JPH0547552B2 - - Google Patents
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- JPH0547552B2 JPH0547552B2 JP63212640A JP21264088A JPH0547552B2 JP H0547552 B2 JPH0547552 B2 JP H0547552B2 JP 63212640 A JP63212640 A JP 63212640A JP 21264088 A JP21264088 A JP 21264088A JP H0547552 B2 JPH0547552 B2 JP H0547552B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明はシリルケテンアセタールの製造方法に
係る。より詳しく述べると、本発明は三置換シラ
ンと式
係る。より詳しく述べると、本発明は三置換シラ
ンと式
シリルケテンアセタール（SKA）の製造に関
する最初の文献は1950年代後半のPetrovらによ
るJ.Gen.Chem.（USSR）、29（1959）、2896〜2899
頁であつた。この文献及びこの技術に関するその
他の文献は一般式：
する最初の文献は1950年代後半のPetrovらによ
るJ.Gen.Chem.（USSR）、29（1959）、2896〜2899
頁であつた。この文献及びこの技術に関するその
他の文献は一般式：
しかしながら、ここに、三置換シランとアリル
２−オルガノアクリレートの反応によりビス（シ
リル）ケテンアセタールが調製可能であることが
見出された。 本発明は、アリル２−オルガノアクリレート
２−オルガノアクリレートの反応によりビス（シ
リル）ケテンアセタールが調製可能であることが
見出された。 本発明は、アリル２−オルガノアクリレート
【式】と三置換シラン
の間のヒドロシル化反応は、予想されるSKAで
ある
ある
【式】ではな
く、（CH3）RC＝Ｃ（OSiRi 3）2なるBSKAを生成
するという予期せざる結果にもとづいて為された
ものである。本発明者はアリル２−オルガノアク
リレートと三置換シランの反応中にアリル基がプ
ロパンとして放出されると考える。 BSKAは三置換シリル２−オルガノアクリレ
ートと三置換シランのハイドロシル化反応で生成
することができる。しかしながら、三置換シリル
２−オルガノアクリレート
するという予期せざる結果にもとづいて為された
ものである。本発明者はアリル２−オルガノアク
リレートと三置換シランの反応中にアリル基がプ
ロパンとして放出されると考える。 BSKAは三置換シリル２−オルガノアクリレ
ートと三置換シランのハイドロシル化反応で生成
することができる。しかしながら、三置換シリル
２−オルガノアクリレート
【式】
は市販されていないので、この反応のために特別
に合成する必要があろう。例えばアリルメタクリ
レートのような多くのアリル２−オルガノアクリ
レートは市販されている。BSKAの生成にアリ
ル２−オルガノアクリレートを使用できることは
原料と製造のコストを直接に低減する。さらに、
本発明者は三置換シリル２−オルガノアクリレー
トはアリル２−オルガノアクリレートと三置換シ
ランの反応中に生成する中間体であると考えてい
る。 本発明に従えば、以下に詳述する条件下で三置
換シランとアリル２−オルガノアクリレートの反
応によるビス（シリル）ケテンアセタールの調製
方法が提供される。すなわち、本発明によれば、 (A) ロジウム触媒の存在において、式： （式中、Ｒはアルキル基、アリール基、アルカ
リール基、置換アルキル基、置換アリール基、
及び置換アルカリール基からなる群より選ばれ
る。）を有するアリル２−オルガノアクリレー
トと、式：Ri 3SiH（式中Riは独立してアルキル
基、アリール基、アルカリール基、置換アルキ
ル基、置換アリール基、置換アルカリール基、
アルコキシ基、ハロゲン原子、及びオルガノシ
ロキシ基からなる群より選ばれる。）を有する
三置換シランとを接触させ、そして (B) ビス（シリル）ケテンアセタールを分離及び
単離する 工程からなる式（CH3）RC＝Ｃ（OSiRi 3）2（式中、
Ｒ及びRiは上記の通りに定義される。）を有する
ビス（シリル）ケテンアセタールの製造する方法
が提供される。 本発明の目的において、「置換アルキル基、置
換アリール基及び置換アルカリール基」とはシリ
ル化条件下で不活性な１又はそれ以上の置換官能
基を含むアルキル基、アリール基及びアルカリー
ル基である。このような官能基の例はエーテル
基、第３アミノ基、アミド基、チオ基、カルボニ
