JPH05500201A - 高純度塩素酸 - Google Patents

高純度塩素酸

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JPH05500201A
JPH05500201A JP2513031A JP51303190A JPH05500201A JP H05500201 A JPH05500201 A JP H05500201A JP 2513031 A JP2513031 A JP 2513031A JP 51303190 A JP51303190 A JP 51303190A JP H05500201 A JPH05500201 A JP H05500201A
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chloric acid
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solution
aqueous
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JP2513031A
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ダンカン,バッド エル.
ゲレン,ジョージ,ダブリュ.
レオナード,ドナルド,アール.
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オリン コーポレイション
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B11/00Oxides or oxyacids of halogens; Salts thereof
    • C01B11/12Chloric acid

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本出願は1989年9月5日に出願した米国出願番号第403,279号の部分 継続出願である。
本発明は塩素酸、HClOsの製造に関する。塩素酸は二酸化塩素、商業用漂白 剤及び商業用消毒剤の生成に用いることができる。
従来技術の説明 塩素酸は既知化合物であり、実験室調製では、塩素酸バリウムを硫酸で反応させ て硫酸バリウムを沈殿させ、塩素酸の希薄水溶液(不完全真空下で水分を蒸発さ せて濃縮させる)を製造することによって作られてきた。他の方法では、塩素酸 ナトリウムを塩酸又は硫酸のような酸で反応させ、塩素酸の水溶液(不純物とし て硫酸塩又は塩化物のイオンを含む)を製造する。更に、二酸化塩素の商業的製 造法では中間体として塩素酸が生成される。
1974年5月14日、A、A、ジュランバーガー(Schlumberger )に付与された米国特許第3,810゜969号明細書から、塩素酸ナトリウム のようなアルカリ金属の塩素酸塩を1リットル当り0.2〜11グラムモル含む 水溶液を、5〜40°Cの温度で選択陽イオン交ルから約4.0グラムモルのH C10sを含む水溶液が製造される。
カーク・オス? −(Kirk−Othmer ) : rEncyclope diaof chemical Technology J第3版、第5巻、5 87ページから、次亜塩素酸の希薄溶液(1モル)の分解は2通りで生じること が分かる: MOCI 2HOC1→2 HCl +OI ===2 Cl * +Ox + 2 Ht  O(1)第2機構にあっては、亜塩素酸(HC10x )はその生成における 中間体であると述べられている。両機構によるHOCIの分解は、濃度、温度及 び光照射と共に増大し、pHに依存していると述べられている。第1反応機構は 触媒によって加速され、第2反応機構は塩化物のイオンのような電解室の圧力に よって有利になると述べられている。しかし、その参考文献から、次亜塩素酸の 濃縮溶液の分解に関しては何も知ることかできない。
しかし、塩素酸は今日まで商業的に生産されなかった又は商業的に利用できなか った。その理由は、製造費が高くかつこれらの反応によって製造されるH C1 0m溶液中に好ましくない不純物が存在するということ、又はそのいずれかであ る。
発明の概要 現在、塩素酸は、商業的に操作可能な方法を用いて実質的に低減製造費で効率的 に製造することができるということが分かってきた。更に、製造された塩素酸の 溶液は高純度であり、周囲条件で安定である。
本発明によると、約10〜約120℃の範囲の温度で、を、塩素酸の希薄水溶液 と気体副生物とからなる反応混合物に転換させ、かつ該気体副生物を連続的に除 去してHCl0.を約10重量%又はそれ以上含む塩素酸溶液を製造することか らなる塩素酸の製造方法が提供される。
発明の詳細な説明 本発明の新しい方法では、出発物質として高純度次亜塩素酸、HOCIの濃縮溶 液を使用する。高純度の濃縮HOC1溶液を製造する1つの方法は、高濃度次亜 塩素酸の蒸気と、−酸化塩素ガスと、制御量の水蒸気とを含む気体混合物を、例 えば、米国特許第4.147.761号明細書でJ、P、ブレナン(Brenn an )等が述べている方法(その全体の内容を参照する)によって製造する方 法である。ついで、1990年5月17日発行のWO90105111号明細書 でJ、に、 メルトン(Melton)等が述へているような次亜塩素酸の濃縮 溶液(その全体の内容を参照)に前記気体混合物を転換させる。
反応物として用いる次亜塩素酸の濃縮溶液には、HOCIが少なくとも20重量 %含まれる。好ましい溶液はHOC1が約30重量%から約60重量%の範囲の 濃度のものであり、更に好ましくは、約40重量%から約55重量%の濃度のも のである。その溶液には、塩化物のイオンおよびアルカリ金属イオンのようなイ オン不れる。例えば、塩化物のイオンの濃度は、好ましくは約50 ppm未満 であり、アルカリ金属イオンの濃度は、好ましくは約50 ppm未満である。
次亜塩素酸溶液中の溶存塩素濃度は、通常、約2重量%未満であり、好ましくは 約1重量%未満である。
その濃縮次亜塩素酸は適切な方法によって塩素酸に転換する。そして、次亜塩素 酸試薬は高純度であるために、次の反応によって転換し、塩素酸が生じるものと 考えられる。
