JPH06224173A - 回転式基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 カップの底部に流下した処理液の滞留を防止
して、処理液に起因する基板へのミストの付着を防止す
る。 【構成】 角型基板２を載置保持した基板保持台３を鉛
直方向の軸芯Ｐ周りで回転させ、洗浄処理後の洗浄液を
振り切り乾燥処理するときに、角型基板２の外周縁から
回転軸芯Ｐ側に流下した洗浄液を、平面視において、基
板保持台３に載置された角型基板２の下方で、かつ、基
板保持台３の回転軸芯Ｐに近い位置に設けられた環状の
第１の排液口１５から速やかに排出させ、一方、角型基
板２の外周縁から外方に飛び散った洗浄液を、第１の排
液口１５よりも回転軸芯Ｐから遠い角型基板２の外周縁
に近い位置に設けられた第２の排液口１７から排出する
ように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板や液晶表示
パネル用のガラス基板や半導体製造装置用のマスク基板
などの基板を回転させながら、その表面に純水などの洗
浄処理液を供給して洗浄処理するとともにその遠心力を
利用して振り切り乾燥するなどの各種の処理を行うため
に、基板を保持する基板保持台を鉛直方向の軸芯周りで
回転可能に設けるとともに、基板保持台に保持された基
板の周囲を覆うようにカップを設け、かつ、カップの底
部に処理液を排出する排液手段を設けた回転式基板処理
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の従来の回転式基板処理装置にお
ける排液手段としては、次のように構成されているもの
が知られている。

【０００３】Ａ．第１従来例 特開平４−６１９５５号公報に開示されているように、
カップの底部に、基板の外周縁よりもやや回転軸芯側に
寄った位置の下方箇所に回転軸芯を中心として環状に樋
部を形成するとともに、その樋部の所定箇所に廃液排出
口（排液口）を形成し、基板の外周縁から飛び散ったり
流下した処理液を樋部で集めるとともに樋部から廃液排
出口に流して排出するように構成されている。

【０００４】Ｂ．第２従来例 特開平４−１４４１２１号公報に開示されているよう
に、基板の外周縁よりもやや回転軸芯側に寄った位置の
下方において、カップの底部に余剰のフォトレジスト液
を排出する排液孔（排液口）を形成するとともに、カッ
プの側面や基板の外周縁よりも外側の下方に排気孔を形
成し、処理液としてのフォトレジスト液を基板の表面に
供給してフォトレジスト膜を形成する際に、カップ内の
排気を効率良く行うとともに基板の外周縁から流下した
余剰のフォトレジスト液を排液孔から排出するように構
成されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述従
来例の場合に、次のような欠点があった。 ａ．第１従来例の欠点 樋部に流下した処理液が廃液排出口に到達して基板の下
部空間から排出されるまでに、大半の処理液が樋部に沿
って流れることになる。一方、基板を回転するに伴っ
て、その回転軸芯に近い箇所で負圧が生じ、その負圧に
起因してカップの底部から上方に向かう気流が発生し、
その気流の一部と樋部を流れる処理液とが接触し、気流
中に処理液の一部がミストとなって混入するとともに、
基板の裏面などまで運ばれ、ミストが基板に付着する欠
点があった。

【０００６】ｂ．第２従来例の欠点 排気効率を高めているとはいうものの、基板を回転する
に伴って、その回転軸芯に近い箇所で負圧が生じること
を防止することはできず、カップの底部を流れる処理液
と気流の一部とが接触し、前述第１従来例と同様に、ミ
ストが基板に付着する欠点があった。

【０００７】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、請求項１に係る発明の回転式基板処理
装置は、カップの底部に流下した処理液の滞留を防止し
て、処理液に起因する基板へのミストの付着を防止でき
るようにすることを目的とし、また、請求項２に係る発
明の回転式基板処理装置は、カップの底部に流下した処
理液の滞留をより良好に防止できるようにすることを目
的とし、また、請求項３に係る発明の回転式基板処理装
置は、基板の回転に伴う負圧に起因して発生する気流が
基板の裏面側に上昇することを防止して基板へのミスト
の付着を防止できるようにすることを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明の回
転式基板処理装置は、上述のような目的を達成するため
に、基板を保持する基板保持台を鉛直方向の軸芯周りで
回転可能に設けるとともに、基板保持台に保持された基
板の周囲を覆うようにカップを設け、かつ、カップの底
部に処理液を排出する排液手段を設けた回転式基板処理
装置において、排液手段を、平面視において、基板保持
台に載置された基板の下方で、かつ、基板保持台の回転
軸芯に近い位置に設けられた環状の第１の排液口と、そ
の第１の排液口よりも回転軸芯から遠い基板の外周縁に
近い位置に設けられた第２の排液口とから構成する。

【０００９】また、請求項２に係る発明の回転式基板処
理装置は、上述のような目的を達成するために、請求項
１に記載のカップにおける基板保持台の回転軸の上端側
から第１の排液口にわたる内周面を、第１の排液口側程
下方に位置する急勾配の傾斜面に構成する。