ル基及びオルガノシロキシ基がある。本発明の目
的において「オルガノシロキシ基」は式−OSiR3
（式中、Ｒは上記定義の通りである。）を有する。 本発明の方法で調製するBSKAは、例えば、 （CH3）2C＝Ｃ〔OSi（CH3）3〕2、 （CH3）（C2H5）Ｃ＝Ｃ〔OSi（CH3）3〕2、 （CH3）2C＝Ｃ〔OSi（CH3）2（C2H5）〕2、 （CH3）（C6H5）Ｃ＝Ｃ〔OSi（CH3）3〕2、 （CH3）（C6H4Cl）Ｃ＝Ｃ〔OSi（CH3）3〕2、 （CH3）（CH2Br）Ｃ＝Ｃ〔OSi（CH3）3〕2、 （CH3）2C＝Ｃ〔OSiCl3〕2、 （CH3）2C＝Ｃ〔OSi（OCH3）3〕2、 （CH3）2C＝Ｃ〔OSi（CH3）（C6H5）Cl〕2、及び （CH3）2C＝Ｃ｛OSi〔OSi（CH3）3〕3｝2・ アリル２−オルガノアクリレートは、例えば、
に合成する必要があろう。例えばアリルメタクリ
レートのような多くのアリル２−オルガノアクリ
レートは市販されている。BSKAの生成にアリ
ル２−オルガノアクリレートを使用できることは
原料と製造のコストを直接に低減する。さらに、
本発明者は三置換シリル２−オルガノアクリレー
トはアリル２−オルガノアクリレートと三置換シ
ランの反応中に生成する中間体であると考えてい
る。 本発明に従えば、以下に詳述する条件下で三置
換シランとアリル２−オルガノアクリレートの反
応によるビス（シリル）ケテンアセタールの調製
方法が提供される。すなわち、本発明によれば、 (A) ロジウム触媒の存在において、式： （式中、Ｒはアルキル基、アリール基、アルカ
リール基、置換アルキル基、置換アリール基、
及び置換アルカリール基からなる群より選ばれ
る。）を有するアリル２−オルガノアクリレー
トと、式：Ri 3SiH（式中Riは独立してアルキル
基、アリール基、アルカリール基、置換アルキ
ル基、置換アリール基、置換アルカリール基、
アルコキシ基、ハロゲン原子、及びオルガノシ
ロキシ基からなる群より選ばれる。）を有する
三置換シランとを接触させ、そして (B) ビス（シリル）ケテンアセタールを分離及び
単離する 工程からなる式（CH3）RC＝Ｃ（OSiRi 3）2（式中、
Ｒ及びRiは上記の通りに定義される。）を有する
ビス（シリル）ケテンアセタールの製造する方法
が提供される。 本発明の目的において、「置換アルキル基、置
換アリール基及び置換アルカリール基」とはシリ
ル化条件下で不活性な１又はそれ以上の置換官能
基を含むアルキル基、アリール基及びアルカリー
ル基である。このような官能基の例はエーテル
基、第３アミノ基、アミド基、チオ基、カルボニ
ル基及びオルガノシロキシ基がある。本発明の目
的において「オルガノシロキシ基」は式−OSiR3
（式中、Ｒは上記定義の通りである。）を有する。 本発明の方法で調製するBSKAは、例えば、 （CH3）2C＝Ｃ〔OSi（CH3）3〕2、 （CH3）（C2H5）Ｃ＝Ｃ〔OSi（CH3）3〕2、 （CH3）2C＝Ｃ〔OSi（CH3）2（C2H5）〕2、 （CH3）（C6H5）Ｃ＝Ｃ〔OSi（CH3）3〕2、 （CH3）（C6H4Cl）Ｃ＝Ｃ〔OSi（CH3）3〕2、 （CH3）（CH2Br）Ｃ＝Ｃ〔OSi（CH3）3〕2、 （CH3）2C＝Ｃ〔OSiCl3〕2、 （CH3）2C＝Ｃ〔OSi（OCH3）3〕2、 （CH3）2C＝Ｃ〔OSi（CH3）（C6H5）Cl〕2、及び （CH3）2C＝Ｃ｛OSi〔OSi（CH3）3〕3｝2・ アリル２−オルガノアクリレートは、例えば、
【式】（アリルメ
タクリレート）、
【式】及び
当業者が本発明をより良く理解し評価できるよ
うに以下の実施例を示す。これらはあくまでも説
明を目的とするもので、限定的意図はない。 例 １ 実験室の反応フラスコにアリルメタクリレート
（AMA）25ｇ（0.2モル）、テトラヒドロフラン
（THF）に溶解したRhCl3・3H2Oの0.03M溶液
4.3ml、及びブチル化ヒドロキシトルエン
（BHT）0.32ｇの溶液を入れた。この反応混合物
のロジウム含分はAMAに関するモル基準で約
500ppmである。反応フラスコにはメカニカルス
ターラ、加熱装置、及び還流凝縮器を装備した。
フラスコは２体積％の酸素を含む炭素ガスでパー
ジした。 フラスコの中味を41℃に加熱した。トリメチル
シラン（TMS）を加圧下の液化ガスとしてフラ
スコに供給した。数mlのTMSをフラスコに添加
したとき、フラスコの中味の温度を65℃に加熱し
た。加熱マントルを下げ、フラスコの中味を54℃
に冷却した。次に約10〜15mlのTMSをフラスコ
に添加した。それからフラスコの中味を31℃に冷
却したが反応の証拠はなかつた。RhCl3・3H2O
