JPH056013A - チタニルフタロシアニン顔料を含有する電子写真記録要素およびそれらの製造方法 - Google Patents
チタニルフタロシアニン顔料を含有する電子写真記録要素およびそれらの製造方法Info
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- JPH056013A JPH056013A JP3028726A JP2872691A JPH056013A JP H056013 A JPH056013 A JP H056013A JP 3028726 A JP3028726 A JP 3028726A JP 2872691 A JP2872691 A JP 2872691A JP H056013 A JPH056013 A JP H056013A
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- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
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- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
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- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
- C09B67/0001—Post-treatment of organic pigments or dyes
- C09B67/0002—Grinding; Milling with solid grinding or milling assistants
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 ポリマーバインダーと分散した光伝導性チタ
ニルフタロシアニン粒子を含む液状組成物から形成した
層を担持する電子写真記録要素を提供する。 【構成】 チタニルフタロシアニン粒子は、粒子サイズ
が約0.２μｍまであり、一定のＸ線回折特性をもち、形
成した層は一定のスペクトル吸収範囲によって特徴付け
られる。塗布組成物は、ポリマーバインダーを含む溶媒
溶液中に分散した微細な光電導性チタニルフタロシアニ
ン粒子を含み、（１）溶媒が存在しない剪断条件下で、
無機塩粒子と非伝導性粒子を含むミル媒質によりチタニ
ルフタロシアニン顔料を微粉砕して粒子サイズが0.２μ
ｍまでの顔料を提供する工程、（２）約50℃以下の温度
で高い剪断応力で微粉砕工程を継続して顔料粒子の色変
化を達成する工程、（３）直ちに顔料の温度を10℃上昇
させる工程、（４）顔料をミル媒質から分離する工程、
ならびに（５）顔料をポリマーバインダーを含む溶媒溶
液と混合して塗布組成物を形成する工程、によって製造
した。
ニルフタロシアニン粒子を含む液状組成物から形成した
層を担持する電子写真記録要素を提供する。 【構成】 チタニルフタロシアニン粒子は、粒子サイズ
が約0.２μｍまであり、一定のＸ線回折特性をもち、形
成した層は一定のスペクトル吸収範囲によって特徴付け
られる。塗布組成物は、ポリマーバインダーを含む溶媒
溶液中に分散した微細な光電導性チタニルフタロシアニ
ン粒子を含み、（１）溶媒が存在しない剪断条件下で、
無機塩粒子と非伝導性粒子を含むミル媒質によりチタニ
ルフタロシアニン顔料を微粉砕して粒子サイズが0.２μ
ｍまでの顔料を提供する工程、（２）約50℃以下の温度
で高い剪断応力で微粉砕工程を継続して顔料粒子の色変
化を達成する工程、（３）直ちに顔料の温度を10℃上昇
させる工程、（４）顔料をミル媒質から分離する工程、
ならびに（５）顔料をポリマーバインダーを含む溶媒溶
液と混合して塗布組成物を形成する工程、によって製造
した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はチタニルフタロシアニ
ン顔料を含有する電子写真記録要素およびこのような電
子写真要素の作製に使用される塗布組成物の製造方法に
関する。より具体的には、本発明はポリマーバインダー
を含む溶媒溶液中に分散した微細なチタニルフタロシア
ニン顔料の安定な分散体を含んでなる電子写真塗布組成
物を製造する方法およびこのような組成物を用いて作製
した電子写真要素に関する。
ン顔料を含有する電子写真記録要素およびこのような電
子写真要素の作製に使用される塗布組成物の製造方法に
関する。より具体的には、本発明はポリマーバインダー
を含む溶媒溶液中に分散した微細なチタニルフタロシア
ニン顔料の安定な分散体を含んでなる電子写真塗布組成
物を製造する方法およびこのような組成物を用いて作製
した電子写真要素に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子写真では、一般に不均一な強さの静
電場パターン（また、静電潜像とも称する）を含んでな
る画像が少なくとも光導電性層と電気伝導性基板を含ん
でなる電子写真要素の絶縁性表面上に形成される。各種
タイプの電子写真記録要素を電子写真に使用することが
知られている。多くの常用されている要素では、活性光
導電性材料または電荷発生材料を単一層に含んでいる。
この層が、電気伝導性層でオーバーコートされた適当な
電気伝導性基板または非伝導性基板上に塗布されてい
る。単一活性層の電子写真記録要素に加え、各種の多活
性電子写真記録要素が知られている。このような要素
は、それらが相互作用して静電潜像を形成する少なくと
も２種の活性層を含むことから時には多層要素または多
活性層要素と称されている。
電場パターン（また、静電潜像とも称する）を含んでな
る画像が少なくとも光導電性層と電気伝導性基板を含ん
でなる電子写真要素の絶縁性表面上に形成される。各種
タイプの電子写真記録要素を電子写真に使用することが
知られている。多くの常用されている要素では、活性光
導電性材料または電荷発生材料を単一層に含んでいる。
この層が、電気伝導性層でオーバーコートされた適当な
電気伝導性基板または非伝導性基板上に塗布されてい
る。単一活性層の電子写真記録要素に加え、各種の多活
性電子写真記録要素が知られている。このような要素
は、それらが相互作用して静電潜像を形成する少なくと
も２種の活性層を含むことから時には多層要素または多
活性層要素と称されている。
【０００３】上述の単一活性層要素および多活性層要素
に使用されてきた多種多様な光導電性材料の中には、チ
タニルフタロシアニン顔料、例えばチタニルフタロシア
ニン顔料またはチタニルテトラフルオロフタロシアニン
顔料がある。電荷発生材料としてこのような顔料を含有
する電子写真記録要素は、それらが電磁線スペクトルの
近赤外領域、すなわち 700〜900nm の範囲内で良好な感
光性を示しうるので電子写真レーザービームプリンター
に有用である。
に使用されてきた多種多様な光導電性材料の中には、チ
タニルフタロシアニン顔料、例えばチタニルフタロシア
ニン顔料またはチタニルテトラフルオロフタロシアニン
顔料がある。電荷発生材料としてこのような顔料を含有
する電子写真記録要素は、それらが電磁線スペクトルの
近赤外領域、すなわち 700〜900nm の範囲内で良好な感
光性を示しうるので電子写真レーザービームプリンター
