JPH10222944A

JPH10222944A - 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置並びにディスク成型用金型の作製方法

Info

Publication number: JPH10222944A
Application number: JP18016797A
Authority: JP
Inventors: Nobuhiro Nagano; 信広永野; Hiroshi Uchiyama; 浩内山
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1996-12-02
Filing date: 1997-07-04
Publication date: 1998-08-21

Abstract

(57)【要約】【課題】サーボ信号に対応したピットが形成されると
ともに、記録トラックに沿ってグルーブが形成された磁
気記録媒体として、記録再生時に磁気ヘッドの浮上量変
動が少なくて済み、オフトラック特性に優れた磁気記録
媒体を提供する。【解決手段】サーボ信号に対応した凹凸が形成される
とともに、記録トラックに沿ってグルーブ３が形成され
た磁気記録媒体において、グルーブ３とグルーブ３の間
の凸部であるランド４の幅Ｌｗと、グルーブ３の幅Ｇｗ
との比Ｌｗ／Ｇｗを２．０以上とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、トラッキング制御
用の案内溝であるグルーブが形成された磁気記録媒体に
関するとともに、そのような磁気記録媒体に対して記録
再生を行う磁気記録再生装置に関する。また、磁気記録
媒体の基板の原盤であるディスク成型用金型の作製方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体の分野において、更なる高
記録密度化を図るために、サーボ信号に対応したピット
を予め形成した磁気記録媒体の開発が進められている。
ここで、サーボ信号に対応したピットとは、サーボ信号
に応じて磁気記録媒体の基板成型時に予め形成される凹
凸のことである。

【０００３】このようなピットが形成された磁気記録媒
体では、記録再生に使用する前に、それらの凹部と凸部
とで極性が逆となるように着磁し、これにより、サーボ
信号を書き込む。このようなピットは非常に微細に精度
良く形成することが容易にできるので、このようにサー
ボ信号に応じたピットを予め基板に形成しておくことに
より、サーボ信号を非常に精度良く書き込むことが可能
となる。すなわち、記録トラックに対してサーボ信号を
非常に正確な位置に書き込むことが可能となり、その結
果、従来の磁気記録媒体に比べて容易に高密度記録化を
図ることが可能となる。なお、以下の説明では、このよ
うなサーボ信号が書き込まれる領域のことをサーボゾー
ンと称する。

【０００４】このようなピットが形成された磁気記録媒
体では、通常、記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
れる。ここで、グルーブとは、記録トラックに沿って形
成される溝状の凹部のことであり、サーボゾーン以外の
領域に形成される。すなわち、グルーブは、記録トラッ
クのうち、ユーザによってデータの記録再生がなされる
領域に沿って形成される。そして、グルーブとグルーブ
の間の凸部はランドと呼ばれており、ユーザによって記
録再生されるデータは、主にランドの部分に記録され
る。なお、以下の説明では、このようなグルーブが形成
され、ユーザによってデータの記録再生がなされる領域
のことをデータゾーンと称する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】磁気記録媒体に対して
磁気ヘッドを用いて記録再生する際は、磁気記録媒体上
に磁気ヘッドを配して、磁気記録媒体を高速に回転させ
る。このとき、磁気ヘッドは、回転によって生じる空気
の流れの影響により、僅かに浮上する。そして、磁気記
録媒体に対して安定に記録再生を行うためには、この浮
上量を一定にすることが望まれる。

【０００６】しかしながら、上述のようにピットやグル
ーブが形成された磁気記録媒体では、媒体表面に凹凸が
あるため、磁気ヘッドの浮上量を一定とすることは困難
である。特に、サーボゾーンとデータゾーンを有する磁
気記録媒体では、ピットが形成された領域であるサーボ
ゾーンにおける凸部と凹部の比率と、グルーブが形成さ
れた領域であるデータゾーンにおける凸部と凹部の比率
とが異なるため、サーボゾーン上における磁気ヘッドの
浮上量と、データゾーン上における磁気ヘッドの浮上量
とは異なるものとなる。

【０００７】ここで、ピットの高さは、従来のハードデ
ィスク装置等において記録媒体上に形成されているテク
スチャーの高さと同等かそれ以上であり、また、ピット
の大きさも、数μｍ程度であり、テクスチャーと同等程
度である。したがって、ピットが形成された領域である
サーボゾーンにおける凸部と凹部の比率と、グルーブが
形成された領域であるデータゾーンにおける凸部と凹部
の比率とが異なるような磁気記録媒体は、テクスチャー
が不均一に形成されたような状態となる。

【０００８】この結果、上述のように、サーボゾーン上
における磁気ヘッドの浮上量と、データゾーン上におけ
る磁気ヘッドの浮上量とが異なるものとなり、記録再生
時に磁気ヘッドの浮上量に変動が生じ、安定した記録再
生を行なうことが難しくなる。このような問題は、ピッ
トが予め形成された磁気記録媒体に固有の問題であり、
全面にわたって平面とされた磁気記録媒体では起こり得
ないことである。すなわち、ピットやグルーブを予め形
成しておくような磁気記録媒体においては、磁気ヘッド
の浮上量変動を抑えることが大きな課題となっている。

【０００９】そして、グルーブを形成してデータゾーン
に凹凸を付けたような磁気ヘッドでは、凹凸の影響によ
って磁気ヘッドの浮上量が変化し、これにより、オフト
ラック特性も大きく変化する。このことは、凹部である
グルーブの部分では、磁気ヘッドとの距離が大きくな
り、出力が小さくなることからも容易に想像できる。し
たがって、グルーブを形成してデータゾーンに凹凸を付
けたような磁気ヘッドでは、グルーブの影響によってオ
フトラックマージンが少なくなってしまうのを防ぐ必要
がある。

【００１０】本発明は、以上のような従来の実情に鑑み
て提案されたものであり、サーボ信号に対応したピット
が形成されるとともに、記録トラックに沿ってグルーブ
が形成された磁気記録媒体であって、記録再生時に磁気
ヘッドの浮上量変動が少なくて済み、オフトラック特性
に優れた磁気記録媒体を提供すること、並びに、そのよ
うな磁気記録媒体に対して記録再生を行う際に好適な磁
気記録再生装置を提供することを目的としている。ま
た、上述のような磁気記録媒体の基板を作製する際に好
適なディスク成型用金型の作製方法を提供することを目
的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】浮上する磁気ヘッドによ
って磁気記録媒体に対してデータを記録再生する際、そ
の記録再生特性と、磁気ヘッドの浮上量との関係は、計
算によって求めることができる。例えば、Williams-Com
stockらによる“An Analytical Model of theWrite Pro
cess in Digitak Magnetic Recording”17th Annu. AIP
Conf.Proc. Part 1,738-742, 1990に記載されているよ
うに、浮上する磁気ヘッドによって磁気記録媒体に対し
てデータを記録する際のスペーシング量、すなわち磁気
ヘッドと磁気記録媒体との間の距離に基づいて、磁気記
録媒体の磁化の遷移幅を計算することが可能であり、こ
れから、記録された信号を再生したときの出力を推定す
ることができる。