の0.03M THF溶液２mlをフラスコに添加した。
発熱は認められなかつた。反応混合物を再び加熱
した。65℃で、THF／ロジウム触媒溶液４mlを
フラスコに添加した。TMSの添加を再開した。
反応混合物の温度が77℃に上昇した。反応フラス
コの冷却とTMSの添加を交互に続けて、反応混
合物の分析がAMAを完全に消費したことを示す
まで続けた。合計で約61ml（0.52モル）のTMS
を添加した。フラスコ中の混合物の最終ロジウム
含有はAMAに関するモル基準で約1200ppmであ
る。 最初にTMSを添加してから51分、64分、78分
及び115分後に、フラスコの中味の試料を採取し
た。これらの試料をそれぞれ試料Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ
と称する。これらの試料をガスクロマトグラフイ
ー及び質量分析装置で分析した。これらの分析法
により、シリルケテンアセタール（CH3）2C＝Ｃ
〔OSi（CH3）3〕2、未反応AMAとトリメチルシリ
ルメタクリレート（TMSMA）の混合物である
成分、及び触媒溶剤のTHFが同定された。質量
分析法−ガスクロマトグラフイー法によりフラス
コの中味はカルボニルアダクトCH2＝Ｃ（CH3）
CH〔OSi（CH3）3〕2を全く含んでいないことを示し
た。表１に分析結果をまとめて示す。示された結
果は、THFの含分（「THF（％）」で示す）、未反
応AMAとTMSMAの混合物（「Mix（％）」で示
す）、BSKA含分（「SKA（％）」で示す）、残りの
含分（「その他（％）」で示す）であり、これらの
結果はガスクロマトグラフイーの面積のパーセン
トによる値である。
うに以下の実施例を示す。これらはあくまでも説
明を目的とするもので、限定的意図はない。 例 １ 実験室の反応フラスコにアリルメタクリレート
（AMA）25ｇ（0.2モル）、テトラヒドロフラン
（THF）に溶解したRhCl3・3H2Oの0.03M溶液
4.3ml、及びブチル化ヒドロキシトルエン
（BHT）0.32ｇの溶液を入れた。この反応混合物
のロジウム含分はAMAに関するモル基準で約
500ppmである。反応フラスコにはメカニカルス
ターラ、加熱装置、及び還流凝縮器を装備した。
フラスコは２体積％の酸素を含む炭素ガスでパー
ジした。 フラスコの中味を41℃に加熱した。トリメチル
シラン（TMS）を加圧下の液化ガスとしてフラ
スコに供給した。数mlのTMSをフラスコに添加
したとき、フラスコの中味の温度を65℃に加熱し
た。加熱マントルを下げ、フラスコの中味を54℃
に冷却した。次に約10〜15mlのTMSをフラスコ
に添加した。それからフラスコの中味を31℃に冷
却したが反応の証拠はなかつた。RhCl3・3H2O
の0.03M THF溶液２mlをフラスコに添加した。
発熱は認められなかつた。反応混合物を再び加熱
した。65℃で、THF／ロジウム触媒溶液４mlを
フラスコに添加した。TMSの添加を再開した。
反応混合物の温度が77℃に上昇した。反応フラス
コの冷却とTMSの添加を交互に続けて、反応混
合物の分析がAMAを完全に消費したことを示す
まで続けた。合計で約61ml（0.52モル）のTMS
を添加した。フラスコ中の混合物の最終ロジウム
含有はAMAに関するモル基準で約1200ppmであ
る。 最初にTMSを添加してから51分、64分、78分
及び115分後に、フラスコの中味の試料を採取し
た。これらの試料をそれぞれ試料Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ
と称する。これらの試料をガスクロマトグラフイ
ー及び質量分析装置で分析した。これらの分析法
により、シリルケテンアセタール（CH3）2C＝Ｃ
〔OSi（CH3）3〕2、未反応AMAとトリメチルシリ
ルメタクリレート（TMSMA）の混合物である
成分、及び触媒溶剤のTHFが同定された。質量
分析法−ガスクロマトグラフイー法によりフラス
コの中味はカルボニルアダクトCH2＝Ｃ（CH3）
CH〔OSi（CH3）3〕2を全く含んでいないことを示し
た。表１に分析結果をまとめて示す。示された結
果は、THFの含分（「THF（％）」で示す）、未反
応AMAとTMSMAの混合物（「Mix（％）」で示
す）、BSKA含分（「SKA（％）」で示す）、残りの
含分（「その他（％）」で示す）であり、これらの
結果はガスクロマトグラフイーの面積のパーセン
トによる値である。
【表】
上記の結果は式
【式】を有す
シリルケテンアセタールの生成という予想に反し
て、ビス（シリル）ケテンアセタールが生成した