に有用である。
【０００４】残念ながら、従来の光導電性チタニルフタ
ロシアニン顔料を含む電子写真要素は、概ね、著しくそ
れらの使用を制限する１以上の欠点を伴う。例えば、米
国特許第 4,701,396号（1987年10月20日発行）に指摘さ
れるように、光導電性チタニルフタロシアニン顔料は、
電子写真記録要素の電荷発生層を分散塗布するのに使用
されるポリマーバインダーを含む溶媒溶液からなる液状
塗布組成物中に容易に分散できない。チタニルフタロシ
アニン顔料は、それを十分低い濃度で使用して近赤外領
域で高い電子写真感度を示す非常に薄い層を形成するた
めには高い光導電性でありそして十分かつ安定に分散さ
れる形状（結晶または非晶質）であることが必要であ
る。
ロシアニン顔料を含む電子写真要素は、概ね、著しくそ
れらの使用を制限する１以上の欠点を伴う。例えば、米
国特許第 4,701,396号（1987年10月20日発行）に指摘さ
れるように、光導電性チタニルフタロシアニン顔料は、
電子写真記録要素の電荷発生層を分散塗布するのに使用
されるポリマーバインダーを含む溶媒溶液からなる液状
塗布組成物中に容易に分散できない。チタニルフタロシ
アニン顔料は、それを十分低い濃度で使用して近赤外領
域で高い電子写真感度を示す非常に薄い層を形成するた
めには高い光導電性でありそして十分かつ安定に分散さ
れる形状（結晶または非晶質）であることが必要であ
る。
【０００５】米国特許第 4,701,396号では、チタニルフ
タロシアニン顔料がポリマーバインダーを含む溶媒溶液
からなる液状塗布組成物中に分散することができるよう
にその結晶形を変性しそしてその粒子サイズを低減する
処理にかけられている。この処理は、（合成した材料の
抽出精製後）チタニルフタロシアニン顔料を冷濃厚鉱
酸、好ましくは硫酸中に溶解し、次いでこの溶液を氷水
に注ぎ込んで顔料を再沈澱する工程を伴う「酸ペースト
法（acidpasting)」と称されている。この沈澱は水、次
いでアルコールで酸を洗浄除去した後、乾燥されてい
る。得られたチタニルフタロシアニン顔料は、生原料の
顔料より実質的に遙かに小さな粒子サイズ（ほぼ、１μ
ｍ未満）であり、近赤外領域の輻射線に高い感度を示
す。無論、商業的な規模の操作において、安全性や環境
を考慮すると多量の硫酸のような濃厚鉱酸の使用を避け
ることが望まれる。このような危険物を取り扱うのに必
要な安全装置を用意するには膨大な経費もかかる。
タロシアニン顔料がポリマーバインダーを含む溶媒溶液
からなる液状塗布組成物中に分散することができるよう
にその結晶形を変性しそしてその粒子サイズを低減する
処理にかけられている。この処理は、（合成した材料の
抽出精製後）チタニルフタロシアニン顔料を冷濃厚鉱
酸、好ましくは硫酸中に溶解し、次いでこの溶液を氷水
に注ぎ込んで顔料を再沈澱する工程を伴う「酸ペースト
法（acidpasting)」と称されている。この沈澱は水、次
いでアルコールで酸を洗浄除去した後、乾燥されてい
る。得られたチタニルフタロシアニン顔料は、生原料の
顔料より実質的に遙かに小さな粒子サイズ（ほぼ、１μ
ｍ未満）であり、近赤外領域の輻射線に高い感度を示
す。無論、商業的な規模の操作において、安全性や環境
を考慮すると多量の硫酸のような濃厚鉱酸の使用を避け
ることが望まれる。このような危険物を取り扱うのに必
要な安全装置を用意するには膨大な経費もかかる。
【０００６】昭和61年（1986）年５月23日出願の特願昭
61−117437号（特開昭62−275272号公報、昭和62年11月
30日公開）は、ポリマーバインダー中に分散されたチタ
ニルフタロシアニン顔料を含んでなり、そして赤外領域
に感度を有する電子写真記録要素を記載する。このチタ
ニルフタロシアニン顔料は、0.２μｍより大きくない粒
子サイズを有しそして強いＸ線回折ピークを示さない非
晶質材料である。この粒子サイズを達成するのに化学処
理顔料、例えば酸ペースト処理した顔料が機械的手段に
よりすりつぶされ0.２μｍより大きくないサイズまでそ
の粒子サイズが低減されている。
61−117437号（特開昭62−275272号公報、昭和62年11月
30日公開）は、ポリマーバインダー中に分散されたチタ
ニルフタロシアニン顔料を含んでなり、そして赤外領域
に感度を有する電子写真記録要素を記載する。このチタ
ニルフタロシアニン顔料は、0.２μｍより大きくない粒
子サイズを有しそして強いＸ線回折ピークを示さない非
晶質材料である。この粒子サイズを達成するのに化学処
理顔料、例えば酸ペースト処理した顔料が機械的手段に
よりすりつぶされ0.２μｍより大きくないサイズまでそ
の粒子サイズが低減されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、安定で均
一に分散した微細なチタニルフタロシアニン顔料を含ん
でなる電子写真塗布組成物を提供し、このような組成物
で調製される電子写真要素に対する課題を解決する。こ
の発明はまた、酸ペースト法のような化学処理を必要と
しない上記のような組成物を提供する課題も解決する。
一に分散した微細なチタニルフタロシアニン顔料を含ん
でなる電子写真塗布組成物を提供し、このような組成物
で調製される電子写真要素に対する課題を解決する。こ
の発明はまた、酸ペースト法のような化学処理を必要と
しない上記のような組成物を提供する課題も解決する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、一定の
生原料チタニルフタロシアニン顔料、すなわち、生原料
チタニルフタロシアニンまたはチタニルテトラフルオロ
フタロシアニン顔料をその粒子サイズを低減する特有の
微粉砕方法にかけ、液状塗布組成物中で優れた分散性を
有し、かつ近赤外領域で優れた感光度を示す顔料が提供
される。従って、本発明は、下記工程を含んでなるポリ
マーバインダーを含む溶媒溶液中に分散した微細な光導
電性顔料を担持する電子写真塗布組成物の製造方法を提
供する。
生原料チタニルフタロシアニン顔料、すなわち、生原料
チタニルフタロシアニンまたはチタニルテトラフルオロ
フタロシアニン顔料をその粒子サイズを低減する特有の
微粉砕方法にかけ、液状塗布組成物中で優れた分散性を
有し、かつ近赤外領域で優れた感光度を示す顔料が提供
される。従って、本発明は、下記工程を含んでなるポリ
マーバインダーを含む溶媒溶液中に分散した微細な光導
電性顔料を担持する電子写真塗布組成物の製造方法を提
供する。
【０００９】（１)(ａ）次式
【化３】
（上式中、各ｎは０であるか、あるいは各ｎは１であ
る）で示される生原料チタニルフタロシアニン顔料を、
（ｂ）重量比0.５：１〜３：１で無機塩粒子と非伝導性
粒子を含んでなるミル媒質と共に、溶媒が実質的に存在
しない剪断条件下で微粉砕して粒子サイズが0.２μｍま
での顔料を提供する工程、（２）前記顔料の知覚できる
色変化が起こるまでより高い剪断応力および50℃以下の
温度で微粉砕することを継続する工程、（３）微粉砕し
た前記顔料の温度を少なくとも10℃直ちに上昇させる工
程、（４）その微粉砕した顔料を前記媒質から分離する
工程、ならびに（５）その微粉砕した顔料をポリマーバ
インダーを含む溶媒溶液と混合して前記塗布組成物を形
成する工程。
る）で示される生原料チタニルフタロシアニン顔料を、
（ｂ）重量比0.５：１〜３：１で無機塩粒子と非伝導性