【００１０】また、請求項３に係る発明の回転式基板処
理装置は、上述のような目的を達成するために、請求項
１または２に記載の第１の排液口に連通する状態で排気
手段を接続して構成する。

【００１１】

【作用】請求項１に係る発明の回転式基板処理装置の構
成によれば、基板の外周縁から外方に飛び散った処理液
を第２の排液口から排出し、一方、基板の外周縁からカ
ップの底部に流下した処理液を、その流下位置が基板の
周方向のどの位置であれ、その流下位置から回転方向に
移動しつつ環状の第１の排液口から速やかに排出するこ
とができる。

【００１２】また、請求項２に係る発明の回転式基板処
理装置の構成によれば、回転に伴う負圧に起因して発生
する回転軸芯側に向かう気流により、環状の第１の排液
口よりも回転軸芯側でカップの内周面に処理液が流下し
ても、急勾配の傾斜面に沿わせて重力を有効に働かせ、
流下位置に近い位置の環状の第１の排液口から速やかに
排出することができる。

【００１３】また、請求項３に係る発明の回転式基板処
理装置の構成によれば、回転に伴う負圧に起因して発生
する気流が上昇することを排気手段による排気吸引力に
よって防止することができる。

【００１４】

【実施例】次に、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。

【００１５】図１は本発明に係る回転式基板処理装置の
第１実施例を示す全体概略縦断面図、図２は要部の平面
図、図３は要部の断面図であり、ケーシング１内に、角
型基板２を載置保持する基板保持台３が鉛直方向の軸心
Ｐ周りに水平回転可能に設けられている。

【００１６】基板保持台３は、全体として矩形状に、か
つ、回転軸芯Ｐから四隅および各辺に沿う三角形の開口
４を形成して軽量に構成され、その上面の所定箇所に分
散して支持ピン５…が設けられるとともに、角型基板２
の四隅それぞれに一対づつの位置決めピン６，６…が設
けられ、かつ、モータ支持台７に取り付けられた電動モ
ータ８と基板保持台３とが、出力軸９および基板取付部
材１０を介して連結され、位置決めピン６，６…によっ
て角型基板２が基板保持台３と一体的に水平回転される
ようになっている。

【００１７】ケーシング１の下部とモータ支持台７とに
わたってドーナツ状の廃液回収ケース１１が設けられ、
その底部の周方向に所定間隔を隔てた６箇所に排液筒１
２が接続されている。

【００１８】基板保持台３に載置保持された角型基板２
の外側方を覆う状態で、ドーナツ状の第１のカップ１３
ａがケーシング１に取り付けられ、そして、ケーシング
１および廃液回収ケース１１の外周側に、基板保持台３
の回転軸芯Ｐ側程下方に向かう第１の傾斜面Ｆ１を有す
る第２のカップ１３ｂが取り付けられるとともに、出力
軸９を回転自在に保持する軸受筒体１４の上端に、基板
保持台３の回転軸芯Ｐから離れる側程下方に向かう急勾
配の第２の傾斜面Ｆ２を有する第３のカップ１３ｃが取
り付けられ、かつ、第３のカップ１３ｃの外周縁を第２
のカップ１３ｂの内周縁の下方に潜り込ませ、第２のカ
ップ１３ｂと第３のカップ１３ｃとの間に、環状の第１
の排液口１５が形成されている。

【００１９】また、第１のカップ１３ａの下方に、ドー
ナツ状のガイドカバー１６が設けられ、かつ、第１のカ
ップ１３ａとガイドカバー１６との間に形成される空間
に連通する状態で、ケーシング１の底部に第２の排液口
１７と排気口１８とが接続されている。

【００２０】前記第１のカップ１３ａと第２および第３
のカップ１３ｂ，１３ｃ、ならびに、ケーシング１の底
部から成る構成をしてカップと総称する。このカップと
しては、ケーシング１の底部を利用せずに、例えば、第
１のカップ１３ａと第２のカップ１３ｂとを一体に形成
するものでも良い。

【００２１】図中１９は、裏面洗浄用のノズルを示し、
基板保持台３に載置保持された回転状態の角型基板２の
裏面に、基板保持台３の開口４…を通じて洗浄液を噴出
供給して裏面洗浄を行うように構成されている。図示し
ないが、ケーシング１の上部側において、角型基板２の
表面に洗浄液を噴出供給して表面の洗浄を行うノズルが
角型基板２上の洗浄位置とそれより外方の非洗浄位置と
に出退変位可能に設けられている。