ことを示している。 例 ２ 例１で用いたと同様な原材料、装置、手順及び
分析法を適用した。126ｇ（1.0モル）のAMA、
29mlのRhCl3＝3H2Oの0.03M THF溶液、及び
0.13ｇのBHTの溶液をフラスコに入れ、急激に
攪拌した。フラスコとその内味を２体積％の酸素
を含む窒素流でパージした。 TMSを少量添加し、次に冷却して発熱を吸収
し、次にTMSを後添加し、そして必要なときに
はロジウム触媒溶液を添加した。 表２はTMSとロジウム触媒溶液のフラスコへ
の添加を時間の関数としてまとめて示す。表２に
試料を採取した時間も示す。表２では、実験の開
始からの分単位の経過時間を「時間」、ミリリツ
トル単位のTMSの量を「TMS（ml）」、ロジウム
触媒の量を「触媒（ml）」、そして分析に採取した
試料を「試料」（最初をＥから始めて特定した）
として示す。
て、ビス（シリル）ケテンアセタールが生成した
ことを示している。 例 ２ 例１で用いたと同様な原材料、装置、手順及び
分析法を適用した。126ｇ（1.0モル）のAMA、
29mlのRhCl3＝3H2Oの0.03M THF溶液、及び
0.13ｇのBHTの溶液をフラスコに入れ、急激に
攪拌した。フラスコとその内味を２体積％の酸素
を含む窒素流でパージした。 TMSを少量添加し、次に冷却して発熱を吸収
し、次にTMSを後添加し、そして必要なときに
はロジウム触媒溶液を添加した。 表２はTMSとロジウム触媒溶液のフラスコへ
の添加を時間の関数としてまとめて示す。表２に
試料を採取した時間も示す。表２では、実験の開
始からの分単位の経過時間を「時間」、ミリリツ
トル単位のTMSの量を「TMS（ml）」、ロジウム
触媒の量を「触媒（ml）」、そして分析に採取した
試料を「試料」（最初をＥから始めて特定した）
として示す。
【表】
【表】
こうして、合計で300ml（2.6モル）のTMSを
添加した。TMSの供給の前及び際中に、合計52
ml（出発AMAに関するモル基準で約1800ppmの
Rh）のロジウム触媒溶液を添加した。フラスコ
中の混合物の温度は42℃から101℃まで変化した。
フラスコ中には約290ｇの粗生成物が含まれた。 試料Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈをそれぞれガスクロマトグ
ラフイー法と質量分析法で分析した。表３にこれ
らの分析の結果を示す。表１と同じ表示を用い
た。
添加した。TMSの供給の前及び際中に、合計52
ml（出発AMAに関するモル基準で約1800ppmの
Rh）のロジウム触媒溶液を添加した。フラスコ
中の混合物の温度は42℃から101℃まで変化した。
フラスコ中には約290ｇの粗生成物が含まれた。 試料Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈをそれぞれガスクロマトグ
ラフイー法と質量分析法で分析した。表３にこれ
らの分析の結果を示す。表１と同じ表示を用い
た。
【表】
カルボニルアダクト（CA）の存在の証拠は全
く検出されなかつた。 粗生成物を実験室回転蒸発器に置いて低沸点物
質を除去した。低沸点物質をストリツプした粗生
成物は68.5％のSKA含分を有した。次に粗生成
物を長さ３インチ、直径１インチの実験室蒸留カ
ラムで蒸留した。蒸留カラムはセラミツクサドル
を充填した。オーバーヘツド温度71℃で生成物を
分離した。分離生成物（合計88ｇ）を５回採取し
た。これらの分離物のSKA含分は86.6〜92.3％の
範囲であつた。CAの存在の証拠は検出されなか
つた。 上記の結果は、ロジウム触媒の存在における三
置換シランとアリル２−オルガノアクリレートの
反応によるビス（シリル）ケテンアセタール
（BSKA）の製造及び回収を示している。 例 ３ 例２で用いた装置、手順及び分析法を用いた。
同じ原材料を用いたが、但し触媒としてはトリス
（トリフエニルホスフイン）ロジウムクロリドを
用いた。最終反応混合物はトリス（トリフエニル
ホスフイン）ロジウムクロリド0.77ｇ（8.3×10-4
モル）の存在において63ｇ（0.5モル）のAMAに
対する合計添加量170ml（108.5ｇ又は1.47モル）
のTMSから生成したものであつた。最終混合物
のロジウム含分はAMAに関するモル基準で約
1600ppmであつた。 TMSとロジウム触媒の添加は105分間にわたつ
て行つて完了した。フラスコの中味の温度は39℃
から104℃まで変化した。操作の途中で試料を周
期的に採取して反応の進行を追うために分析し
た。最終的な分析によれば、粗生成物はAMAを
含まず、SKA含分は52.5％であつた。CAの存在
