JPH0545892A - 感光性エラストマ―組成物の現像方法 - Google Patents
感光性エラストマ―組成物の現像方法Info
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 支持体/ジエンゴム系感光性エラストマ―組
成物/剥離層からなる感光性樹脂構成体から画像露光、
現像により印刷版を得る製版方法に於いて、剥離層とし
てセルロース誘導体を用い、かつ現像剤として下記一般
式(A)で表わされるエステル類もしくはドデシルベン
ゼン、リモネンの中から選ばれた化合物を単独で、また
はそれと常圧での沸点差20℃以内の化合物を組み合わ
せて用いることを特徴とする製版方法。 R1 COOR2 ……………………(A) 〔式中R1 はCH3 又はC2 H5 であり、R2 は−Cn
H2n+1(n=6〜10)で表わされるアルキル基、−C
6 H10X(X=H、炭素数1〜4のアルキル基)で表わ
される置換または非置換のシクロヘキシル基、−Cn H
2n・Ar (Ar =芳香族基、n=1、2)で表わされる
アラルキル基、−(Cn H2nO)a Cm H2m+1(n=2
〜6、m=1〜4、a=1または2、a/(na+m)
≦1/4)で表わされるアルコキシポリオキシアルキレ
ニル基を表わす〕。 【効果】 本発明の製版方法には、剥離層の完全溶解除
去、及びオレンジピールの問題の大巾改善の効果があ
る。
成物/剥離層からなる感光性樹脂構成体から画像露光、
現像により印刷版を得る製版方法に於いて、剥離層とし
てセルロース誘導体を用い、かつ現像剤として下記一般
式(A)で表わされるエステル類もしくはドデシルベン
ゼン、リモネンの中から選ばれた化合物を単独で、また
はそれと常圧での沸点差20℃以内の化合物を組み合わ
せて用いることを特徴とする製版方法。 R1 COOR2 ……………………(A) 〔式中R1 はCH3 又はC2 H5 であり、R2 は−Cn
H2n+1(n=6〜10)で表わされるアルキル基、−C
6 H10X(X=H、炭素数1〜4のアルキル基)で表わ
される置換または非置換のシクロヘキシル基、−Cn H
2n・Ar (Ar =芳香族基、n=1、2)で表わされる
アラルキル基、−(Cn H2nO)a Cm H2m+1(n=2
〜6、m=1〜4、a=1または2、a/(na+m)
≦1/4)で表わされるアルコキシポリオキシアルキレ
ニル基を表わす〕。 【効果】 本発明の製版方法には、剥離層の完全溶解除
去、及びオレンジピールの問題の大巾改善の効果があ
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は感光性エラストマ―組成
物から画像を形成する方法に関するものであり、特にフ
レキソ印刷版を製版するのに好適な現像剤を用いた現像
方法に関するものである。
物から画像を形成する方法に関するものであり、特にフ
レキソ印刷版を製版するのに好適な現像剤を用いた現像
方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】感光性エラストマ―組成物から画像を形
成するには、透明画像担体を通して露光したあと、未露
光部の感光性エラストマ―組成物が可溶な溶剤で現像す
ることにより行なわれている。
成するには、透明画像担体を通して露光したあと、未露
光部の感光性エラストマ―組成物が可溶な溶剤で現像す
ることにより行なわれている。
【0003】従来、フレキソ印刷版を製版するのに用い
られている感光性エラストマ―組成物としては、一般的
に(a)ジエン系ポリマ―、(b)エチレン性不飽和化
合物、(c)光重合開始剤を主成分としたものが用いら
れている。これらはジエン系ポリマ―を主成分とする
為、水または水系の溶剤では未露光部を洗い出すことが
できず、もっぱらパ―クロルエチレン、1,1,1‐ト
リクロルエタン等の塩素系の有機溶剤が用いられてい
た。一般に、市販されているフレキソ印刷用感光性エラ
ストマ―組成物は、押し出し成形もしくはプレスで板状
に成形され、支持体と剥離層とで挟まれた構成体となっ
ている。
られている感光性エラストマ―組成物としては、一般的
に(a)ジエン系ポリマ―、(b)エチレン性不飽和化
合物、(c)光重合開始剤を主成分としたものが用いら
れている。これらはジエン系ポリマ―を主成分とする
為、水または水系の溶剤では未露光部を洗い出すことが
できず、もっぱらパ―クロルエチレン、1,1,1‐ト
リクロルエタン等の塩素系の有機溶剤が用いられてい
た。一般に、市販されているフレキソ印刷用感光性エラ
ストマ―組成物は、押し出し成形もしくはプレスで板状
