JPH0547890B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0547890B2 JPH0547890B2 JP58233033A JP23303383A JPH0547890B2 JP H0547890 B2 JPH0547890 B2 JP H0547890B2 JP 58233033 A JP58233033 A JP 58233033A JP 23303383 A JP23303383 A JP 23303383A JP H0547890 B2 JPH0547890 B2 JP H0547890B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- metal thin
- ferromagnetic metal
- film layer
- hydroxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は磁気テープ、磁気デイスク等の磁気記
録媒体で、特に高記録密度にすぐれた強磁性金属
薄膜型の磁気記録媒体に関するものである。 従来例の構成とその問題点 近年、磁気記録媒体は、磁気記録密度の向上に
見られるようにその技術的発展はめざましいもの
がある。従来の磁気記録媒体の例としてオーデイ
オ、ビデオ用テープとしてｒ−Fe2O3粉末、CrO2
粉末、純鉄粉末等を樹脂等のバインダーとともに
高分子フイルム上に塗着せしめたいわゆる塗布型
の磁気記録媒体がある。しかし、従来の塗布型の
磁気記録媒体より保磁力、記録密度、電磁変換性
を改良するために真空蒸着、メツキ、イオンプレ
ーテイング、スパツタリングなどの方法で、Fe、
Ni、Co、Cr等の磁性体金属を単独、もしくは合
金で高分子フイルム基板上に蒸着する金属薄膜型
の磁気記録媒体の検討がなされている。また強磁
性金属薄膜型の磁気記録媒体として斜方入射蒸着
法を用いたマイクロカセツト用テープが既に実用
化されている。 強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体における大き
な問題点として、例えばビデオ用のテープとして
使用する場合、デツキでの繰返し走行時に出力の
変化がなく、目づまりしないもので、かつあらゆ
る環境下で使用可能能なものでなければならな
い。さらに、前記ビデオ用のテープは、真空蒸着
法等に見られるように表面性は従来塗布型のテー
プと比較して非常にすぐれれ、数百Å以下の性を
維持することも可能でノイズの少ないカラー出力
の高い、高画質が得られる。しかし、表面性を良
くすると画質は改善されるが、記録再生時にヘツ
ドとテープ間の摩擦係数は上昇し、走行性が不安
定になり、繰返し走行時には走行不能となるとい
つた走行耐久性に欠点を有していた。また、強磁
性金属薄膜型の磁気記録媒体における表面層は金
属で覆われているため塗布型の磁気記録媒体と比
較して、保存特性に乏しい欠点を有している。 発明の目的 本発明者らは、以上のような欠点に鑑み、種々
深索を行い、走行耐久性のすぐれた、保存特性の
良い、磁気記録媒体を提供するものである。 発明の構成 本発明は強磁性金属薄膜層とフツ素化合物との
少なくとも間に水酸化物を有し、フツ素化合物と
水酸化物をOH／Ｆ比で0.2ないし5.0の範囲で担
持した磁気記録媒体であり、走行耐久性が優れる
と共に、あらゆる環境下での保存特性が向上され
るものである。 実施例の説明 以下本発明の実施例について、図面を参照しな
がら説明する。 図は、本発明の実施例における磁気記録媒体の
基本構成を示す断面図である。図において、１は
高分子フイルム、２は高分子フイルム１上に形成
された強磁性金属薄膜層であり、さらに強磁性金
属薄膜層２上にはフツ素化合物からなる上面層３
