JPH0552603A - 可変容量型センサの製造方法 - Google Patents

可変容量型センサの製造方法

Info

Publication number
JPH0552603A
JPH0552603A JP21245891A JP21245891A JPH0552603A JP H0552603 A JPH0552603 A JP H0552603A JP 21245891 A JP21245891 A JP 21245891A JP 21245891 A JP21245891 A JP 21245891A JP H0552603 A JPH0552603 A JP H0552603A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sacrificial layer
conductor
insulating film
substrate
insulating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP21245891A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3126043B2 (ja
Inventor
Noritomo Ooki
紀知 大木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KYB Corp
Original Assignee
Kayaba Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kayaba Industry Co Ltd filed Critical Kayaba Industry Co Ltd
Priority to JP21245891A priority Critical patent/JP3126043B2/ja
Publication of JPH0552603A publication Critical patent/JPH0552603A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3126043B2 publication Critical patent/JP3126043B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H05K999/00

Landscapes

  • Measurement Of Mechanical Vibrations Or Ultrasonic Waves (AREA)
  • Measuring Fluid Pressure (AREA)
  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Testing Or Calibration Of Command Recording Devices (AREA)
  • Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 簡単で精度のよい平行平板構造の可変容量型
センサを製造する方法を提供する。 【構成】 基板1を構成する導体5の表面に所定の均一
な厚さの犠牲層6を形成し、この犠牲層6の一部の絶縁
台座3に相当する領域をエッチングにより除去し、その
上から絶縁膜7を形成し、絶縁膜7の犠牲層6の上面部
分を除去した後、犠牲層7の表面に平板2を構成する所
定の厚さの導体8を形成し、その後に前記犠牲層6の残
り部分をエッチングにより除去して、平板2と基板1と
を絶縁台座3で連結した平行平板構造を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は平行平板構造の可変容量
型センサの製造方法に関する。
【0002】
【従来技術】例えばマイクロフォン(音圧)、加速度、
圧力等を検出する可変容量型センサとして、狭い間隔の
平行平板構造をもつ可変容量センサがある。
【0003】これは、図2、図3に示すように、導電材
料で形成した基板1の上に、数μm〜数十μmの非常に
狭い間隔をもって薄膜状の導電材料で形成した平板2
を、四隅の絶縁台座3を介して固定し、両者間の電位差
を検出するようにしたものである。
【0004】この場合、基板1と平板2との平行度が、
センサ出力の直線性に大きな影響を及ぼすため、精度よ
く平行につくる必要があった。
【0005】従来の製造方法について図4から図6に示
す。図4は、基板1に対して平板2をビス4により固定
する方法である。図5は絶縁台座3を接着剤により固定
する方法である。また、図6は絶縁台座3を加熱接合し
て固定する方法である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記ビ
ス4により固定する第1の方法では、平行度が悪く、組
立、調整に手間と時間がかかる。第2の方法は、接着剤
の厚み等により、平行度が出しにくく、さらに第3の方
法は、加熱接合時の熱による残留応力が発生し、これを
除去するのに多くの時間を必要とした。
【0007】このように、いずれの方法によっても、能
率よく高精度な平行平板を構成することができなかっ
た。
【0008】本発明はこのような問題を解決するために
提案されたもので、簡単で精度のよい平行平板構造の容
量センサを製造する方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板を構成す
る導体の表面に所定の均一な厚さの犠牲層を形成し、こ
の犠牲層の一部の絶縁台座に相当する領域をエッチング
により除去し、その上から絶縁膜を形成し、絶縁膜の犠
牲層の上面部分を除去した後、犠牲層の表面に平板を構
成する所定の厚さの導体を形成し、その後に前記犠牲層
の残り部分をエッチングにより除去して、平板と基板と
を絶縁台座で連結した平行平板構造を形成するものであ
る。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例を図1(A)〜(G)
に基づいて説明する。
【0011】図1(A)のように、まず基板1を構成す
るため導体(Al)5の表面に、所定の均一な厚さの犠
牲層(SiO2)6を形成する。この厚さは平行平板の
間隔に一致させるもので、数μm〜数十μmの厚さとす
る。
【0012】図1(B)(C)(D)のように、絶縁台
座3を構成するため、この犠牲層6の一部を台座の大き
さと配置間隔に対応して、エッチング(フォトリン)に
より除去し、その上から絶縁膜(Si34)7を形成す
る。そして、犠牲層6の表面上に位置する絶縁膜7をエ
ッチングにより除去し、犠牲層6の内部には絶縁台座3
に対応する部分だけ絶縁膜7を残す。
【0013】図1(E)のように、この表面に所定の均
一な厚さの導体(Poly−Sy)8を形成する。この
導体8が前記平板2に対応する。
【0014】そして、図1(F)において、この導体8
の一部をエッチングにより除去し、平板2の形状に相当
する部分だけ残す。そして、最後に図1(G)として示
すように、犠牲層6のすべてをエッチングにより除去
し、導体5の上面に導体8の平板部分と、絶縁膜7の台
座部分のみを残す。
【0015】このようにして、異なる材質で蒸着等によ
り薄膜の積層状態をつくり、その後に中間に位置する犠
牲層6を取り除くことにより、組立や調整、接着や接合
をすることなく平行度の高い平行平板構造の容量センサ
を製造することができる。
【0016】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、組立や調
整を一切必要とすることなしに、非常に狭い間隔におい
て平行度の高い平行平板構造のセンサを簡単に製造で
き、またこの結果、容量型センサの出力特性の直線性も
大幅に改善できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示すもので、(A)〜(G)
は製造過程を順に説明する断面図である。
【図2】通常の可変容量型センサの平面図である。
【図3】同じくその側面図である。
【図4】従来のセンサ製造方法を示す説明図である。
【図5】同じく他のセンサ製造方法を示す説明図であ
る。
【図6】同じくさらに他のセンサ製造方法を示す説明図
である。
【符号の説明】 1 基板 2 平板 3 絶縁台座 5 導体 6 犠牲層 7 絶縁膜 8 導体