3HOC1→HCl0. +2HC1(1)2HOC1+2HC1→2CI!  +2Hz O(2)5HOC1→HClOs +2C1,+2H,Of3)本発 明の方法の1つの具体例では、濃縮次亜塩素酸の塩素酸への転換は開放容器中で 行う。これらの条件下で、生成する気体副生物は、例えば、アルカリ溶液を含む 気体洗浄装置へ放気す=、適温は、例えば、自然圧において約lO〜約120° Cの範囲である。転換時間は転換温度に直接関係するが、転換温度が増大するに つれて、塩素酸の収率は減少する。従って、次亜塩素酸の転換は、製造し、その 水溶液は更に濃縮することかできる。
好ましい具体例では、次亜塩素酸溶液を高温で加熱することにより塩素酸を製造 すると共に、反応時間中、反応混合物と接触して生成する気体副生物を保持する 。このことは、例えば、自然圧下で、密封容器内でその方法を実行することによ って達成することができる。そして、そこでは塩素酸の収率が実質的に増加する 。例えば、約40〜約I20°Cの範囲の温度で、好ましくは約−50〜約11 O℃の範囲で、更に好ましくは約60〜約100゛Cの範囲で、次亜塩素酸の濃 縮溶液を加熱する。
本発明の方法で製造した塩素酸溶液が希薄、すなわち、約10重量96未満のH Cl0.である場合は、蒸発により水分の一部を除去することにより、その塩素 酸溶液を更に濃縮する。蒸発している間、残留次亜塩素酸はすべて塩素酸生成物 に転換する。濃縮は、約40°C以上の温度で、例えば、約40〜約120°C の範囲の温度で、好ましくは約70〜約120°Cの範囲で、更に好ましくは約 95〜約120℃の範囲で、その塩素酸溶液を加熱することによって適切に達成 させる。
その塩素酸溶液は、真空蒸留によって濃縮するとともてきる。圧約0,01〜約 100nu++Hgの範囲のような、いかなる適切な真空圧も使用することかで きる。
本発明の新しい方法によって製造される高純度塩素酸溶液には、HClOsが少 なくとも約10重量%、例えば、約12重量%又はそれ以上含まれる。HCI  O2’約45重量%までの濃縮溶液を製造することができる。好ましい塩素酸溶 液は、HClOs約15〜約40重量%を含む溶液、そして更に好ましくは、約 18〜約35重量%を含む溶液である。製造した高純度の濃縮溶液、すなわち、 HClOs約30重量%以上の溶液は、非常に安定であり、長期間、有意な分解 はせず安全に貯蔵することができる。
本発明の新しい方法を、更に次の例によって説明するが、その例に限定されるも のではない。部及び百分率はすべて、別に表示しない限り重量による。
例 1 HOCl 30重量%を含む次亜塩素酸溶液を、周囲温度及び周囲圧力の下で、 大型開放容器に加えた。その溶液を定期的に分析し、反応によって、MCl0゜ 6.0重量%、HOCl 5.3重量%及びHCl0.1重量%を含む溶液を製 造したとき、その溶液を30°Cて加熱し、HCl02 7.8重量%、HOC 10,6重量%及びHCl0.1重量%を含む溶液を製造した。この塩素酸溶液 かHC103を20.03重量%、HOCI又はHCIを0.1重量%未満含む 溶液になるまで、20〜24°C1約0.lmmHgの真空蒸留にHOCI 4 1重量%を含む次亜塩素酸の濃縮溶液を、例1で使用した大型開放容器に入れ、 室温で24時間放置した。次いで、その溶液を25°Cで真空蒸発によって濃縮 し、HCl01 23.5重量%を含む塩素酸溶液を製造した。分析結果は次の 通りである。
表 工 初 期 24時間後 濃縮後 重量% HClOs L4.31 23.51 HOCI 41 0.80 0.12 HCI BDL” BDL” 0検出限界未満 例 3 HOCI 4’0.54重量%を含む次亜塩素酸の濃縮溶液(600g)を密閉 反応器に注ぎ、55°Cて加熱した。生成気体をアルカリ気体洗浄装置へ送った 。反応の後、HCIces I 1. 91%、HOCl 4.92%及びHC l0.1%を含む溶液(454,8g)を製造した。HOCIに基づ<HClO 3の収率は71%であった。反応溶液及び気体洗浄装置の溶液(1124,7g )の分析結果は次の通りである。
表 ■ 初期溶液 )10C1転換後 アルカリ気体洗浄重量% 装置 HOCI 40.54 4.92 HC1030,2911,91 HCI O,120,1 NaOC110,93 Na C10s 0.69 NaC110,07 例 4 HOCI 40.54重量%を含む次亜塩素酸の濃縮溶液(600g)を、例3 で使用した密閉反応器中で95°Cの温度で加熱した。HOCIに基づ<HCl 0s(445,5g)の収率は8196であった。分析結果を下表■に示す。
表 ■ 初期溶液 HOC1転換後 重量% HOC140,892,45 HC10x 1.04 13.74 HCI O,540,22 例 5 本発明の方法によって製造した、HCl0x 22.s重量%を含む溶液を、開 放容器中で95°Cで加熱することにより更に濃縮した。回収した塩素酸の生成 物には、HClOs 43.34重量%が含まれていた。
例 6 HCl02 15重量%を含む溶液を大気圧下、102〜104°Cで煮沸する ことにより、28重量%まで濃縮した。その塩素酸の回収率は97.2%であっ た。濃縮に要した総時間は45分間であり、その内の13分間は初めの溶液を加 熱して煮沸させるのに必要とした。塩素又は二酸化塩素か放出している形跡は全 く観察されなHCl02を30重量%及び37.87重量%含む塩素酸溶液を、 本発明の方法で製造した。
各溶液の分取(1000ml)を開放容器に入れ、30°C及び40°Cて貯蔵 した。貯蔵期間中、周期的にその溶液のHCl0.l11度を、滴定分析によっ て分析した。その結果を下表■に示す。
表 ■ 30°C及び40°CにおけるHCI O2溶液の安定性30.01 0 30 .01 29.79 3 29.78 29.99 6 29.87 30.01 14 30.03 30.68 26 30.45 30.37 44 30.42 30.34 64 30.07 30.54 81 30.46 例8 37.87 0 37.87 37.78 3 37.87 37.84 6 38.01 38.13 14 38.40 38.58 26 38.51 38.27 44 38.70 37.89 64 38.73 38.30 81 40.12 39.27 121 40.93 例 9 次亜塩素酸(44%、600 g)を開放容器中で95°Cで1時間加熱した。
生成溶液には、HOC16,3%及びHCl03 5.5%が含まれていた(収 率29%)。生成溶液は、例えば例1の方法によって水分を蒸発させ、更に濃縮 することができる。
国際調査報告

