JPH0551179B2 - - Google Patents

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JPH0551179B2
JPH0551179B2 JP61011770A JP1177086A JPH0551179B2 JP H0551179 B2 JPH0551179 B2 JP H0551179B2 JP 61011770 A JP61011770 A JP 61011770A JP 1177086 A JP1177086 A JP 1177086A JP H0551179 B2 JPH0551179 B2 JP H0551179B2
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JP
Japan
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semiconductor chip
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electrode connection
semiconductor
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Hironori Murakami
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Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071Connecting or disconnecting
    • H10W72/073Connecting or disconnecting of die-attach connectors
    • HELECTRICITY
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    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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    • HELECTRICITY
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    • HELECTRICITY
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    • H10W90/721Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bump connectors
    • H10W90/724Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bump connectors between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL

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  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体装置の製造方法に係り、特
に、フエースダウンボンデイング法に関する。
〔従来技術およびその問題点〕
半導体集積回路等の半導体チツプをパツケージ
あるいは配線基板上に組み込むに際し、半導体チ
ツプをフエースダウンすなわち下向きにし電極部
との接続をワイヤでなく、より広い面積を持つた
面で接続するフエースダウンボンデイング法は、
ワイヤボンデイングを伴うフエースアツプボンデ
イング法に比べて、接続後の機械的強度が強く、
ボンデイングすなわち接続の回数も1回で済むこ
とから有益な方法であるとされている。
このフエースダウンボンデイング法では通常、
半導体チツプの電極部にあらかじめバンプを形成
しておき下向きに融着して接続する(フリツプチ
ツプ方式)か又は、基板上の電極部にあらかじめ
バンプを形成しておき、半導体チツプを下向きに
して融着する(ペデスタル方式)かの方式により
半導体チツプと基板(パツケージ)との接続を行
なうようにしている。
このバンプはクロム(Cr)−銅(Cu)、アルミ
ニウム(Al)−シリコン(Si)、アルミニウム−
銅、アルミニウム−銅−シリコン、鉛(Pb)−錫
(Sn)等の合金、チタン(Ti)、アルミニウム、
クロム、ニツケル等の金属あるいはこれらの積層
体から構成されており、基板上の所望の位置に半
導体チツプを載置した状態で200〜500℃の高温に
加熱し、融着することにより電気的接続を達成す
るものである。
しかるに、これらの方法では、 (1) バンプ形成に要する工程が複雑でコストが高
い。
(2) バンプを溶融状態に加熱する際、クラツクが
発生し易い。
(3) 半導体チツプ内の素子領域にバンプを構成す
る金属が拡散し、素子の特性が劣化する。
(4) バンプを構成する金属が加熱溶融する際に流
れ、シヨートが発生する等により、製造歩留り
が悪い。
等の不都合があつた。
本発明は前記実情に鑑みてなされたもので、上
記不都合を廃し、製造が容易で、信頼性の高い半
導体装置の実装方法を提供することを目的とす
る。
〔問題点を解決するための手段〕
そこで本発明では、基板上の電極接続部と、半
導体チツプ上の電極接続部とが当接するように熱
収縮性および絶縁性を有する熱硬化性接着剤によ
つてこれら電極接続部以外の部分を接着せしめる
ようにしている。
すなわち、電極接続部を除く位置に絶縁性接着
剤を塗布し、加圧しつつ加熱することにより、絶
縁性接着剤を収縮および硬化せしめ、電極接続部
の圧接と電極接続部周辺位置で接着剤の硬化によ
る接着とを達成するようにしたものである。
〔作用〕