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板を構成する導体の表面に所定の均一
    な厚さの犠牲層を形成し、この犠牲層の一部の絶縁台座
    に相当する領域をエッチングにより除去し、その上から
    絶縁膜を形成し、絶縁膜の犠牲層の上面部分を除去した
    後、犠牲層の表面に平板を構成する所定の厚さの導体を
    形成し、その後に前記犠牲層の残り部分をエッチングに
    より除去して、平板と基板とを絶縁台座で連結した平行
    平板構造を形成することを特徴とする可変容量型センサ
    の製造方法。
JP21245891A 1991-08-23 1991-08-23 可変容量型センサの製造方法 Expired - Fee Related JP3126043B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21245891A JP3126043B2 (ja) 1991-08-23 1991-08-23 可変容量型センサの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21245891A JP3126043B2 (ja) 1991-08-23 1991-08-23 可変容量型センサの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0552603A true JPH0552603A (ja) 1993-03-02
JP3126043B2 JP3126043B2 (ja) 2001-01-22

Family

ID=16622966

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21245891A Expired - Fee Related JP3126043B2 (ja) 1991-08-23 1991-08-23 可変容量型センサの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3126043B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1093335A (ja) * 1996-05-17 1998-04-10 Boeing Co:The 広周波数範囲の円形対称のゼロ冗長性の平面アレイ

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3882606B2 (ja) 2001-12-14 2007-02-21 富士ゼロックス株式会社 電子写真用カラートナーセット、電子写真用カラー現像剤、カラー画像形成方法及びカラー画像形成装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1093335A (ja) * 1996-05-17 1998-04-10 Boeing Co:The 広周波数範囲の円形対称のゼロ冗長性の平面アレイ

Also Published As

Publication number Publication date
JP3126043B2 (ja) 2001-01-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH08320268A (ja) 静電容量型センサ
CN1595798B (zh) 薄膜谐振器及其制造方法以及具有薄膜谐振器的滤波器
JP3945613B2 (ja) 圧力センサの製造方法および圧力センサ
JPH0431052B2 (ja)
US12297102B2 (en) Membrane support for dual backplate transducers
TWI869367B (zh) Mems感測器及用於生產mems感測器之方法
JP3126043B2 (ja) 可変容量型センサの製造方法
JP4976349B2 (ja) 静電容量型加速度センサ及び静電容量型加速度計
JP4549085B2 (ja) 静電容量型圧力センサ及びその製造方法
JPH07198516A (ja) 静電容量型圧力センサ及びその製造方法並びに圧力検出方法
JPH0682474A (ja) 半導体容量式加速度センサ
JPH08293615A (ja) 振動型圧力センサ
US7398694B2 (en) Pressure sensor and method for manufacturing pressure sensor
JPH11132705A (ja) 歪み検出素子及びその製造方法
JPH0580609B2 (ja)
JPH10300775A (ja) 静電容量型加速度センサ及びその製造方法
JPH05264579A (ja) 容量性センサ
JPH11132706A (ja) 歪み検出素子及びその製造方法
JP2007093526A (ja) 圧力センサ
JP2001264201A (ja) 静電容量型圧力センサ
JP2008022332A (ja) 振動膜ユニット、これを備えるシリコンマイクロホン、および振動膜ユニットの製造方法
JPS60253944A (ja) 圧力センサおよびその製造方法
JPH0634472A (ja) 抵抗式圧力センサ素子
JP2007093234A (ja) 圧力センサ
JP2005300400A (ja) 静電容量型圧力センサ及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees