JPH0549210B2

JPH0549210B2 -

Info

Publication number: JPH0549210B2
Application number: JP9310586A
Authority: JP
Inventors: Toshio Oka; Kazuo Nozu
Original assignee: Daicel Chemical Industries Ltd
Current assignee: Daicel Corp
Priority date: 1986-04-22
Filing date: 1986-04-22
Publication date: 1993-07-23
Also published as: JPS62249142A

Description

【発明の詳細な説明】

(イ) 産業上の利用この発明は、ジアゾ複写材料に関するものであ
る。より詳細には、安定剤として特定の化合物を
含むことによつて、未現像フイルムの経時による
画像劣化が少なく、未現像及び現像処理済みフイ
ルム表面への成分ブリードのないジアゾ複写材料
に関するものである。 (ロ) 従来の技術従来ジアゾ複写材料の安定剤としては、クエン
酸・しゆう酸等の有機カルボウ酸や、スルホサリ
チル酸・ｐ−トルエンスルホン酸等の有機スルホ
ン酸、さらに硫酸・塩酸等の無機プロトン酸や、
三フツ化ホウ素等の無機ルイス酸が知られてい
る。特に有機スルホン酸は危険性も少なく、十分な
プレカツプリング防止能力を持つため広く用いら
れているが、分子量が小さくバインダー成分との
相溶性があまり良くないため、経時と共に未現像
及び現像処理済みフイルム表面へ微粉末が浮かび
出る、所謂ブリード現象が発生しやすく、その改
良が望まれていた。 (ハ) 発明が解決しようとする問題点この発明はこの様な欠点を改良するためになさ
れたもので、その目的は安定剤として特定の化合
物を含むことによつて、未現像フイルムの経時に
よる画像劣化が少なく、未現像及び現像処理済み
フイルム表面への成分ブリードのないジアゾ複写
材料を提供することにある。上記目的を達成する為に、ジアゾ複写材料に使
用される素材についても詳細な検討を行うことで
この発明に至つた。 (ニ) 問題点を解決するための手段この発明によれば、支持体上にジアゾ化合物及
びカツプリング成分を主成分として含む感光層か
らなるジアゾ複写材料において、安定剤が一般式
（）：（式中Ｒは炭素数４〜20のアルキル基）で表さ
れる化合物の少なくとも１種類を含むことを特徴
とするジアゾ複写材料が提供される。この発明で用いる安定剤としては、前記一般式
（）で示されるものが使用される。この種類の
安定剤を用いたフイルムは、未現像フイルムの経
時による画像劣化が少なく、未現像及び現像処理
済みフイルム表面への成分ブリードがない。一般式（）で示される化合物の具体例として
は、ｎ−ブチルベンゼンスルホン酸、tert−ブチ
ルベンゼンスルホン酸、ヘキシルベンセンスルホ
ン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、ドデシルベ
ンセンスルホン酸、ヘキサドデシルベンゼンスル
ホン酸、エイコサシルベンゼンスルホン酸等が挙
げられる。この発明で用いられるカツプリング成分は特に
制約ず、従来よりジアゾ複写材料に使用されてい
るものがそのまま使用出来る。例えばフエノー
ル、２，６−ジターシヤリーブチルフエノール、
レゾルシノール、２−メチルレゾルシノール、フ
ロログルシノール、ピロガロール、ベンゾトリア
ゾール、４−クロルレゾルシノール、α−レゾル
シン酸、β−レゾルシン酸、ジアノ酢酸モルホリ
ノ、アセト酢酸アニリド、１−ヒドロキシ−４−
メトキシナフタレン、２−ナフトール−３−カル
ボン酸−アニリド、２−ナフトール−３−カルボ
ン酸−2′−メトキシアニリド、２−ナフトール−
３−カルボン酸−2′−エトキシアニリド、２−ナ
フトール−３−カルボン酸−4′−クロルアニリ
ド、２−ナフトール−３−カルボン酸−3′N−モ
ルホリノ−プロピルアミド、２−ナフトール−３
−カルボン酸−エタノールアミド、２−ナフトー
ル−３−カルボン酸−ジエタノールアミド、２−
ナフトール−３−カルボン酸−α−ナフトアニリ
ド、２−ナフトール−３−カルボン酸−β−ナフ