粒子を含んでなるミル媒質と共に、溶媒が実質的に存在
しない剪断条件下で微粉砕して粒子サイズが0.２μｍま
での顔料を提供する工程、（２）前記顔料の知覚できる
色変化が起こるまでより高い剪断応力および50℃以下の
温度で微粉砕することを継続する工程、（３）微粉砕し
た前記顔料の温度を少なくとも10℃直ちに上昇させる工
程、（４）その微粉砕した顔料を前記媒質から分離する
工程、ならびに（５）その微粉砕した顔料をポリマーバ
インダーを含む溶媒溶液と混合して前記塗布組成物を形
成する工程。
【００１０】本発明の方法で製造される電子写真塗布組
成物は安定であり、近赤外領域で優れた感光度を有する
電子写真要素を塗布するのに使用できる均一分散体であ
る。従って、本発明はポリマーバインダーおよび粒子サ
イズが0.２μｍまでの分散した光導電性チタニルフタロ
シアニン粒子を含んでなる液状組成物から形成される層
を担持する電子写真記録要素も提供する。この要素のさ
らに不可欠の特徴は、（ａ）前記チタニルフタロシアニ
ンが、次式
成物は安定であり、近赤外領域で優れた感光度を有する
電子写真要素を塗布するのに使用できる均一分散体であ
る。従って、本発明はポリマーバインダーおよび粒子サ
イズが0.２μｍまでの分散した光導電性チタニルフタロ
シアニン粒子を含んでなる液状組成物から形成される層
を担持する電子写真記録要素も提供する。この要素のさ
らに不可欠の特徴は、（ａ）前記チタニルフタロシアニ
ンが、次式
【化４】
（上式中、各ｎは０であるか、あるいは各ｎは１であ
る）で示され、（ｂ）前記粒子が、 CuKα放射線によっ
て得られるＸ線回折パターンにおいて、各ｎが０の場合
に回折角（２θ）のピークが7.４°, 16.3°,22.4°お
よび27.1°を示し、そして各ｎが１の場合に回折角（２
θ）のピークが6.８°，15.89°および25.27 °を示
し、そして（ｃ）前記層が、 630〜660nm の範囲内にあ
る第一スペクトル吸収ピークを示し、そして 830〜870n
m の範囲内にある第二スペクトル吸収ピークを示すこと
にある。
る）で示され、（ｂ）前記粒子が、 CuKα放射線によっ
て得られるＸ線回折パターンにおいて、各ｎが０の場合
に回折角（２θ）のピークが7.４°, 16.3°,22.4°お
よび27.1°を示し、そして各ｎが１の場合に回折角（２
θ）のピークが6.８°，15.89°および25.27 °を示
し、そして（ｃ）前記層が、 630〜660nm の範囲内にあ
る第一スペクトル吸収ピークを示し、そして 830〜870n
m の範囲内にある第二スペクトル吸収ピークを示すこと
にある。
【００１１】以下、本発明を具体的に説明する。本発明
に準じて製造した微粉砕顔料のＸ線回折パターンと従来
技術の酸ペースト法によって製造した顔料のそれを図示
し、そしてこれらの顔料を用いて形成した電荷発生層の
スペクトル吸収曲線示すプロットを提供する。各図にお
いて、図１は、後述の例１と比較例２に記載するよう
な、それぞれ本発明に準じて製造した微粉砕チタニルテ
トラフロオロフタロシアニン顔料（ＭＰ）および酸ペー
スト化チタニルテトラフルオロフタロシアニン顔料(AP
P) のＸ線回折パターンを示すプロットである。
に準じて製造した微粉砕顔料のＸ線回折パターンと従来
技術の酸ペースト法によって製造した顔料のそれを図示
し、そしてこれらの顔料を用いて形成した電荷発生層の
スペクトル吸収曲線示すプロットを提供する。各図にお
いて、図１は、後述の例１と比較例２に記載するよう
な、それぞれ本発明に準じて製造した微粉砕チタニルテ
トラフロオロフタロシアニン顔料（ＭＰ）および酸ペー
スト化チタニルテトラフルオロフタロシアニン顔料(AP
P) のＸ線回折パターンを示すプロットである。
【００１２】図２は、後述の例２および比較例２に記載
するような、それぞれ本発明に準じて製造した微粉砕チ
タニルフタロシアニン顔料（ＭＰ）および従来法によっ
て製造した酸ペースト化チタニルフタロシアニン顔料(A
PP) のＸ線回折パターンを示すプロットである。
するような、それぞれ本発明に準じて製造した微粉砕チ
タニルフタロシアニン顔料（ＭＰ）および従来法によっ
て製造した酸ペースト化チタニルフタロシアニン顔料(A
PP) のＸ線回折パターンを示すプロットである。
【００１３】図３は、後述の例１および比較例２に記載
するように製造した図１に図示するＸ線回折パターンを
示す微粉砕チタニルテトラフルオロフタロシアニン顔料
（ＭＰ）および酸ペースト化チタニルテトラフルオロフ
タロシアニン顔料(APP) を用いて形成した電荷発生層の
スペクトル吸収曲線を示すプロットである。
するように製造した図１に図示するＸ線回折パターンを
示す微粉砕チタニルテトラフルオロフタロシアニン顔料
（ＭＰ）および酸ペースト化チタニルテトラフルオロフ
タロシアニン顔料(APP) を用いて形成した電荷発生層の
スペクトル吸収曲線を示すプロットである。
【００１４】本発明の方法で使用する生原料チタニルフ
タロシアニン顔料は、合成顔料であって、電子写真品位
の顔料、すなわち光電導性チタニルフタロシアニン顔料
で使用されるよりも遙かに大きい粒子サイズを有する。
この発明の方法は電子写真塗布組成物中で高度の分散性
を達成しうる微細な光導電性状態にある顔料を提供す
る。このような顔料粒子は非常に均一なサイズの分布を
示し、個々の粒子サイズが0.２μｍを越えない。この方
法によって改良された結果をもたらす正確な機構は明確
には知られていないが、本発明の方法では、溶媒とポリ
マーバインダーは顔料粒子が微粉砕されるまでそれらと
組み合わされないので凝集を避けれる。従って、微細粒
子の形成に対するポリマーバインダーおよび／または溶
媒の存在に起因する悪影響が避けられ、凝集物の粉砕や
個々の粒子を離散することは不要である。微粉砕後、そ
れぞれの粒子は媒体ミル（media mill) または塗料シェ
ーカーのような常用されている混合装置を用いてポリマ
ーバインダーを含む溶媒溶液中に効率よく分散して塗布
組成物を形成することができる。
タロシアニン顔料は、合成顔料であって、電子写真品位
の顔料、すなわち光電導性チタニルフタロシアニン顔料
で使用されるよりも遙かに大きい粒子サイズを有する。
この発明の方法は電子写真塗布組成物中で高度の分散性
を達成しうる微細な光導電性状態にある顔料を提供す
る。このような顔料粒子は非常に均一なサイズの分布を
示し、個々の粒子サイズが0.２μｍを越えない。この方
法によって改良された結果をもたらす正確な機構は明確
には知られていないが、本発明の方法では、溶媒とポリ
マーバインダーは顔料粒子が微粉砕されるまでそれらと
組み合わされないので凝集を避けれる。従って、微細粒
子の形成に対するポリマーバインダーおよび／または溶
媒の存在に起因する悪影響が避けられ、凝集物の粉砕や
個々の粒子を離散することは不要である。微粉砕後、そ
れぞれの粒子は媒体ミル（media mill) または塗料シェ
ーカーのような常用されている混合装置を用いてポリマ
ーバインダーを含む溶媒溶液中に効率よく分散して塗布
組成物を形成することができる。
【００１５】本発明の方法は、上述の式で示されるチタ
ニルフタロシアニンまたはチタニルテトラフルオロフタ
ロシアニンに適用される。米国特許第 4,701,396号明細
書に示されるように、各ｎが１を表す場合の上記式で示
されるチタニルフルオロフタロシアニン色素は数種の異