に成形され、支持体と剥離層とで挟まれた構成体となっ
ている。
【0004】剥離層は透明画像担体との密着性を容易に
する目的で設けられているもので、これは製版における
現像工程で現像液に溶解するものでなければならない。
この剥離層がポリアミド系の材料の場合、このフィルム
の現像液への溶解を可能にする目的でn‐ブタノール、
イソプロパノール等のアルコール系の有機溶剤が塩素系
有機溶剤に混合されて用いられていた。
する目的で設けられているもので、これは製版における
現像工程で現像液に溶解するものでなければならない。
この剥離層がポリアミド系の材料の場合、このフィルム
の現像液への溶解を可能にする目的でn‐ブタノール、
イソプロパノール等のアルコール系の有機溶剤が塩素系
有機溶剤に混合されて用いられていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このような塩素系有機
溶剤は引火性を有さない為、取り扱い上の安全性という
観点では利点を有するものの、反面人体に対する毒性が
強い等衛生面では問題を有しており、また、オゾン層破
壊の一因となるなど、作業環境改善、大気汚染防止の観
点から非塩素系現像溶剤の開発が望まれていた。さら
に、従来使用されている塩素系現像溶剤の場合、画像部
となる感光性エラストマ―組成物硬化物の膨潤が大き
く、現像工程で画像部の細線、細点がダメ―ジを受けた
り、また膨潤からの回復に長時間の乾燥を要するなどの
欠点を有しており、この点からも改良が望まれ、これに
応えるべく非塩素系現像剤が開発されるようになった。
溶剤は引火性を有さない為、取り扱い上の安全性という
観点では利点を有するものの、反面人体に対する毒性が
強い等衛生面では問題を有しており、また、オゾン層破
壊の一因となるなど、作業環境改善、大気汚染防止の観
点から非塩素系現像溶剤の開発が望まれていた。さら
に、従来使用されている塩素系現像溶剤の場合、画像部
となる感光性エラストマ―組成物硬化物の膨潤が大き
く、現像工程で画像部の細線、細点がダメ―ジを受けた
り、また膨潤からの回復に長時間の乾燥を要するなどの
欠点を有しており、この点からも改良が望まれ、これに
応えるべく非塩素系現像剤が開発されるようになった。
【0006】非塩素系現像剤としてはEP035578
9号、特開昭62‐160446号、US484718
2号等に記載されている技術が先行技術としてあげられ
るが、これらには剥離層に関する記載がされていない。
しかし、現実には現在市販されている多くのフレキソ印
刷用感光性エラストマ―組成物では剥離層としてポリア
ミド系の材料が用いられているため、これらを現像する
際には剥離層の溶解を可能にする目的でアルコール系の
溶剤を添加して用いる必要があった。
9号、特開昭62‐160446号、US484718
2号等に記載されている技術が先行技術としてあげられ
るが、これらには剥離層に関する記載がされていない。
しかし、現実には現在市販されている多くのフレキソ印
刷用感光性エラストマ―組成物では剥離層としてポリア
ミド系の材料が用いられているため、これらを現像する
際には剥離層の溶解を可能にする目的でアルコール系の
溶剤を添加して用いる必要があった。
【0007】従来の塩素系現像剤では、塩素系溶剤とア
ルコール系溶剤の比率が大きくなるため、使用後の溶剤
を蒸留して再生した後の2成分の混合比率の変化は比重
から容易に調整が可能であった。しかし非塩素系現像剤
では2成分の比重が近いため、蒸留回収液の混合比率の
調整が困難であるという問題を有していた。
ルコール系溶剤の比率が大きくなるため、使用後の溶剤
を蒸留して再生した後の2成分の混合比率の変化は比重
から容易に調整が可能であった。しかし非塩素系現像剤
では2成分の比重が近いため、蒸留回収液の混合比率の
調整が困難であるという問題を有していた。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明はかかる課題を解
決する為に検討を重ねた結果、感光性エラストマ―組成
物表面の剥離層をセルロース誘導体とすることで、特定
の単一有機溶剤、またはこれと常圧での沸点差20℃以
内のものを組み合わせて現像剤として用いることが可能
となり目的を達成できることを見出し、本発明を完成さ
せるに到った。
決する為に検討を重ねた結果、感光性エラストマ―組成
物表面の剥離層をセルロース誘導体とすることで、特定
の単一有機溶剤、またはこれと常圧での沸点差20℃以
内のものを組み合わせて現像剤として用いることが可能
となり目的を達成できることを見出し、本発明を完成さ
せるに到った。
【0009】すなわち、本発明は感光性エラストマ―組
