JPH0556489B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は液晶による表示素子を作る際に使用さ
れる透明電極パターンの製造方法に係るものであ
る。

（従来の技術） 従来前記透明電極パターンの製造方法としてフ
オトエツチング法とシルクスクリーン印刷法とが
多く使用されている。

フオトエツチング法はガラス基材１に透明電極
被膜としての酸化インヂユーム膜２を被着し、
（第３Ａ図参照）同酸化インヂユーム膜２上に例
えばゴムをキシレンに溶解し、増感剤を加えてな
るフオトレジスト３を塗布し、（第３Ｂ図参照）
同フオトレジスト３が乾燥したのちパターン４で
露光し、（第３Ｃ図参照）次いでこれを現像し、
（第３Ｄ図参照）不要部分の酸化インヂユーム膜
２を塩酸等で除去し、（第３Ｅ図参照）しかるの
ち溶剤によつて未露光部分のフオトレジスト３′
を除去する（第３Ｆ図参照）方法である。

またシルクスクリーン印刷法はガラス基材１１
に酸化インヂユーム膜１２を被着し、（第４Ａ図
参照）その表面に直接レジストインキ１３によつ
てパターンを印刷し、（第４Ｂ図参照）同インキ
１３の乾燥後塩酸等によつてエツチングしてレジ
ストインキ１３による印刷部以外の酸化インヂユ
ーム膜１２を除去し、（第４Ｃ図参照）アルカリ
液でレジストインキ１３を剥離する（第４Ｄ図参
照）方法である。

前者の方法では精緻なパターンの形成が可能と
なる反面、製造工程数が多く、また製造サイズも
限られてしまう欠点がある。

また後者の方法ではコストが節減されるが、パ
ターンの解像度や、寸法精度が低下し、昨今の時
流である高精度化への対応に限界がきている。

前記両者の欠点を補うために、シルクスクリー
ン印刷法における印刷部分のみをオフセツト印刷
で行なうオフセツト印刷法が考えられる。

（発明が解決しようとする問題点） このオフセツト印刷法ではフオトエツチング法
の精度に近い精度が得られる反面、シルクスクリ
ーン印刷法と同等のコストとサイズとを保持でき
ることになるが、一般的にはオフセツト印刷にお
けるオフセツト印刷面上の皮膜はシルクスクリー
ン印刷法による印刷面上の皮膜より著しく薄く、
凹凸があるため、インキ皮膜上にピンホールが生
じ、塩酸による酸化インヂユーム膜の溶解除去の
際に同ピンホールを介してレジストインキ皮膜内
に塩酸が浸入し、レジスト膜としての働きがなく
なつてしまう。

（問題点を解決するための手段） 本発明はこのような問題点を解決するために提
案されたものであつて、透明電極被膜が被着され
たガラス基材の表面にレジストインキをオフセツ
ト印刷によつて被着し、同レジストインキの未乾
燥時に印刷面全面に薄いシリコンゴムシートを層
着し、同シリコンゴムシートの表面で平滑面を形
成することを特徴とするものである。

（作用） 本発明においては前記したように、透明電極皮
膜が被着されたガラス基材の表面にレジストイン
キをオフセツト印刷によつて被着するものであ
る。

この際、前記レジストインキ層にはピンホール
が生じ、凹凸面が形成されている。

本発明においては前記オフセツト印刷後、レジ
ストインキの未乾燥状態において印刷面全面に薄
いシリコンゴムシートを接着し、その表面を平滑
面になるように加工するものであつて、この際、
前記シリコンゴムシートとレジストインキ皮膜と
の間に働く接着力によつて、シリコンゴムシート
平面が平滑面に形成されることによつてそのまま
前記インキ皮膜もまた平滑面に形成される。

（発明の効果） このように本発明の方法によれば、透明電極皮
膜が被着されたガラス基材の表面にオフセツト印
刷によつて被着されたレジストインキ皮膜は薄層
であるにもかかわらず、表面が平滑でピンホール
がなくなるため、十分にレジスト効果が発揮さ
れ、従来不可能であつたオフセツト印刷をレジス
ト膜の印刷に採用でき、この結果、パターンの解
像度や寸法精度が従来のフオトエツチング方法に
比して劣らず、所要のサイズを有する透明電極パ
ターンの製造が低コストで行なわれることとな
る。

（実施例） 表面に透明電極皮膜としての酸化インヂユーム
皮膜３１が被着されたガラス基材３２の表面にレ
ジストインキ３３をオフセツト印刷によつて印刷
し、（第１Ａ図参照）印刷直後におけるレジスト
インキ３３の未乾燥時に薄いシリコンゴムシート
３４を印刷面全面に層着する。（第１Ｂ図参照） 次いで第２図に示すように一双のローラ４１，
４２間に架渡されたシリコンゴムシート製無端帯
４３を駆動回転するとともに、同無端帯４３及び
これと同速度（約１ｍ／分）駆動回転されるベル
トコンベヤ４４のコンベヤベルト４５との間に前
記印刷済みのガラス基材を挿入し、同ガラス基材
の印刷面に層着されたシリコンゴムシート３４の
表面を平滑面に形成するものである。（第１Ｃ図
参照） なお前記コンベヤベルトはゴムまたはビニルシ
ート製の厚での伸縮しない材料より構成されてい
る。

このように前記の方法によれば、オフセツト印
刷によつて印刷されたガラス基材表面の酸化イン
ヂユーム皮膜３１にオフセツト印刷によつて印刷
されたレジストインキ皮膜３３が、薄層であるに
もかかわらず、表面が平滑でピンホールがなくな
り、十分にレジスト効果が発揮され、オフセツト
印刷によるレジスト膜の印刷が可能となり、解像
度や寸法精度が従来のフオトエツチング方法に比
して劣らず、所要のサイズを有する透明電極パタ
ーンが低コストで製造されるものである。

以上本発明を実施例について説明したが、本発
明は勿論このような実施例にだけ局限されるもの
ではなく、本発明の精神を逸脱しない範囲内で
種々の設計の改変が施されるものである。

【図面の簡単な説明】

第１Ａ図乃至第１Ｃ図は本発明に係る透明電極
パターンの製造方法の一実施例の工程を示す拡大
縦断面図、第２図はガラス基材表面層の加工装置
の一実施例を示す縦断面図、第３Ａ図乃至第３Ｆ
図は従来の製造方法（フオトエツチング法）の一
例の工程を示す縦断面図、第４Ａ図乃至第４Ｄ図
は従来の製造方法のシルクスクリーン印刷法他の
例の工程を示す縦断面図である。 ３１……酸化インヂユーム皮膜、３２……ガラ
ス基材、３３……レジストインキ、３４……シリ
コンゴムシート。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 透明電極被膜が被着されたガラス基材の表面
   にレジストインキをオフセツト印刷によつて被着
   し、同レジストインキの未乾燥時に印刷面全面に
   薄いシリコンゴムシートを層着し、同シリコンゴ
   ムシートの表面で平滑面を形成することを特徴と
   する透明電極パターンの製造方法。