JPH0547918B2 - - Google Patents
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- JPH0547918B2 JPH0547918B2 JP3172384A JP3172384A JPH0547918B2 JP H0547918 B2 JPH0547918 B2 JP H0547918B2 JP 3172384 A JP3172384 A JP 3172384A JP 3172384 A JP3172384 A JP 3172384A JP H0547918 B2 JPH0547918 B2 JP H0547918B2
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- Japan
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- servo
- magnetic
- medium layer
- magnetic medium
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Links
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Moving Of The Head To Find And Align With The Track (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は磁気デイスク装置のトラツク追従サー
ボ方式に関し、特に磁気２重層デイスク（ベリー
ドサーボ方式）におけるサーボパターン作製方法
に関する。
ボ方式に関し、特に磁気２重層デイスク（ベリー
ドサーボ方式）におけるサーボパターン作製方法
に関する。
（従来技術）
従来、磁気デイスク装置はサーボ面サーボ方式
が主流となつているが、このサーボ面サーボ方式
ではサーボ用デイスクとデータ用デイスクが別々
のデイスクとして配置されている為に周囲の温度
の相違により位置決め精度に誤差を生じていた。
特にこのサーボ面サーボ方式では高トラツク密度
になるに従つて、磁気ヘツドの位置決め誤差は増
大し、高トラツク密度化が困難で高記録密度を実
現することが難しい等の欠点を有していた。
が主流となつているが、このサーボ面サーボ方式
ではサーボ用デイスクとデータ用デイスクが別々
のデイスクとして配置されている為に周囲の温度
の相違により位置決め精度に誤差を生じていた。
特にこのサーボ面サーボ方式では高トラツク密度
になるに従つて、磁気ヘツドの位置決め誤差は増
大し、高トラツク密度化が困難で高記録密度を実
現することが難しい等の欠点を有していた。
最近、ヘツド位置決め精度を上げるためにデー
タ面サーボ方式が種々検討されている。特にデー
タ面サーボ方式として、データ面の一部分を使用
するセクターサーボ方式、データ情報そのものを
使用する方式および磁気２重層デイスクを用い、
下層磁性膜をサーボ情報媒体とし、そのサーボ情
報を使用する方式等が検討されている。現在デー
タ面サーボ方式の中、磁気２重層を用いたベリー
ドサーボ方式が最もヘツド位置決め精度が高いと
評価されている。
タ面サーボ方式が種々検討されている。特にデー
タ面サーボ方式として、データ面の一部分を使用
するセクターサーボ方式、データ情報そのものを
使用する方式および磁気２重層デイスクを用い、
下層磁性膜をサーボ情報媒体とし、そのサーボ情
報を使用する方式等が検討されている。現在デー
タ面サーボ方式の中、磁気２重層を用いたベリー
ドサーボ方式が最もヘツド位置決め精度が高いと
評価されている。
従来ベリードサーボ方式用磁気２重層デイスク
のサーボパターンの作製方法は磁気ヘツドによる
記録、下層サーボ媒体のパターンエツチング等が
提案されている。磁気ヘツドによるサーボパター
ンの記録は、高価なサーボパターンライタが必要
であり、製造コストがその分高くなるという欠点
を有していた。又下層のサーボ用磁性媒体層のパ
ターンエツチングによる方法はサーボ用磁性媒体
層に幾何学的な凹凸をつけるために段差解消の技
術が必要となるので磁気２重層媒体の製造コスト
が高くなると同時にエツチング等の処理によるデ
ータ用磁性媒体層の欠陥が多くなるという欠点を
有している。
のサーボパターンの作製方法は磁気ヘツドによる
記録、下層サーボ媒体のパターンエツチング等が
提案されている。磁気ヘツドによるサーボパター
ンの記録は、高価なサーボパターンライタが必要
であり、製造コストがその分高くなるという欠点
を有していた。又下層のサーボ用磁性媒体層のパ
ターンエツチングによる方法はサーボ用磁性媒体
層に幾何学的な凹凸をつけるために段差解消の技
術が必要となるので磁気２重層媒体の製造コスト
が高くなると同時にエツチング等の処理によるデ
ータ用磁性媒体層の欠陥が多くなるという欠点を
有している。
（発明の目的）
本発明の目的は従来のサーボパターン形成の問
題点を改善して、段差解消の技術の必要がなく、
製造コストが安く、さらにデータ用磁性媒体層の
欠陥が多くならないベリードサーボ方式用磁気２
重層媒体のサーボパターン製作方法を提供するこ
とにある。
題点を改善して、段差解消の技術の必要がなく、
製造コストが安く、さらにデータ用磁性媒体層の
欠陥が多くならないベリードサーボ方式用磁気２
重層媒体のサーボパターン製作方法を提供するこ
とにある。
（発明の構成）