成物表面の剥離層としてセルロース誘導体を用い、かつ
現像剤として下記一般式(A)で表わされるエステル類
もしくはドデシルベンゼン、リモネンの中から選ばれた
化合物を単独で、またはそれと常圧での沸点差20℃以
内の化合物を組み合わせて用いることを特徴とする製版
方法を提供するものである。 R1 COOR2 ……………………(A) 〔式中R1 はCH3 又はC2 H5 であり、R2 は−Cn
H2n+1(n=6〜10)で表わされるアルキル基、−C
6 H10X(X=H、炭素数1〜4のアルキル基)で表わ
される置換または非置換のシクロヘキシル基、−Cn H
2n・Ar (Ar =芳香族基、n=1、2)で表わされる
アラルキル基、−(Cn H2nO)a Cm H2m+1(n=2
〜6、m=1〜4、a=1または2、a/(na+m)
≦1/4)で表わされるアルコキシポリオキシアルキレ
ニル基を表わす〕。
成物表面の剥離層としてセルロース誘導体を用い、かつ
現像剤として下記一般式(A)で表わされるエステル類
もしくはドデシルベンゼン、リモネンの中から選ばれた
化合物を単独で、またはそれと常圧での沸点差20℃以
内の化合物を組み合わせて用いることを特徴とする製版
方法を提供するものである。 R1 COOR2 ……………………(A) 〔式中R1 はCH3 又はC2 H5 であり、R2 は−Cn
H2n+1(n=6〜10)で表わされるアルキル基、−C
6 H10X(X=H、炭素数1〜4のアルキル基)で表わ
される置換または非置換のシクロヘキシル基、−Cn H
2n・Ar (Ar =芳香族基、n=1、2)で表わされる
アラルキル基、−(Cn H2nO)a Cm H2m+1(n=2
〜6、m=1〜4、a=1または2、a/(na+m)
≦1/4)で表わされるアルコキシポリオキシアルキレ
ニル基を表わす〕。
【0010】本発明の現像方法で製版される感光性エラ
ストマ―組成物として好適なものは(1)ジエン系ポリ
マ―、(2)エチレン性不飽和化合物、及び(3)光重
合開始剤を主成分としたものである。
ストマ―組成物として好適なものは(1)ジエン系ポリ
マ―、(2)エチレン性不飽和化合物、及び(3)光重
合開始剤を主成分としたものである。
【0011】(1)のジエン系ポリマ―としては共役ジ
エンモノマ―を単独重合あるいはモノオレフィン化合物
と共重合させて得られるポリマ―が用いられる。共役ジ
エンモノマ―としては、ブタジエン、イソプレン、クロ
ロプレンなどを例としてあげることができる。又、共役
ジエンモノマ―と共重合させるのに用いられるモノオレ
フィン化合物としては、スチレン、α‐メチルスチレ
ン、ビニルトルエン、アクリロニトリル、アクリル酸、
メタクリル酸及びこれらのエステル類などを例示するこ
とができる。これらのモノオレフィン化合物は単独であ
るいは二種類以上の組みあわせで共役ジエンモノマ―と
の共重合に使用される。
エンモノマ―を単独重合あるいはモノオレフィン化合物
と共重合させて得られるポリマ―が用いられる。共役ジ
エンモノマ―としては、ブタジエン、イソプレン、クロ
ロプレンなどを例としてあげることができる。又、共役
ジエンモノマ―と共重合させるのに用いられるモノオレ
フィン化合物としては、スチレン、α‐メチルスチレ
ン、ビニルトルエン、アクリロニトリル、アクリル酸、
メタクリル酸及びこれらのエステル類などを例示するこ
とができる。これらのモノオレフィン化合物は単独であ
るいは二種類以上の組みあわせで共役ジエンモノマ―と
の共重合に使用される。
【0012】フレキソ印刷版用感光性エラストマ―組成
物に最も好適なジエンポリマ―はスチレン・ブタジエン
系ブロック共重合体であり、又、本発明で用いられる現
像剤が最も効果的に用いられる。また、(2)の成分で
あるエチレン性不飽和化合物、(3)の成分である光重
合開始剤としては、この種の感光性エラストマ―組成物
に慣用的に使用されているものの中から任意に選ぶこと
ができる。
物に最も好適なジエンポリマ―はスチレン・ブタジエン
系ブロック共重合体であり、又、本発明で用いられる現
像剤が最も効果的に用いられる。また、(2)の成分で
あるエチレン性不飽和化合物、(3)の成分である光重
合開始剤としては、この種の感光性エラストマ―組成物
に慣用的に使用されているものの中から任意に選ぶこと
ができる。
【0013】(2)のエチレン性不飽和物としては、エ
チレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレン
グリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレング
リコール、ブチレングリコールのジアクリレート及びジ
メタクリレート、あるいはトリメチロールプロパントリ
アクリレート及びトリメタクリレート、ペンタエリトリ
ツトテトラアクリレート及びテトラメタクリレート等
や、N,N’‐ヘキサメチレンビスアクリルアミド及び
メタクリルアミド、スチレン、ビニルトルエン、ジビニ
ルベンゼン、ジアクリルフタレート、トリアリルシアヌ
レート、フマル酸ジエチルエステル、フマル酸ジブチル
エステル、フマル酸ジオクチルエステル、フマル酸ジス
テアリルエステル、フマル酸ブチルオクチルエステル、
フマル酸ジフェニルエステル、フマル酸ジベンジルエス
テル、マレイン酸ジブチルエステル、マレイン酸ジオク
チルエステル、フマル酸ビス(3‐フェニルプロピル)
エステル、フマル酸ジラウリルエステル、フマル酸ジベ
ヘニルエステル等をあげることができる。
チレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレン
グリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレング
リコール、ブチレングリコールのジアクリレート及びジ
メタクリレート、あるいはトリメチロールプロパントリ
アクリレート及びトリメタクリレート、ペンタエリトリ
ツトテトラアクリレート及びテトラメタクリレート等
や、N,N’‐ヘキサメチレンビスアクリルアミド及び
メタクリルアミド、スチレン、ビニルトルエン、ジビニ
ルベンゼン、ジアクリルフタレート、トリアリルシアヌ
レート、フマル酸ジエチルエステル、フマル酸ジブチル
エステル、フマル酸ジオクチルエステル、フマル酸ジス
テアリルエステル、フマル酸ブチルオクチルエステル、
フマル酸ジフェニルエステル、フマル酸ジベンジルエス
テル、マレイン酸ジブチルエステル、マレイン酸ジオク
チルエステル、フマル酸ビス(3‐フェニルプロピル)
エステル、フマル酸ジラウリルエステル、フマル酸ジベ
ヘニルエステル等をあげることができる。
【0014】(3)の光重合開始剤としては、ベンゾフ
ェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイ
ソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、
α‐メチロールベンゾイン、α‐メチロールベンゾイン
メチルエーテル、α‐メトキシベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインフェニルエーテル、α‐t‐ブチルベン
ゾイン、2,2‐ジメトキシフェニルアセトフェノン、
2,2‐ジエトキシフェニルアセトフェノン、2,2‐
ジエトキシアセトフェノン、ベンジル、ピバロイン、ア
ンスラキノン、ベンズアンスラキノン、2‐エチルアン
スラキノン、2‐クロルアンスラキノン等をあげること
ができる。
ェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイ
ソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、
α‐メチロールベンゾイン、α‐メチロールベンゾイン
メチルエーテル、α‐メトキシベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインフェニルエーテル、α‐t‐ブチルベン
ゾイン、2,2‐ジメトキシフェニルアセトフェノン、
2,2‐ジエトキシフェニルアセトフェノン、2,2‐
ジエトキシアセトフェノン、ベンジル、ピバロイン、ア
ンスラキノン、ベンズアンスラキノン、2‐エチルアン
スラキノン、2‐クロルアンスラキノン等をあげること
ができる。
【0015】このような感光性エラストマ―組成物とし
ては、例えば、特開昭47‐37521号公報、特開昭
51‐106501号公報、特開昭52‐64301号
公報、特開昭53‐127004号公報、特開昭54‐
110287号公報、特開昭55‐48744号公報、
特開昭58‐62640号公報等に記載されているもの
を例としてあげることができる。
ては、例えば、特開昭47‐37521号公報、特開昭
51‐106501号公報、特開昭52‐64301号
公報、特開昭53‐127004号公報、特開昭54‐
110287号公報、特開昭55‐48744号公報、
特開昭58‐62640号公報等に記載されているもの
を例としてあげることができる。
【0016】現像剤として用いられる一般式(A)で表
わされる化合物は、酢酸あるいはプロピオン酸のエステ
ルであるが、例えばn‐オクチルアセテート、n‐エチ
ルヘキシルアセテート、デシルアセテート、オクチルプ
