおいて、Rf値＝0.20お
よび0.13に相当する２つのスポツト〔溶離溶媒：
酢酸エチル／メタノール（80／20容量）〕を与え
る。対応する生成物は次の方法で分割される： メタノール（10c.c.）を得られた粗生成物に加え
る。この溶液を過し、次いで液を直径2.5cm
のカラム中に含有される中性シリカゲル（0.040
〜0.063mm；75ｇ）上へ注ぎ、50kPaの圧力下に
溶離する。溶離を順次に酢酸エチルとメタノール
との混合物（95／５容量；2040c.c.）で、次いで酢
酸エチルとメタノールとの混合物（90／10容量；
960c.c.）で実施し、60c.c.の分画を集める。

(a) 分画19〜31を合わせ、40℃で減圧（20mm
Hg；27kPa）濃縮乾固する。これにより、生
成物（0.7ｇ）が得られ、これらを次のように
精製する： 生成物を沸とうするアセトニトリル（15c.c.）
中に懸濁し、この懸濁液を熱時過する。液
を40℃で減圧（20mmHg；2.7kPa）濃縮乾固す
る。得られた生成物（0.4ｇ）を、沸とうする
エタノール（４c.c.）中に溶かす。冷却し、０℃
に30分間静置した後、生ずる結晶を過し、エ
タノール（合計１c.c.）で２回洗浄し、約20℃の
温度で減圧（20mmHg；2.7kPa）乾燥する。こ
れにより、Ｎ−メチル−２−（ピリジン−３−
イル）テトラヒドロチオフエン−２−カルボチ
オアミド１−オキシドのＢ型、融点158℃〔Rf
＝0.20；シリカゲルの薄層クロマトグラフイ
ー；溶媒：酢酸エチル／メタノール（80／20容
量）〕が得られる。

(b) 分画38〜50を合わせ、減圧（20mmHg；
2.7kPa）濃縮乾固する。これにより、生成物
（0.65ｇ）が得られ、これを次のようにして精
製する： 生成物を沸とうするアセトニトリル（12c.c.）
中に懸濁し、熱時過する。液を40℃で減圧
（20mmHg／；2.7kPa）濃縮乾固する。得られ
た生成物（0.4ｇ）を沸とうするアセトニトリ
ル（2.5c.c.）中に溶かす。冷却し、０℃で30分
間静置した後、生ずる結晶を過し、アセトニ
トリル（合計１c.c.）で２回洗浄し、約０℃の温
度で減圧（20mmHg；2.7kPa）乾燥する。これ
により、Ｎ−メチル−２−（ピリジン−３−イ
ル）テトラヒドロチオフエン−２−カルボチオ
アミド１−オキシド（0.14ｇ）、融点204℃〔Rf
＝0.13；シリカゲルの薄層クロマトグラフイ
ー；溶媒：酢酸エチル／メタノール（80／20容
量）〕が得られる。

メチル２−（ピリジン−３−イル）テトラヒ
ドロチオフエン−２−カルボジチオエート１−
オキシド（２種の立体異性体の型の混合物）
は、次の法王で分割できる： 塩化メチレン（150c.c.）中の85％純度のｍ−
クロロ過安息香酸（8.9ｇ）の溶液を、塩化メ
チレン（150c.c.）中のメチル２−（ピリジン−３
−イル）テトラヒドロチオフエン−２−カルボ
ジチオエート（11.2ｇ）の溶液に、約20℃の温
度において１時間かけて滴々加える。同じ温度
で17時間かきまぜた後、反応混合物を50℃で減
圧（20mmHg；2.7kPa）濃縮し、次いで残留物
を直径６cmのカラム中に含有される中性シリカ
ゲル（0.040〜0.063mm；550ｇ）のクロマトグ
ラフイーに窒素圧（50kPa）のもとに次す。溶
離を順次に酢酸エチル（1.2）、酢酸エチルと
メタノールの混合物（95／５容量；1.2）お
よび酢酸エチルとメタノールとの混合物（90／
10容量；3.9）で実施し、１つの2.9の分画
および35の100c.c.の分画を集める。分画13〜35
を集め、50℃で減圧（20mmHg；2.7kPa）濃縮
乾固する。これにより、２種の立体異性体の型
の50／50混合物〔ピリジンの分割プロトンH₂
についてのNMRにより決定した比率：δ＝
8.85および8.77ppm；Ｊ＝2.5Hz（溶媒：
CDCl₃）〕に相当しかつ単一のRf置＝0.37〔シリ
カゲルの薄層クロマトグラフイー：酢酸エチ
ル／メタノール（80／20容量）〕を有するオレ
ンジ色油の形態で、メチル２−（ピリジン−３
−イル）テトラヒドロチオフエン−２−カルボ
ジチオエート１−オキシド（10.2ｇ）が得られ
る。