の証拠は検出されなかつた。 この結果は、オルガノロジウム錯体が三置換シ
ランとアリル２−オルガノアクリレートの反応に
よるビス（シリル）ケテンアセタールの生成に有
効な触媒であることを示している。
く検出されなかつた。 粗生成物を実験室回転蒸発器に置いて低沸点物
質を除去した。低沸点物質をストリツプした粗生
成物は68.5％のSKA含分を有した。次に粗生成
物を長さ３インチ、直径１インチの実験室蒸留カ
ラムで蒸留した。蒸留カラムはセラミツクサドル
を充填した。オーバーヘツド温度71℃で生成物を
分離した。分離生成物（合計88ｇ）を５回採取し
た。これらの分離物のSKA含分は86.6〜92.3％の
範囲であつた。CAの存在の証拠は検出されなか
つた。 上記の結果は、ロジウム触媒の存在における三
置換シランとアリル２−オルガノアクリレートの
反応によるビス（シリル）ケテンアセタール
（BSKA）の製造及び回収を示している。 例 ３ 例２で用いた装置、手順及び分析法を用いた。
同じ原材料を用いたが、但し触媒としてはトリス
（トリフエニルホスフイン）ロジウムクロリドを
用いた。最終反応混合物はトリス（トリフエニル
ホスフイン）ロジウムクロリド0.77ｇ（8.3×10-4
モル）の存在において63ｇ（0.5モル）のAMAに
対する合計添加量170ml（108.5ｇ又は1.47モル）
のTMSから生成したものであつた。最終混合物
のロジウム含分はAMAに関するモル基準で約
1600ppmであつた。 TMSとロジウム触媒の添加は105分間にわたつ
て行つて完了した。フラスコの中味の温度は39℃
から104℃まで変化した。操作の途中で試料を周
期的に採取して反応の進行を追うために分析し
た。最終的な分析によれば、粗生成物はAMAを
含まず、SKA含分は52.5％であつた。CAの存在
の証拠は検出されなかつた。 この結果は、オルガノロジウム錯体が三置換シ
ランとアリル２−オルガノアクリレートの反応に
よるビス（シリル）ケテンアセタールの生成に有
効な触媒であることを示している。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ (A) ロジウム触媒の存在において、式： （式中、Ｒはアルキル基、アリール基、アルカ
リール基、置換アルキル基、置換アリール基、
及び置換アルカリール基からなる群より選ばれ
る。）を有するアリル２−オルガノアクリレー
トと、式：Ri 3SiH（式中、Riはそれぞれ独立し
てアルキル基、アリール基、アルカリール基、
置換アルキル基、置換アリール基、置換アルカ
リール基、アルコキシ基、ハロゲン原子、及び
オルガノシロキシ基からなる群より選ばれる。）
を有する三置換シランとを接触させ、そして (B) ビス（シリル）ケテンアセタールを分離及び
単離する 工程からなる式（CH3）RC＝Ｃ（OSiRi 3）2（式中、
Ｒ及びRiは上記の通りに定義される。）を有する
ビス（シリル）ケテンアセタールの製造方法。 ２ ロジウム触媒をオルガノロジウム錯体および
無機配位子を持つロジウム触媒から選択する請求
項１に記載の方法。 ３ アリル２−オルガノアクリレートがアリルメ
タクリレートであり、三置換シランが（CH3）
SiHであり、ロジウム濃度がアリル２−オルガノ
アクリレートに関するモル基準で100ppmより高
く、反応温度が約30℃より高く、反応時間が少な
くとも30分間であり、そしてビス（シリル）ケテ
ンアセタール（CH3）2C＝Ｃ〔OSi（CH3）3〕2が蒸留
によつて分離及び単離される請求項１に記載の方
法。 ４ ロジウム濃度が約500〜2000ppmの範囲内で
あり、反応温度が約30〜80℃の範囲内であり、反
応時間が約30〜180分間の範囲内であり、ビス
（シリル）ケテンアセタールが約85重量％より高
い純度で回収される請求項３に記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/091,166 US4746750A (en) | 1987-08-31 | 1987-08-31 | Synthesis of silyl ketene acetal from allyl 2-organoacrylates |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6471886A JPS6471886A (en) | 1989-03-16 |
| JPH0547552B2 true JPH0547552B2 (ja) | 1993-07-19 |
Family