ロピオネート、デシルプロピオネート、シクロヘキシル
アセテート、エチルシクロヘキシルアセテート、t‐ブ
チルシクロヘキシルアセテート、シクロヘキシルプロピ
オネート、ベンジルアセテート、ベンジルプロピオネー
ト、2‐フェニルエチルアセテート、3‐メトキシブチ
ルアセテート、3‐メトキシブチルプロピオネート、3
‐メトキシ‐3‐メチルブチルアセテート、2‐ブトキ
シエチルアセテート、2‐ブトキシブチルアセテート、
4‐ブトキシブチルアセテート、4‐(4’‐メトキシ
ブトキシ)ブチルアセテート等を例としてあげることが
できる。
わされる化合物は、酢酸あるいはプロピオン酸のエステ
ルであるが、例えばn‐オクチルアセテート、n‐エチ
ルヘキシルアセテート、デシルアセテート、オクチルプ
ロピオネート、デシルプロピオネート、シクロヘキシル
アセテート、エチルシクロヘキシルアセテート、t‐ブ
チルシクロヘキシルアセテート、シクロヘキシルプロピ
オネート、ベンジルアセテート、ベンジルプロピオネー
ト、2‐フェニルエチルアセテート、3‐メトキシブチ
ルアセテート、3‐メトキシブチルプロピオネート、3
‐メトキシ‐3‐メチルブチルアセテート、2‐ブトキ
シエチルアセテート、2‐ブトキシブチルアセテート、
4‐ブトキシブチルアセテート、4‐(4’‐メトキシ
ブトキシ)ブチルアセテート等を例としてあげることが
できる。
【0017】また、本発明において現像剤としてはドデ
シルベンゼン又はリモネンを用いることができる。更に
上記した化合物は単独で用いられる他に、常圧での沸点
差20℃以内の化合物と組合わせて用いることもでき
る。例えば組合わせの例としては沸点の近い任意の組合
わせ、即ち、3‐メトキシブチルアセテートとシクロヘ
キシルアセテート、ベンジルアセテートとベンジルプロ
ピオネート、2‐エチルヘキシルアセテートと2‐ブト
キシエチルアセテート、D‐リモネンとシクロヘキシル
アセテート等を例としてあげることができる。又、工業
的製造工程で生じる異性体を含むもの、例えばノニルア
セテート等も同様に用いることができる。
シルベンゼン又はリモネンを用いることができる。更に
上記した化合物は単独で用いられる他に、常圧での沸点
差20℃以内の化合物と組合わせて用いることもでき
る。例えば組合わせの例としては沸点の近い任意の組合
わせ、即ち、3‐メトキシブチルアセテートとシクロヘ
キシルアセテート、ベンジルアセテートとベンジルプロ
ピオネート、2‐エチルヘキシルアセテートと2‐ブト
キシエチルアセテート、D‐リモネンとシクロヘキシル
アセテート等を例としてあげることができる。又、工業
的製造工程で生じる異性体を含むもの、例えばノニルア
セテート等も同様に用いることができる。
【0018】剥離層として用いられるセルロース誘導体
としては、エチルセルロース、セルロースアセテート、
セルロースブチレート、セルロースアセテートブチレー
ト等があげられる。
としては、エチルセルロース、セルロースアセテート、
セルロースブチレート、セルロースアセテートブチレー
ト等があげられる。
【0019】一般式(A)で表わされる化合物の中でも
感光性エラストマ―組成物の溶解性に比し、硬化物への
膨潤が少なく、細線、細点、細字等の現像時の欠けが少
なく、また、現像後の乾燥も比較的短時間ですむという
観点から、CH3 COOCn H2nOCm H2m+1(n+m
=≦5、n=≧1、m=≧1)で表わされるアルコキシ
アルキルアセテートや、CH3 COO(Cn H2nO)2
Cm H2m+1(n=2〜6,m=1〜4)で表わされるア
ルコキシポリオキシアルキレニルアセテートが特に好ま
しい。
感光性エラストマ―組成物の溶解性に比し、硬化物への
膨潤が少なく、細線、細点、細字等の現像時の欠けが少
なく、また、現像後の乾燥も比較的短時間ですむという
観点から、CH3 COOCn H2nOCm H2m+1(n+m
=≦5、n=≧1、m=≧1)で表わされるアルコキシ
アルキルアセテートや、CH3 COO(Cn H2nO)2
Cm H2m+1(n=2〜6,m=1〜4)で表わされるア
ルコキシポリオキシアルキレニルアセテートが特に好ま
しい。
【0020】従来用いられてきた塩素系の現像溶剤を用
いて感光性エラストマ―組成物の現像を行なうと、乾燥
後、硬化物表面にオレンジピ―ルと呼ばれるオレンジの
皮のような模様の汚れが生じる為、新しい現像溶剤で版
面を拭き取る工程が必要であった。これに対し本発明の
現像溶剤を用いて現像すると、このようなオレンジピ―
ルは少なく、特にCH3 COOCn H2nOCm H
2m+1(n+m≦5,n≧1,m≧1)で表わされるアル