本発明による、ベリードサーボ方式用磁気２重
層デイスクのサーボパターン作製方法はマスクパ
ターンと選択的酸化法によりサーボパターンを作
製することを特徴とする。
層デイスクのサーボパターン作製方法はマスクパ
ターンと選択的酸化法によりサーボパターンを作
製することを特徴とする。
（発明の構成に関する説明）
本発明によれば磁気２重層デイスクのサーボ用
磁性媒体層の上にフオトレジストを塗布し、その
フオトレジストをサーボ用磁化パターンを形成す
るマスクと光学露光により、サーボパターンに対
応したパターンに形成する。その状態で、フオト
レジストを介してサーボ媒体層の露出している部
分を湿式法（乾式でも可）により酸化することに
より、露出部分の磁性を消失させ、サーボパター
ンを形成し、その後フオトレジストを除去し、さ
らに非磁性層、データ用磁性媒体層を順次被覆す
る。この様な湿式（又は乾式）酸化法によりサー
ボパターンを作製すると、サーボ磁性媒体層の幾
何学的凹凸をなくすことができ、欠陥も少なく、
製造コストも大幅に安くすることができる。
磁性媒体層の上にフオトレジストを塗布し、その
フオトレジストをサーボ用磁化パターンを形成す
るマスクと光学露光により、サーボパターンに対
応したパターンに形成する。その状態で、フオト
レジストを介してサーボ媒体層の露出している部
分を湿式法（乾式でも可）により酸化することに
より、露出部分の磁性を消失させ、サーボパター
ンを形成し、その後フオトレジストを除去し、さ
らに非磁性層、データ用磁性媒体層を順次被覆す
る。この様な湿式（又は乾式）酸化法によりサー
ボパターンを作製すると、サーボ磁性媒体層の幾
何学的凹凸をなくすことができ、欠陥も少なく、
製造コストも大幅に安くすることができる。
以下本発明によるベリードサーボ方式用磁気２
重層デイスクのサーボパターン作製方法の特徴を
実施例により図を参照して説明する。
重層デイスクのサーボパターン作製方法の特徴を
実施例により図を参照して説明する。
（実施例）
第１図は、ベリードサーボ方式用磁気２重層デ
イスクの断面構造を示す。第１図において、基板
１の上にサーボ用磁性媒体層２（例：Co−Ni−
ｐ，Co−Ni−Mn−ｐ，Co−Ni，Co−ｐ等のメ
ツキ膜又はCo−Ni，Co−Pt，Co−Pt−Metal等
の金属スパツタ膜又は蒸着膜）を被覆し、その上
に非磁性層３（例えば非磁性、Ni−ｐ合金SiO2，
Al2O2、その他非磁性材料）を被覆し、さらにそ
の上にデータ用磁性媒体層４と保護膜層５を順次
被覆した構造になつている。
イスクの断面構造を示す。第１図において、基板
１の上にサーボ用磁性媒体層２（例：Co−Ni−
ｐ，Co−Ni−Mn−ｐ，Co−Ni，Co−ｐ等のメ
ツキ膜又はCo−Ni，Co−Pt，Co−Pt−Metal等
の金属スパツタ膜又は蒸着膜）を被覆し、その上
に非磁性層３（例えば非磁性、Ni−ｐ合金SiO2，
Al2O2、その他非磁性材料）を被覆し、さらにそ
の上にデータ用磁性媒体層４と保護膜層５を順次
被覆した構造になつている。
この様な断面構造において、サーボ用磁性媒体
層２にサーボパターンを第２図に示す様に作製す
る。この第２図のサーボパターンを作製する方法
として従来、レジストパターンによりサーボ用磁
性媒体層２を選択エツチングし、幾何学的に凹凸
をつけた第３図の様な構造が提案されていた。
層２にサーボパターンを第２図に示す様に作製す
る。この第２図のサーボパターンを作製する方法
として従来、レジストパターンによりサーボ用磁
性媒体層２を選択エツチングし、幾何学的に凹凸
をつけた第３図の様な構造が提案されていた。
しかしながら、この様な作製方法では、上層の
データ用磁性媒体層の幾何学的凹凸をなくすため
に段差解消を行なう必要があるのと同時にデータ
用磁性媒体層の欠陥を非常に多くするという欠点
を有している。これらは結局コスト的に非常に高
くなる欠点を有している。
データ用磁性媒体層の幾何学的凹凸をなくすため
に段差解消を行なう必要があるのと同時にデータ
用磁性媒体層の欠陥を非常に多くするという欠点
を有している。これらは結局コスト的に非常に高
くなる欠点を有している。
そこで第４図を用いて本発明のサーボパターン
作製方法を示す。基板１の上にサーボ用磁性媒体
層２を被覆した後、レジストを塗布し、その後光
学露光等を用いて、レジストのサーボパターンを
作製し、その状態で、サーボ用磁性媒体２が露出
している部分だけ、選択的に酸化（湿式及び乾式
のどちらでも可）して、サーボ用磁性媒体層２に
酸化部分７を形成し、その部分を非磁性化する。
酸化部分７以外は磁性部分８となつている。その
後レジストを除去して、第４図の状態にした後、
第１図に示す様に順次に非磁性層３、データ用磁
性媒体層４及び保護膜層５を被覆して、ベリード
サーボ方式用磁気２重層デイスクが出来上る。
作製方法を示す。基板１の上にサーボ用磁性媒体
層２を被覆した後、レジストを塗布し、その後光
学露光等を用いて、レジストのサーボパターンを
作製し、その状態で、サーボ用磁性媒体２が露出
している部分だけ、選択的に酸化（湿式及び乾式
のどちらでも可）して、サーボ用磁性媒体層２に
酸化部分７を形成し、その部分を非磁性化する。
酸化部分７以外は磁性部分８となつている。その
後レジストを除去して、第４図の状態にした後、
第１図に示す様に順次に非磁性層３、データ用磁
性媒体層４及び保護膜層５を被覆して、ベリード
サーボ方式用磁気２重層デイスクが出来上る。