トアニリド、２−ナフトール−３−カルボン酸−
2′−メチルアニリド、２−ナフトール−３−カル
ボン酸−3′−ニトロアニリド、２−ナフトール−
３−カルボン酸−2′，5′−ジメトキシアニリド等
が挙げられる。同じく、この発明で用いられるジアゾ化合物
も、特に制約されず、従来よりジアゾ複写材料に
使用されているものがそのまま使用出来る。。例
えば４−ジメチルアミノベンゼンアゾニウム、４
−ジエチルアミノベンゼンジアゾニウム、４−ジ
イソプロピルアミノベンゼンジアゾニウム、４−
ジベンジルアミノベンゼンジアゾニウム、４−メ
チルベンジルアミノベンゼンジアゾニウム、４−
モルホリノ−２，５−ジエトキシベンゼンジアゾ
ニウム、４−モルホリノ−２，５−ジイソプロポ
キシベンゼンジアゾニウム、４−モルホリノ−
２，５−ジブトキシベンゼンジアゾニウム、４−
ピロリジノ−３−メトキシベンゼンジアゾニウ
ム、４−モルホリノベンゼンジアゾニウム、４−
アニリノベンゼンジアゾニウム、４−トルイルメ
ルカプト−２，５−ジエトキシベンゼンジアゾニ
ウムなどのジアゾ化合物の強酸塩（例えば硫酸、
４フツカ化ホウ素、６フツカ化リン酸など）や、
またこれらのジアゾ化合物と金属ハロゲン化物の
複塩（例えば塩化亜鉛、塩化錫、塩化カドミウム
など）が挙げられるが、勿論これらに限定される
ものでは無い。この発明に用いられる支持体は、一般に用いら
れるもので、例えばポリエステルフイルム、ポリ
エチレンフイルム、ポリカーボネイトフイルム、
アセテートフイルム及び紙などが挙げられる。この発明では、以上の素材の他に通常のジアゾ
複写材に添加される各種材料、例えば酸化防止剤
として、チオ尿素・尿素などが使用できる。さら
に分散剤としてサポニンなどが、溶解剤としてカ
フエイン・テオフイリンなどが使用できる。バイ
ンダー樹脂として澱粉・ガゼイン・ポリ酢酸ビニ
ル・ポリアクリル酸またはポリアクリル酸ソー
ダ・セルロース誘導体などのポリマーが使用でき
る。さらにつや消し剤としてシリカ微粉末を入れ
ることも出来る。必要に応じてスチレン系・塩化
ビニリデン系などのアンダーコートを施してもよ
い。この発明のジアゾ複写材料を作成するには、上
記成分を水またはメチルエチルケトンなどの適当
な溶剤に溶解もしくは分散し、しかる後にポリエ
ステル、酢酸セルロースフイルムや紙等の適当な
支持体上に、この液を塗布し乾燥する。この際、
安定剤とジアゾ成分のモル比は、１：0.1〜10が
望ましく、好ましくは１：0.1〜１である。このようにして作成されたフイルム上に、アゾ
染料画像を発色させるには、一般のジアゾ複写材
料と同様に、蛍光灯や紫外線水銀灯を用いて画像
を焼き付け、その後アンモニアガスまたはアルカ
リ現像液を用いてアゾ染料画像を形成させる。 (ホ) 作用本発明のジアゾ複写材料は前記構成であるた
め、未現像フイルムの経時による画像劣化が少な
く、未現像及び現像処理済みフイルム表面への成
分ブリードが改善される。 (ヘ) 実施例以下本発明を実施例により詳細に説明する。実施例１下記組成にて感光液を調製する。メチルエチルケトン 40.0ｇメチルセロソルブ 40.0ｇ酢酸セルロース 15.0ｇシリカ微粉末 1.0ｇドデシルベンゼンスルホン酸 1.5ｇ４−モルホリノ−２，５−ジブトキシベンゼン
ジアゾニウム・BF₄ 2.0ｇ２−ナフトール−３−カルボン酸−α−ナフチ
ルアニリド 1.4ｇ上記感光液を、10％モノクロル酢酸水溶液であ
らかじめ表面処理したポリエステルフイルム（厚
味75μ）上に、ワイヤーバーを用いて塗布後90℃
で乾燥し、厚味10μの感光層を有するジアゾ複写
材料を得た。実施例２下記組成にて感光液を調製する。メチルエチルケトン 40.0ｇメチルセロソルブ 40.0ｇ酢酸セルロース 15.0ｇ tert−ブチルベンゼンスルホン酸 1.5ｇ４−モルホリノ−２，５−ジブトキシベンゼン
ジアゾニウム・PF₆ 2.2ｇ２−ヒドロキシナフタレン−３−カルボン酸−
α−ナフチルアミド 0.8ｇ上記感光液を、10％モノクロル酢酸水溶液であ
らかじめ表面処理したポリエステルフイルム（厚
味75μ）上に、ワイヤーバーを用いて塗布後90℃
で乾燥し、厚味10μの感光層を有するジアゾ複写
材料を得た。実施例３下記組成にて感光液を調製する。メチルエチルケトン 40.0ｇメチルセロソルブ 40.0ｇ酢酸セルロース 15.0ｇエイコシルベンゼンスルホン酸 1.2ｇ４−トルイルメルカプト−２，５−ジエトキシ