【００１２】すなわち、このような計算により、ピット
やグルーブが形成されたような磁気記録媒体であって
も、磁気記録媒体上の任意の場所から得られる再生信号
の出力の大きさを知ることが可能である。したがって、
例えば、新規にデータを記録したトラックからの再生信
号と、ノイズとなる信号との比を求めることができる。
ここで、ノイズとなる信号とは、例えば、新規にデータ
を記録したトラックに隣接したトラックからの信号や、
データを記録したトラックに残存している古いデータに
起因する信号等である。そして、本発明者は、このよう
な計算により、ピットやグルーブが形成された磁気記録
媒体に関し、再生信号とノイズの比と、ピットやグルー
ブの形状との関係等についての検討を行った。

【００１３】ところで、磁気記録媒体から得られる再生
信号の出力は、当然の事ながら、凸状の部分からの出力
が最も大きく、次いで、凸状の部分と凹状の部分との間
の段差部分からの出力が大きく、凹状の部分からの出力
が最も小さくなるが、記録再生特性を調べるときには、
このような各部分から得られる出力の大小を考慮するだ
けでなく、当該再生出力がデータ再生可能な適正な信号
となっているかを吟味する必要がある。そこで、本発明
者は、後述するように、ピットやグルーブの形状の異な
る複数の磁気記録媒体を作製して、実際にそれらのビッ
トエラーレートを測定し、ビットエラーレートが十分に
小さくなる条件を調べた。

【００１４】以上のような検討の結果、本発明者は、ピ
ットやグルーブが形成された磁気記録媒体において、オ
フトラック特性は、グルーブとグルーブの間の凸部であ
るランドの幅Ｌｗと、グルーブの幅Ｇｗとの割合に大き
く依存しており、これらの比Ｌｗ／Ｇｗを適切な値とす
ることにより、オフトラック特性を向上することができ
ることを見いだした。

【００１５】本発明は、このような知見に基づいて成さ
れたものであり、本発明に係る磁気記録媒体は、サーボ
信号に対応した凹凸が形成されるとともに、記録トラッ
クに沿ってグルーブが形成された磁気記録媒体であっ
て、グルーブとグルーブの間の凸部であるランドの幅Ｌ
ｗと、グルーブの幅Ｇｗとの比Ｌｗ／Ｇｗが２．０以上
であることを特徴とするものである。ここで、トラック
ピッチをＴｐとし、上記ランドと上記グルーブの境界に
おける斜面部分の幅をｔとしたとき、上記比Ｌｗ／Ｇｗ
は、下記式（１−１）で示す範囲内であることが好まし
く、具体的には、上記比Ｌｗ／Ｇｗは７．２６以下であ
ることが好ましい。なお、このような比Ｌｗ／Ｇｗの規
定は、グルーブとランドの段差が１００ｎｍ以上あるよ
うな磁気記録媒体に対して特に好適である。

【００１６】Ｌｗ／Ｇｗ≦（４／５×Ｔｐ＋ｔ）／（１／５×Ｔｐ−ｔ）・・・（１−１）一方、本発明に係る磁気記録再生装置は、記録トラック
に沿ってグルーブが形成された磁気記録媒体に対して磁
気記録を行う記録用磁気ヘッドを備え、上記記録用磁気
ヘッドのトラック幅Ｔが、グルーブとグルーブの間の凸
部であるランドの幅Ｌｗ以上であり、トラックピッチＴ
ｐとグルーブの幅Ｇｗの合計以下であることを特徴とす
るものである。

【００１７】ここで、上記ランドの幅をＬｗ、上記グル
ーブの幅をＧｗ、上記トラックピッチをＴｐ、磁気記録
時のサーボエラーマージンをＥｍとしたとき、上記記録
用磁気ヘッドのトラック幅Ｔは、下記式（１−２）で示
す範囲内であることが好ましい。

【００１８】Ｌｗ＋Ｅｍ×２≦Ｔ≦Ｔｐ＋Ｇｗ−Ｅｍ×２・・・（１−２）また、本発明のディスク成型用金型の作製方法は、基材
上に金属材料を被着して金属膜を形成する金属膜形成工
程と、上記金属膜形成工程で形成された上記金属膜上に
フォトレジストを塗布し、フォトレジストを所定のパタ
ーンに応じて露光および現像することにより、ピット及
び／又はグルーブ相当部だけを残したレジストパターン
を形成するカッティング工程と、上記カッティング工程
で残された上記フォトレジストをマスクとして上記金属
膜に反応性イオンエッチングを施し、上記金属膜のうち
上記フォトレジストの上記ピット及び／又はグルーブ相
当部と対応する部分を凸状に形成してディスク成型用金
型とするエッチング工程とを備えることを特徴とする。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した具体的な
実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明す
る。なお、本発明は以下の例に限定されるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、材料や形状等を
任意に変更可能であることは言うまでもない。

【００２０】本実施の形態に係る磁気記録媒体は、プラ
スチックからなる２．５インチ径のディスク基板上に磁
気記録層が形成された磁気ディスクであり、図１に示す
ように、サーボ信号に対応したピット１が形成されたサ
ーボゾーン２と、記録トラックに沿ってグルーブ３が形
成されたデータゾーン４とを有している。なお、図１に
おいて、黒い部分が凸部を示しており、その他の部分が
凹部を示している。

【００２１】そして、この磁気ディスクは、記録再生を
行う前に、それらの凹部と凸部とで極性が逆となるよう
に着磁する。これにより、サーボゾーン２に形成された
ピット１の部分にサーボ信号が書き込まれる。

【００２２】この磁気ディスクにおいて、データゾーン
４には、図１のＡ−Ａ線における断面図である図２に示
すように、所定のトラックピッチＴｐにてグルーブ３が
形成されており、グルーブ３とグルーブ３の間の丘状の
領域がランド４となる。ここで、グルーブ３は、グルー
ブ３とランド４の段差ｔ₀が１００ｎｍ以上となるよう
に形成する。そして、この磁気ディスクでは、ランド４
の中心がトラック中心となり、データ信号は、ランド４
の部分を中心として記録される。

