JPH0547540A - 酸化物仮焼粉末，それを用いた高透磁率磁性材料及びその製造方法 - Google Patents
酸化物仮焼粉末，それを用いた高透磁率磁性材料及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH0547540A JPH0547540A JP3225279A JP22527991A JPH0547540A JP H0547540 A JPH0547540 A JP H0547540A JP 3225279 A JP3225279 A JP 3225279A JP 22527991 A JP22527991 A JP 22527991A JP H0547540 A JPH0547540 A JP H0547540A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide
- mol
- magnetic material
- powder
- permeability
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 低コストでしかも透磁率の高い通信機用の磁
性材料を提供する。 【構成】 ２０〜３０モル％酸化マンガン（ＭｎＯ），
２０〜３０モル％の酸化亜鉛（ＺｎＯ）及び残部酸化第
２鉄（Ｆｅ2 Ｏ3 ）を主成分として含む原料粉末を調整
する。次にこの原料粉末に，０〜０．１重量％をＢｉを
含む様に，Ｂｉ又はＢｉ化合物を添加し，６００〜１１
００℃で予備焼成して仮焼粉末を製造する。次に，この
仮焼粉末を粉砕し，バインダーを混合し，プレス成形
し，焼成することで高透磁率磁性材料を製造する。
性材料を提供する。 【構成】 ２０〜３０モル％酸化マンガン（ＭｎＯ），
２０〜３０モル％の酸化亜鉛（ＺｎＯ）及び残部酸化第
２鉄（Ｆｅ2 Ｏ3 ）を主成分として含む原料粉末を調整
する。次にこの原料粉末に，０〜０．１重量％をＢｉを
含む様に，Ｂｉ又はＢｉ化合物を添加し，６００〜１１
００℃で予備焼成して仮焼粉末を製造する。次に，この
仮焼粉末を粉砕し，バインダーを混合し，プレス成形
し，焼成することで高透磁率磁性材料を製造する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，高透磁率磁性材料及び
その製造方法に関し，詳しくは，通信機等に搭載される
スピネル型Ｍｎ−Ｚｎ系フェライトと，そのフェライト
を製造する方法に関する。
その製造方法に関し，詳しくは，通信機等に搭載される
スピネル型Ｍｎ−Ｚｎ系フェライトと，そのフェライト
を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来，通信機用の磁性材料の原料とし
て，主成分として２０〜３０モル％のマンガン酸化物
（ＭｎＯｘ），２０〜３０モル％の酸化亜鉛（Ｚｎ
Ｏ），及び残部の酸化第２鉄（Ｆｅ2 Ｏ3 ）の各粉末が
使用されている。この種の通信用磁性材料は，近年のノ
イズ法規制による周波数帯の拡大及び，小型化の要求に
伴い，広い周波数帯域特性を持つ高透磁率材料が必要と
なってきている。
て，主成分として２０〜３０モル％のマンガン酸化物
（ＭｎＯｘ），２０〜３０モル％の酸化亜鉛（Ｚｎ
Ｏ），及び残部の酸化第２鉄（Ｆｅ2 Ｏ3 ）の各粉末が
使用されている。この種の通信用磁性材料は，近年のノ
イズ法規制による周波数帯の拡大及び，小型化の要求に
伴い，広い周波数帯域特性を持つ高透磁率材料が必要と
なってきている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前述したように，通信
機用の磁性材料は，透磁率の高いことが必要とされる。
磁性材料において，高い透磁率を得るためには，組成が
均一であること，焼結体の結晶粒が均一でしかも粒径の
大きいこと，密度の高いこと，焼結体中の空孔が少ない
ことなどが要求される。
機用の磁性材料は，透磁率の高いことが必要とされる。
磁性材料において，高い透磁率を得るためには，組成が
均一であること，焼結体の結晶粒が均一でしかも粒径の
大きいこと，密度の高いこと，焼結体中の空孔が少ない
ことなどが要求される。
【０００４】この種の酸化物磁性材料として，Ｍｎ−Ｚ
ｎ系フェライトが用いられている。このＭｎ−Ｚｎ系フ
ェライトは，通常，マンガン酸化物，酸化亜鉛，酸化第
２鉄の粉末原料を秤量，混合後，予備焼成，粉砕，結合
剤との混合，プレス成形，焼成することによって製造さ
れている。しかし，焼成工程によって，前述のように組
成の均一化及び緻密化の促進を図ろうとすると，異常粒
成長を伴った結晶粒の成長が起こり，均一な組織制御を
行うことが非常に困難である。また，高密度化及び結晶
粒の把大化を図る為に，一般には１３００〜１４００℃
の焼成温度で焼成されるが，原料の熱分解に伴う重量減
少，ガスの発生に伴う体積の膨張，微粒子原料の焼結に
伴う著しい収縮等が起こり，製品にひび割れや変形等の
不具合が生じる。このため，従来において，焼成工程の
前段階において，一度予備焼成して組成の均質化及び粉
末粒子径の制御を行い，上述した問題点を解決する方法
がとられている。
ｎ系フェライトが用いられている。このＭｎ−Ｚｎ系フ
ェライトは，通常，マンガン酸化物，酸化亜鉛，酸化第
２鉄の粉末原料を秤量，混合後，予備焼成，粉砕，結合
剤との混合，プレス成形，焼成することによって製造さ
れている。しかし，焼成工程によって，前述のように組
成の均一化及び緻密化の促進を図ろうとすると，異常粒
成長を伴った結晶粒の成長が起こり，均一な組織制御を
行うことが非常に困難である。また，高密度化及び結晶
粒の把大化を図る為に，一般には１３００〜１４００℃
の焼成温度で焼成されるが，原料の熱分解に伴う重量減
少，ガスの発生に伴う体積の膨張，微粒子原料の焼結に
伴う著しい収縮等が起こり，製品にひび割れや変形等の
不具合が生じる。このため，従来において，焼成工程の
前段階において，一度予備焼成して組成の均質化及び粉
末粒子径の制御を行い，上述した問題点を解決する方法
がとられている。
【０００５】ここで，予備焼成は，一般に，トンネル式
電気炉あるいはロータリーキルン等により，７００〜１
２００℃の温度範囲で，大気中あるいは不活性雰囲気中
で行われている。この予備焼成した粉末の粒度分布は，
一般に広いことが知られている。このように，粒度分布
の広い予備焼成粉末は，後工程である焼成工程による焼
結体の組織制御が困難なため，結晶粒径の均一な把大化
が図れず，透磁率の低下を招く。焼成条件によりある程
度の組織制御は可能であるが，焼成条件の複雑化は避け
られず，透磁率を根本的に改善することはできない。ま
た，焼成条件の複雑化は，焼成炉の選定に十分な配慮が
要求される上，高コストの原因にもなっている。そこ
で，本発明の技術的課題は，低コストでしかも透磁率の
高い通信機用の磁性材料，その磁性材料を製造するため
の酸化物仮焼粉末，磁性材料の製造方法，及び酸化物仮
焼粉末の製造方法を提供することにある。
電気炉あるいはロータリーキルン等により，７００〜１
２００℃の温度範囲で，大気中あるいは不活性雰囲気中
で行われている。この予備焼成した粉末の粒度分布は，
一般に広いことが知られている。このように，粒度分布
の広い予備焼成粉末は，後工程である焼成工程による焼
結体の組織制御が困難なため，結晶粒径の均一な把大化
が図れず，透磁率の低下を招く。焼成条件によりある程
度の組織制御は可能であるが，焼成条件の複雑化は避け
られず，透磁率を根本的に改善することはできない。ま
た，焼成条件の複雑化は，焼成炉の選定に十分な配慮が
要求される上，高コストの原因にもなっている。そこ
で，本発明の技術的課題は，低コストでしかも透磁率の
高い通信機用の磁性材料，その磁性材料を製造するため
の酸化物仮焼粉末，磁性材料の製造方法，及び酸化物仮
焼粉末の製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば，２０〜
３０モル％酸化マンガン（ＭｎＯ），２０〜３０モル％
の酸化亜鉛（ＺｎＯ）及び残部酸化第２鉄（Ｆｅ
2 Ｏ3 ）を主成分として含み，添加物として０〜０．１
