JPH0557657B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0557657B2 JPH0557657B2 JP21477786A JP21477786A JPH0557657B2 JP H0557657 B2 JPH0557657 B2 JP H0557657B2 JP 21477786 A JP21477786 A JP 21477786A JP 21477786 A JP21477786 A JP 21477786A JP H0557657 B2 JPH0557657 B2 JP H0557657B2
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- Japan
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- resist master
- resist
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- baking
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、レジスト原盤の熱処理装置に関す
る。
る。
背景技術
映像や音声情報等をデイスク（円盤）状に記録
媒体に記録する方式として光学方式がある。この
光学方式は、基版となるガラス円盤の盤面上にフ
オトレジストを塗布しレジスト層を形成すること
によつてレジスト原盤を作成し、このレジスト原
盤のレジスト層に微小な点に集光したレーザビー
ムを映像や音声情報等に応じて明滅させるいわゆ
るビツトバイビツト方式で照射感光させ、しかる
後これを現像して得られるピツト（へこみ）の長
さ及びその繰返し周期により情報を記録するもの
である。
媒体に記録する方式として光学方式がある。この
光学方式は、基版となるガラス円盤の盤面上にフ
オトレジストを塗布しレジスト層を形成すること
によつてレジスト原盤を作成し、このレジスト原
盤のレジスト層に微小な点に集光したレーザビー
ムを映像や音声情報等に応じて明滅させるいわゆ
るビツトバイビツト方式で照射感光させ、しかる
後これを現像して得られるピツト（へこみ）の長
さ及びその繰返し周期により情報を記録するもの
である。
かかる方式において、レジスト原盤の作成は洗
浄及びプライマ処理が完了したガラス原盤に対し
てフオトレジストを塗布した後、そのレジスト層
を熱処理（ベーキング）することによつて行なわ
れる。
浄及びプライマ処理が完了したガラス原盤に対し
てフオトレジストを塗布した後、そのレジスト層
を熱処理（ベーキング）することによつて行なわ
れる。
従来、このレジスト原盤のレジスト層を熱処理
する装置としては熱風循環式オーブンが知られて
いる。この熱風循環式オーブンにおいては、第２
図に示すように、送風フアン１によつて送り込ま
れた空気（気体）をヒータ２によつて加熱した
後、フイルタ３を介してレジスト原盤４に送り込
み、当該原盤のレジスト層を加熱すると共に、温
度センサ５によつてオーブン内の雰囲気温度を測
定し、その測定温度に基づいてヒータ２を駆動制
御する構成となつている。
する装置としては熱風循環式オーブンが知られて
いる。この熱風循環式オーブンにおいては、第２
図に示すように、送風フアン１によつて送り込ま
れた空気（気体）をヒータ２によつて加熱した
後、フイルタ３を介してレジスト原盤４に送り込
み、当該原盤のレジスト層を加熱すると共に、温
度センサ５によつてオーブン内の雰囲気温度を測
定し、その測定温度に基づいてヒータ２を駆動制
御する構成となつている。
かかる従来装置では、熱伝導による加熱を行な
うため加熱効率が悪く、また可動部（フアン１）
がオーブン内に設けられているため汚染を発生し
易いという欠点がある。更には、ベーキング温度
のコントロールは雰囲気温度に対してのものであ
り、レジスト原盤４の熱容量の差がそのままベー
キング温度の差となるため、ベーキング温度にば
らつきが生じることになる。
うため加熱効率が悪く、また可動部（フアン１）
がオーブン内に設けられているため汚染を発生し
易いという欠点がある。更には、ベーキング温度
のコントロールは雰囲気温度に対してのものであ
り、レジスト原盤４の熱容量の差がそのままベー
キング温度の差となるため、ベーキング温度にば
らつきが生じることになる。
一般的に、ベーキング温度とフオトレジスト感
度との間には、ベーキング温度が上昇する程フオ
トレジストの感度が低下するという相関関係があ
る。フオトレジストの感度が低下すると、一定の
パターンを得るのに必要な露光量（ドーズ量）が
上昇するので、ベーキング温度のばらつきはその
ままパターンのばらつきに反映され、レジスト原
盤の品質のばらつきとなつてしまう。
度との間には、ベーキング温度が上昇する程フオ
トレジストの感度が低下するという相関関係があ
る。フオトレジストの感度が低下すると、一定の
パターンを得るのに必要な露光量（ドーズ量）が
上昇するので、ベーキング温度のばらつきはその