【００２３】そして、本発明を適用した磁気ディスクで
は、ランド４の幅Ｌｗと、グルーブの幅Ｇｗとの比Ｌｗ
／Ｇｗを２．０以上とする。ここで、ランド４やグルー
ブ３を完全に矩形状に形成することは困難であり、通常
は、図２に示すように、ランド４とグルーブ３の境界が
斜面になっている。そこで、以下の説明では、図２に示
すように、ランド４の上面部分の幅をｔ₁、グルーブ３
の底面部分の幅をｔ₂、ランド４とグルーブ３の境界に
おける斜面部分の幅をｔ₃とし、ランド４とグルーブ３
の境界における斜面の中心をランド４とグルーブ３の境
界とする。すなわち、本明細書では、ｔ₁＋ｔ₃をランド
４の幅と称し、このランド４の幅をＬｗとしており、ま
た、ｔ₂＋ｔ₃をグルーブ３の幅と称し、このグルーブ３
の幅をＧｗとしている。

【００２４】以上のような磁気ディスクについて、ラン
ド４の幅Ｌｗとグルーブ３の幅Ｇｗとの比Ｌｗ／Ｇｗ
と、オフトラック特性との関係を調べるために、ランド
４の幅Ｌｗやグルーブ４の幅Ｇｗを変えて複数の磁気デ
ィスクを作製した。

【００２５】ここで、ディスク基板の凹凸パターンは、
光ディスクの作製において通常使用されている方法と同
様の方法を用いて形成した。すなわち、先ず、基準面と
なるガラス基板の表面にフォトレジストを塗布し、この
フォトレジスト上にカッティングデータに基づいてグル
ーブパターンの露光を行った。そして、グルーブパター
ンを露光した後、フォトレジストを現像し、グルーブパ
ターンに対応したレジストパターンを形成した。次に、
レジストパターン上にＮｉメッキを施し、その後、この
Ｎｉメッキをレジストパターンから剥離するとともに、
その裏面を研磨して所望の厚みに整えた。これがディス
ク基板の原盤となるディスク成型用金型となる。そし
て、このディスク成型用金型を用いて射出成型を行うこ
とにより、上述のようなディスク基板を作製した。

【００２６】ただし、このようにディスク基板を作製す
るにあたって、グルーブ３は、ディスク基板の全面にわ
たって形成するのではなく、ディスク基板の半径２０．
０ｍｍから２５．０ｍｍの間の部分にだけ形成し、その
他の部分は平坦なままとした。

【００２７】そして、後述するオフトラック特性の評価
では、グルーブ３が形成された磁気ディスクにおけるオ
フトラック特性を、半径２４．０ｍｍのところで測定し
た。また、後述するオフトラック特性の評価では、オフ
トラック特性を平坦な磁気ディスクにおけるオフトラッ
ク特性と比較するが、平坦な磁気ディスクにおけるオフ
トラック特性については、上述のように形成したディス
ク基板上の平坦な部分、すなわちディスク基板の半径２
０．０ｍｍから２５．０ｍｍの間以外の部分におけるオ
フトラック特性を調べることで代用した。

【００２８】そして、以上のように作製したディスク基
板上に、Ａｒをスパッタガスとして用いたスパッタリン
グ法により、磁気記録層を形成した。ここで、磁気記録
層は、磁性層の下地となる下地層と、Ｃｒからなる膜厚
０．５ｍｍの中間層が中間に配された磁性層と、磁性層
を保護するために保護層とを、この順に積層して形成し
た。そして、このような磁気記録層上に更に潤滑剤層を
形成して、磁気ディスクとした。

【００２９】具体的には、下地層は、スパッタガス圧を
０．１Ｐａ、成膜速度を２ｎｍ／ｓｅｃとして、Ｃｒを
１０ｎｍ成膜して形成した。また、磁性層は、スパッタ
ガス圧を０．１Ｐａ、成膜速度を２ｎｍ／ｓｅｃとし
て、Ｃｏ₆₄Ｐｔ₂₀Ｃｒ₁₆を２４ｎｍ成膜して形成した。
また、保護層は、スパッタガス圧を０．５Ｐａ、成膜速
度を０．５ｎｍ／ｓｅｃとして、Ｃを１３ｎｍ成膜して
形成した。また、潤滑剤層は、ＦｏｍｂｌｉｎＺ−Ｄｏ
ｌをｄｉｐｐｉｎｇ法により、膜厚が２ｎｍ程度となる
ように形成した。

【００３０】なお、以上のように作製された磁気ディス
クについて、その磁気記録層の磁気特性を、振動試料型
磁力計（ＶＳＭ）を用いて測定したところ、残留磁化厚
みＭｒ・ｔ＝９ｍＡ、保磁力Ｈｃ＝１６７ｋＡ／ｍ、保
磁力角形比Ｓ^*＝０．８であった。

【００３１】以上のような磁気ディスクについて、ラン
ド４の幅Ｌｗやグルーブ３の幅Ｇｗを変えたときの特性
を調べるために、第１乃至第３の実施例として、ランド
４の幅Ｌｗとグルーブ３の幅Ｇｗとの比Ｌｗ／Ｇｗを
２．０以上とした磁気ディスクを作製するとともに、比
較例として、ランド４の幅Ｌｗとグルーブ３の幅Ｇｗと
の比Ｌｗ／Ｇｗを２．０未満とした磁気ディスクを作製
した。なお、以下の実施例及び比較例において、グルー
ブ４やランド３の形状を示す数値は、原子間力顕微鏡
（ＡＦＭ）を用いて実際に出来上がった磁気ディスクに
形成されたグルーブ４やランド３の形状を実測した値で
ある。

【００３２】実施例１本実施例の磁気ディスクにおいて、グルーブ３とランド
４の段差ｔ₀は１００ｎｍ、ランド４の上面の幅ｔ₁は
２．３μｍ、ランド４とグルーブ３の境界における斜面
部分の幅ｔ₃は０．３μｍ、グルーブ３の底面の幅ｔ₃は
０．９μｍである。このとき、ランド４の幅Ｌｗ＝ｔ₁
＋ｔ₃は２．６μｍであり、グルーブ３の幅Ｇｗ＝ｔ₂＋
ｔ₃は１．２μｍであり、これらの比Ｌｗ／Ｇｗは２．
１７である。

【００３３】実施例２本実施例の磁気ディスクにおいて、グルーブ３とランド
４の段差ｔ₀は１００ｎｍ、ランド４の上面の幅ｔ₁は
２．５μｍ、ランド４とグルーブ３の境界における斜面
部分の幅ｔ₃は０．３μｍ、グルーブ３の底面の幅ｔ₃は
０．７μｍである。このとき、ランド４の幅Ｌｗ＝ｔ₁
＋ｔ₃は２．８μｍであり、グルーブ３の幅Ｇｗ＝ｔ₂＋
ｔ₃は１．０μｍであり、これらの比Ｌｗ／Ｇｗは２．
８０である。