実施例 ９ エタノール（15c.c.）中のメチルアミンの33％
（重量／容量）溶液を、約25℃の温度に保持した、
エタノール（35c.c.）中のメチル２−（ピリジン−
３−イル）テトラヒドロチオフエン−２−カルボ
ジチオエート１−オキシド（単一の立体異性体の
型）（5.8ｇ）の溶液に、16分間かけて滴々加え
る。同じ温度１時間でかきまぜた後、エタノール
（15c.c.）中のメチルアミンの33％（重量／容量）
溶液の追加量を、10分間にわたり滴々加える。50
分間かきまぜた後、反応混合物を40℃で減圧（20
mmHg；2.7kPa）濃縮乾固する。得られた生成物
（7.4ｇ）を、直径30cmのカラム中に含有される中
性シリカゲル（0.040〜0.063mm；190ｇ）のクロ
マトグラフイーに付す。溶離を順次に酢酸エチル
（500c.c.）、酢酸エチルとメタノールとの混合物
（97／３容量；1360c.c.）、酢酸エチルとメタノール
との混合物95／５容量；760c.c.）および酢酸エチ
ルとメタノールとの混合物（90／10容量；1240
c.c.）で過圧（50kPa）下に実施し、５つの100c.c.
の分画および84の40c.c.の分画を集める。分画53〜
89を合わせ、40℃で減圧（20mmHg；2.7kPa）濃
縮乾固する。得られた生成物（1.2ｇ）を沸とう
するエタノール（3.5c.c.）中に溶かし、冷却し、
０℃に30分間静置した後、生ずる結晶を過し、
エタノール（合計１c.c.）で２回洗浄し、60℃で減
圧（１mmHg；0.13kPa）乾燥する。これにより、
Ｎ−メチル−２−（ピリジン−３−イル）テトラ
ヒドロチオフエン−２−カルボチオアミド１−オ
キシド（Ｂ型、すなわち、極性に劣る型）（0.28
ｇ）、融点156℃〔Rf＝0.20；シリカゲルの薄層ク
ラマトグラフイー；溶媒：酢酸エチル／メタノー
ル（80／20容量）〕が得られる。

メチル２−（ピリジン−３−イル）テトラヒド
ロチオフエン−２−カルボジチオエート１−オキ
シドは、次の方法で製造できる： 無水テトラヒドロフラン（150c.c.）中の２−（ピ
リジン−３−イル）テトラヒドロチオフエン−１
−オキシド（18.1ｇ）の溶液を、無水テトラヒド
ロフラン（150c.c.）中のカリウムtert−ブトキシ
ド（14.8ｇ）の溶液に、約20℃の温度において20
分間にわたり、滴々加える。40分間かきまぜた
後、無水テトラヒドロフラン（100c.c.）中の二硫
化炭素（14c.c.）の溶液を、−20℃において15分間
にわたり滴々加える。25分間かきまぜた後、無水
テトラヒドロフラン（100c.c.）中のヨウ化メチル
（14.5c.c.）の溶液を、同じ温度において10分間に
わたり滴々加える。次いで反応混合物を２時間40
分かきまぜ、温度を15℃に徐々に上昇させる。現
われた不溶性物質を過し、無水テトラヒドロフ
ラン（合計120c.c.）で２回洗浄する。液と洗液
を合わせ、40℃で減圧（20mmHg；2.7kPa）濃縮
乾固する。得られた生成物（25.8ｇ）を、直径６
cmのカラム中に含有される中性シリカゲル
（0.040〜0.063mm；500ｇ）のクロマトグラフイー
に付す。溶離を酢酸エチルとメタノールとの混合
物（93／７容量；6.6リツトル）で過圧（50kPa）
下に実施し、14の250c.c.の分画と31の100c.c.の分画
を集める。分画18〜16を合わせ、40℃で減圧（20
mmHg；2.7kPa）濃縮乾固する。これにより、メ
チル２−（ピリジン−３−イル）テトラヒドロチ
オフエン−２−カルボジチオエート１−オキシド
（５ｇ）〔Rf＝0.30；シリカゲルの薄層クロマトグ
ラフイー；溶媒：酢酸エチル／メタノール（80／
20容量）〕が得られる。

２−（ピリジン−３−イル）テトラヒドロチオ
フエン１−オキシドは、次の方法で製造できる：
塩化メチレン（800c.c.）中の85％純度のｍ−クロ
ロ過安息香酸（76.3ｇ）の溶液を、塩化メチレン
（650c.c.）中の２−（ピリジン−３−イル）テトラ
ヒドロチオフエン（62ｇ）の溶液に、約20℃の温
度において２時間10分にわたり滴々加える。同じ
温度で16時間かきまぜた後、反応混合物をその初
期の体積の約４分の１に減圧濃縮し、濃縮物を直
径８cmのカラム中に含有された中性シリカゲル
（0.063〜0.200mm；800ｇ）上へ注ぐ。溶離を順次
に塩化メチレン（９）と塩化メチレンとメタノ
ールとの混合物（95／５容量；７）で実施し、
16の１の分画を集める。分画15および16を合わ
せ、40℃で減圧（20mmHg；2.7kPa）濃縮乾固す
る。得られた生成物（54.3ｇ）を塩化メチレン
（100c.c.）中に溶かし、この溶液を重炭酸ナトリウ
ムの10％水溶液（合計100c.c.）で２回洗浄する。
デカントした後、洗浄水を塩化メチレン（合計
300c.c.で３回抽出する。有機抽出液を合わせ、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、40℃で減圧（20mm
Hg；2.7kPa）濃縮乾固する。これにより、２−
（ピリジン−３−イル）テトラヒドロチオフエン
１−オキシド（32.8ｇ）の２種の立体異性体の型
の混合物（32.8ｇ）が得られる。〔Rf＝0.36およ
び0.40；シリカゲルの薄層クロマトグラフイー；
溶媒：酢酸エチル／メタノール／水／酢酸（70／
20／５／５容量）〕。

２−（ピリジン−３−イル）テトラヒドロチオ
フエンは、欧州特許公開第0046417号（特開昭57
−42687号）に記載されている方法により製造で
きる。

本発明は、活性成分として、一般式（）の化
合物の少なくとも１種と、不活性であるかあるい
は生理学的に活性であることのできる、他の製薬
学的に適合する生成物と、からなる製薬学的組成
物を、その範囲に包含する。本発明による組成物
は、経口的に、非経口的あるいは経直腸的に投与
することができる。

錠剤、ピル、粉末（とくにゼラチンのカプセル
またはカシエー）または丸薬を、経口的投与のた
めの固体組成物として使用できる。これらの組成
物において、本発明による活性生成物は１種また
はそれ以上の不活性希釈剤、でん粉、セルロー
ス、サツカロース、ラクトースまたはシリカと混
合する。これらの組成物は、希釈剤以外の物質、
たとえば、１種以上の潤滑剤、たとえば、ステア
リン酸マグネシウムまたはタルク、着色剤、被膜
（被覆された錠剤）またはワニスを含むこともで
きる。

経口的投与のための液状組成物は、製薬学的に
許容されうる溶液、懸濁液、乳濁液、シロツプお
よびエリキシルを包含し、これらは水、エタノー
ル、グリセリン、植物油またはパラフイン油のよ
うな不活性希釈剤を含有する。これらの組成物
は、希釈以外の物質、たとえば、湿潤剤、甘味
剤、増粘剤、香味剤または安定剤を含むことがで
きる。

非経口的投与のための組成物は、無菌の水性ま
たは非水性の溶液、懸濁液または乳濁液を包含す
る。水、プロピレングリコール、ポリエチレング
リコール、植物油、とくにオリーブ油、注射可能
な有機エステル、たとえば、オレイン酸エチル、
または他の適当な有機溶媒を溶媒または賦形剤と
して使用できる。これらの組成物は、補助薬、と
くに湿潤剤、等張化剤、乳化剤および安定剤を含
有することもできる。滅菌は、いくつかの方法に
より、たとえば、無菌条件下の過により、滅菌
剤を組成物中に混入することにより、照射によ
り、または加熱により、実施できる。また、組成
物は、使用直前に注射可能な無菌媒質中へ溶解す
ることのできる無菌組成物の形態で製造すること
もできる。