ままパターンのばらつきに反映され、レジスト原
盤の品質のばらつきとなつてしまう。
発明の概要
本発明は、上述した点に鑑みなされたもので、
加熱効率が良くかつ常に一定の温度で熱処理を行
ない得るレジスト原盤の熱処理装置を提供するこ
とを目的とする。
加熱効率が良くかつ常に一定の温度で熱処理を行
ない得るレジスト原盤の熱処理装置を提供するこ
とを目的とする。
本発明によるレジスト原盤の熱処理装置は、レ
ジスト原盤のレジスト層の熱処理を遠赤外線を用
いて行なうと共に、レジスト原盤の表面温度を測
定しこの測定温度に基づいてベーキング温度を管
理する構成となつている。
ジスト原盤のレジスト層の熱処理を遠赤外線を用
いて行なうと共に、レジスト原盤の表面温度を測
定しこの測定温度に基づいてベーキング温度を管
理する構成となつている。
実施例
以下、本発明の実施例を図に基づいて詳細に説
明する。
明する。
第１図は、本発明の一実施例を示す構成図であ
り、レジスト原盤４のレジスト層のベーキング
（熱処理）を行なうために遠赤外線ヒータ６が用
いられる。この遠赤外線ヒータ６を用いることに
より、遠赤外線の吸収によるエネルギー変換で加
熱できるので、レジスト原盤４の表面のみを有効
に加熱できると共に、レジスト内の有機溶剤等の
赤外吸収によつて効率的にベーキングできること
になる。その結果、ベーキング時間の短縮化が可
能となり、従来の熱風循環式オーブンによるベー
キング方式に比してベーキング時間を約５分の１
に短縮できることになる。更に、ベーキング後の
レジスト原盤４を冷ます時間の短縮化も可能とな
る。すなわち、本装置の場合、レジスト原盤４の
表面のみが加熱されるため、ベーキング温度から
常温までの冷却時間を、従来の熱風循環式オーブ
ンの場合に比して約２分の１に短縮できることに
なる。
り、レジスト原盤４のレジスト層のベーキング
（熱処理）を行なうために遠赤外線ヒータ６が用
いられる。この遠赤外線ヒータ６を用いることに
より、遠赤外線の吸収によるエネルギー変換で加
熱できるので、レジスト原盤４の表面のみを有効
に加熱できると共に、レジスト内の有機溶剤等の
赤外吸収によつて効率的にベーキングできること
になる。その結果、ベーキング時間の短縮化が可
能となり、従来の熱風循環式オーブンによるベー
キング方式に比してベーキング時間を約５分の１
に短縮できることになる。更に、ベーキング後の
レジスト原盤４を冷ます時間の短縮化も可能とな
る。すなわち、本装置の場合、レジスト原盤４の
表面のみが加熱されるため、ベーキング温度から
常温までの冷却時間を、従来の熱風循環式オーブ
ンの場合に比して約２分の１に短縮できることに
なる。
ベーキングが行なわれているレジスト原盤４の
表面温度を例えば非接触で測定するための放射温
度計７が設けられており、この放射温度計７の測
定出力はコントローラ８に供給される。コントロ
ーラ８は放射温度計７の測定出力に基づいて常に
レジスト原盤４の表面温度がある一定温度に到達
したらベーキングを終了するようにヒータ駆動回
路９を制御する。放射温度計７によつて測定され
る表面温度は見掛け上の温度であるため、レジス
ト原盤４の放射率及び放射温度計７による観測経
路での放射の透過率の実効的な値を予め求めてお
き、この求めたデータに基づいて放射温度計７の
測定出力を補正することによつて、より正確に表
面温度を測定できることになる。その結果、ベー
キング温度の管理もより正確に行なうことができ
るので、感度の安定したレジスト原盤を作成でき
ることになる。
表面温度を例えば非接触で測定するための放射温
度計７が設けられており、この放射温度計７の測
定出力はコントローラ８に供給される。コントロ
ーラ８は放射温度計７の測定出力に基づいて常に
レジスト原盤４の表面温度がある一定温度に到達
したらベーキングを終了するようにヒータ駆動回
路９を制御する。放射温度計７によつて測定され
る表面温度は見掛け上の温度であるため、レジス
ト原盤４の放射率及び放射温度計７による観測経
路での放射の透過率の実効的な値を予め求めてお
き、この求めたデータに基づいて放射温度計７の
測定出力を補正することによつて、より正確に表
面温度を測定できることになる。その結果、ベー
キング温度の管理もより正確に行なうことができ
るので、感度の安定したレジスト原盤を作成でき
ることになる。
なお、上記実施例では、レジスト原盤４の表面
温度を測定する手段として放射温度計７を用いた
場合について説明したが、これに限定されるもの
ではなく、接触型、非接触型を問わずレジスト原
盤４の表面温度を測定できるのであれば良い。
温度を測定する手段として放射温度計７を用いた
場合について説明したが、これに限定されるもの
ではなく、接触型、非接触型を問わずレジスト原
盤４の表面温度を測定できるのであれば良い。
発明の効果
以上説明したように、本発明によるレジスト原
盤の熱処理装置によれば、遠赤外線の吸収による
エネルギー変換で加熱するため加熱効率が良く、
またレジスト原盤の表面温度を実測してベーキン
グ温度を管理することにより、レジスト原盤の熱
容量によらずベーキング温度を常に一定にできる