すなわち、例えば、第1図aに示す如く半導体
チツプの電極部1aに金属のバンプ2を形成する
と共に、基板3上の電極接続部3aを除く所定位
置に熱収縮性であつてかつ熱硬化性の絶縁性接着
剤4を充填する。
そして、第1図cに示す如く基板上に半導体チ
ツプを載置し、加圧しつつリフロー炉で加熱し接
着剤を硬化させる。
このとき、接着剤は、硬化反応が進むにつれ
て、溶媒や反応生成物の気発により、収縮するた
め、半導体チツプと基板の電極間での密着性が増
し、電気的接続性が向上する。
このようにして確実な接続が可能となる。
また、半導体チツプの電極部にバンプを形成す
る代わりに、第1図bに示す如く、基板3上の電
極接続部3aにバンプ2を形成するようにしても
よい。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例について、図面を参照し
つつ詳細に説明する。
第2図a乃至dは、イメージセンサの駆動用
ICの実装工程を示す図である。
まず、第2図aに示す如く、ガラス基板11上
に、受光素子部との接続用の金属膜からなる配線
パターン(信号引き出し線)12を形成し、この
うちの電極パツド部12a上に、厚膜法により膜
厚1μmのアルミニウム(Al)からなるバンプ1
3を形成する。
次いで、第2図bに示す如くレジンコータによ
り、熱硬化型のエポキシ接着剤14を順次、該基
板上の所定の位置に充填する。
続いて、第2図cに示す如く、143ピンの駆動
用IC15を順次、該基板上の配線パターン12
の所定位置に載置し、加圧により仮接着する。
そして最後に、シリコーン系の封止用樹脂16
をレジンコータにより塗布し、リフロー炉に入
り、150℃30分で接着剤および封止樹脂を同時に
硬化させ、第2図dに示す如く、駆動用ICの接
着および封止を行なう。
このようにして、1回の加熱工程で、多数個の
半導体チツプの実装を行なうことができ、極めて
作業性が良好である上、電極間が、加圧状態で接
着されているため、電気的接続性が良好で信頼性
も高い、また、バンプは融着ではなく、押圧状態
で、駆動用ICの電極部に接触していればよいた
め、加熱温度も低く(接着剤の硬化温度)、素子
領域へのバンプ構成金属の拡散等による素子特性
の劣化もない。
また、単純な垂直加圧により、容易にかつ信頼
性よく電気的く好な電気的接続および接着性を可
能にし、各導電性パターンの周囲を絶縁性樹脂に
よつて固着するとともに良好に絶縁しており、隣
接電極間のシヨートの発生もない。
更に、仮に接続不良が発生した場合、有機溶剤
等で、接着剤を融解除去するのみで、再使用する
ことができるため、歩留りが向上する。
加えて、ワイヤボンデイング法等による実装に
加えて占有面積が小さいため、実装密度を上げる
ことができ、装置の小形化をはかることができ
る。
なお、実施例ではイメージセンサーの駆動用
ICを複数個実装する場合について説明したが、
単一の半導体チツプの実装あるいはハイブリツド
ICの製造をはじめ、いろいろな場合に適用可能
であり、この方法はワイヤボンデイング実装や、
タブ(TAB)、インナーイードボンデイング等の
ギングボンデイングに比べ、タクトタイム、材料
コスト等、トータルコストの点でも十分に優れて
いる。
また、実施例では、バンプは、基板上に形成し
たが、半導体チツプ側に形成してもよく、また、
回路パターン上、半導体チツプあるいは基板上の
電極部が凸状となつている場合には、特にバンプ
を形成することなく、そのまま使用すればよい。
更に、バンプを構成する金属については、実施例
に限定されることなく、金(Su)、銅(Cu)、ク
ロム(Cr)等あらゆる金属を使用することが可
能である。
更に、接着剤は、エポキシ樹脂に限定されるこ
となく、シリコーン系樹脂、ポリイミド系樹脂
等、熱収縮性であつてかつ熱硬化性の接着剤であ
ればよい。
〔効果〕
以上説明してきたように、本発明によれば、絶
縁性の熱硬化性接着剤によつて電極接続部以外の
部分を接着せしめることにより基板上の電極接続
部と半導体チツプ上の電極接続部とが押圧状態で
当接するようにしているため、接着温度が低い上
工程が簡略であつてコストも低くかつ、信頼性の
高い半導体装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の半導体装置の実装方法の概
略的説明図、第2図a乃至dは、本発明の実施例
のイメージセンサ駆動用ICの実装工程図である。 1……半導体チツプ、1a……電極接続部、2
……バンプ、3……基板、3a……電極接続部、
4……絶縁性接着剤、11……ガラス基板、12
……配線パターン、12a……電極パツド部、1
3……バンプ、14……エポキシ接着剤、15…
…駆動用IC、16……封止用樹脂。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 配線パターンを具えた基板上に半導体集積回
    路素子等からなる半導体チツプを実装するに際
    し、 該基板上の電極接続部を除く所定の位置に熱収
    縮性かつ熱硬化性の絶縁性接着剤を塗布する塗布
    工程と、 該基板の電極接続部と該半導体チツプとが互い
    に当接して電気的接続が可能となるように、両者
    を加圧しつつ加熱し、該基板上に該半導体チツプ
    を接着せしめる接着工程とを 具えた半導体装置の製造方法。 2 前記基板は電極接続部としての電極パツド上
    にバンプを形成してなるものであることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載の半導体装置の製
    造方法。
JP61011770A 1986-01-22 1986-01-22 半導体装置の製造方法 Granted JPS62169433A (ja)

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