【００３４】実施例３本実施例の磁気ディスクにおいて、グルーブ３とランド
４の段差ｔ₀は１００ｎｍ、ランド４の上面の幅ｔ₁は
２．８μｍ、ランド４とグルーブ３の境界における斜面
部分の幅ｔ₃は０．３μｍ、グルーブ３の底面の幅ｔ₃は
０．４μｍである。このとき、ランド４の幅Ｌｗ＝ｔ₁
＋ｔ₃は３．１μｍであり、グルーブ３の幅Ｇｗ＝ｔ₂＋
ｔ₃は０．７μｍであり、これらの比Ｌｗ／Ｇｗは４．
４３である。

【００３５】比較例１本比較例の磁気ディスクにおいて、グルーブ３とランド
４の段差ｔ₀は１００ｎｍ、ランド４の上面の幅ｔ₁は
２．０μｍ、ランド４とグルーブ３の境界における斜面
部分の幅ｔ₃は０．３μｍ、グルーブ３の底面の幅ｔ₃は
１．２μｍである。このとき、ランド４の幅Ｌｗ＝ｔ₁
＋ｔ₃は２．３μｍであり、グルーブ３の幅Ｇｗ＝ｔ₂＋
ｔ₃は１．５μｍであり、これらの比Ｌｗ／Ｇｗは１．
５３である。

【００３６】オフトラック特性の評価以上のように作製した磁気ディスクに対して実際に記録
再生を行い、それらのオフトラック特性を測定した。

【００３７】ここで、記録再生には、記録用磁気ヘッド
として機能するインダクティブ型磁気ヘッドと、再生用
磁気ヘッドとして機能する磁気抵抗効果型磁気ヘッドと
を組み合わせた複合磁気ヘッドを使用した。そして、イ
ンダクティブ型磁気ヘッドからなる記録用磁気ヘッドに
は、トラック幅が３．８μｍ、磁気ギャップの間隔が
０．５μｍのものを使用し、磁気抵抗効果型磁気ヘッド
からなる再生用磁気ヘッドには、トラック幅が３．０μ
ｍ、磁気抵抗効果素子を挟持する磁気シールドの間隔が
０．３６μｍのものを使用した。

【００３８】また、上記複合磁気ヘッドは、磁気ディス
クに対する当たりを確保するために、いわゆる５０％ナ
ノスライダーに組み込んで使用した。ここで、当該スラ
イダーのスライダー長は２．０ｍｍ、スライダー幅は
１．６ｍｍとした。そして、記録再生は、磁気ディスク
を線速７．３６ｍ／ｓｅｃにて回転させて行った。この
とき、複合磁気ヘッドの浮上量は約６０ｎｍとなる。

【００３９】そして、オフトラック特性の測定は、図３
に示すように、記録用磁気ヘッドを用いて磁気ディスク
にデータＤ１，Ｄ２，Ｄ３，Ｄ４，Ｄ５を書き込んだ
後、再生用磁気ヘッド１０でデータＤ３を再生すること
により行った。

【００４０】すなわち、先ず、オフトラック特性の測定
の対象となるトラック（以下、記録トラックと称す
る。）から、図３中のｔ₁₁，ｔ₁₂に示すように、それぞ
れ１．５２μｍずらした左右２つのトラックに、記録用
磁気ヘッドを用いて仮のデータＤ１，Ｄ２を書き込ん
だ。

【００４１】次に、記録トラックに、検出するべきデー
タＤ３を、記録用磁気ヘッドを用いて書き込んだ。この
とき、記録トラックに書き込まれた部分の幅ｔ₁₃は、記
録用磁気ヘッドのトラック幅Ｔに相当し、３．８μｍで
ある。なお、記録トラックに記録したデータＤ３のデー
タ長は９６２８Ｂｙｔｅｓとした。

【００４２】次に、記録用磁気ヘッドを、記録トラック
の中心からトラックピッチＴｐの９５％に相当する分の
幅だけずらして、隣接した左右２つのトラックにデータ
Ｄ４，Ｄ５を上書きした。すなわち、図３中のｔ₁₄，ｔ
₁₅に示すように、記録トラックの中心から３．６μｍだ
け離れた左右２つのトラックに、記録用磁気ヘッドを用
いてデータＤ４，Ｄ５を上書きした。

【００４３】そして、以上のようにデータが書き込まれ
た領域に対して、トラック幅ｔ₁₆が３．０μｍの再生用
磁気ヘッド１０を、記録トラックの中心から少しづつず
らしながら再生を繰り返し行い、再生されたデータと、
元の記録データとを比較して、ビットエラーレートを測
定した。ここで、ビットエラーレートの基準は１０^-7と
した。すなわち、１０^-7のビットエラーレートを満足す
る最大オフトラック量を評価の基準とした。なお、以下
の説明では、１０^-7のビットエラーレートを満足する最
大オフトラック量のことを、単に最大オフトラック量と
称する。そして、グルーブ３が形成されておらずディス
ク表面が平面の場合、最大オフトラック量は約１．３μ
ｍであった。

【００４４】比較例として作製した磁気ディスクについ
て、上述のようにビットエラーレートを測定した結果を
図４に示す。なお、図４において、横軸は、オフトラッ
ク量、すなわち再生用磁気ヘッドのずれ量について、記
録トラックに対して左側に再生用磁気ヘッド１０がずれ
たときに最大オフトラック量を示す位置を０として示し
ている。

【００４５】図４からも分かるように、比較例の磁気デ
ィスクでは、最大オフトラック量が約１．２８μｍであ
った。このように、比較例の磁気ディスクでは、グルー
ブ３が形成されておらずディスク表面が平面のときより
も最大オフトラック量が小さくなっており、オフトラッ
ク特性が悪くなってしまっている。

【００４６】そして、実施例１乃至実施例３として作製
した磁気ディスクについても同様に最大オフトラック量
を測定した。それらの測定結果を比較例とともにグラフ
にまとめたものを図５に示す。

【００４７】なお、図５において、横軸はランド４の上
面の幅ｔ₁を示しており、縦軸は最大オフトラック量を
示している。そして、Ｈ１が比較例の磁気ディスク、Ｊ
１が実施例１の磁気ディスク、Ｊ２が実施例２の磁気デ
ィスク、Ｊ３が実施例３の磁気ディスクをそれぞれ示し
ている。

【００４８】そして、ディスク表面が平面の場合のとき
の最大オフトラック量は約１．３μｍであったので、デ
ィスク表面が平面の場合よりもオフトラック特性が向上
するのは、ランド４の上面の幅ｔ₁が約２．２３μｍ以
上のときであることが図５から分かる。