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.約10〜約120℃の範囲の温度で、HOClを少なくとも20重量%含む 次亜塩素酸の水溶液を、塩素酸の水溶液と気体副生物とからなる反応混合物に転 換させ、かつ該気体副生物を連続的に除去してHClO3を約10重量%又はそ れ以上含む水性塩素酸溶液を製造することを特徴とする水性塩素酸溶液の製造方 法。
  2. 2.前記次亜塩素酸の水溶液がHOClを約20〜約60重量%含む、請求項1 記載の方法。
  3. 3.前記塩素酸の水溶液を約40〜約120℃の範囲の温度で濃縮する、請求項 1記載の方法。
  4. 4.前記塩素酸の希薄水溶液を真空蒸留によって濃縮する、請求項1記載の方法 。
  5. 5.前記転換温度が約25〜約70℃の範囲である、請求項4記載の方法。
  6. 6.HOClを少なくとも20重量%含む次亜塩素酸の水溶液を周囲温度より高 い温度で加熱して水性塩素酸溶液及び気体副生物からなる反応混合物を生成させ 、該気体副生物を該塩素酸溶液と接触させ続け、かつHClO3を約10重量% 又はそれ以上含む水性塩素酸溶液を製造することを特徴とする水性塩素酸溶液の 製造方法。
  7. 7.前記次亜塩素酸溶液を約40〜約120℃の範囲の温度で加熱する、請求項 6記載の方法。
  8. 8.前記次亜塩素酸溶液がHOClを約20〜約60重量%含む、請求項6記載 の方法。
  9. 9.前記次亜塩素酸溶液を約50〜約110℃の範囲の温度で加熱する、請求項 8記載の方法。
  10. 10.前記次亜塩素酸溶液がHOClを約30〜約55重量%含む、請求項6記 載の方法。
  11. 11.前記次亜塩素酸溶液を約60〜約100℃の範囲の温度で加熱する、請求 項10記載の方法。
  12. 12.前記水性塩素酸溶液を蒸発により更に濃縮する、請求項6記載の方法。
  13. 13.前記水性塩素酸溶液を約70〜約120℃の範囲の温度で蒸発させる、請 求項12記載の方法。
  14. 14.前記水性塩素酸溶液を真空蒸留によって濃縮する、請求項12記載の方法 。
  15. 15.前記水性塩素酸溶液を約95〜約120℃の範囲の温度で蒸発させる、請 求項14記載の方法。
  16. 16.前記水性塩素酸溶液がHClO3を約12重量%又はそれ以上含む、請求 項1記載の方法。
  17. 17.製造した前記水性塩素酸溶液がHClO2を約15〜約40重量%含む、 請求項3記載の方法。
  18. 18.前記塩素酸溶液がHClO3を約12重量%又はそれ以上含む、請求項6 記載の方法。
  19. 19.製造した前記水性塩素酸溶液がHClO3を約15〜約40重量%含む、 請求項10記載の方法。
JP2513031A 1989-09-05 1990-09-04 高純度塩素酸 Pending JPH05500201A (ja)

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