コキシアルキルアセテ―トを用いて現像する場合はオレ
ンジピ―ルを全く生じないため、乾燥後に新しい現像液
で硬化物表面を拭き取る必要がないという利点を有して
いる。特に3‐メトキシブチルアセテ―トは優れた特性
を示す。
いて感光性エラストマ―組成物の現像を行なうと、乾燥
後、硬化物表面にオレンジピ―ルと呼ばれるオレンジの
皮のような模様の汚れが生じる為、新しい現像溶剤で版
面を拭き取る工程が必要であった。これに対し本発明の
現像溶剤を用いて現像すると、このようなオレンジピ―
ルは少なく、特にCH3 COOCn H2nOCm H
2m+1(n+m≦5,n≧1,m≧1)で表わされるアル
コキシアルキルアセテ―トを用いて現像する場合はオレ
ンジピ―ルを全く生じないため、乾燥後に新しい現像液
で硬化物表面を拭き取る必要がないという利点を有して
いる。特に3‐メトキシブチルアセテ―トは優れた特性
を示す。
【0021】本発明で現像剤を用いての洗い出しは通
常、ブラッシング、あるいはスプレ―による吹きつけで
行なわれる。現像液の加温は特に必要としないので、現
像装置としては市販されているものをそのまま使用する
ことができる。
常、ブラッシング、あるいはスプレ―による吹きつけで
行なわれる。現像液の加温は特に必要としないので、現
像装置としては市販されているものをそのまま使用する
ことができる。
【0022】本発明で使われる現像剤は室温よりも高い
引火点を有しているため、通常の操作で特別に危険であ
るということはないが、可燃物であるため火花等着火源
となり得るものが現像液あるいは現像液蒸気を多量に含
む空気と接する可能性のある構造である場合は、間仕切
り等の安全対策を行なうことが望ましい。
引火点を有しているため、通常の操作で特別に危険であ
るということはないが、可燃物であるため火花等着火源
となり得るものが現像液あるいは現像液蒸気を多量に含
む空気と接する可能性のある構造である場合は、間仕切
り等の安全対策を行なうことが望ましい。
【0023】
【実施例】以下、実施例により詳細に説明する。 実施例1 ポリスチレン‐ポリブタジエン‐ポリスチレンブロック
共重合体(スチレン含量40%)3kg、液状1,2‐
ポリブタジエン1kg、ジオクチルフマレ―ト400
g、ラウリルマレイミド100g、2,2‐ジメトキシ
‐2‐フェニルアセトフェノン100gを混練して得ら
れる感光性エラストマ―組成物を厚さ100μmのポリ
エステルフィルム及び可溶性セルロースアセテート被覆
された同じ厚みのポリエステルフィルムではさみ、3m
m厚さのスペーサーの内側に置き、110℃でプレスし
て片側にセルロースアセテート剥離層のついた感光性エ
ラストマー組成物のシートを得た。このシ―ト30×2
0cmを用いて以下の検討を行った。
共重合体(スチレン含量40%)3kg、液状1,2‐
ポリブタジエン1kg、ジオクチルフマレ―ト400
g、ラウリルマレイミド100g、2,2‐ジメトキシ
‐2‐フェニルアセトフェノン100gを混練して得ら
れる感光性エラストマ―組成物を厚さ100μmのポリ
エステルフィルム及び可溶性セルロースアセテート被覆
された同じ厚みのポリエステルフィルムではさみ、3m
m厚さのスペーサーの内側に置き、110℃でプレスし
て片側にセルロースアセテート剥離層のついた感光性エ
ラストマー組成物のシートを得た。このシ―ト30×2
0cmを用いて以下の検討を行った。
【0024】セルロースアセテート被覆面と反対の側か
ら紫外線蛍光灯にて880mj・cm-2の露光を行った
後、セルロースアセテート被覆面のポリエステルフィル
ムを剥ぎ取り、透明画像担体をバキュームシートによっ
て密着させ、紫外線蛍光灯にて6000mj・cm-2の
露光を行ってレリ―フを形成した。
ら紫外線蛍光灯にて880mj・cm-2の露光を行った
後、セルロースアセテート被覆面のポリエステルフィル
ムを剥ぎ取り、透明画像担体をバキュームシートによっ
て密着させ、紫外線蛍光灯にて6000mj・cm-2の
露光を行ってレリ―フを形成した。
【0025】現像剤として3−メトキシブチルアセテ―
トを用いてロ―タリ―ブラシ型現像機にて未露光部の溶
出を行ったところ、8分間の現像で現画像を忠実に再現
したレリ―フが得られ、レリーフ面のセルロースアセテ
ート剥離層は完全に溶解していた。この時のシ―トの厚
みから膨潤率を求めたところ現像前より4.0%膨潤し
ていた。
トを用いてロ―タリ―ブラシ型現像機にて未露光部の溶
出を行ったところ、8分間の現像で現画像を忠実に再現
したレリ―フが得られ、レリーフ面のセルロースアセテ
ート剥離層は完全に溶解していた。この時のシ―トの厚
みから膨潤率を求めたところ現像前より4.0%膨潤し
ていた。
【0026】このシ―トを60℃にて1時間乾燥したと
ころ、版厚は完全に現像前の状態に回復していた。レリ
―フの欠けは見られず、幅400μ白抜き線の深度は1
00μであった。また、レリ―フ面上にはオレンジピ―
ルは全く観察されなかった。このシ―トにGL(殺菌
灯)及びCL(紫外線灯)ランプにてそれぞれ550,
1000mj・cm-2の後露光を行った後、フレキソ印
刷機にて印刷したところ、良質な印刷物が得られた。
ころ、版厚は完全に現像前の状態に回復していた。レリ
―フの欠けは見られず、幅400μ白抜き線の深度は1
00μであった。また、レリ―フ面上にはオレンジピ―
ルは全く観察されなかった。このシ―トにGL(殺菌
灯)及びCL(紫外線灯)ランプにてそれぞれ550,
1000mj・cm-2の後露光を行った後、フレキソ印
刷機にて印刷したところ、良質な印刷物が得られた。
【0027】実施例2 実施例1に準じた方法で、剥離層としてのセルロース誘
導体及び現像剤の種類を様々に変えて未硬化部の洗い出
しを行った結果を表1〜4に示す。なお、これら全ての
場合に於て現像後のレリーフ面から剥離層は完全に溶解
していた。
導体及び現像剤の種類を様々に変えて未硬化部の洗い出
しを行った結果を表1〜4に示す。なお、これら全ての
場合に於て現像後のレリーフ面から剥離層は完全に溶解
していた。
【0028】
【表1】
【0029】
【表2】
【0030】
【表3】
【0031】
【表4】
【0032】実施例3 ポリスチレン‐ポリイソプレン‐ポリスチレンブロック
共重合体3kg、ポリビニルトルエン138g、1,6
‐ヘキサンジオ―ルジアクリレ―ト137g、1,6‐
ヘキサンジオ―ルジメタクリレ―ト117g、2,2‐
ジメトキシフェニルアセトフェノン55gをニーダーで
130℃にて混練した。得られた感光性エラストマ―組
成物を実施例1に準じた方法で、剥離層としてセルロー
スアセテートを用い、現像剤の種類を様々に変えて未硬
化部の洗い出しを行った結果を表5に示す。なお、これ
ら全ての場合において現像液のレリーフ面から剥離層は
完全に溶解していた。
共重合体3kg、ポリビニルトルエン138g、1,6
‐ヘキサンジオ―ルジアクリレ―ト137g、1,6‐
ヘキサンジオ―ルジメタクリレ―ト117g、2,2‐
ジメトキシフェニルアセトフェノン55gをニーダーで
130℃にて混練した。得られた感光性エラストマ―組
成物を実施例1に準じた方法で、剥離層としてセルロー
スアセテートを用い、現像剤の種類を様々に変えて未硬
化部の洗い出しを行った結果を表5に示す。なお、これ
ら全ての場合において現像液のレリーフ面から剥離層は
完全に溶解していた。
【0033】
【表5】
【0034】比較例1 実施例1に準じた方法で、剥離層としてポリアミド系の
材料を用い、現像剤の種類を様々に変えて未硬化部の洗
い出しを行った。その結果、全ての場合において、現像
後の版面から剥離層が完全に落ちず、そのままでは印刷
版として使用できる状態ではなかった。さらに剥げ落ち
た剥離層が現像機の中に大量に浮遊していた。
材料を用い、現像剤の種類を様々に変えて未硬化部の洗
い出しを行った。その結果、全ての場合において、現像
後の版面から剥離層が完全に落ちず、そのままでは印刷
版として使用できる状態ではなかった。さらに剥げ落ち
た剥離層が現像機の中に大量に浮遊していた。
【0035】
【発明の効果】本発明の特定剥離層と現像剤を用いる感
光性エラストマ―組成物の製版方法によると、剥離層の
完全溶解除去が可能になり、従来問題だったオレンジピ
ールの問題も大巾に改善されるという効果が得られる。
光性エラストマ―組成物の製版方法によると、剥離層の
完全溶解除去が可能になり、従来問題だったオレンジピ
ールの問題も大巾に改善されるという効果が得られる。
Claims (1)
- 【請求項1】 支持体/ジエンゴム系感光性エラストマ
―組成物/剥離層からなる感光性樹脂構成体から画像露
光、現像により印刷版を得る製版方法に於いて、剥離層
としてセルロース誘導体を用い、かつ現像剤として下記
一般式(A)で表わされるエステル類もしくはドデシル
ベンゼン、リモネンの中から選ばれた化合物を単独で、
またはそれと常圧での沸点差20℃以内の化合物を組み
合わせて用いることを特徴とする製版方法。 R1 COOR2 ……………………(A) 〔式中R1 はCH3 又はC2 H5 であり、R2 は−Cn
H2n+1(n=6〜10)で表わされるアルキル基、−C
6 H10X(X=H、炭素数1〜4のアルキル基)で表わ
される置換または非置換のシクロヘキシル基、−Cn H
2n・Ar (Ar =芳香族基、n=1、2)で表わされる