【００４９】ランド４の上面の幅ｔ₁が２．２３μｍと
いうのは、ランド４の幅Ｌｗ＝ｔ₁＋ｔ₃が２．２６μ
ｍ、グルーブ３の幅Ｇｗ＝ｔ₂＋ｔ₃が１．２７μｍに相
当し、これらの比Ｌｗ／Ｇｗは１．９９となる。すなわ
ち、この比Ｌｗ／Ｇｗが、約２．０以上であれば、ディ
スク表面が平面の場合のときよりも最大オフトラック量
が大きくなり、オフトラック特性が向上することとな
る。

【００５０】以上のことから、ランド４の幅Ｌｗとグル
ーブ３の幅Ｇｗとの比Ｌｗ／Ｇｗが約２．０以上のとき
にオフトラック特性が向上することが分かったが、この
ような特性は、少なくともランド４の全体が記録用磁気
ヘッドによってカバーされたときに始めて実現される。
そして、記録用磁気ヘッドがランド４を必ずカバーする
ためには、ランド４の幅Ｌｗよりも記録用磁気ヘッドの
トラック幅Ｔが大きいことが必要である。したがって、
グルーブ３が形成された磁気ディスクに対して記録再生
を行う磁気記録再生装置では、記録用磁気ヘッドのトラ
ック幅Ｔを、ランド４の幅Ｌｗよりも大きくすることが
必要となる。

【００５１】一方、図６に示すように、記録用磁気ヘッ
ド１１のトラック幅Ｔが、ランド４の幅Ｌｗと、ランド
４の右側に形成されたグルーブ３の幅Ｇｗと、ランド４
の左側に形成されたグルーブ３の幅Ｇｗとの合計よりも
大きくなると、必ず隣のトラックのランド４の部分にも
データを書き込むようになってしまう。ここで、ランド
４の幅Ｌｗとグルーブ３の幅Ｇｗとの合計は、トラック
ピッチＴｐに相当する。したがって、記録用磁気ヘッド
１１のトラック幅Ｔは、トラックピッチＴｐとグルーブ
３の幅Ｇｗの合計以下であることも必要である。

【００５２】以上をまとめると、記録トラックに沿って
グルーブ３が形成された磁気ディスクに対して磁気記録
を行う記録用磁気ヘッドを備えた磁気記録再生装置で
は、記録用磁気ヘッドのトラック幅Ｔが、ランド４の幅
Ｌｗ以上であり、且つ、トラックピッチＴｐとグルーブ
３の幅Ｇｗの合計以下であることが望ましい。

【００５３】更に、実際の磁気記録再生装置を考える
と、記録用磁気ヘッドのトラック幅Ｔがランド４の上面
の幅ｔ₁と同じでは、書き込み時に記録用磁気ヘッドに
サーボエラーが生じたときに、直ぐにランド４の部分を
カバーできなくなってしまう。したがって、ランド４の
部分を十分にカバーするためには、記録時のサーボエラ
ーを加味して、記録用磁気ヘッドのトラック幅Ｔを、ラ
ンド４の上面の幅ｔ₁よりも、若干広くしておいたほう
が好ましく、具体的には、記録用磁気ヘッドのトラック
幅Ｔに、記録時のサーボエラーマージンの２倍程度の幅
を加えたおいたほうが好ましい。

【００５４】したがって、記録時のサーボエラーマージ
ンをＥｍとしたとき、記録用磁気ヘッドのトラック幅Ｔ
は、下記式（２−１）を満たすようにすることが好まし
い。

【００５５】ｔ₁＋Ｅｍ×２≦Ｔ・・・（２−１）一方、記録用磁気ヘッドのトラック幅Ｔが広すぎると、
隣接するトラックのランド４の部分に侵入してしまうた
め、当該トラック幅Ｔは、トラックピッチＴｐにグルー
ブ３の幅Ｇｗを加えたものよりも小さくする必要があ
る。そして、このときも、記録時のサーボエラーを加味
する必要があり、記録用磁気ヘッドのトラック幅Ｔは、
下記式（２−２）を満たすようにすることが好ましい。

【００５６】Ｔ≦Ｔｐ＋Ｇｗ−Ｅｍ×２・・・（２−２）したがって、上記式（２−１）及び（２−２）から、記
録用磁気ヘッドのトラック幅Ｔは、下記式（２−３）を
満たすように設定することが好ましいこととなる。

【００５７】Ｌｗ＋Ｅｍ×２≦Ｔ≦Ｔｐ＋Ｇｗ−Ｅｍ×２・・・（２−３）ところで、上述のように、サーボエラーに関わらず記録
用磁気ヘッドがランド４の部分をカバーするようにする
ためには、記録用磁気ヘッドのトラック幅Ｔを（ｔ₁＋
Ｅｍ×２）以上とする必要がある。そして、通常の磁気
記録再生装置では、記録用磁気ヘッドのサーボエラーマ
ージンは、トラックピッチＴｐの１／１０以下程度が目
安となる。したがって、記録用磁気ヘッドのトラック幅
Ｔは、（ｔ１＋Ｔｐ／５）以上とする必要がある。

【００５８】そして、隣接するトラックのランド４の部
分に記録用磁気ヘッドが侵入することは許されないの
で、トラック幅Ｔが（ｔ１＋Ｔｐ／５）とされた記録用
磁気ヘッドを用いる場合には、図７からも分かるよう
に、下記式（２−４）を満たす必要がある。

【００５９】ｔ₃＋ｔ₂＋ｔ₃≧Ｔｐ／５・・・（２−４）ここで、ランド４の幅Ｌｗは（ｔ₁＋ｔ₃）で表され、グ
ルーブ３の幅Ｇｗは（ｔ₂＋ｔ₃）で表されるので、上記
式（２−４）から、ランド４の幅Ｌｗとグルーブ３の幅
Ｇｗとの比Ｌｗ／Ｇｗは、下記式（２−５）を満たす必
要があることが分かる。

【００６０】Ｌｗ／Ｇｗ≦（４／５×Ｔｐ＋ｔ₃）／（１／５×Ｔｐ−ｔ₃）・・・（２−５）そして、上述の例では、トラックピッチＴｐ＝３．８μ
ｍであり、ランド４とグルーブ３の境界における斜面部
分の幅ｔ₃＝０．３μｍであるので、上記式（２−５）
から、ランド４の幅Ｌｗとグルーブ３の幅Ｇｗとの比Ｌ
ｗ／Ｇｗは、７．２６以下であることが好ましいことと
なる。

【００６１】ただし、上記式（２−５）は、トラックピ
ッチＴｐの値に関わらず、一般に言えることである。し
たがって、本発明は、トラックピッチＴｐを３．８μｍ
とした上述の各実施例に限定されるものではない。