が形成されている。ここで図示はしないが、強磁
性金属薄膜層２とフツ素化合物との少なくとも間
に水酸化物を有している。 ここで高分子フイルム１としては、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポ
リ塩化ビニル、ポリエチレンナフタレート、ポリ
カーボネート、セルローズトリアセテート等から
適宜選択される。強磁性金属薄膜層２は、Co、
Fe、Ni、Cr、或いはこれらをベースにした各種
の合金、例えば、Co−Ni、Co−Fe、Co−Cr、
Co−Cu、Co−Pt、Co−Cd、Co−Sn、Co−Ni
−Cr、およびこれらの金属酸化物を示し、磁化
方法により面内磁化膜、垂直磁化膜等が可能で強
磁性金属薄膜層の形成方法は、蒸着、イオンプレ
ーテイング、スパツタリングまたは気相成長法等
から適宜選択される。また本発明に用いられるフ
ツ素化合物３はフツ素系有機化合物及び、フツ素
系無機化合物に大別される。ここで、フツ素系有
機化合物としては、フツ素系界面活性剤であるパ
ーフルオルアルキル基に−COOH、−COOMe
（Me：金属）、−COONH4、−SO3H、−SO3Me
（Me：金属）、−SO3NH4などの活性基を有するも
の、フツ素系プラスチツクである。テトラフルオ
ロエチレン樹脂、テフロン、ヘキサフルオロプロ
ペン、ペルフルオロ−α−オレフイン類、フツ化
ビニル、フツ化ビニリデンなど、またフツ素化エ
ラストマー、共重合体等のポリフルオロ化合物か
ら適宜選択される。またハイドロカーボン化合物
の部分フルオロ化合物についても可能である。 また本発明に用いられるフツ素系無機化合物と
しては、Li、Na、Ｋ、Rb、Cs、Be、Mg、Ca、
Sr、Ba、Ｂ、Al、Ga、In、Tl、Ｃ、Si、Ｎ、
Ｐ、Ｏ、Ｓ、Cl、Br、Ｉ、とフツ素の２種以上
からなる化合物から適宜選択される。 フツ素化合物の形成方法は、従来から知られて
いる湿式法、あるいは、蒸着法、スパツタリング
法、イオンプレーテイング法、気相成長法、プラ
ズマ重合法等による乾式法のいずれでも良い。 本発明は強磁性金属薄膜層とフツ素化合物から
なる上面層との少なくとも間に水酸化物を有する
ものであるが、水酸化物を強磁性金属薄膜層とフ
ツ素化合物からなる上面層との間に介在させる方
法は強磁性金属薄膜層を形成後に強磁性金属薄膜
層内に水酸化物を化学または物理吸着するか、フ
ツ素化合物中に溶媒として水酸化物を用いるか、
あるいは乾式法によるフツ素化合物被覆時に水酸
化物雰囲気中で強磁性金属薄膜層表面にフツ素化
合物を被覆する方法がある。この場合、強磁性金
属薄膜層表面のフツ素化合物と水酸化物の比率と
しては、OH／F0.2〜５の範囲が適当で磁気記録
媒体のOH量を定量化するために光電子分析装置
（以下、ESCAと称す）を用いて、ＦとOHのスペ
クトルを定量化し、スペクトルの感度補正を考慮
し、OH／Ｆの比率から最適なOH量を見積つた。 以上のように構成された磁気記録媒体は、強磁
性金属薄膜層とフツ素化合物から成る上面層との
少なくとも間に水酸化物を介在させることで強磁
性金属薄膜層とフツ素化合物との附着強度および
分散度を向上させたもので、デツキによる繰返し
走行耐久性にすぐれ、かつ保存特性である耐蝕
性、耐候性にすぐれたものである。 以下に本発明のさらに具体的な実施例を説明す
る。 実施例 １ ポリエチレンテレフタレートフイルムに斜方蒸
着法により酸素ガス雰囲気中でCo80−Ni20％の
合金を電子ビーム溶解し、厚さ1500Åの強磁性金
属薄膜層を形成した。蒸着時の蒸気流の入射角は
40゜Rから90゜R成分で平均蒸着速度1000Å／secで
行つた。この場合真空装置の排気には油拡散ポン
プを使用し、真空度10-4〜10-5torr下でCO−Ni
合金の蒸着を行つた。形成された強磁性金属薄膜