性体の状態で存在することができる。米国特許第 4,70
1,396号明細書のカラム２、20〜64行に、チタニルフル
オロフタロシアニン顔料がハロゲン化チタンと環上に唯
一のフッ素置換基を担持するフッ素置換フタロニトリル
との反応によって製造される場合にそれがもたらされる
ことを教示する。本発明は、各ｎが１を表す上記式に包
含されるチタニルテトラフルオロフタロシアニンの各種
異性体もその範囲内に包含する。本発明の実施に有用な
チタニルフルオロフタロシアニン類の具体例としては、
チタニル−２，９，16, 23−テトラフルオロフタロシア
ニン、チタニル−２，10, 17, 24−テトラフルオロフタ
ロシアニンおよびチタニル−１，８，15, 22−テトラフ
ルオロフタロシアニンが挙げられる。本発明を具体的に
説明する後述の例で使用するチタニルテトラフルオロフ
タロシアニンは、主としてチタニル−２，９，16, 23−
テトラフルオロフタロシアニンである。本発明の方法は
２種以上の顔料の混合物に適用できるが、一般的に、最
高の電子写真特性はそれぞれの顔料を個別に微粉砕し、
そして分散体を電子写真記録要素に塗布する前に通常の
混合法にかけられる塗布組成に加えられるときに得られ
る。
ニルフタロシアニンまたはチタニルテトラフルオロフタ
ロシアニンに適用される。米国特許第 4,701,396号明細
書に示されるように、各ｎが１を表す場合の上記式で示
されるチタニルフルオロフタロシアニン色素は数種の異
性体の状態で存在することができる。米国特許第 4,70
1,396号明細書のカラム２、20〜64行に、チタニルフル
オロフタロシアニン顔料がハロゲン化チタンと環上に唯
一のフッ素置換基を担持するフッ素置換フタロニトリル
との反応によって製造される場合にそれがもたらされる
ことを教示する。本発明は、各ｎが１を表す上記式に包
含されるチタニルテトラフルオロフタロシアニンの各種
異性体もその範囲内に包含する。本発明の実施に有用な
チタニルフルオロフタロシアニン類の具体例としては、
チタニル−２，９，16, 23−テトラフルオロフタロシア
ニン、チタニル−２，10, 17, 24−テトラフルオロフタ
ロシアニンおよびチタニル−１，８，15, 22−テトラフ
ルオロフタロシアニンが挙げられる。本発明を具体的に
説明する後述の例で使用するチタニルテトラフルオロフ
タロシアニンは、主としてチタニル−２，９，16, 23−
テトラフルオロフタロシアニンである。本発明の方法は
２種以上の顔料の混合物に適用できるが、一般的に、最
高の電子写真特性はそれぞれの顔料を個別に微粉砕し、
そして分散体を電子写真記録要素に塗布する前に通常の
混合法にかけられる塗布組成に加えられるときに得られ
る。
【００１６】本発明の方法の第一段階中、顔料は粒子の
凝集物を粉砕しそして非常に小さいサイズの粒子を提供
する剪断応力条件下で乾式状態にて機械的にすりつぶさ
れる。合成されたままのチタニルフタロシアニン顔料類
は、普通には、粒子サイズが大きすぎて電子写真用途に
使用するには効果的でない。この条件において、それら
は、「生原料」顔料として当該技術分野で知られてい
る。このような生原料顔料は、通常、10μｍを越える粒
子サイズを有し、時には少なくとも50μｍの粒子サイズ
を有し、そしてある場合には最低１mmの粒子サイズを有
する。この第一の微粉砕段階では、粒子サイズが0.２μ
ｍを越えない、典型的には0.01〜0.２μｍで、場合によ
って0.05〜0.１μｍの粒子サイズまで低減される。これ
らの顔料粒子は様々な形状、例えば卵形、針状、球形、
規則性もしくは不規則性の形状を有する。本明細書で称
する粒子サイズは、粒子の最も大きい寸法であって、電
子顕微鏡写真から当業者に周知の方法で容易に測定する
ことができる。微粉砕化は、実質的に溶媒およびポリマ
ーバインダーの不存在下で、すなわち、これらの成分が
まったく存在しないか、あるいはポリマーバインダーお
よび／または溶媒がいくらかでも存在するとしても、そ
れが顔料粒子に有意な悪影響を及ぼさない程少量である
状態で実施される。
凝集物を粉砕しそして非常に小さいサイズの粒子を提供
する剪断応力条件下で乾式状態にて機械的にすりつぶさ
れる。合成されたままのチタニルフタロシアニン顔料類
は、普通には、粒子サイズが大きすぎて電子写真用途に
使用するには効果的でない。この条件において、それら
は、「生原料」顔料として当該技術分野で知られてい
る。このような生原料顔料は、通常、10μｍを越える粒
子サイズを有し、時には少なくとも50μｍの粒子サイズ
を有し、そしてある場合には最低１mmの粒子サイズを有
する。この第一の微粉砕段階では、粒子サイズが0.２μ
ｍを越えない、典型的には0.01〜0.２μｍで、場合によ
って0.05〜0.１μｍの粒子サイズまで低減される。これ
らの顔料粒子は様々な形状、例えば卵形、針状、球形、
規則性もしくは不規則性の形状を有する。本明細書で称
する粒子サイズは、粒子の最も大きい寸法であって、電
子顕微鏡写真から当業者に周知の方法で容易に測定する
ことができる。微粉砕化は、実質的に溶媒およびポリマ
ーバインダーの不存在下で、すなわち、これらの成分が
まったく存在しないか、あるいはポリマーバインダーお
よび／または溶媒がいくらかでも存在するとしても、そ
れが顔料粒子に有意な悪影響を及ぼさない程少量である
状態で実施される。
【００１７】この方法の第一段階では、チタニルフタロ
シアニン顔料粒子を顔料粒子サイズが少なくとも0.２μ
ｍまで低減するような剪断応力下で微粉砕し、顔料とミ
ル媒質は均質混合物を形成する。微粉砕混合物にこのよ
うな剪断応力を供給することができる微粉砕機は周知で
あり、例えば、常用されているボールミル、ロールミ
ル、ペイントシェーカーおよび振動性ミルなどが挙げら
れる。剪断作用を利用できる微粉砕機は、米国特許第
4,555,467号（1985年11月26日発行）および同 4,785,99
9号（1988年11月22日発行）明細書に記載されている。
当業者に自明のごとく、供給した混合物にかけられる剪
断応力は、選ばれる微粉砕機の型式、ミル媒質およびチ
タニルフタロシアニン顔料の種類に応じて変えられる。
しかしながら、第一段階の微粉砕に適する剪断応力をも
たらすミル媒質中の非伝導性粒子にかけられるエネルギ
ーは、一般的に５ワットを越えず、典型的には３〜５ワ
ットの範囲内にある。
シアニン顔料粒子を顔料粒子サイズが少なくとも0.２μ
ｍまで低減するような剪断応力下で微粉砕し、顔料とミ
ル媒質は均質混合物を形成する。微粉砕混合物にこのよ
うな剪断応力を供給することができる微粉砕機は周知で
あり、例えば、常用されているボールミル、ロールミ
ル、ペイントシェーカーおよび振動性ミルなどが挙げら
れる。剪断作用を利用できる微粉砕機は、米国特許第
4,555,467号（1985年11月26日発行）および同 4,785,99
9号（1988年11月22日発行）明細書に記載されている。
当業者に自明のごとく、供給した混合物にかけられる剪
断応力は、選ばれる微粉砕機の型式、ミル媒質およびチ
タニルフタロシアニン顔料の種類に応じて変えられる。
しかしながら、第一段階の微粉砕に適する剪断応力をも
たらすミル媒質中の非伝導性粒子にかけられるエネルギ
ーは、一般的に５ワットを越えず、典型的には３〜５ワ
ットの範囲内にある。
【００１８】本発明の方法で使用されるミル媒質は２成
分、すなわち、重量比で0.５：１〜３：１、典型的には