ので、感度の安定したレジスト原盤が得られ、高
歩留が達成できることになる。
盤の熱処理装置によれば、遠赤外線の吸収による
エネルギー変換で加熱するため加熱効率が良く、
またレジスト原盤の表面温度を実測してベーキン
グ温度を管理することにより、レジスト原盤の熱
容量によらずベーキング温度を常に一定にできる
ので、感度の安定したレジスト原盤が得られ、高
歩留が達成できることになる。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２
図は従来例を示す構成図である。 主要部分の符号の説明、４……レジスト原盤、
６……遠赤外線ヒータ、７……放射温度計。
図は従来例を示す構成図である。 主要部分の符号の説明、４……レジスト原盤、
６……遠赤外線ヒータ、７……放射温度計。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ レジスト原盤のレジスト層を熱処理する装置
であつて、前記レジスト原盤に対して遠赤外線を
照射する遠赤外線ヒータと、前記レジスト原盤の
表面温度を測定する測定手段とを備え、前記測定
手段の測定出力に基づいて前記遠赤外線ヒータの
駆動制御を行なうことを特徴とするレジスト原盤
の熱処理装置。 ２ 前記測定手段は放射温度計であることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載のレジスト原盤
の熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21477786A JPS6370940A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | レジスト原盤の熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21477786A JPS6370940A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | レジスト原盤の熱処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6370940A JPS6370940A (ja) | 1988-03-31 |
| JPH0557657B2 true JPH0557657B2 (ja) | 1993-08-24 |
Family
ID=16661361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21477786A Granted JPS6370940A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | レジスト原盤の熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6370940A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015020004A1 (ja) | 2013-08-07 | 2015-02-12 | 旭硝子株式会社 | 架橋性含フッ素エラストマー組成物及びその架橋物 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0749911B2 (ja) * | 1988-09-02 | 1995-05-31 | パイオニア株式会社 | 光ディスク原盤の加熱乾燥装置 |
| JPH0749910B2 (ja) * | 1988-09-02 | 1995-05-31 | パイオニア株式会社 | 光ディスク原盤の加熱乾燥装置 |
| DE19543354A1 (de) * | 1995-11-21 | 1997-05-22 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Trocknen einer Lackschicht |
| DE19821237C1 (de) * | 1998-05-12 | 2000-03-02 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Vorrichtung zur Trocknung von Photoresistschichten |
-
1986
- 1986-09-11 JP JP21477786A patent/JPS6370940A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015020004A1 (ja) | 2013-08-07 | 2015-02-12 | 旭硝子株式会社 | 架橋性含フッ素エラストマー組成物及びその架橋物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6370940A (ja) | 1988-03-31 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |