JPH0552566B2 - - Google Patents

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JPH0552566B2
JPH0552566B2 JP59197132A JP19713284A JPH0552566B2 JP H0552566 B2 JPH0552566 B2 JP H0552566B2 JP 59197132 A JP59197132 A JP 59197132A JP 19713284 A JP19713284 A JP 19713284A JP H0552566 B2 JPH0552566 B2 JP H0552566B2
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JP
Japan
Prior art keywords
magnetic recording
magnetic
width
recording medium
present
Prior art date
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JP59197132A
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English (en)
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JPS6174143A (ja
Inventor
Koichi Shinohara
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPH0552566B2 publication Critical patent/JPH0552566B2/ja
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  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関するも
のである。 従来例の構成とその問題点 磁気記録媒体としては、従来記録媒体の表面と
平行する方向、つまり面内方向の磁化を用いる方
式が実用になつている。しかしこのように面内方
向の磁化を用いる方式では記録波長を短かくする
と記録媒体内の減磁界が増加するため、高密度記
録にも自ずと限界がある。 そこで最近記録媒体表面と直交する方向の磁化
を利用することで短波長での媒体内減磁界を減少
させる垂直磁気記録方式が考えられている。 一方磁気記録はその利用度の大きさから、大量
の磁気記録媒体を必要とするため、新しい媒体と
いえどもその生産性は、従来実用になつている、
酸化鉄微粒子を結合剤で基板上に固定した、いわ
ゆる塗布型媒体と同等以上であることが望まれ
る。 従つて面内磁化、垂直磁化を問わず、有望視さ
れているのは、電子ビーム蒸着法である。 第1図は、電子ビーム蒸着により磁気記録媒体
を製造する場合の装置の主要構成図である。 第1図で1は、高分子基板、2,3は円筒状キ
ヤン、4,5は蒸発源容器、6,7は蒸着材料、
8はマスク、9,10はスリツト、11は送り出
し軸、12は巻取り軸である。13はフリーロー
ラーである。 第2図は、磁気記録媒体の一例である。第2図
で14は高分子基板、15は軟磁性層、16は垂
直磁化層で、17は保護層である。 かかる構成の媒体は、バツチ式で得た小面積の
デイスクに於ては、高密度記録を確認している
が、大量生産規模では未だそのレベルに達してい
ない。 特に雑音が大きくなり、ロツト内でのバラツキ
ロツト間の再現性が実用水準にないのが実状であ
る。 かかる媒体は、少量であれば、膜形成速度が極
めて小さい、高周波スパツタリング法により製造
してもよいが、これでも巻取りながら(第1図で
蒸発源をスパツタカソードに置きかえたものを想
定すればよい。)製造する時、バツチ式で得られ
る高性能には到達してないなど、高分子基板を巻
取りながらの膜形成は課題が残されている。 発明の目的 本発明は上記事情に鑑みなされたもので、雑音
の少い磁気記録媒体の製造方法を提供するもので
ある。 発明の構成 本発明の磁気記録媒体の製造方法は、基板の幅
を1m以上として、巻取り蒸着することを特徴と
するもので、雑音の少ない磁気記録媒体の製造に
適するものである。 実施例の説明 以下、本発明の実施例について詳説する。 本発明の製法の限定要件は、第1図で用いる高
分子基板の幅を1m以上とすることである。 この幅の限定は、高分子基板の厚みと無関係で
はないのは勿論であるが、高密度記録の指向のひ
とつに体積記録密度のかん点と、薄膜磁性層を磁
気記録層とする磁気記録媒体は、薄形化に向いて
いることから、高分子基板が15μm以上で設計さ
れることはないとの前提にたつている。 又幅が1m以上との臨界値の存在理由の最大の
ものは、張力の影響からくる雑音の成分を極小に
おさえるためのもので、幅を広げることで張力は
幅方向の単位長さ当りに小さくできることが、基
板の物性の不均一性を吸収できることにつながり