ID=22226398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63212640A Granted JPS6471886A (en) | 1987-08-31 | 1988-08-29 | Manufacture of silylketene acetal |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4746750A (ja) |
| EP (1) | EP0305855B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6471886A (ja) |
| CA (1) | CA1327209C (ja) |
| DE (1) | DE3884109T2 (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4824981A (en) * | 1987-07-06 | 1989-04-25 | Dow Corning Corporation | Process to produce silyl ketene acetals |
| US4912242A (en) * | 1989-05-15 | 1990-03-27 | Dow Corning Corporation | Process for preparing silicon esters |
| US5091445A (en) * | 1990-05-04 | 1992-02-25 | Dow Corning Corporation | Silicone sealants |
| US5082735A (en) * | 1990-05-04 | 1992-01-21 | Dow Corning Corporation | Process of curing methylhydrosiloxanes |
| US5208358A (en) * | 1992-07-13 | 1993-05-04 | Dow Corning Corporation | Process for preparation of silyl ketene acetals |
| US5247112A (en) * | 1993-02-08 | 1993-09-21 | Dow Corning Corporation | Method for purifying silyl ketene acetals |
| KR100344363B1 (ko) * | 1993-11-30 | 2002-11-30 | 일라이 릴리 앤드 캄파니 | 2,2-디플루오로케텐실릴아세탈의제조방법 |
| US5413724A (en) * | 1993-12-30 | 1995-05-09 | Dow Corning Corporation | Fiber treatment compositions and methods for the preparation thereof |
| US5409620A (en) * | 1993-12-30 | 1995-04-25 | Dow Corning Corporation | Fiber treatment compositions containing organofunctional siloxanes and methods for the preparation thereof |
| US5464801A (en) * | 1993-12-30 | 1995-11-07 | Dow Corning Corporation | Catalyst compositions comprising rhodium catalyst complexes |
| US5428176A (en) * | 1994-04-14 | 1995-06-27 | Eli Lilly And Company | Process for preparing 2,2-difluoroketene silyl O,S-acetals and α,α-difluoro-β-silyloxy-1,3-dioxolane-4-propanoic acid O,S-esters |
| US6960679B2 (en) * | 2003-04-25 | 2005-11-01 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Preparation of silyl ketene acetal and disilyl ketene acetal |