【００６２】なお、このような比Ｌｗ／Ｇｗの規定は、
図８に示すように、ランド１０１とグルーブ１０２の境
界における斜面１０３と、ランド１０１とのなす角度θ
が９０゜以上、１０５゜以下であるような磁気ディスク
に対して特に好適である。θが９０゜以上、１０５゜以
下のとき、オフトラック特性がより優れた磁気ディスク
が得られる。

【００６３】後述するように、このような磁気ディスク
の基板は射出成型により作製されるため、θが９０゜以
下にはならない。またθが１０５゜以上であると、オフ
トラック特性が悪くなってしまう。

【００６４】θが９０゜以上、１０５゜以下である磁気
ディスクの基板は、以下のようなディスク成型用金型を
用いて射出成型することにより作製される。

【００６５】上記ディスク成型用金型は、基材と基材上
に形成された金属膜とからなる。そして上記ディスク成
型用金型の作製方法は、金属膜形成工程と、カッティン
グ工程と、エッチング工程とを備える。

【００６６】金属膜形成工程では、基材上に金属材料を
被着して金属膜を形成し、この金属膜表面に研磨を施し
鏡面とする。

【００６７】この金属材料としては、イオンプラズマに
対して反応性を有するものが好ましく、具体的にはＴｉ
などがあげられる。

【００６８】カッティング工程では、上記金属膜形成工
程で形成された上記金属膜上にフォトレジストを塗布
し、上記フォトレジストを所定のパターンに応じて露光
および現像する。上記所定のパターンに応じてピット及
びグルーブ相当部だけを残したレジストパターンが形成
される。

【００６９】エッチング工程では、上記カッティング工
程で残された上記フォトレジストをマスクとして、上記
金属膜に反応性イオンエッチングを施す。上記金属膜の
うち上記フォトレジストの上記ピット及びグルーブ相当
部と対応する部分が凸状に形成されてディスク成型用金
型となる。

【００７０】上記反応性イオンエッチングは、ＢＣｌ₃
などの反応性ガスプラズマを利用し、金属膜の金属との
化学反応によりエッチングを行う化学的エッチングであ
る。

【００７１】Ｔｉは、ＢＣｌ₃などの気体との化学反応
によりエッチングが可能である。そして本発明のように
基材にＴｉ膜を形成した場合、イオンを金属膜上に叩き
付けて溝をほる従来の物理的エッチングに比べて、反応
性イオンエッチングは凹凸をよりシャープに形成するこ
とができる。

【００７２】以上のような方法により、ディスク成型用
金型を作製した。このディスク成型用金型を用いて射出
成型によりディスク基板を作製し、ディスク基板上に磁
気記録層を形成して磁気ディスクを作製した。

【００７３】実施例４まず、Ａｒをスパッタガスとして用いたスパッタリング
法により、基材上にＴｉ膜を形成した。

【００７４】具体的には、真空度５×１０^-5Ｐａ、スパ
ッタガス圧０．２Ｐａ、投入電力８００Ｗ、成膜速度１
０μｍ／３０００ｓの条件下で行った。

【００７５】次に、その表面に研磨を施し鏡面とした上
記Ｔｉ膜上に、フォトレジストを塗布した。

【００７６】上記フォトレジストを所定のパターンに応
じて露光および現像することにより、所定のパターンに
応じてピット及びグルーブ相当部だけを残したレジスト
パターンを形成した。

【００７７】残された上記フォトレジストをマスクとし
て、上記Ｔｉ膜にエッチングを施した。上記Ｔｉ膜のう
ち上記フォトレジストの上記ピット及びグルーブ相当部
と対応する部分を凸状に形成してディスク成型用金型と
した。

【００７８】具体的には、エッチングは、ＢＣｌ₃の反
応性ガスプラズマイオンによる化学的エッチングであ
る。ＡｒとＢＣｌ₃との圧力比は１：５、ガス圧２×１
０^-4Ｔｏｒｒ、イオンビームの入射角７５゜、加速電圧
１００ｍＡ／３００Ｖ、マグネット電流２Ａの条件下で
行った。

【００７９】このようにして作製されたディスク成型用
金型を用いてプラスチックを射出成型することによりデ
ィスク基板を作製した。

【００８０】そして、以上のように作製したディスク基
板上に、Ａｒをスパッタガスとして用いたスパッタリン
グ法により、磁気記録層を形成した。ここで、磁気記録
層は、磁性層の下地となる下地層と、Ｃｒからなる膜厚
０．５ｍｍの中間層が中間に配された磁性層と、磁性層
を保護するために保護層とを、この順に積層して形成し
た。そして、このような磁気記録層上に更に潤滑剤層を
形成して、磁気ディスクとした。

【００８１】具体的には、下地層は、スパッタガス圧を
０．１Ｐａ、成膜速度を２ｎｍ／ｓｅｃとして、Ｃｒを
１０ｎｍ成膜して形成した。また、磁性層は、スパッタ
ガス圧を０．１Ｐａ、成膜速度を２ｎｍ／ｓｅｃとし
て、Ｃｏ₆₄Ｐｔ₂₀Ｃｒ₁₆を２４ｎｍ成膜して形成した。
また、保護層は、スパッタガス圧を０．５Ｐａ、成膜速
度を０．５ｎｍ／ｓｅｃとして、Ｃを１３ｎｍ成膜して
形成した。また、潤滑剤層は、ＦｏｍｂｌｉｎＺ−Ｄｏ
ｌをｄｉｐｐｉｎｇ法により、膜厚が２ｎｍ程度となる
ように形成した。

【００８２】なお、以上のように作製された磁気ディス
クについて、その磁気記録層の磁気特性を、振動試料型
磁力計（ＶＳＭ）を用いて測定したところ、残留磁化厚
みＭｒ・ｔ＝９ｍＡ、保磁力Ｈｃ＝１６７ｋＡ／ｍ、保
磁力角形比Ｓ^*＝０．８であった。

【００８３】実施例４の磁気ディスクにおいて、グルー
ブ１０２とランド１０１の段差ｔ₁₀₀は２００ｎｍ、ラ
ンド１０１の上面の幅ｔ₁₀₁は３．７７μｍ、ランド１
０１とグルーブ１０２の境界における斜面１０３の幅ｔ
₁₀₃は０．０３μｍ、グルーブ１０２の底面の幅ｔ₁₀₂は
０．９７μｍである。このとき、ランド１０１の幅Ｌｗ
＝ｔ₁₀₁＋ｔ₁₀₃は３．８０μｍであり、グルーブ１０２
の幅Ｇｗ＝ｔ₁₀₂＋ｔ₁₀₃は１．００μｍであり、これら
の比Ｌｗ／Ｇｗは３．８０である。