層上にパーフルオロアルキル基の炭素数９のパー
フルオロアルキルカルボン酸を0.1wt％エタノー
ル液とし、リバースロール法によつて塗布液の濃
度が10mg／m2となるよう塗布した。この場合
ESCAによるOH／Ｆ値は1.2である。 実施例 ２ 実施例１の真空排気系にクライオポンプを使用
し、酸素ガス−水蒸気雰囲気中（含水率10vol％）
で同様に真空蒸着を行い、実施例１同様にパーフ
ルオロアルキル基に−COOCoの活性基を有する
ものを同量塗布した。 この場合ESCAによるOH／Ｆ値は2.0である。 実施例 ３ 実施例１と同様に真空蒸着した強磁性金属薄膜
層上に同じ真空装置内で、フツ素プラスチツクで
あるテトラフルオロエチレン樹脂を100Åの厚み
になるよう乾式法による有機蒸着で水蒸気雰囲気
中でコーテイングした。 この場合ESCAによるOH／Ｆ値は0.8である。 実施例 ４ 実施例１の真空雰囲気中に酸素−水蒸気（5vol
％）混合ガスを導入し、ポリエチレンテレフタレ
ートフイルム上に厚さ1300Åの強磁性金属薄膜層
を形成した。その強磁性金属薄膜層上にハイドロ
カーボン化合物の部分フルオロ化合物をイソプロ
ピルアルコールで0.3wt％溶液とし、塗布液濃度
が30mg／m2となるように塗布した。この場合
ESCAによるOH／Ｆ値は0.5である。 実施例 ５ 実施例２で得られた強磁性金属薄膜層上にスパ
ツタリング法を用いてフツ素系無機化合物である
フツ化ボロンを厚さが50Åになるようコーテイン
グした。 この場合ESCAによるOH／Ｆ値は3.0である。 実施例 ６ 実施例１と同様の方法でパーフルオロアルキル
カーボン酸をエタノール溶媒で溶かし、ESCAに
よるOH／Ｆ値が0.2になるよう高濃度で塗布す
る。 実施例 ７ 実施例１と同様の方法でパーフルオロアルキル
カルボン酸をエタノール溶媒で溶かし、ESCAに
よるOH／Ｆ値基板が５になるよう低濃度で塗布
する。 以上の実施例で得られた磁気記録媒体を８mm幅
のテープに裁断し、そのテープについて、環境保
存特性についての評価を行つた。 評価法は市販のVHSデツキ（例えば松下電器
製マツクロード88：NV−8800型）と同等の走行
系を有する８mm幅用のデツキ試験機用として試作
し、テープ長50mにつき、繰り返し走行における
走行耐久性、および50℃−90％環境保存前后の特
性を調べた。 また、強磁性金属薄膜層上の水酸化物を定量化
するためにESCAを用いて、Co金属と水酸化物
のスペクトルを定量化し、スペクトルの感度補正
を考慮し、OH／Ｆの比率から水酸化物量を見積
つた。 走行耐久性としてテープを試作デツキに
100pass走行させ、走行前后の比100pass／初期の
摩擦係数値、100pass後の出力変動および目づま
り状態を観察した。 環境保存特性は、50℃−90％雰囲気中に１ケ月
放置、保存前後の磁気特性の変化、ESCAによる
OH基の増加および試作デツキを用いた繰り返し
走行による出力変化で評価した。試験前后で変化
量の少ないものは丸印で、少し変化が見られるが
実用上さしつかえないものは三角印、変化量が大
きく、実用上使用不可なものは×印の評価を行つ
た。 本発明の実施例の評価結果をまとめると第一表
のように高分子フイルム上に強磁性金属薄膜層を
形成し、該表面にフツ素化合物からなる上面層を
形成し、フツ素と水酸化物の比率を最適化するこ
とで、テープの走行耐久性は改善し、かつ各種環
境下での保存特性は大幅に改善される。本発明で
水酸化化合物の最適量はOH／Ｆ比
録媒体で、特に高記録密度にすぐれた強磁性金属
薄膜型の磁気記録媒体に関するものである。 従来例の構成とその問題点 近年、磁気記録媒体は、磁気記録密度の向上に
見られるようにその技術的発展はめざましいもの
がある。従来の磁気記録媒体の例としてオーデイ
オ、ビデオ用テープとしてｒ−Fe2O3粉末、CrO2