重量％のＢｉ成分を含むことを特徴とする酸化物仮焼粉
末が得られる。本発明によれば，２０〜３０モル％酸化
マンガン（ＭｎＯ），２０〜３０モル％の酸化亜鉛（Ｚ
ｎＯ）及び残部酸化第２鉄（Ｆｅ2 Ｏ3 ）を主成分とし
て含み，添加物として０〜０．１重量％のＢｉ成分を含
むことを特徴とする高透磁率磁性材料が得られる。本発
明によれば，２０〜３０モル％酸化マンガン（Ｍｎ
Ｏ），２０〜３０モル％の酸化亜鉛（ＺｎＯ）及び残部
酸化第２鉄（Ｆｅ2 Ｏ3 ）を主成分として含む原料粉末
に，０〜０．１重量％のＢｉを含むように，Ｂｉ又はＢ
ｉ化合物を添加し，６００〜１１００℃で予備焼成する
ことを特徴とする酸化物仮焼粉末の製造方法が得られ
る。本発明によれば，前記酸化物焼成粉末を粉砕し，バ
インダーを混合し，プレス成形し，焼成することを特徴
とする高透磁率磁性材料の製造方法が得られる。
３０モル％酸化マンガン（ＭｎＯ），２０〜３０モル％
の酸化亜鉛（ＺｎＯ）及び残部酸化第２鉄（Ｆｅ
2 Ｏ3 ）を主成分として含み，添加物として０〜０．１
重量％のＢｉ成分を含むことを特徴とする酸化物仮焼粉
末が得られる。本発明によれば，２０〜３０モル％酸化
マンガン（ＭｎＯ），２０〜３０モル％の酸化亜鉛（Ｚ
ｎＯ）及び残部酸化第２鉄（Ｆｅ2 Ｏ3 ）を主成分とし
て含み，添加物として０〜０．１重量％のＢｉ成分を含
むことを特徴とする高透磁率磁性材料が得られる。本発
明によれば，２０〜３０モル％酸化マンガン（Ｍｎ
Ｏ），２０〜３０モル％の酸化亜鉛（ＺｎＯ）及び残部
酸化第２鉄（Ｆｅ2 Ｏ3 ）を主成分として含む原料粉末
に，０〜０．１重量％のＢｉを含むように，Ｂｉ又はＢ
ｉ化合物を添加し，６００〜１１００℃で予備焼成する
ことを特徴とする酸化物仮焼粉末の製造方法が得られ
る。本発明によれば，前記酸化物焼成粉末を粉砕し，バ
インダーを混合し，プレス成形し，焼成することを特徴
とする高透磁率磁性材料の製造方法が得られる。
【０００７】
【作用】本発明により予備焼成した酸化物仮焼粉末は，
処理する粉末の量にかかわらず，均一な粒子径で粒度分
布のシャープな粉末が得られるので，高い焼成温度で焼
成される場合においても焼結組織の制御が容易に行え，
結晶粒の均一な把大化及び高密度化が図れる。また，焼
成条件の簡略化が図れ，コストの大幅な低減を図ること
ができる。
処理する粉末の量にかかわらず，均一な粒子径で粒度分
布のシャープな粉末が得られるので，高い焼成温度で焼
成される場合においても焼結組織の制御が容易に行え，
結晶粒の均一な把大化及び高密度化が図れる。また，焼
成条件の簡略化が図れ，コストの大幅な低減を図ること
ができる。
【０００８】
【実施例】以下，本発明に係る実施例について図面を参
照して説明する。
照して説明する。
【０００９】（実施例１）図１は，９００℃で予備焼成
した酸化物仮焼粉末の粒度分布を示したグラフである。
図１における試料１，２は，それぞれ主成分として２
５．０モル％のＭｎＯ，２２．０モル％のＺｎＯ，残部
は５３．０モル％のＦｅ2 Ｏ3 を含有するＭｎ−Ｚｎ系
フェライトを示している。試料１は，上記組成の酸化物
粉末にビスマス成分として０．０５重量％含有するよう
に，酸化ビスマス（Ｂｉ2 Ｏ3 ）を添加した後，９００
℃で予備焼成した酸化物予焼成粉末である。試料２は比
較試料で，Ｂｉ2 Ｏ3 を添加せずに９００℃で予備焼成
した酸化物仮焼粉末である。この実施例（図１）より，
本発明品（試料１）は比較試料（試料２）に比べ，粒度
分布が明らかにシャープになっていることがわかる。
した酸化物仮焼粉末の粒度分布を示したグラフである。
図１における試料１，２は，それぞれ主成分として２
５．０モル％のＭｎＯ，２２．０モル％のＺｎＯ，残部
は５３．０モル％のＦｅ2 Ｏ3 を含有するＭｎ−Ｚｎ系
フェライトを示している。試料１は，上記組成の酸化物
粉末にビスマス成分として０．０５重量％含有するよう
に，酸化ビスマス（Ｂｉ2 Ｏ3 ）を添加した後，９００
℃で予備焼成した酸化物予焼成粉末である。試料２は比