【００８４】なお、グルーブ１０２やランド１０１の形
状を示す数値は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて実
際に出来上がった磁気ディスクに形成されたグルーブ１
０２やランド１０１の形状を実測した値である。

【００８５】比較例２まず、Ａｒをスパッタガスとして用いたスパッタリング
法により、基材上にＩｒ膜を形成した。

【００８６】具体的には、真空度５×１０^-5Ｐａ、スパ
ッタガス圧０．２Ｐａ、投入電力８００Ｗ、成膜速度１
０μｍ／３０００ｓの条件下で行った。

【００８７】次に、その表面に研磨を施し鏡面とした上
記Ｉｒ膜上に、フォトレジストを塗布した。

【００８８】上記フォトレジストを所定のパターンに応
じて露光および現像することにより、所定のパターンに
応じてピット及びグルーブ相当部だけを残したレジスト
パターンを形成した。

【００８９】残された上記フォトレジストをマスクとし
て、上記Ｉｒ膜にエッチングを施した。上記Ｉｒ膜のう
ち上記フォトレジストの上記ピット及びグルーブ相当部
と対応する部分を凸状に形成してディスク成型用金型と
した。

【００９０】具体的には、エッチングは、イオンを叩き
つけて溝を掘る物理的エッチングであり、Ａｒ圧２×１
０^-4Ｔｏｒｒ、イオンビームの入射角７５゜、加速電圧
１００ｍＡ／３００Ｖ、マグネット電流２Ａの条件下で
行った。

【００９１】このようにして作製されたディスク成型用
金型を用いてプラスチックを射出成型することによりデ
ィスク基板を作製した。

【００９２】そして、以上のように作製したディスク基
板上に、実施例と同様にして磁気記録層を形成し、磁気
記録層上に更に潤滑剤層を形成して、磁気ディスクとし
た。

【００９３】比較例２の磁気ディスクにおいて、グルー
ブ１０２とランド１０１の段差ｔ₁₀₀は２００ｎｍ、ラ
ンド１０１の上面の幅ｔ₁₀₁は３．３８μｍ、ランド１
０１とグルーブ１０２の境界における斜面１０３の幅ｔ
₁₀₃は０．５６μｍ、グルーブ１０２の底面の幅ｔ₁₀₂は
０．３０μｍである。このとき、ランド１０１の幅Ｌｗ
＝ｔ₁₀₁＋ｔ₁₀₃は３．９４μｍであり、グルーブ１０２
の幅Ｇｗ＝ｔ₁₀₂＋ｔ₁₀₃は０．８６μｍであり、これら
の比Ｌｗ／Ｇｗは４．５８である。

【００９４】オフトラック特性の評価以上のように作製した磁気ディスクに対して実際に記録
再生を行い、それらのオフトラック特性を測定した。

【００９５】ここで、記録再生には、記録用磁気ヘッド
として機能するインダクティブ型磁気ヘッドと、再生用
磁気ヘッドとして機能する磁気抵抗効果型磁気ヘッドと
を組み合わせた複合磁気ヘッドを使用した。そして、イ
ンダクティブ型磁気ヘッドからなる記録用磁気ヘッドに
は、トラック幅が４．４μｍ、磁気ギャップの間隔が
０．５μｍのものを使用し、磁気抵抗効果型磁気ヘッド
からなる再生用磁気ヘッドには、トラック幅が３．６μ
ｍ、磁気抵抗効果素子を挟持する磁気シールドの間隔が
０．３６μｍのものを使用した。

【００９６】また、上記複合磁気ヘッドは、磁気ディス
クに対する当たりを確保するために、いわゆる５０％ナ
ノスライダーに組み込んで使用した。ここで、当該スラ
イダーのスライダー長は２．０ｍｍ、スライダー幅は
１．６ｍｍとした。そして、記録再生は、磁気ディスク
を線速７．３６ｍ／ｓｅｃにて回転させて行った。この
とき、複合磁気ヘッドの浮上量は約６０ｎｍとなる。

【００９７】そして、オフトラック特性の測定は、図９
に示すように、記録用磁気ヘッドを用いて磁気ディスク
にデータＤ１０１，Ｄ１０２，Ｄ１０３，Ｄ１０４，Ｄ
１０５を書き込んだ後、再生用磁気ヘッド１０４でデー
タＤ１０３を再生することにより行った。

【００９８】すなわち、先ず、オフトラック特性の測定
の対象となるトラック（以下、記録トラックと称す
る。）から、図９中のｔ₁₁₁，ｔ₁₁₂に示すように、それ
ぞれ１．９２μｍずらした左右２つのトラックに、記録
用磁気ヘッドを用いて仮のデータＤ１０１，Ｄ１０２を
書き込んだ。

【００９９】次に、記録トラックに、検出するべきデー
タＤ１０３を、記録用磁気ヘッドを用いて書き込んだ。
このとき、記録トラックに書き込まれた部分の幅ｔ₁₁₃
は、記録用磁気ヘッドのトラック幅Ｔに相当し、４．４
μｍである。なお、記録トラックに記録したデータＤ１
０３のデータ長は８５２８Ｂｙｔｅｓとした。

【０１００】次に、記録用磁気ヘッドを、記録トラック
の中心からトラックピッチＴｐの９５％に相当する分の
幅だけずらして、隣接した左右２つのトラックにデータ
Ｄ１０４，Ｄ１０５を上書きした。すなわち、図９中の
ｔ₁₁₄，ｔ₁₁₅に示すように、記録トラックの中心から
４．５６μｍだけ離れた左右２つのトラックに、記録用
磁気ヘッドを用いてデータＤ１０４，Ｄ１０５を上書き
した。

【０１０１】そして、以上のようにデータが書き込まれ
た領域に対して、トラック幅ｔ₁₁₆が３．６μｍの再生
用磁気ヘッド１０４を、記録トラックの中心から少しづ
つずらしながら再生を繰り返し行い、再生されたデータ
と、元の記録データとを比較して、ビットエラーレート
を測定した。ここで、ビットエラーレートの基準は１０
^-7とした。すなわち、１０^-7のビットエラーレートを満
足する最大オフトラック量を評価の基準とした。

【０１０２】実施例４の磁気ディスク、比較例２の磁気
ディスクについて、オフトラック量を測定した結果をそ
れぞれ図１０、図１１に示す。

【０１０３】また、図１２は、ランド１０１上面の幅ｔ
₁₀₁に対する最大オフトラック量の理論曲線である。実
線Ａおよび実線Ｂは、それぞれ実施例４および比較例２
のディスク成型用金型を用いて作製された磁気ディスク
についての理論曲線である。また、実線Ｃは、表面が平
面である磁気ディスクについての理論曲線である。

