JPH0559836U - 回転乾燥装置 - Google Patents

回転乾燥装置

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Publication number
JPH0559836U
JPH0559836U JP96792U JP96792U JPH0559836U JP H0559836 U JPH0559836 U JP H0559836U JP 96792 U JP96792 U JP 96792U JP 96792 U JP96792 U JP 96792U JP H0559836 U JPH0559836 U JP H0559836U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
port
gas
exhaust
rotor
air
Prior art date
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Pending
Application number
JP96792U
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English (en)
Inventor
英明 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
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Publication of JPH0559836U publication Critical patent/JPH0559836U/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウエハから飛散された水滴の再付着による汚
染を防止する。 【構成】 ロータ101をケース211内に有し、吸気
口203から空気をとり入れ、排出口211から空気を
排出する回転乾燥装置の排気口付近に排気再導入機構2
05を設け、排気されるべき空気を清浄化すると共に吸
気口203から送り込まれる空気との流入方向を調整
し、乱流の発生を防止する。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
この考案は回転乾燥装置に関するもので、詳しくは半導体ウエハを乾燥させる スピンドライヤーに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の回転乾燥装置は実開昭60−90833に開示されるものがあった。こ の開示された装置を図2を用いて説明する。図2は従来の回転乾燥装置の断面図 である。乾燥させるべき半導体ウエハは図示せぬウエハキャリア内に収められる 。このウエハキャリアはロータ101内のウエハキャリア収納部103に収めら れる。ロータ101は軸105を介してモータ107に接続されており、モータ 107によってロータ101は回転する。この回転の遠心力により半導体ウエハ の水滴を飛散させる。一方、ロータ101を覆っているケース109には吸気口 111、排気口113が設けられており、空気が吸気口111から矢印のような 流れで排気口113へ流れる。この空気により半導体ウエハは乾燥する。なお、 半導体ウエハから飛散した水滴は排液口115から又はミスト状となり排気口1 13から排出される。
【0003】
【考案が解決しようとする課題】
しかしながら、図2に示す回転乾燥装置では空気の乱流109が吸気口111 の外周で発生し、排気口113又は排液口115から排出されるべきミスト、水 滴などが乱流により半導体ウエハに再付着する可能性がある。この水滴などの再 付着はウエハを汚染するという問題があった。
【0004】 この考案では上記水滴などの再付着を防止した回転乾燥装置を提供することを 目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】 この考案では被乾燥物を収納する収納部と、この収納部を内部に固定し、かつ 軸によって回転可能に支持されたロータと、前記軸を回転させるモータと、前記 ロータをその内部に収容するケースであって、前記軸の回転方向と略垂直をなす 第1の方向へ気体を流出させる第1流出口と、この取り入れた気体を外部へ排出 する排気口とを有するケースとからなる回転乾燥装置において、前記ケースは、 前記排出口近傍に設けられ、前記排出された気体を取り込む再導入口と、この再 導入口から取り込まれた気体を清浄化するフィルタと、前記第1流出口の外周部 に設けられ、前記フィルタより取り込まれた気体を前記第1の方向へ流出させる 第2流出口とを設けた。
【0006】
【作用】
再導入口から取り込まれた気体が流出口外周において流出口から流出する気体 による乱流の発生を防止するよう作用する。
【0007】
【実施例】
この考案の一実施例を図1及び図3を参照しつつ説明する。図1は本考案の一 実施例を示す断面図、図3は図1のA−A′断面図である。なお、図2と同一部 分には同一符号を付してその説明を省略する。
【0008】 この実施例の装置では、ケース201はHEPA(High Efficie ncy Particulate Air)フィルタを有した吸気口203を有 すると共に排気口113付近に排気再導入機構205を有している。排気再導入 機構205は排気再導入口207,排気再導入用HEPAフィルタ209及び排 気排出口211とから構成される。
【0009】 次に、この実施例の装置の動作について説明する。従来の装置と同様、ウエハ キャリア内のウエハの水滴はロータの回転により飛散する。この飛散した水滴又 はミストはその一部が排気口113又は排液口115から排出されるが、一部は 排気再導入機構205から排気再導入用HEPAフィルタ209へ送られる。排 気再導入用HEPAフィルタ209は飛散した水滴又はミストを取り除き、クリ ーンなエアーを排気排出口211に送る。排気排出口211は図3からわかるよ うに吸気口203の外周に設けられ、上述したクリーンなエアーをロータ101 の方へ送り込む。ここで、排気排出口211から送り出されるエアーは吸気口2 03から送り出されるエアーと同じ方向、即ちダウンフローとしてケース201 内に導入される(図1矢印参照)。なお、この実施例では排気量は従来に比べ約 1/3となった。
【0010】
【考案の効果】
以上説明したように、この考案によれば回転乾燥装置に排気再導入機構を設け たため、乱流の発生が防止出来る。従って、飛散した水滴、ミストなどによる汚 染のない回転乾燥装置が得られる。
【0011】 また、この考案によれば排気量が従来に比べ少なくなるため、省エネルギーを 実現出来るメリットもある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この考案の一実施例の断面図。
【図2】従来の回転乾燥装置の断面図。
【図3】図1のA−A′断面図。
【符号の説明】
101 ロータ 201,109 ケース 203,111 吸気口 113 排気口 205 排気再導入機構 207 排気再導入口 209 排気再導入用HEPAフィルタ 211 排気排出口

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被乾燥物を収納する収納部と、 この収納部を内部に固定し、かつ軸によって回転可能に
    支持されたロータと、 前記軸を回転させるモータと、 前記ロータをその内部に収容するケースであって、前記
    軸の回転方向と略垂直をなす第1の方向へ気体を流出さ
    せる第1流出口と、この取り入れた気体を外部へ排出す
    る排気口とを有するケースとからなる回転乾燥装置にお
    いて、 前記ケースは、前記排出口近傍に設けられ、前記排出さ
    れた気体を取り込む再導入口と、 この再導入口に取り込まれた気体を清浄化するフィルタ
    と、 前記第1流出口の外周部に設けられ、前記フィルタより
    取り込まれた気体を前記第1の方向へ流出させる第2流
    出口とを有する回転乾燥装置。
JP96792U 1992-01-14 1992-01-14 回転乾燥装置 Pending JPH0559836U (ja)

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JP96792U JPH0559836U (ja) 1992-01-14 1992-01-14 回転乾燥装置

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JP96792U JPH0559836U (ja) 1992-01-14 1992-01-14 回転乾燥装置

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JPH0559836U true JPH0559836U (ja) 1993-08-06

Family

ID=11488405

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JP96792U Pending JPH0559836U (ja) 1992-01-14 1992-01-14 回転乾燥装置

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