１：１〜２：１にある無機塩粒子と非伝導性粒子を含ん
でなる。無機塩の具体例としては、アルカリ金属ハロゲ
ン化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属硫酸塩また
はアルカリ金属リン酸塩、例えば塩化ナトリウム、臭化
カリウム硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、炭酸カルシウ
ムおよびリン酸ナトリウムが挙げられる。従来技術の微
粉砕法では、このような無機塩粒子がミル媒質中で他の
粒子、例えばスチール・ボール（これらは、通常、ミル
助材としてかなり低濃度で使用される）と共に使用され
ている。このような塩類は、一般にそれらが相当高い水
溶性、例えば水１Ｌ当り少なくとも 200ｇそして殆ど 4
00ｇの溶解性を示すので水で洗浄することによって微粉
砕顔料から分離されている。非伝導性粒子の具体例とし
ては、電気非伝導性のガラス粒子、酸化ジルコニウム粒
子および有機ポリマービーズ、例えばポリメチルメタク
リレートなどが挙げられる。非伝導性粒子は、電荷が顔
料の粒子への付着を引き起こしその顔料の単離をより複
雑にする摩擦帯電に起因する電荷を帯びないのでそれら
が使用される。さらに、非伝導性粒子の使用は、微粉砕
する条件下で起こり得る無機塩粒子の存在に起因する腐
蝕を抑制する。一般に、無機塩類は５〜500 μｍの範囲
内にある粒子サイズを有するが、一方、非伝導性粒子の
粒子サイズは0.05mm〜５mmの範囲内にあるのが普通であ
る。
分、すなわち、重量比で0.５：１〜３：１、典型的には
１：１〜２：１にある無機塩粒子と非伝導性粒子を含ん
でなる。無機塩の具体例としては、アルカリ金属ハロゲ
ン化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属硫酸塩また
はアルカリ金属リン酸塩、例えば塩化ナトリウム、臭化
カリウム硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、炭酸カルシウ
ムおよびリン酸ナトリウムが挙げられる。従来技術の微
粉砕法では、このような無機塩粒子がミル媒質中で他の
粒子、例えばスチール・ボール（これらは、通常、ミル
助材としてかなり低濃度で使用される）と共に使用され
ている。このような塩類は、一般にそれらが相当高い水
溶性、例えば水１Ｌ当り少なくとも 200ｇそして殆ど 4
00ｇの溶解性を示すので水で洗浄することによって微粉
砕顔料から分離されている。非伝導性粒子の具体例とし
ては、電気非伝導性のガラス粒子、酸化ジルコニウム粒
子および有機ポリマービーズ、例えばポリメチルメタク
リレートなどが挙げられる。非伝導性粒子は、電荷が顔
料の粒子への付着を引き起こしその顔料の単離をより複
雑にする摩擦帯電に起因する電荷を帯びないのでそれら
が使用される。さらに、非伝導性粒子の使用は、微粉砕
する条件下で起こり得る無機塩粒子の存在に起因する腐
蝕を抑制する。一般に、無機塩類は５〜500 μｍの範囲
内にある粒子サイズを有するが、一方、非伝導性粒子の
粒子サイズは0.05mm〜５mmの範囲内にあるのが普通であ
る。
【００１９】第一の微粉砕段階における生原料顔料の粉
砕に続いて、より高い剪断応力と50℃までの温度の第二
段階で微粉砕が継続される。微粉砕は、顔料の色変化が
知覚可能になるまで少なくとも続けられる。これは、ヒ
トの肉眼で観察することによって検知できる顔料の色の
顕著な変化が存在する時点である。チタニルフタロシア
ニン顔料は微粉砕が終了した時点で無機塩粒子表面にほ
ぼ完全に吸着されることが認められることも興味深い。
これは微粉砕の終点の優れた表示である。この第二微粉
砕段階中、剪断応力は単にミル媒質濃度を高めることに
よって増強できる。しかしながら、第一段階の微粉砕か
ら微粉砕された組成物（顔料とミル媒質を含む）を第一
段階で使用した剪断応力に比べ増大した剪断応力を発生
しうる装置に単に移すことが普通便利である。例えば、
ボール・ミルが第一段階で使用される場合には、次いで
後述の例で具体的に説明するような磨砕機を第二微粉砕
段階で使用することによってそれが可能である。しかし
ながら、ジェット・ミルまたは高速ロール・ミルのよう
な別のミルも第二微粉砕段階での使用に適する。第二段
階における微粉砕温度は、50℃を越えず、一般に０℃〜
50℃の範囲内、典型的には20℃〜45℃の範囲内にある。
微粉砕時間は、段階１および２において、顔料とミル媒
質と使用される特定のミル装置の相対的特性などの多く
の要因に応じて大きく変動しうる。一般的に、段階１の
微粉砕に適する時間は 240時間程度、典型的には72〜12
0 時間の範囲内にあるが、一方、段階２の微粉砕時間
は、通常、10分〜５時間、しばしば30分〜90分間であ
る。典型的な微粉砕中のチタニルフタロシアニン顔料濃
度は、ミル媒質の重量基準で0.01重量％〜10重量％、し
ばしば0.５重量％〜５重量％である。この微粉砕操作
は、微粉砕組成物、すなわち、顔料とミル媒質の混合物
の温度を上昇する熱の発生をもたらす傾向がある。従っ
て、ミル装置は温度を50℃以下に保持するための冷却手
段を通常備えている。
砕に続いて、より高い剪断応力と50℃までの温度の第二
段階で微粉砕が継続される。微粉砕は、顔料の色変化が
知覚可能になるまで少なくとも続けられる。これは、ヒ
トの肉眼で観察することによって検知できる顔料の色の
顕著な変化が存在する時点である。チタニルフタロシア
ニン顔料は微粉砕が終了した時点で無機塩粒子表面にほ
ぼ完全に吸着されることが認められることも興味深い。
これは微粉砕の終点の優れた表示である。この第二微粉
砕段階中、剪断応力は単にミル媒質濃度を高めることに
よって増強できる。しかしながら、第一段階の微粉砕か
ら微粉砕された組成物（顔料とミル媒質を含む）を第一
段階で使用した剪断応力に比べ増大した剪断応力を発生
しうる装置に単に移すことが普通便利である。例えば、
ボール・ミルが第一段階で使用される場合には、次いで
後述の例で具体的に説明するような磨砕機を第二微粉砕
段階で使用することによってそれが可能である。しかし
ながら、ジェット・ミルまたは高速ロール・ミルのよう
な別のミルも第二微粉砕段階での使用に適する。第二段
階における微粉砕温度は、50℃を越えず、一般に０℃〜
50℃の範囲内、典型的には20℃〜45℃の範囲内にある。
微粉砕時間は、段階１および２において、顔料とミル媒
質と使用される特定のミル装置の相対的特性などの多く
の要因に応じて大きく変動しうる。一般的に、段階１の
微粉砕に適する時間は 240時間程度、典型的には72〜12
0 時間の範囲内にあるが、一方、段階２の微粉砕時間
は、通常、10分〜５時間、しばしば30分〜90分間であ
る。典型的な微粉砕中のチタニルフタロシアニン顔料濃
度は、ミル媒質の重量基準で0.01重量％〜10重量％、し
ばしば0.５重量％〜５重量％である。この微粉砕操作
は、微粉砕組成物、すなわち、顔料とミル媒質の混合物
の温度を上昇する熱の発生をもたらす傾向がある。従っ
て、ミル装置は温度を50℃以下に保持するための冷却手
段を通常備えている。
【００２０】第二段階の微粉砕が終了すると微粉砕した
顔料の温度は、直ちに10℃、しばしば20〜50℃上昇され
る。温度の迅速な上昇は、ポリマーバインダーを含む溶
媒溶液に顔料を加える前の形態学的および結晶形の変化