経直腸的投与のための組成物は、坐薬または経
直腸的カプセル剤であり、これらは活性生成物に
加えて、賦形剤、たとえばカカオバター、半合成
グリセリドまたはポリエチレングリコールを含有
する。

人間の治剤において、本発明の化合物は高血圧
の処置においてとくに有用である。投与は所望の
効果および処置の期間に依存する。大人につい
て、投与量は一般に５〜1000mg／日であり、経口
的に１またはそれ以上の投与単位で投与する。

一般に、医者は、処置すべき患者に固有の年
令、体重および他の因子を考慮して最も適当であ
ると考えられる投与量を決定するであろう。

次の実施例により、本発明による製薬学的組成
物を例示する。

実施例 10 25mgの投与量の活性成分を含有しかつ次の組成
を有する錠剤を、通常の技術により調製する： Ｎ−メチル−２−（ピリジン−３−イル）テトラ
ヒドロチオピラン−２−カルボチオアミド１−オ
キシドＡ型（極性に優れる生成物） 25mg でん粉 60mg コロイドシリカ 50mg ステアリン酸マグネシウム ２mg 実施例 11 25mgの投与量の活性生成物を含有しかつ次の組
成物を有する錠剤を、通常の技術により調製す
る： Ｎ−メチル−２−（キノリン−３−イル）テトラ
ヒドロチオピラン−２−カルボチオアミド１−オ
キシド 25mg でん粉 60mg コロイドシリカ 50mg リン酸マグネシウム ２mg

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中、Ｒは水素原子または１〜４個の炭素原子
   を有する直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表わ
   し、Hetはピリジン−３−イルまたはキノリン−
   ３−イルを表わし、そしてＹは原子価結合または
   メチレン基を表わす） のチオホルムアミド誘導体。 ２ Ｒは１〜３個の炭素原子を有するアルキル基
   を表わし、そしてＹはメチレン基を表わす、特許
   請求の範囲第１項記載のチオホルムアミド誘導
   体。 ３ Ｒはメチル基またはエチル基を表わす、特許
   請求の範囲第１項又は第２項記載のチオホルムア
   ミド誘導体。 ４ ２種類のラセミ体の対の極性に優れる型のも
   のである、特許請求の範囲第１，２または３項記
   載のチオホルムアミド誘導体。 ５ Ｎ−メチル−２−（ピリジン−３−イル）テ
   トラヒドロチオピラン−２−カルボチオアミド１
   −オキシドの２種類のラセミ体の対の極性に優れ
   る型のものである、特許請求の範囲第１項記載の
   チオホルムアミド誘導体。 ６ Ｎ−エチル−２−（ピリジン−３−イル）テ
   トラヒドロチオピラン−２−カルボチオアミド１
   −オキシドの２種類のラセミ体の対の極性に優れ
   る型のものである、特許請求の範囲第１項記載の
   チオホルムアミド誘導体。 ７ Ｎ−メチル−２−（キノリン−３−イル）テ
   トラヒドロチオピラン−２−カルボチオアミド１
   −オキシドの２種類のラセミ体の対の極性に優れ
   る型のものである、特許請求の範囲第１項記載の
   チオホルムアミド誘導体。 ８ Ｎ−メチル−２−（ピリジン−３−イル）テ
   トラヒドロチオフエン−２−カルボチオアミド１
   −オキシドの２種類のラセミ体の対の極性に優れ
   る型のものである、特許請求の範囲第１項記載の
   チオホルムアミド誘導体。 ９ 一般式 （式中、Ｒは水素原子または１〜４個の炭素原子
   を有する直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表わ
   し、Hetはピリジン−３−イルまたはキノリン−
   ３−イルを表わし、そしてＹは原子価結合または
   メチレン基を表わす） のチオホルムアミド誘導体の製造方法であつて、
   一般式 Ｒ−NH₂ （式中、Ｒは上記において定義したとおりであ
   る） のアンモニア又はアミンを、一般式 （式中、記号Ｙ及びHetは上記において定義した
   とおりであり、そしてR′は１〜４個の炭素原子
   を有する直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基または
   ベンジル基またはカルボキシメチル基を表わす） のジチオエステルと反応させ、次いで得られたチ
   オホルムアミド生成物を単離し、そして必要に応
   じて、立体異性体の型に分割する、ことを特徴と
   する方法。 １０ ジチオエステル反応成分はジアステレオイ
   ソマーの型にすでに分割されている、特許請求の
   範囲第９項記載の方法。