ベンゼンジアゾニウム・PF₆ 2.3ｇ２−ナフトール−３−カルボン酸−2′−メトキ
シアニリド 0.6ｇ上記感光液を、10％モノクロル酢酸水溶液であ
らかじめ表面処理したポリエステルフイルム（厚
味75μ）上に、ワイヤーバーを用いて塗布後90℃
で乾燥し、厚味10μの感光層を有するジアゾ複写
材料を得た。実施例４下記組成にて感光液を調製する。アセトン 40.0ｇメチルセロソルブアセテート 40.0ｇセルロースアセテートブチレート 15.0ｇヘキシルベンゼンスルホン酸 0.5ｇ４−モルホリノ−２，５−ジイソプロポキシベ
ンゼンジアゾニウム・PF₆ 1.8ｇ２−ナフトール−３−カルボン酸−エタノール
アミド 0.8ｇレゾルシノール 1.0ｇ上記感光液を、10％モノクロル酢酸水溶液であ
らかじめ表面処理したポリエステルフイルム（厚
味75μ）上に、ワイヤーバーを用いて塗布後90℃
で乾燥し、厚味10μの感光層を有するジアゾ複写
材料を得た。比較例１下記組成にて感光液を調製する。メチルエチルケトン 40.0ｇメチルセロソルブ 40.0ｇ酢酸セルロース 15.0ｇ３フツ化ホウ素・メタノールコンプレツクス
0.5ｇ４−ジメチルアミノベンゼンジアゾニウムBF₄
1.4ｇ２−ナフトール−３−カルボン酸−2′−エトキ
シアニリド 0.9ｇ上記感光液を、10％モノクロル酢酸水溶液であ
らかじめ表面処理したポリエステルフイルム（厚
味75μ）上に、ワイヤーバーを用いて塗布後90℃
で乾燥し、厚味10μの感光層を有するジアゾ複写
材料を得た。比較例２下記組成にて感光液を調製する。メチルエチルケトン 40.0ｇメチルセロソルブ 40.0ｇ酢酸セルロース 15.0ｇスルホサリチル酸 0.4ｇ４−ジメチルアミノ−３−クロルベンセンジア
ゾニウムBF₄ 0.9ｇ２−ナフトール−３−カルボン酸−2′−エトキ
シアニリド 1.2ｇ上記感光液を、10％モノクロル酢酸水溶液であ
らかじめ表面処理したポリエステルフイルム（厚
味75μ）上に、ワイヤーバーを用いて塗布後90℃
で乾燥し、厚味10μの感光層を有するジアゾ複写
材料を得た。比較例３下記組成にて感光液を調製する。メチルエチルケトン 40.0ｇメチルセロソルブ 40.0ｇ酢酸セルロース 15.0ｇパラトルエンスルホン酸 1.0ｇ４−モルホリノ−２，５−ジブトキシベンゼン
ジアゾニウム・BF₄ 2.0ｇ２−ナフトール−３−カルボン酸−ジエタノー
ルアミド 0.9ｇレゾルシン 0.3ｇ上記感光液を、10％モノクロル酢酸水溶液であ
らかじめ表面処理したポリエステルフイルム（厚
味75μ）上に、ワイヤーバーを用いて塗布後90℃
で乾燥し、厚味10μの感光層を有するジアゾ複写
材料を得た。以上のように作成した試験フイルム実施例１〜
４及び比較例１〜３について、下記の試験を行つ
た。試験方法並びにその結果を以下に示す。１画像劣化試験各試験片を60℃・相対湿度90％にて72時間加熱
放置し、その後水銀灯により画像を焼き付け、ア
ンモニア現像機（ダイセル化学工業株式会社アク
ロス自動現像機AP−26D）で完全に発色させ、
透過濃度計（マクベス透過濃度計TD−904、可
視フイルター使用）で、画像部及び非画像部の濃
度を測定する。測定結果を次に示す。濃度測定結果

【表】以上より明らかなように、比較例１，２とも画
像部の退色と非画像部の濃度上昇が観察されるの
に対し、実施例及び比較例３ではほとんど濃度の
変化が無く、画像劣化が少ないことが判る。２ブリード試験未現像及び現像処理済みフイルムにて試験片を
作成し、各試験片を60℃・相対湿度90％にて72時
間加熱放置し、表面のブリードの有無を目視にて
観察する。但し未現像フイルムは、観察前にアン
モニア現像機で現像処理を行つた。観察結果

【表】以上より明らかなように、比較例１〜３とも成
分のブリードが観察されるのに対し、実施例では
ほとんど成分のブリードが無く、この発明の目的
が達成されているのが判る。

Claims

【特許請求の範囲】１支持体上に、ジアゾ化合物及びカツプリング
成分を主成分として含む感光層からなるジアゾ複
写材料において、安定剤が一般式（）：（式中Ｒは炭素数４〜20のアルキル基）で表さ
れる化合物の少なくとも１種類を含むことを特徴
とするジアゾ複写材料。