に対して顔料を安定化させる。これには、ミル混合物を
温水、例えば、ミル混合物の温度に応じて沸騰水と接触
させることによってその温度を上昇することが通常好都
合である。しかしながら、他の加熱手段、例えば、温風
を使用することもできるが、水は顔料の回収を促進する
ように無機塩類を溶解するので水が好ましい。一般的
に、顔料温度を 100℃を越える温度まで上昇する必要は
なく、典型的には70℃〜90℃以上でない。非伝導性固体
粒子は濾過または遠心などの適当な手段を用いる分離に
よって混合物から簡単に除去することができる。
顔料の温度は、直ちに10℃、しばしば20〜50℃上昇され
る。温度の迅速な上昇は、ポリマーバインダーを含む溶
媒溶液に顔料を加える前の形態学的および結晶形の変化
に対して顔料を安定化させる。これには、ミル混合物を
温水、例えば、ミル混合物の温度に応じて沸騰水と接触
させることによってその温度を上昇することが通常好都
合である。しかしながら、他の加熱手段、例えば、温風
を使用することもできるが、水は顔料の回収を促進する
ように無機塩類を溶解するので水が好ましい。一般的
に、顔料温度を 100℃を越える温度まで上昇する必要は
なく、典型的には70℃〜90℃以上でない。非伝導性固体
粒子は濾過または遠心などの適当な手段を用いる分離に
よって混合物から簡単に除去することができる。
【００２１】これらのＸ線回折パターンによって示され
るように、本発明の方法によって製造されるチタニルフ
タロシアニン顔料類は、上述の米国特許第 4,701,396号
および特開昭62−275272号公報に記載されるものとまっ
たく相違している。なぜかなら、本発明のチタニルテト
ラフルオロフタロシアニン粒子が CuKα放射線によるＸ
線回折パターンにおいて回折角（θ）が6.８°,15.89°
および 25.27°にピークを示し、一方、チタニルフタロ
シアニン粒子が7.４°，16.3°, 22.4°および27.1°に
そのようなピークを示すからである。Ｘ線回折特性の測
定は、例えば、T.S.HutchinsonおよびD.C.BairedのEngi
neering Solids (John Wiley and Sons,Inc., 1963)な
らびにX-ray Diffraction Proceduresfor Polycrystall
ine andAmorphous Materials, 第２版、（John Wiley a
nd Sons, Inc., 1974)に記載されるような周知の技法に
よって行うことができる。
るように、本発明の方法によって製造されるチタニルフ
タロシアニン顔料類は、上述の米国特許第 4,701,396号
および特開昭62−275272号公報に記載されるものとまっ
たく相違している。なぜかなら、本発明のチタニルテト
ラフルオロフタロシアニン粒子が CuKα放射線によるＸ
線回折パターンにおいて回折角（θ）が6.８°,15.89°
および 25.27°にピークを示し、一方、チタニルフタロ
シアニン粒子が7.４°，16.3°, 22.4°および27.1°に
そのようなピークを示すからである。Ｘ線回折特性の測
定は、例えば、T.S.HutchinsonおよびD.C.BairedのEngi
neering Solids (John Wiley and Sons,Inc., 1963)な
らびにX-ray Diffraction Proceduresfor Polycrystall
ine andAmorphous Materials, 第２版、（John Wiley a
nd Sons, Inc., 1974)に記載されるような周知の技法に
よって行うことができる。
【００２２】ミル媒質から微粉砕した顔料を分離した
後、その顔料をポリマーバインダーを含む溶媒溶液と混
合して電子写真塗布組成物を形成する。顔料はポリマー
バインダーを含む溶媒溶液と直ちに混合することも、そ
れを一定期間貯蔵した後に前記塗布組成物を調製しても
よい。この塗布組成物の調製で使用するポリマーバイン
ダーは、電子写真層の調製に使用できる多種多様なバイ
ンダーのいずれであってもよい。本発明の実施に際して
バインダーとして使用できる代表的な材料は、かなり高
い誘電強度と良好な電気絶縁特性を有するフィルム形成
性ポリマー類である。このようなバインダー類として
は、例えば、スチレン−ブタジエンコポリマー類、ビニ
ルトルエン−スチレンコポリマー類、スチレン−アルキ
ッド樹脂類、シリコーン−アルキッド樹脂類、ソーヤ−
アルキッド樹脂類、塩化ビニリデン−塩化ビニルコポリ
マー類、ポリ（塩化ビニリデン）、塩化ビニリデン−ア
クリロニトリルコポリマー類、酢酸ビニル−塩化ビニル
コポリマー類、ポリ（ビニルブチラール）のようなポリ
（酢酸ビニル）、ニトロ化ポリスチレン、ポリ（メチル
スチレン）、イソブチレンポリマー類は、ポリ〔エチレ
ン−コ−アルキレン−ビス（アルキレンオキシアリー
ル）フェニレンジカルボキシレート〕のようなポリエス
テル類、ケトン樹脂類、ポリアミド類、ポリカーボネー
ト類、ポリチオカーボネート類、ポリ〔エチレン−コ−
イソプロピリデン−２，２−ビス（エチレンオキシフェ
ニレン）テレフタレート〕、ポリ（ビニル−ｍ−ブロモ
ベンゾエート−コ−酢酸ビニル）のようなビニルハロア
リーレート類と酢酸ビニルのコポリマー類、塩化ポリ
（エチレン）のような塩化ポリ（オレフィン）類、セル
ロースアセテート、セルロースアセテートブチレートお
よびエチルセルロースのようなセルロース誘導体類なら
びにポリ〔１，１，３−トリメチル−３−（４′−フェ
ニル）−５−インダンピロメリチミド〕のようなポリイ
ミド類が挙げられる。
後、その顔料をポリマーバインダーを含む溶媒溶液と混
合して電子写真塗布組成物を形成する。顔料はポリマー
バインダーを含む溶媒溶液と直ちに混合することも、そ
れを一定期間貯蔵した後に前記塗布組成物を調製しても
よい。この塗布組成物の調製で使用するポリマーバイン
ダーは、電子写真層の調製に使用できる多種多様なバイ
ンダーのいずれであってもよい。本発明の実施に際して
バインダーとして使用できる代表的な材料は、かなり高
い誘電強度と良好な電気絶縁特性を有するフィルム形成
性ポリマー類である。このようなバインダー類として
は、例えば、スチレン−ブタジエンコポリマー類、ビニ
ルトルエン−スチレンコポリマー類、スチレン−アルキ
ッド樹脂類、シリコーン−アルキッド樹脂類、ソーヤ−
アルキッド樹脂類、塩化ビニリデン−塩化ビニルコポリ
マー類、ポリ（塩化ビニリデン）、塩化ビニリデン−ア
クリロニトリルコポリマー類、酢酸ビニル−塩化ビニル
コポリマー類、ポリ（ビニルブチラール）のようなポリ
（酢酸ビニル）、ニトロ化ポリスチレン、ポリ（メチル
スチレン）、イソブチレンポリマー類は、ポリ〔エチレ
ン−コ−アルキレン−ビス（アルキレンオキシアリー
ル）フェニレンジカルボキシレート〕のようなポリエス
テル類、ケトン樹脂類、ポリアミド類、ポリカーボネー
ト類、ポリチオカーボネート類、ポリ〔エチレン−コ−
イソプロピリデン−２，２−ビス（エチレンオキシフェ
ニレン）テレフタレート〕、ポリ（ビニル−ｍ−ブロモ
ベンゾエート−コ−酢酸ビニル）のようなビニルハロア
リーレート類と酢酸ビニルのコポリマー類、塩化ポリ
（エチレン）のような塩化ポリ（オレフィン）類、セル
ロースアセテート、セルロースアセテートブチレートお
よびエチルセルロースのようなセルロース誘導体類なら