| WO2022066342A1 (en) * | 2020-09-24 | 2022-03-31 | Dow Silicones Corporation | Methods for the preparation and use of silyl ester compounds |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2727880A (en) * | 1953-01-22 | 1955-12-20 | Mcgraw Electric Co | Organo-silicon compounds from acetone and trichlorosilane |
| FR1498641A (fr) * | 1966-09-08 | 1967-10-20 | Rhone Poulenc Sa | Préparation d'alcools siliciés |
| FR1591204A (ja) * | 1968-10-31 | 1970-04-27 | ||
| US4417034A (en) * | 1981-06-30 | 1983-11-22 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Living polymers and process for their preparation |
| US4508880A (en) * | 1981-06-30 | 1985-04-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | "Living" polymers and process for their preparation |
| US4414372A (en) * | 1982-06-17 | 1983-11-08 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Process for preparing living polymers |
| US4482729A (en) * | 1984-03-04 | 1984-11-13 | Daikin Kogyo Co., Ltd. | Fluoroalkyl silyl ketene acetals and a process for preparing the same |
| US4780554A (en) * | 1984-11-20 | 1988-10-25 | Union Carbide Corporation | O-silylated ketene acetals and enol ethers and method of preparation |
| CA1337700C (en) * | 1985-10-15 | 1995-12-05 | Anthony Revis | Process for preparation of silyl ketene acetals |
-
1987
- 1987-08-31 US US07/091,166 patent/US4746750A/en not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-08-03 CA CA000573691A patent/CA1327209C/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-08-23 DE DE88113665T patent/DE3884109T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-08-23 EP EP88113665A patent/EP0305855B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-08-29 JP JP63212640A patent/JPS6471886A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3884109T2 (de) | 1994-02-03 |
| DE3884109D1 (de) | 1993-10-21 |
| EP0305855B1 (en) | 1993-09-15 |
| US4746750A (en) | 1988-05-24 |
| JPS6471886A (en) | 1989-03-16 |
| EP0305855A2 (en) | 1989-03-08 |
| CA1327209C (en) | 1994-02-22 |
| EP0305855A3 (en) | 1990-08-01 |
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