粉末、純鉄粉末等を樹脂等のバインダーとともに
高分子フイルム上に塗着せしめたいわゆる塗布型
の磁気記録媒体がある。しかし、従来の塗布型の
磁気記録媒体より保磁力、記録密度、電磁変換性
を改良するために真空蒸着、メツキ、イオンプレ
ーテイング、スパツタリングなどの方法で、Fe、
Ni、Co、Cr等の磁性体金属を単独、もしくは合
金で高分子フイルム基板上に蒸着する金属薄膜型
の磁気記録媒体の検討がなされている。また強磁
性金属薄膜型の磁気記録媒体として斜方入射蒸着
法を用いたマイクロカセツト用テープが既に実用
化されている。 強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体における大き
な問題点として、例えばビデオ用のテープとして
使用する場合、デツキでの繰返し走行時に出力の
変化がなく、目づまりしないもので、かつあらゆ
る環境下で使用可能能なものでなければならな
い。さらに、前記ビデオ用のテープは、真空蒸着
法等に見られるように表面性は従来塗布型のテー
プと比較して非常にすぐれれ、数百Å以下の性を
維持することも可能でノイズの少ないカラー出力
の高い、高画質が得られる。しかし、表面性を良
くすると画質は改善されるが、記録再生時にヘツ
ドとテープ間の摩擦係数は上昇し、走行性が不安
定になり、繰返し走行時には走行不能となるとい
つた走行耐久性に欠点を有していた。また、強磁
性金属薄膜型の磁気記録媒体における表面層は金
属で覆われているため塗布型の磁気記録媒体と比
較して、保存特性に乏しい欠点を有している。 発明の目的 本発明者らは、以上のような欠点に鑑み、種々
深索を行い、走行耐久性のすぐれた、保存特性の
良い、磁気記録媒体を提供するものである。 発明の構成 本発明は強磁性金属薄膜層とフツ素化合物との
少なくとも間に水酸化物を有し、フツ素化合物と
水酸化物をOH／Ｆ比で0.2ないし5.0の範囲で担
持した磁気記録媒体であり、走行耐久性が優れる
と共に、あらゆる環境下での保存特性が向上され
るものである。 実施例の説明 以下本発明の実施例について、図面を参照しな
がら説明する。 図は、本発明の実施例における磁気記録媒体の
基本構成を示す断面図である。図において、１は
高分子フイルム、２は高分子フイルム１上に形成
された強磁性金属薄膜層であり、さらに強磁性金
属薄膜層２上にはフツ素化合物からなる上面層３
が形成されている。ここで図示はしないが、強磁
性金属薄膜層２とフツ素化合物との少なくとも間
に水酸化物を有している。 ここで高分子フイルム１としては、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポ
リ塩化ビニル、ポリエチレンナフタレート、ポリ
カーボネート、セルローズトリアセテート等から
適宜選択される。強磁性金属薄膜層２は、Co、
Fe、Ni、Cr、或いはこれらをベースにした各種
の合金、例えば、Co−Ni、Co−Fe、Co−Cr、
Co−Cu、Co−Pt、Co−Cd、Co−Sn、Co−Ni
−Cr、およびこれらの金属酸化物を示し、磁化
方法により面内磁化膜、垂直磁化膜等が可能で強
磁性金属薄膜層の形成方法は、蒸着、イオンプレ
ーテイング、スパツタリングまたは気相成長法等
から適宜選択される。また本発明に用いられるフ
ツ素化合物３はフツ素系有機化合物及び、フツ素
系無機化合物に大別される。ここで、フツ素系有
機化合物としては、フツ素系界面活性剤であるパ
ーフルオルアルキル基に−COOH、−COOMe
（Me：金属）、−COONH4、−SO3H、−SO3Me
（Me：金属）、−SO3NH4などの活性基を有するも
の、フツ素系プラスチツクである。テトラフルオ
ロエチレン樹脂、テフロン、ヘキサフルオロプロ
ペン、ペルフルオロ−α−オレフイン類、フツ化