びにポリ〔１，１，３−トリメチル−３−（４′−フェ
ニル）−５−インダンピロメリチミド〕のようなポリイ
ミド類が挙げられる。
【００２３】ポリマーバインダー溶液を調製するのに適
する有機溶媒は、広範な有機溶媒から選ぶことができ、
例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンおよびメシチレ
ンのような芳香族炭化水素類；アセトン、ブタノンおよ
び４−メチル−２−ペンタノンのようなケトン類；塩化
メチレン、クロロホルムおよび塩化エチレン類のような
ハロゲン化炭化水素類；エチルエーテル、ジオキサンお
よびテトラヒドロフランのような環状エーテルを初めと
するエーテル類；ならびにこれらの混合液が挙げられ
る。バインダー溶液を調製するのに用いる溶媒量は、典
型的にはバインダーの重量部当り２〜100 重量部、好ま
しくはバインダーの重量部当たり10〜50重量部である。
する有機溶媒は、広範な有機溶媒から選ぶことができ、
例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンおよびメシチレ
ンのような芳香族炭化水素類；アセトン、ブタノンおよ
び４−メチル−２−ペンタノンのようなケトン類；塩化
メチレン、クロロホルムおよび塩化エチレン類のような
ハロゲン化炭化水素類；エチルエーテル、ジオキサンお
よびテトラヒドロフランのような環状エーテルを初めと
するエーテル類；ならびにこれらの混合液が挙げられ
る。バインダー溶液を調製するのに用いる溶媒量は、典
型的にはバインダーの重量部当り２〜100 重量部、好ま
しくはバインダーの重量部当たり10〜50重量部である。
【００２４】上述したように本発明によって作製される
電子写真要素は、種々のタイプであることができ、それ
らのすべては要素中で電荷発生材料として働く光導電性
チタニルフタロシアニン顔料を含む。このような要素に
は、通常、詳細に後述する単一層要素もしくは単一活性
層要素および多活性要素、多層要素もしくは複数活性層
要素と称されるものの両者を含む。
電子写真要素は、種々のタイプであることができ、それ
らのすべては要素中で電荷発生材料として働く光導電性
チタニルフタロシアニン顔料を含む。このような要素に
は、通常、詳細に後述する単一層要素もしくは単一活性
層要素および多活性要素、多層要素もしくは複数活性層
要素と称されるものの両者を含む。
【００２５】本発明の新規な電子写真要素の電荷発生層
は、第一スペクトル吸収ピークを 630〜660nm の範囲内
で示し、第二スペクトル吸収ピーク 830〜870nm の範囲
内で示すことを特徴とする。 600〜660nm の範囲内の高
い吸収は、要素が約 633nmで高い感度を必要とするＨe
−Ｎe レーザー露光源を用いる用途に使用できるので良
好な近赤外吸収に加え非常に有益である。チタニルフタ
ロシアニン粒子またはチタニルテトラフルオロシアニン
粒子のいずれかを含む層は、通常、 630〜660nm の範囲
内に第一スペクトル吸収ピークを有するが、第二スペク
トル吸収ピークは異なる。従って、チタニルフタロシア
ニン顔料粒子を含む層の第二スペクトル吸収ピークは 8
30〜840nm の範囲内で生じるのに比し、チタニルテトラ
フタロシアニン粒子を含むものは、一般に 840〜870nm
の範囲内で生じる。本発明の新規な電子写真記録要素の
電荷発生層における吸収特性の測定は、周知の技法、例
えば、T.H.James のThe Theory of the Photographic P
rocess, 第４版、第10章（MacMillan Publishing Compa
ny, Inc., New York, N.Y., 1977) に記載される方法に
準じて行うことができる。
は、第一スペクトル吸収ピークを 630〜660nm の範囲内
で示し、第二スペクトル吸収ピーク 830〜870nm の範囲
内で示すことを特徴とする。 600〜660nm の範囲内の高
い吸収は、要素が約 633nmで高い感度を必要とするＨe
−Ｎe レーザー露光源を用いる用途に使用できるので良
好な近赤外吸収に加え非常に有益である。チタニルフタ
ロシアニン粒子またはチタニルテトラフルオロシアニン
粒子のいずれかを含む層は、通常、 630〜660nm の範囲
内に第一スペクトル吸収ピークを有するが、第二スペク
トル吸収ピークは異なる。従って、チタニルフタロシア
ニン顔料粒子を含む層の第二スペクトル吸収ピークは 8
30〜840nm の範囲内で生じるのに比し、チタニルテトラ
フタロシアニン粒子を含むものは、一般に 840〜870nm
の範囲内で生じる。本発明の新規な電子写真記録要素の
電荷発生層における吸収特性の測定は、周知の技法、例
えば、T.H.James のThe Theory of the Photographic P
rocess, 第４版、第10章（MacMillan Publishing Compa
ny, Inc., New York, N.Y., 1977) に記載される方法に
準じて行うことができる。
【００２６】単一層要素は、化学線の露光に対して応答
する電荷の発生および電荷移動の両者の活性を有する１
つの層を含む。このような要素は、光導電性層と電気的
に接触した状態の電気伝導性層を少なくとも含んでな
る。本発明で製造される塗布組成物を用いて作製される
単一層要素では、光導電性層が化学線に応答して電荷を
発生するような電荷発生材料として光導電性チタニルフ
タロシアニン顔料少なくとも１種と前記電荷発生材料に
よって発生した電荷を受容しそしてその層を通して電荷
を移動させて当初の均一な静電ポテンシャルの放電をも
たらすことのできる輸送材料を含む。光導電層は、化学
線で照射されたとき以外は絶縁性であり、電気絶縁性の
フィルム形成性ポリマーバインダーを含む。
する電荷の発生および電荷移動の両者の活性を有する１
つの層を含む。このような要素は、光導電性層と電気的
に接触した状態の電気伝導性層を少なくとも含んでな
る。本発明で製造される塗布組成物を用いて作製される
単一層要素では、光導電性層が化学線に応答して電荷を
発生するような電荷発生材料として光導電性チタニルフ
タロシアニン顔料少なくとも１種と前記電荷発生材料に
よって発生した電荷を受容しそしてその層を通して電荷
を移動させて当初の均一な静電ポテンシャルの放電をも
たらすことのできる輸送材料を含む。光導電層は、化学
線で照射されたとき以外は絶縁性であり、電気絶縁性の
フィルム形成性ポリマーバインダーを含む。
【００２７】多活性要素は、少なくとも２つの活性層を
含み、その少なくとも１つは化学線に対する露光に応答
して電荷を発生しうるものであり、電荷発生層と称され
（以下、ＣＧＬと称することもある）、そして少なくと
ももう１つの層は、前記電荷発生層で生じた電荷を受容
して輸送することができ、電荷移動層と称される（以
下、ＣＴＬと称することもある）。典型的には、このよ
うな要素は、少なくとも電気伝導性層、ＣＧＬおよびＣ
ＴＬを含んでなる。ＣＧＬまたはＣＴＬのいずれかは電
気伝導性層および残りのＣＧＬもしくはＣＴＬの両者と
電気的に接触状態にある。ＣＧＬは、電荷発生材料とし
て働く光導電性材料を少なくとも含み、ＣＴＬは電荷移
動材料を少なくとも含み、そしてこれらのいずれかまた
は両層は追加のフィルム形成性ポリマーバインダーを含
むことができる。本発明によって調製される塗布組成物