【０１０４】比較例２の磁気ディスクは、ランド上面の
幅ｔ₁₀₁が３．３８μｍであり、最大オフトラック量が
１．３４μｍであった。この結果は図１２の理論曲線と
ほぼ一致している。図１２より、比較例２の磁気ディス
クは、表面が平面の磁気ディスクよりも最大オフトラッ
ク量がかなり小さく、オフトラック特性が悪くなってし
まった。

【０１０５】一方、実施例４の磁気ディスクは、ランド
上面の幅ｔ₁₀₁が３．７７μｍであり、最大オフトラッ
ク量が１．５９μｍであった。この結果は図１２の理論
曲線とほぼ一致している。図１２より、実施例４の磁気
ディスクは、表面が平面の磁気ディスクよりも最大オフ
トラック量が大きく、優れたオフトラック特性が得られ
た。

【０１０６】比較例２および実施例４の結果は、図１２
の理論曲線とほぼ一致しており、ランド上面の幅ｔ₁₀₁
を変えて同様に実験を行っても、理論曲線と近似した結
果が得られるものと類推される。

【０１０７】図１２からも明らかなように、Ｔｉ膜を形
成し、反応性イオンエッチングにより作製されたディス
ク成型用金型を用いて作製された磁気ディスクは、表面
が平面の磁気ディスクよりも優れたオフトラック特性を
もつことがわかった。

【０１０８】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、記録トラックに沿ってグルーブが形成された
磁気記録媒体として、記録再生時に磁気ヘッドの浮上量
変動が少なくて済み、オフトラック特性に優れた磁気記
録媒体、並びに、そのような磁気記録媒体に対して記録
再生を良好に行うことができる磁気記録再生装置を提供
することができる。そして、本発明によれば、オフトラ
ック特性を改善できるので、更なる高トラック密度化を
図ることが可能となる。さらに、本発明によれば、ピッ
トやグルーブが予め形成された磁気ディスクに、ディス
ク表面が平面のときよりも優れたオフトラック特性を付
与することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した磁気ディスクの一例につい
て、そのデータゾーン及びサーボゾーンの凹凸の様子を
模式的に示す平面図である。

【図２】図１のＡ−Ａ線におけるデータゾーン及びサー
ボゾーンの凹凸の様子を模式的に示す断面図である。

【図３】ビットエラーレート測定時の記録パターンを模
式的に示す図である。

【図４】再生用磁気ヘッドのオフトラック量と、ビット
エラーレートとの関係を測定した結果を示す図である。

【図５】ランド上面の幅ｔ₁と、最大オフトラック量と
の関係を示した図である。

【図６】トラック幅Ｔが大きすぎる記録用磁気ヘッド
と、ランド及びグルーブとの関係を示す図である。

【図７】トラック幅Ｔが（ｔ₁＋Ｔｐ／５）とされた記
録用磁気ヘッドと、ランド及びグルーブとの関係を示す
図である。

【図８】本発明を適用した磁気ディスクの一例につい
て、そのデータゾーン及びサーボゾーンの凹凸の様子を
模式的に示す断面図である。

【図９】ビットエラーレート測定時の記録パターンを模
式的に示す図である。

【図１０】再生用磁気ヘッドのオフトラック量と、ビッ
トエラーレートとの関係を測定した結果を示す図であ
る。

【図１１】再生用磁気ヘッドのオフトラック量と、ビッ
トエラーレートとの関係を測定した結果を示す図であ
る。

【図１２】ランド上面の幅ｔ₁₀₁と、最大オフトラック
量との関係を示した図である。

【符号の説明】

１ピット、２サーボゾーン、３グルーブ、
４データゾーン、１０再生用磁気ヘッド、１１
記録用磁気ヘッド、Ｌｗランドの幅、Ｇｗグルー
ブの幅、ｔ₁，ｔ₁₀₁ ランド上面の幅、ｔ₂，ｔ₁₀₂
グルーブ底面の幅、ｔ₃，ｔ₁₀₃ ランドとグルーブ
の境界における斜面部分の幅

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】サーボ信号に対応した凹凸が形成される
とともに、記録トラックに沿ってグルーブが形成された
磁気記録媒体において、グルーブとグルーブの間の凸部であるランドの幅Ｌｗ
と、グルーブの幅Ｇｗとの比Ｌｗ／Ｇｗが２．０以上で
あることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】トラックピッチをＴｐとし、上記ランド
と上記グルーブの境界における斜面部分の幅をｔとした
とき、Ｌｗ／Ｇｗ≦（４／５×Ｔｐ＋ｔ）／（１／５×Ｔｐ−
ｔ）であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項３】上記比Ｌｗ／Ｇｗが７．２６以下である
ことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項４】上記グルーブと上記ランドの段差が１０
０ｎｍ以上であることを特徴とする請求項１記載の磁気
記録媒体。
【請求項５】上記ランドと上記グルーブの境界におけ
る斜面部分と、上記ランドとのなす角度が９０゜以上、
１０５゜以下であることを特徴とする請求項１記載の磁
気記録媒体。
【請求項６】記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
れた磁気記録媒体に対して磁気記録を行う記録用磁気ヘ
ッドを備え、上記記録用磁気ヘッドのトラック幅Ｔが、グルーブとグ
ルーブの間の凸部であるランドの幅Ｌｗ以上であり、ト
ラックピッチＴｐとグルーブの幅Ｇｗの合計以下である
ことを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項７】上記ランドの幅をＬｗ、上記グルーブの
幅をＧｗ、上記トラックピッチをＴｐ、磁気記録時のサ
ーボエラーマージンをＥｍとしたとき、上記記録用磁気
ヘッドのトラック幅Ｔが、Ｌｗ＋Ｅｍ×２≦Ｔ≦Ｔｐ＋Ｇｗ−Ｅｍ×２であることを特徴とする請求項６記載の磁気記録再生装
置。
【請求項８】基材と基材上に形成された金属膜とから
なるディスク成型用金型を作製するに際し、基材上に金属材料を被着して金属膜を形成する金属膜形
成工程と、上記金属膜形成工程で形成された上記金属膜上にフォト
レジストを塗布し、フォトレジストを所定のパターンに
応じて露光および現像することにより、ピット及び／又
はグルーブ相当部だけを残したレジストパターンを形成
するカッティング工程と、上記カッティング工程で残された上記フォトレジストを
マスクとして、上記金属膜に反応性イオンエッチングを
施し、上記金属膜のうち上記フォトレジストの上記ピッ
ト及び／又はグルーブ相当部と対応する部分を凸状に形
成してディスク成型用金型とするエッチング工程と、を備えることを特徴とするディスク成型用金型の作製方
法。