ビニル、フツ化ビニリデンなど、またフツ素化エ
ラストマー、共重合体等のポリフルオロ化合物か
ら適宜選択される。またハイドロカーボン化合物
の部分フルオロ化合物についても可能である。 また本発明に用いられるフツ素系無機化合物と
しては、Li、Na、Ｋ、Rb、Cs、Be、Mg、Ca、
Sr、Ba、Ｂ、Al、Ga、In、Tl、Ｃ、Si、Ｎ、
Ｐ、Ｏ、Ｓ、Cl、Br、Ｉ、とフツ素の２種以上
からなる化合物から適宜選択される。 フツ素化合物の形成方法は、従来から知られて
いる湿式法、あるいは、蒸着法、スパツタリング
法、イオンプレーテイング法、気相成長法、プラ
ズマ重合法等による乾式法のいずれでも良い。 本発明は強磁性金属薄膜層とフツ素化合物から
なる上面層との少なくとも間に水酸化物を有する
ものであるが、水酸化物を強磁性金属薄膜層とフ
ツ素化合物からなる上面層との間に介在させる方
法は強磁性金属薄膜層を形成後に強磁性金属薄膜
層内に水酸化物を化学または物理吸着するか、フ
ツ素化合物中に溶媒として水酸化物を用いるか、
あるいは乾式法によるフツ素化合物被覆時に水酸
化物雰囲気中で強磁性金属薄膜層表面にフツ素化
合物を被覆する方法がある。この場合、強磁性金
属薄膜層表面のフツ素化合物と水酸化物の比率と
しては、OH／F0.2〜５の範囲が適当で磁気記録
媒体のOH量を定量化するために光電子分析装置
（以下、ESCAと称す）を用いて、ＦとOHのスペ
クトルを定量化し、スペクトルの感度補正を考慮
し、OH／Ｆの比率から最適なOH量を見積つた。 以上のように構成された磁気記録媒体は、強磁
性金属薄膜層とフツ素化合物から成る上面層との
少なくとも間に水酸化物を介在させることで強磁
性金属薄膜層とフツ素化合物との附着強度および
分散度を向上させたもので、デツキによる繰返し
走行耐久性にすぐれ、かつ保存特性である耐蝕
性、耐候性にすぐれたものである。 以下に本発明のさらに具体的な実施例を説明す
る。 実施例 １ ポリエチレンテレフタレートフイルムに斜方蒸
着法により酸素ガス雰囲気中でCo80−Ni20％の
合金を電子ビーム溶解し、厚さ1500Åの強磁性金
属薄膜層を形成した。蒸着時の蒸気流の入射角は
40゜Rから90゜R成分で平均蒸着速度1000Å／secで
行つた。この場合真空装置の排気には油拡散ポン
プを使用し、真空度10-4〜10-5torr下でCO−Ni
合金の蒸着を行つた。形成された強磁性金属薄膜
層上にパーフルオロアルキル基の炭素数９のパー
フルオロアルキルカルボン酸を0.1wt％エタノー
ル液とし、リバースロール法によつて塗布液の濃
度が10mg／m2となるよう塗布した。この場合
ESCAによるOH／Ｆ値は1.2である。 実施例 ２ 実施例１の真空排気系にクライオポンプを使用
し、酸素ガス−水蒸気雰囲気中（含水率10vol％）
で同様に真空蒸着を行い、実施例１同様にパーフ
ルオロアルキル基に−COOCoの活性基を有する
ものを同量塗布した。 この場合ESCAによるOH／Ｆ値は2.0である。 実施例 ３ 実施例１と同様に真空蒸着した強磁性金属薄膜
層上に同じ真空装置内で、フツ素プラスチツクで
あるテトラフルオロエチレン樹脂を100Åの厚み
になるよう乾式法による有機蒸着で水蒸気雰囲気
中でコーテイングした。 この場合ESCAによるOH／Ｆ値は0.8である。 実施例 ４ 実施例１の真空雰囲気中に酸素−水蒸気（5vol
％）混合ガスを導入し、ポリエチレンテレフタレ
ートフイルム上に厚さ1300Åの強磁性金属薄膜層
を形成した。その強磁性金属薄膜層上にハイドロ
カーボン化合物の部分フルオロ化合物をイソプロ
ピルアルコールで0.3wt％溶液とし、塗布液濃度
が30mg／m2となるように塗布した。この場合
ESCAによるOH／Ｆ値は0.5である。 実施例 ５ 実施例２で得られた強磁性金属薄膜層上にスパ