アラルキル基、−(Cn H2nO)a Cm H2m+1(n=2
〜6、m=1〜4、a=1または2、a/(na+m)
≦1/4)で表わされるアルコキシポリオキシアルキレ
ニル基を表わす〕。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22242491A JP3049863B2 (ja) | 1991-08-08 | 1991-08-08 | 感光性エラストマ―組成物の現像方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22242491A JP3049863B2 (ja) | 1991-08-08 | 1991-08-08 | 感光性エラストマ―組成物の現像方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0545892A true JPH0545892A (ja) | 1993-02-26 |
| JP3049863B2 JP3049863B2 (ja) | 2000-06-05 |
Family
ID=16782181
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22242491A Expired - Fee Related JP3049863B2 (ja) | 1991-08-08 | 1991-08-08 | 感光性エラストマ―組成物の現像方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3049863B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1063571A1 (en) * | 1999-06-21 | 2000-12-27 | Chimeko S.r.l. Trade Chimico Ecologico | Antimicrobial solutions |
| WO2013145695A1 (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | 富士フイルム株式会社 | レジストの現像方法、レジストパターンの形成方法およびモールドの製造方法並びにそれらに使用される現像液 |
-
1991
- 1991-08-08 JP JP22242491A patent/JP3049863B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1063571A1 (en) * | 1999-06-21 | 2000-12-27 | Chimeko S.r.l. Trade Chimico Ecologico | Antimicrobial solutions |
| WO2013145695A1 (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | 富士フイルム株式会社 | レジストの現像方法、レジストパターンの形成方法およびモールドの製造方法並びにそれらに使用される現像液 |
| JP2013210411A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Fujifilm Corp | レジストの現像方法、レジストパターンの形成方法およびモールドの製造方法並びにそれらに使用される現像液 |
| KR20140148457A (ko) * | 2012-03-30 | 2014-12-31 | 후지필름 가부시키가이샤 | 레지스트의 현상 방법, 레지스트 패턴의 형성 방법, 몰드의 제조 방법, 및 그들에 사용되는 현상액 |
| US9417530B2 (en) | 2012-03-30 | 2016-08-16 | Fujifilm Corporation | Method for developing resist, method for forming a resist pattern, method for producing a mold, and developing fluid utilized in these methods |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3049863B2 (ja) | 2000-06-05 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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