較試料で，Ｂｉ2 Ｏ3 を添加せずに９００℃で予備焼成
した酸化物仮焼粉末である。この実施例（図１）より，
本発明品（試料１）は比較試料（試料２）に比べ，粒度
分布が明らかにシャープになっていることがわかる。
【００１０】（実施例２）本発明の実施例に係る高透磁
率磁性材料の特性を表１に示す。
率磁性材料の特性を表１に示す。
【００１１】
【表１】
【００１２】表１における試料３，４，５は，それぞれ
主成分として２５．０モル％のＭｎＯ，２２．０モル％
のＺｎＯ，残部Ｆｅ2 Ｏ3 を含有するＭｎ−Ｚｎ系フェ
ライトである。試料３は，上記組成の酸化物粉末に，ビ
スマス成分として０．０３重量％含有するように酸化ビ
スマス（Ｂｉ2Ｏ3 ）を添加し，次いで９００℃で予備
焼成した酸化物仮焼粉末を，粉砕，バインダー混合，プ
レス成形，焼成した高透磁率磁性材料である。また，試
料４は比較試料で，上記組成の酸化物粉末を９００℃で
予備焼成した後，粉砕時においてビスマス成分として
０．０３重量％含有されるよう酸化ビスマス（Ｂｉ2 Ｏ
3 ）を添加し，次いでバインダー混合，プレス成形，焼
成して得られた高透磁率磁性材料である。ここで，μi
は初透磁率，tan δ／μi は相対損失係数，ｈ10は相対
ヒステリシス損失係数であり，周波数ｆ＝１０kHz の時
の値である。又，Ｂ15は，直流印加磁場１５Oeの時の最
大磁束密度である。図２には，初透磁率μi の周波数特
性を示した。尚，図中の番号は，表１の試料番号に対応
する。表１及び図２に示すように，本発明品（試料３及
び試料４）は，全周波数範囲で初透磁率μi が比較試料
（試料５）のフェライトよりも優れていることがわか
る。
主成分として２５．０モル％のＭｎＯ，２２．０モル％
のＺｎＯ，残部Ｆｅ2 Ｏ3 を含有するＭｎ−Ｚｎ系フェ
ライトである。試料３は，上記組成の酸化物粉末に，ビ
スマス成分として０．０３重量％含有するように酸化ビ
スマス（Ｂｉ2Ｏ3 ）を添加し，次いで９００℃で予備
焼成した酸化物仮焼粉末を，粉砕，バインダー混合，プ
レス成形，焼成した高透磁率磁性材料である。また，試
料４は比較試料で，上記組成の酸化物粉末を９００℃で
予備焼成した後，粉砕時においてビスマス成分として
０．０３重量％含有されるよう酸化ビスマス（Ｂｉ2 Ｏ
3 ）を添加し，次いでバインダー混合，プレス成形，焼
成して得られた高透磁率磁性材料である。ここで，μi
は初透磁率，tan δ／μi は相対損失係数，ｈ10は相対
ヒステリシス損失係数であり，周波数ｆ＝１０kHz の時
の値である。又，Ｂ15は，直流印加磁場１５Oeの時の最
大磁束密度である。図２には，初透磁率μi の周波数特
性を示した。尚，図中の番号は，表１の試料番号に対応
する。表１及び図２に示すように，本発明品（試料３及
び試料４）は，全周波数範囲で初透磁率μi が比較試料
（試料５）のフェライトよりも優れていることがわか
る。
【００１３】（実施例３）本発明の実施例３に係る高透
磁率磁性材料の特性を図３に示す。各試料は，それぞれ
主成分として２５．０モル％のＭｎＯ，２２．０モル％
のＺｎＯ，残部は５３．０モル％のＦｅ2 Ｏ3 を含有す
るＭｎ−Ｚｎ系フェライトである。各試料は，上記組成
の酸化物粉末にＢｉ2 Ｏ3 を添加して９００℃で予備焼
成した酸化物仮焼粉末を，粉砕，バインダー混合，プレ
ス成形，焼成した高透磁率磁性材料である。尚，図３に
おいては，周波数１０kHz での初透磁率μiとビスマス
含有量との関係を示している。図３に示すように，ビス
マスの含有量が０．１重量％までは初透磁率μi は向上
する傾向にあるが，０．１重量％を越えると初透磁率μ
i は急激に低下することがわかる。初透磁率μi のレベ
ルが０．１重量％を越えると低下するのは，空孔の数の
増加に伴う磁壁移動の防げ，あるいは結晶粒子への歪の
ためと考えられる。
磁率磁性材料の特性を図３に示す。各試料は，それぞれ
主成分として２５．０モル％のＭｎＯ，２２．０モル％
のＺｎＯ，残部は５３．０モル％のＦｅ2 Ｏ3 を含有す
るＭｎ−Ｚｎ系フェライトである。各試料は，上記組成