（発明の効果）
この様にサーボパターンの作製方法において選
択的酸化法を用いることにより、サーボ用磁性媒
体層２に凹凸を形成する必要がなく、且つ安価に
サーボパターンを作製することが出来、さらにデ
ータ用磁性媒体層の欠陥を多くすることがない優
れた効果を有している。
択的酸化法を用いることにより、サーボ用磁性媒
体層２に凹凸を形成する必要がなく、且つ安価に
サーボパターンを作製することが出来、さらにデ
ータ用磁性媒体層の欠陥を多くすることがない優
れた効果を有している。
第１図はベリードサーボ方式用磁気２重層デイ
スクの断面構造を示す図。第２図はサーボ用磁性
媒体層のサーボパターンの作製状態を示す図。第
３図に従来のパターンエツチング法によりサーボ
パターンを作製した場合のサーボ用磁性媒体層の
断面構造を示す図。第４図は本発明による選択酸
化法によりサーボパターンを作製した場合のサー
ボ用磁性媒体層の断面構造を示す図。 １は基板、２はサーボ用磁性媒体層、３は非磁
性層、４はデータ用磁性媒体層、５は保護膜層、
７は酸化部分、８は磁性部分である。
スクの断面構造を示す図。第２図はサーボ用磁性
媒体層のサーボパターンの作製状態を示す図。第
３図に従来のパターンエツチング法によりサーボ
パターンを作製した場合のサーボ用磁性媒体層の
断面構造を示す図。第４図は本発明による選択酸
化法によりサーボパターンを作製した場合のサー
ボ用磁性媒体層の断面構造を示す図。 １は基板、２はサーボ用磁性媒体層、３は非磁
性層、４はデータ用磁性媒体層、５は保護膜層、
７は酸化部分、８は磁性部分である。
Claims (1)
- １ 基板と、この基板を被覆するサーボ用磁性媒
体層と、このサーボ用磁性媒体層を被覆する非磁
性層と、この非磁性層を被覆するデータ用磁性媒
体層とを備えたベリードサーボ方式用磁気２重層
デイスクのサーボパターン作製方法において、サ
ーボ用磁性媒体層に対し選択的酸化法により、サ
ーボパターンを作製する工程を有することを特徴
とするベリードサーボ方式用磁気２重層デイスク
のサーボパターン製作方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3172384A JPS60177483A (ja) | 1984-02-22 | 1984-02-22 | ベリ−ドサ−ボ方式用磁気２重層デイスクのサ−ボパタ−ン作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3172384A JPS60177483A (ja) | 1984-02-22 | 1984-02-22 | ベリ−ドサ−ボ方式用磁気２重層デイスクのサ−ボパタ−ン作製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60177483A JPS60177483A (ja) | 1985-09-11 |
| JPH0547918B2 true JPH0547918B2 (ja) | 1993-07-20 |
Family
ID=12338960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3172384A Granted JPS60177483A (ja) | 1984-02-22 | 1984-02-22 | ベリ−ドサ−ボ方式用磁気２重層デイスクのサ−ボパタ−ン作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60177483A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4684547A (en) * | 1985-12-27 | 1987-08-04 | International Business Machines Corporation | Format patterning method for magnetic recording media |
| JPS62232720A (ja) * | 1986-04-02 | 1987-10-13 | Nec Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JPS62252514A (ja) * | 1986-04-25 | 1987-11-04 | Brother Ind Ltd | 磁気記録装置の磁気ヘツド位置決定装置 |
| WO2003019540A1 (en) * | 2001-08-23 | 2003-03-06 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk medium and production method thereof and magnetic recording device |
| JP3918003B2 (ja) | 2005-03-10 | 2007-05-23 | Ｔｄｋ株式会社 | 磁気記録媒体、記録再生装置およびスタンパー |
-
1984
- 1984-02-22 JP JP3172384A patent/JPS60177483A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60177483A (ja) | 1985-09-11 |
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