【００２２】以上の構成により、角型基板２の表裏両面
に洗浄液を供給して洗浄処理した後に洗浄液の供給を停
止し、遠心力を利用して洗浄液を振り切り乾燥処理する
などに際し、回転に伴って基板保持台３の載置保持され
た角型基板２の外周縁から飛び散った洗浄液を第１のカ
ップ１３ａとガイドカバー１６との間に形成される空間
を通じて第２の排液口１７に排出し、一方、回転に伴っ
て回転軸芯Ｐに近い側で生じた負圧に起因して発生する
回転軸芯Ｐ側に向かう気流により、角型基板２の外周縁
から第２および第３のカップ１３ｂ，１３ｃ上に流下し
た洗浄液を第１の排液口１５から速やかに排出し、洗浄
液の滞留を防止して気流によりミストが角型基板２の裏
面に運ばれて付着することを防止できるようになってい
る。

【００２３】前記排気口１８には、図示しないが、気液
分離器を備えた排気手段が接続され、更に、排液筒１２
…および第２の排液口１７それぞれにも、同様に気液分
離器を備えた排気手段が接続され、前述した、回転に伴
って回転軸芯Ｐに近い側で生じた負圧に起因して発生す
る気流が上昇することを排気吸引力によって防止するよ
うに構成されている。

【００２４】図４は、本発明に係る回転式基板処理装置
の第２実施例を示す全体概略縦断面図であり、第１実施
例と異なるところは次の通りである。すなわち、第２お
よび第３のカップ１３ｂ，１３ｃの上方を覆う状態で、
多数の通気孔２０…が形成されたパンチングメタル２１
が設けられ、回転に伴って回転軸芯Ｐに近い側で生じた
負圧に起因して発生する気流をパンチングメタル２１に
積極的に接触させ、その気流によって回転軸芯Ｐ側に運
ばれる洗浄液をパンチングメタル２１に付着分離させる
とともに、その付着した洗浄液を通気孔２０…から速や
かに流下させ、環状の第１の排液口１５から廃液回収ケ
ース１１ならびに排液筒１２を通じて排出できるように
構成されている。他の構成は第１実施例と同じであり、
同一番号を付すことによってその説明は省略する。

【００２５】本発明は、角型基板２に限らず、円形基板
を処理する回転式基板処理装置にも適用できる。

【００２６】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に係る発明の回転式基板処理装置によれば、基板の外
周縁から外方に飛び散った処理液を第２の排液口から排
出しながら、基板の外周縁からカップの底部に流下した
処理液を、基板の回転軸芯の周囲全周にわたって形成し
た環状の第１の排液口から速やかに排出するから、処理
液がカップの底部に滞留することを防止でき、基板の回
転に伴う負圧によって発生した上昇気流に接触する滞留
処理液の量を大幅に減少でき、処理液に起因する基板へ
のミストの付着を防止できるようになった。

【００２７】また、請求項２に係る発明の回転式基板処
理装置によれば、環状の第１の排液口よりも回転軸芯側
でカップの内周面に流下した処理液を、急勾配の傾斜面
に沿わせて流下位置に近い位置の環状の第１の排液口か
ら速やかに流下排出できるから、カップの底部に流下し
た処理液の滞留をより良好に防止でき、処理液に起因す
る基板へのミストの付着を一層良好に防止できるように
なった。

【００２８】また、請求項３に係る発明の回転式基板処
理装置の構成によれば、回転に伴う負圧に起因して発生
する気流を排気手段による排気吸引力によって第１の排
液口側に向かわせ、基板の回転に伴う負圧に起因して発
生する気流が基板の裏面側に上昇することを防止して基
板へのミストの付着をより良好に防止できるようになっ
た。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る回転式基板処理装置の第１実施例
を示す全体概略縦断面図である。

【図２】要部の平面図である。

【図３】要部の断面図である。

【図４】本発明に係る回転式基板処理装置の第２実施例
を示す全体概略縦断面図である。

【符号の説明】

２…角型基板 ３…基板保持台 １３ａ…第１のカップ １３ｂ…第２のカップ １３ｃ…第３のカップ １５…第１の排液口 １７…第２の排液口 Ｆ２…第２の傾斜面 Ｐ…回転軸芯

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を保持する基板保持台を鉛直方向の
   軸芯周りで回転可能に設けるとともに、前記基板保持台
   に保持された基板の周囲を覆うようにカップを設け、か
   つ、前記カップの底部に処理液を排出する排液手段を設
   けた回転式基板処理装置において、 前記排液手段を、平面視において、前記基板保持台に載
   置された前記基板の下方で、かつ、前記基板保持台の回
   転軸芯に近い位置に設けられた環状の第１の排液口と、
   その第１の排液口よりも前記回転軸芯から遠い前記基板
   の外周縁に近い位置に設けられた第２の排液口とから構
   成したことを特徴とする回転式基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のカップにおける基板保
   持台の回転軸の上端側から第１の排液口にわたる内周面
   を、前記第１の排液口側程下方に位置する急勾配の傾斜
   面に構成してある回転式基板処理装置。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載の第１の排液口
   に連通する状態で排気手段を接続してある回転式基板処
   理装置。