結果的に、薄膜の応力むらを軽減し、磁気的な均
一性の保持に役立ち、雑音が小さくできるものと
考えられるものである。 第3図はその様子を示したものである。 磁歪の影響が無視できるようになるのに、線張
力密度が100〔g/cm〕になれば良いことが第3図
より理解できる。夫々の特性に幅があるのは、基
板の厚みを変化させ、且つ、磁性薄膜の種類も変
化させているからであるが、本発明の要件を満足
すれば、用いられうる基板の範囲では良好な結果
が得られることがわかる。 本発明に用いることの出来る基板は、厚み
15μm以下のポリエステル類、ポリアミド、ポリ
アミドイミド、ポリイミド等で、磁性層は、Co,
Co−Ni,Co−Cr,Co−Ti,Co−V,Co−Mo,
Co−Mn,Co−Mg,Co−Sn,Co−Zn−P,Co
−Ni−P,Co−O,Co−Ni−O,Co−Mg−O
等で磁化容易軸の方向に無関係に用いることがで
きる。 又、本発明は磁気テープに限らず、磁気デイス
クの製造に於ても適用できるのは勿論である。 以下、さらに具体的に一実施例について説明す
る。 〔実施例〕 厚みと幅の異なるポリエチレンテレフタレート
を準備して、80%Ni−20%Feからなる軟磁性層
を0.4μm形成し、その上にCo−Cr(Cr,20%)垂
直磁化膜を0.15μm形成し、8mm幅にスリツトし
て、磁気テープを得た。 このテープを夫々、リターンパスを有する薄膜
磁気ヘツドで記録再生し、信号対雑音化(S/
N)の長手、幅の変化を調べた。 外観については、磁気テープとして不良となる
原因について記した。 特性は、幅方向、長手方向について夫々任意に
20点サンプリングして、変動で示した。
【表】
【表】 上表より明らかなように、特にパーマロイ薄膜
を形成する過程で本発明の効果が大きいため、
S/Nの均一性は本発明以外のものは実用になら
ない。 尚、垂直磁化膜1層からなる媒体、面内磁化膜
からなる媒体についても、本発明の改良効果は確
認した。 発明の効果 以上のように、本発明は、高分子基板の幅を1
m以上となし、単位幅長さ当りの張力を100g以
下の状態で巻取り蒸着することで、歪みによる雑
音の発生を抑えて、S/Nの改良された磁気記録
媒体を大量に生産できるものでその実用的効果は
大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図は、磁気記録媒体の製造に利用される蒸
着装置の一例を示す図、第2図は、磁気記録媒体
の一例を示す断面図、第3図は、本発明の要件を
説明するための図である。 1……高分子基板、2,3……円筒状キヤン、
6,7……蒸着材料。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 高分子基板の幅を1m以上となし、該基板を
    円筒状キヤンの周側面に沿わせて単位幅当りの張
    力が100g以下で巻取りながら磁気記録層を真空
    蒸着により形成することを特徴とする磁気記録媒
    体の製造方法。
JP59197132A 1984-09-20 1984-09-20 磁気記録媒体の製造方法 Granted JPS6174143A (ja)

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JPS6174143A JPS6174143A (ja) 1986-04-16
JPH0552566B2 true JPH0552566B2 (ja) 1993-08-05

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2520684B2 (ja) * 1988-03-04 1996-07-31 富士写真フイルム株式会社 磁気記録媒体の製造方法
JPH0796703B2 (ja) * 1988-06-21 1995-10-18 東レ株式会社 真空蒸着方法
JPH03292629A (ja) * 1990-04-11 1991-12-24 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気記録媒体の製造装置
JPH03292628A (ja) * 1990-04-11 1991-12-24 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気記録媒体の製造装置

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JPS58158027A (ja) * 1982-03-16 1983-09-20 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気記録媒体の製造方法

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JPS6174143A (ja) 1986-04-16

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