ツタリング法を用いてフツ素系無機化合物である
フツ化ボロンを厚さが50Åになるようコーテイン
グした。 この場合ESCAによるOH／Ｆ値は3.0である。 実施例 ６ 実施例１と同様の方法でパーフルオロアルキル
カーボン酸をエタノール溶媒で溶かし、ESCAに
よるOH／Ｆ値が0.2になるよう高濃度で塗布す
る。 実施例 ７ 実施例１と同様の方法でパーフルオロアルキル
カルボン酸をエタノール溶媒で溶かし、ESCAに
よるOH／Ｆ値基板が５になるよう低濃度で塗布
する。 以上の実施例で得られた磁気記録媒体を８mm幅
のテープに裁断し、そのテープについて、環境保
存特性についての評価を行つた。 評価法は市販のVHSデツキ（例えば松下電器
製マツクロード88：NV−8800型）と同等の走行
系を有する８mm幅用のデツキ試験機用として試作
し、テープ長50mにつき、繰り返し走行における
走行耐久性、および50℃−90％環境保存前后の特
性を調べた。 また、強磁性金属薄膜層上の水酸化物を定量化
するためにESCAを用いて、Co金属と水酸化物
のスペクトルを定量化し、スペクトルの感度補正
を考慮し、OH／Ｆの比率から水酸化物量を見積
つた。 走行耐久性としてテープを試作デツキに
100pass走行させ、走行前后の比100pass／初期の
摩擦係数値、100pass後の出力変動および目づま
り状態を観察した。 環境保存特性は、50℃−90％雰囲気中に１ケ月
放置、保存前後の磁気特性の変化、ESCAによる
OH基の増加および試作デツキを用いた繰り返し
走行による出力変化で評価した。試験前后で変化
量の少ないものは丸印で、少し変化が見られるが
実用上さしつかえないものは三角印、変化量が大
きく、実用上使用不可なものは×印の評価を行つ
た。 本発明の実施例の評価結果をまとめると第一表
のように高分子フイルム上に強磁性金属薄膜層を
形成し、該表面にフツ素化合物からなる上面層を
形成し、フツ素と水酸化物の比率を最適化するこ
とで、テープの走行耐久性は改善し、かつ各種環
境下での保存特性は大幅に改善される。本発明で
水酸化化合物の最適量はOH／Ｆ比
【表】
本発明で水酸化物の最適量はOH／Ｆ比0.2〜
5.0の範囲で、OH／Ｆ比が0.2以下では耐久走行
性に乏しくかつ、保存特性に効果が表わさず、ま
た5.0以上では逆に、水酸化物が目づまりおよび
走行性に悪影響をおよぼす。好ましくは0.3〜3.0
の範囲で水酸化物の適量範囲があるのはおそら
く、水酸化物と磁性金属とフツ素系化合物との反
応性に関係し、水酸化物がフツ素系化合物と磁性
金属との附着強度、およびフツ素化合物の分散度
に関与するためと考えられる。 なお、本実施例では数種類の試料について、具
体的に効果を示したが、本発明を構成する前述の
他の材料の組合せにおいても同様の効果を有する
ことを確認した。 さらに、前記実施例では磁気記録媒体として磁
気テープを例にして説明したが、本発明の要旨を
逸脱しない範囲で磁気デイスク、磁気シート等の
形態をとるここともできるものである。 発明の効果 以上のように本発明は、高分子フイルム上に形
成された強磁性金属薄膜層と、その強磁性金属薄
膜層上に形成されたフツ素化合物からなる上面層
とを備え、強磁性金属薄膜層とフツ素化合物との
少なくとも間に水酸化物を有し、水酸化物量を最
適化することで走行耐久性能を改善し、かつ環境
保存特性の改善をはかることが出来、その実用的
効果は大きい。
5.0の範囲で、OH／Ｆ比が0.2以下では耐久走行
性に乏しくかつ、保存特性に効果が表わさず、ま
た5.0以上では逆に、水酸化物が目づまりおよび
走行性に悪影響をおよぼす。好ましくは0.3〜3.0
の範囲で水酸化物の適量範囲があるのはおそら
く、水酸化物と磁性金属とフツ素系化合物との反
応性に関係し、水酸化物がフツ素系化合物と磁性
金属との附着強度、およびフツ素化合物の分散度
に関与するためと考えられる。 なお、本実施例では数種類の試料について、具
体的に効果を示したが、本発明を構成する前述の
他の材料の組合せにおいても同様の効果を有する
ことを確認した。 さらに、前記実施例では磁気記録媒体として磁
気テープを例にして説明したが、本発明の要旨を
逸脱しない範囲で磁気デイスク、磁気シート等の
形態をとるここともできるものである。 発明の効果 以上のように本発明は、高分子フイルム上に形
成された強磁性金属薄膜層と、その強磁性金属薄
膜層上に形成されたフツ素化合物からなる上面層
とを備え、強磁性金属薄膜層とフツ素化合物との
少なくとも間に水酸化物を有し、水酸化物量を最
適化することで走行耐久性能を改善し、かつ環境
保存特性の改善をはかることが出来、その実用的
効果は大きい。
図は本発明の実施例における磁気記録媒体を示
す断面図である。 １……高分子フイルム、２……強磁性金属薄膜
層、３……上面層。
す断面図である。 １……高分子フイルム、２……強磁性金属薄膜
層、３……上面層。
Claims (1)
- １ 高分子フイルム上に形成された強磁性金属薄
膜層と、その強磁性金属薄膜層上に形成されたフ
ツ素化合物からなる上面層とを備え、前記強磁性
金属薄膜層と前記フツ素化合物との少なくとも間
に水酸化物を有し、前記フツ素化合物と前記水酸
化物をOH／Ｆ比で0.2ないし5.0の範囲で担持す
ることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58233033A JPS60125928A (ja) | 1983-12-09 | 1983-12-09 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58233033A JPS60125928A (ja) | 1983-12-09 | 1983-12-09 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60125928A JPS60125928A (ja) | 1985-07-05 |
| JPH0547890B2 true JPH0547890B2 (ja) | 1993-07-20 |
Family
ID=16948751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58233033A Granted JPS60125928A (ja) | 1983-12-09 | 1983-12-09 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60125928A (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS568722A (en) * | 1979-06-29 | 1981-01-29 | Hitachi Ltd | Transporting vehicle |
| JPS5687229A (en) * | 1979-12-14 | 1981-07-15 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS57198541A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
-
1983
- 1983-12-09 JP JP58233033A patent/JPS60125928A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60125928A (ja) | 1985-07-05 |
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