の酸化物粉末にＢｉ2 Ｏ3 を添加して９００℃で予備焼
成した酸化物仮焼粉末を，粉砕，バインダー混合，プレ
ス成形，焼成した高透磁率磁性材料である。尚，図３に
おいては，周波数１０kHz での初透磁率μiとビスマス
含有量との関係を示している。図３に示すように，ビス
マスの含有量が０．１重量％までは初透磁率μi は向上
する傾向にあるが，０．１重量％を越えると初透磁率μ
i は急激に低下することがわかる。初透磁率μi のレベ
ルが０．１重量％を越えると低下するのは，空孔の数の
増加に伴う磁壁移動の防げ，あるいは結晶粒子への歪の
ためと考えられる。
【００１４】（実施例４）本発明の実施例４に係る高透
磁率磁性材料の特性を図４に示す。各試料は，それぞれ
主成分として２５．０モル％のＭｎＯ，２２．０モル％
のＺｎＯ，残部は５３．０モル％のＦｅ2 Ｏ3 を含有す
るＭｎ−Ｚｎ系フェライトである。各試料は，上記組成
の酸化物粉末にビスマス成分として０．０５重量％含有
されるよう酸化ビスマス（Ｂｉ2 Ｏ3 ）を添加し，次い
で各種温度で予備焼成した酸化物仮焼粉末を，バインダ
ー混合，プレス成形，焼成した高透磁率磁性材料であ
る。尚，図４においては，周波数１０kHz での初透磁率
μi と予備焼成温度との関係を示している。図４に示す
ように，６００〜１１００℃の温度範囲で予備焼成した
試料のμiは向上する傾向にあるが，それ以外の温度で
予備焼成を行うと初透磁率μi が低下することがわか
る。また，予備焼成温度が６００℃以下の場合には，酸
化物仮焼粉末の粒度分布をシャープにすることができな
い。このため，焼結組織の制御が非常に困難で，均一な
結晶粒径を得ることができず透磁率が低下する。一方，
１１００℃以上で予備焼成した場合には，顕著な粉末の
粒成長が起こり，そのままでは緻密な焼結体を得ること
ができない。後工程の粉砕によって焼結性の向上を図る
ことは可能であるが，粉末の粒度分布が広くなるため組
織制御が困難となり，６００℃以下で予備焼成した場合
と同様の問題が生じる。
磁率磁性材料の特性を図４に示す。各試料は，それぞれ
主成分として２５．０モル％のＭｎＯ，２２．０モル％
のＺｎＯ，残部は５３．０モル％のＦｅ2 Ｏ3 を含有す
るＭｎ−Ｚｎ系フェライトである。各試料は，上記組成
の酸化物粉末にビスマス成分として０．０５重量％含有
されるよう酸化ビスマス（Ｂｉ2 Ｏ3 ）を添加し，次い
で各種温度で予備焼成した酸化物仮焼粉末を，バインダ
ー混合，プレス成形，焼成した高透磁率磁性材料であ
る。尚，図４においては，周波数１０kHz での初透磁率
μi と予備焼成温度との関係を示している。図４に示す
ように，６００〜１１００℃の温度範囲で予備焼成した
試料のμiは向上する傾向にあるが，それ以外の温度で
予備焼成を行うと初透磁率μi が低下することがわか
る。また，予備焼成温度が６００℃以下の場合には，酸
化物仮焼粉末の粒度分布をシャープにすることができな
い。このため，焼結組織の制御が非常に困難で，均一な
結晶粒径を得ることができず透磁率が低下する。一方，
１１００℃以上で予備焼成した場合には，顕著な粉末の
粒成長が起こり，そのままでは緻密な焼結体を得ること
ができない。後工程の粉砕によって焼結性の向上を図る
ことは可能であるが，粉末の粒度分布が広くなるため組
織制御が困難となり，６００℃以下で予備焼成した場合
と同様の問題が生じる。
【００１５】尚，本発明の実施例においては，Ｂｉ2 Ｏ
3 添加による高透磁率磁性材料についてのみ述べている
が，本発明が対象とするビスマス化合物は種類を限定す
るものではなく，フェライトの磁気特性を劣化させるよ
うな元素を含まないものであれば，本発明を適用できる
ことは当業者であれば容易に想到できる。
3 添加による高透磁率磁性材料についてのみ述べている
が，本発明が対象とするビスマス化合物は種類を限定す
るものではなく，フェライトの磁気特性を劣化させるよ
うな元素を含まないものであれば，本発明を適用できる
ことは当業者であれば容易に想到できる。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように，本発明によれば，
予備焼成の前段階に０〜０．１重量％（０％を除く）の
ビスマス成分が含有されるよう，ビスマス又はビスマス
化合物を添加し，次いで６００〜１１００℃で予備焼成
することにより，粒度分布の極めてシャープな酸化物仮
焼粉末が得られる。このため，本発明による酸化物仮焼
粉末は，焼成工程における焼結体の組織制御が容易に行
うことができるので，焼成条件の簡略化が図れる。又，
本発明による酸化物仮焼粉末を粉砕，バインダー混合，
プレス成形，焼成することにより，簡単に高透磁率磁性
材料を得ることができる。即ち本発明によれば，低コス
トでしかも透磁率の高い通信機用の磁性材料を提供する
ことができる。
予備焼成の前段階に０〜０．１重量％（０％を除く）の
ビスマス成分が含有されるよう，ビスマス又はビスマス
化合物を添加し，次いで６００〜１１００℃で予備焼成
することにより，粒度分布の極めてシャープな酸化物仮
焼粉末が得られる。このため，本発明による酸化物仮焼
粉末は，焼成工程における焼結体の組織制御が容易に行
うことができるので，焼成条件の簡略化が図れる。又，
本発明による酸化物仮焼粉末を粉砕，バインダー混合，
プレス成形，焼成することにより，簡単に高透磁率磁性
材料を得ることができる。即ち本発明によれば，低コス
トでしかも透磁率の高い通信機用の磁性材料を提供する
ことができる。
【図１】本発明の実施例１に係る９００℃で予備焼成し
た酸化物仮焼粉末の粒度分布を示したグラフである。
た酸化物仮焼粉末の粒度分布を示したグラフである。
【図２】本発明の実施例２に係る高透磁率磁性材料の初
透磁率μi の周波数依存性を示したグラフである。尚，
図面上の番号は，表１の試料番号に対応している。
透磁率μi の周波数依存性を示したグラフである。尚，
図面上の番号は，表１の試料番号に対応している。
【図３】本発明の実施例３に係る高透磁率磁性材料の周
波数１０kHz での初透磁率μiと，ピスマス含有量との
関係を示したグラフである。
波数１０kHz での初透磁率μiと，ピスマス含有量との
関係を示したグラフである。
【図４】本発明の実施例４に係る高透磁率磁性材料の周
波数１０kHz での初透磁率μiと予備焼成温度との関係
を示したグラフである。
波数１０kHz での初透磁率μiと予備焼成温度との関係
を示したグラフである。
Claims (4)
- 【請求項１】 ２０〜３０モル％酸化マンガン（Ｍｎ
Ｏ），２０〜３０モル％の酸化亜鉛（ＺｎＯ）及び残部
酸化第２鉄（Ｆｅ2 Ｏ3 ）を主成分として含み，添加物
として０〜０．１重量％のＢｉ成分を含むことを特徴と
する酸化物仮焼粉末。 - 【請求項２】 ２０〜３０モル％酸化マンガン（Ｍｎ
Ｏ），２０〜３０モル％の酸化亜鉛（ＺｎＯ）及び残部
酸化第２鉄（Ｆｅ2 Ｏ3 ）を主成分として含み，添加物
として０〜０．１重量％のＢｉ成分を含むことを特徴と
する高透磁率磁性材料。 - 【請求項３】 ２０〜３０モル％酸化マンガン（Ｍｎ
Ｏ），２０〜３０モル％の酸化亜鉛（ＺｎＯ）及び残部
酸化第２鉄（Ｆｅ2 Ｏ3 ）を主成分として含む原料粉末
に，０〜０．１重量％のＢｉを含むように，Ｂｉ又はＢ
ｉ化合物を添加し，６００〜１１００℃で予備焼成する
ことを特徴とする酸化物仮焼粉末の製造方法。 - 【請求項４】 請求項１の酸化物仮焼粉末を粉砕し，バ
インダーを混合し，プレス成形し，焼成することを特徴
とする高透磁率磁性材料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3225279A JPH0547540A (ja) | 1991-08-12 | 1991-08-12 | 酸化物仮焼粉末，それを用いた高透磁率磁性材料及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3225279A JPH0547540A (ja) | 1991-08-12 | 1991-08-12 | 酸化物仮焼粉末，それを用いた高透磁率磁性材料及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0547540A true JPH0547540A (ja) | 1993-02-26 |
Family
ID=16826845
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3225279A Pending JPH0547540A (ja) | 1991-08-12 | 1991-08-12 | 酸化物仮焼粉末，それを用いた高透磁率磁性材料及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0547540A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015091748A (ja) * | 2013-10-04 | 2015-05-14 | Ｎｅｃトーキン株式会社 | フェライトコアおよびその製造方法 |
-
1991
- 1991-08-12 JP JP3225279A patent/JPH0547540A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015091748A (ja) * | 2013-10-04 | 2015-05-14 | Ｎｅｃトーキン株式会社 | フェライトコアおよびその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3584438B2 (ja) | Ｍｎ−Ｚｎフェライトおよびその製造方法 | |
| JPH11307336A (ja) | 軟磁性フェライトの製造方法 | |
| JPH0574623A (ja) | 高透磁率磁性材料及びその製造方法 | |
| JP2708160B2 (ja) | フェライトの製造方法 | |
| JP5580961B2 (ja) | 酸化磁性材料およびその製造方法 | |
| JPH0521222A (ja) | ニツケル−亜鉛系フエライトの製造方法 | |
| JP3654303B2 (ja) | 低損失磁性材料 | |
| JPH10144514A (ja) | 酸化物仮焼粉末、それを用いた酸化物磁性材料及びその製造方法 | |
| JP3590454B2 (ja) | 高周波用酸化物磁芯材料 | |
| JP2726388B2 (ja) | 高透磁率高飽和磁束密度Ｎｉ系フェライト磁心とその製造方法 | |
| JPH05267038A (ja) | 酸化物磁性材料の製造方法 | |
| JP3099245B2 (ja) | 低損失酸化物磁性材料の製造方法 | |
| JP3545438B2 (ja) | Ｎｉ−Ｚｎ系フェライト粉の製造方法 | |
| JP3704424B2 (ja) | 誘電体材料 | |
| JP2939035B2 (ja) | 酸化物軟質磁性材料 | |
| JP2816946B2 (ja) | 高周波用酸化物磁性材料 | |
| JPH1143375A (ja) | ソフトフェライト焼成用セッターの製造方法 | |
| JPH097814A (ja) | 酸化物磁性材料及びその製造方法 | |
| JPH0529125A (ja) | 酸化物磁性材料の製造方法 | |
| JPH09306718A (ja) | フェライト磁性材料とその製造方法 | |
| JPH07133114A (ja) | 低損失酸化物磁性材料及びその製造方法 | |
| JP2934589B2 (ja) | Ｎｉ―Ｚｎ系フェライトの製造方法 | |
| JP2801796B2 (ja) | ソフトフェライトの製造方法 | |
| JPH10335130A (ja) | Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト材料 | |
| JPH06140230A (ja) | 低損失酸化物磁性材料の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20010404 |