を用いて作製される多活性要素では、電荷発生材料がポ
リマーバインダー中に分散した光導電性チタニルフタロ
シアニン顔料の少なくとも１つであり、さらにこの要素
はＣＴＬを含む。いずれかの適当な電荷移動材料をこの
ようなＣＴＬに使用することができる。
含み、その少なくとも１つは化学線に対する露光に応答
して電荷を発生しうるものであり、電荷発生層と称され
（以下、ＣＧＬと称することもある）、そして少なくと
ももう１つの層は、前記電荷発生層で生じた電荷を受容
して輸送することができ、電荷移動層と称される（以
下、ＣＴＬと称することもある）。典型的には、このよ
うな要素は、少なくとも電気伝導性層、ＣＧＬおよびＣ
ＴＬを含んでなる。ＣＧＬまたはＣＴＬのいずれかは電
気伝導性層および残りのＣＧＬもしくはＣＴＬの両者と
電気的に接触状態にある。ＣＧＬは、電荷発生材料とし
て働く光導電性材料を少なくとも含み、ＣＴＬは電荷移
動材料を少なくとも含み、そしてこれらのいずれかまた
は両層は追加のフィルム形成性ポリマーバインダーを含
むことができる。本発明によって調製される塗布組成物
を用いて作製される多活性要素では、電荷発生材料がポ
リマーバインダー中に分散した光導電性チタニルフタロ
シアニン顔料の少なくとも１つであり、さらにこの要素
はＣＴＬを含む。いずれかの適当な電荷移動材料をこの
ようなＣＴＬに使用することができる。
【００２８】一般的に、単一層および多層電子写真要素
ならびにそれらの作製および用途は周知であり、例え
ば、米国特許第 4,701,396号、同4,714,666号、同 4,66
6,802号、同 4,578,334号、同 4,175,960号、同 4,514,
481号および 3,615,414号明細書に記載されており、こ
れらの刊行物は引用することによって本明細書の内容と
なる。
ならびにそれらの作製および用途は周知であり、例え
ば、米国特許第 4,701,396号、同4,714,666号、同 4,66
6,802号、同 4,578,334号、同 4,175,960号、同 4,514,
481号および 3,615,414号明細書に記載されており、こ
れらの刊行物は引用することによって本明細書の内容と
なる。
【００２９】本発明の単一活性層電子写真要素の作製で
は、いずれか望ましい添加剤を含む光導電性層の成分を
前記塗布組成分中に溶解または分散し、次いで電気伝導
性層または基板上に塗布することができる。次に、ポリ
マーバインダー用の溶媒を混合物から蒸発させて電荷発
生材料0.01〜50重量％と適当な電荷移動材料10〜70重量
％を含む永久層を形成する。
は、いずれか望ましい添加剤を含む光導電性層の成分を
前記塗布組成分中に溶解または分散し、次いで電気伝導
性層または基板上に塗布することができる。次に、ポリ
マーバインダー用の溶媒を混合物から蒸発させて電荷発
生材料0.01〜50重量％と適当な電荷移動材料10〜70重量
％を含む永久層を形成する。
【００３０】多活性電子写真要素の作用では、ＣＴＬの
各成分を塗布組成物に同様に溶解または分散させ、電気
伝導性層もしくは基板にあるいは予め伝導性層もしくは
基板上へ同様に塗布するかまたは形成したＣＧＬ上に塗
布することができる。前者の場合には、ＣＧＬをその後
ＣＴＬ上に塗布する。
各成分を塗布組成物に同様に溶解または分散させ、電気
伝導性層もしくは基板にあるいは予め伝導性層もしくは
基板上へ同様に塗布するかまたは形成したＣＧＬ上に塗
布することができる。前者の場合には、ＣＧＬをその後
ＣＴＬ上に塗布する。
【００３１】本発明によって調製される塗布組成物を用
いて作製される電子写真要素に使用することのできる各
種電気伝導性層または基板は、例えば、紙（相対湿度約
20％）、アルミニウム−紙ラミネート；アルミニウムホ
イルおよび亜鉛ホイルのような金属ホイル；アルミニウ
ム、銅、亜鉛、黄銅および亜鉛メッキ板などの金属板；
銀、クロム、バナジウム、金、ニッケルおよびアルミニ
ウムなどの蒸着金属層；ならびにヨウ化銅（Ｉ）および
酸化インジウム錫のような半導体層が挙げられる。これ
らの金属層および半導体層は、紙またはポリ（エチレン
テレフタレート）、酢酸セルロースおよびポリスチレン
のような通常の写真フィルムベース上に塗布することが
できる。クロムやニッケルのような伝導性材料は、いず
れの側面から露光して電子写真要素をそこに作製するこ
とを可能にするのに十分薄い層を透明フィルム基板上へ
真空蒸着することができる。
いて作製される電子写真要素に使用することのできる各
種電気伝導性層または基板は、例えば、紙（相対湿度約
20％）、アルミニウム−紙ラミネート；アルミニウムホ
イルおよび亜鉛ホイルのような金属ホイル；アルミニウ
ム、銅、亜鉛、黄銅および亜鉛メッキ板などの金属板；
銀、クロム、バナジウム、金、ニッケルおよびアルミニ
ウムなどの蒸着金属層；ならびにヨウ化銅（Ｉ）および
酸化インジウム錫のような半導体層が挙げられる。これ
らの金属層および半導体層は、紙またはポリ（エチレン
テレフタレート）、酢酸セルロースおよびポリスチレン
のような通常の写真フィルムベース上に塗布することが
できる。クロムやニッケルのような伝導性材料は、いず
れの側面から露光して電子写真要素をそこに作製するこ
とを可能にするのに十分薄い層を透明フィルム基板上へ
真空蒸着することができる。
【００３２】本発明によって調製される塗布組成物から
単一活性層要素の光導電性層または多活性要素のＣＧＬ
が作製される場合、ポリマーバインダーが電気絶縁性で
あるならば、それが電気絶縁特性を要素に付与すること
に役立つ可能性がある。さらに、それらは層の塗布、隣
接層との付着にも有用であり、そしてそれが表面層であ
る場合には平滑で、清浄容易で、耐摩耗性表面を提供す
る。
単一活性層要素の光導電性層または多活性要素のＣＧＬ
が作製される場合、ポリマーバインダーが電気絶縁性で
あるならば、それが電気絶縁特性を要素に付与すること
に役立つ可能性がある。さらに、それらは層の塗布、隣
接層との付着にも有用であり、そしてそれが表面層であ
る場合には平滑で、清浄容易で、耐摩耗性表面を提供す
る。
【００３３】電荷発生材料対ポリマーバインダーの最適
比は、使用する個々の材料に応じて広範に変動しうる。
電荷発生材料は単一顔料または２種以上の顔料であるこ
とができる。一般的に、層中に含まれる活性電荷発生材
料の量が、層の乾燥重量基準で0.01〜90重量％の範囲内
にある場合に有用な結果が得られる。
比は、使用する個々の材料に応じて広範に変動しうる。
電荷発生材料は単一顔料または２種以上の顔料であるこ
とができる。一般的に、層中に含まれる活性電荷発生材
料の量が、層の乾燥重量基準で0.01〜90重量％の範囲内
にある場合に有用な結果が得られる。
【００３４】本発明によって調製される塗布組成物を用
いて作製される電子写真記録要素は、場合によって他の
添加剤、例えば、平滑剤、界面活性剤、可塑剤、増感
剤、コントラスト調整剤および剥離剤を含んでよく、そ
れらはこのような要素の作製に関する技術分野で既知の
多種多様な塗布技法のいずれかを用い本明細書に記載す
る塗布組成物と共に塗布することができる。また、この
ような要素は、一般的に電子写真記録要素で使用できる
ことが既知の任意の追加の層、例えば、下塗り層、オー
バーコート層、バリヤー層およびスクリーニング層を含
むことができる。
いて作製される電子写真記録要素は、場合によって他の
添加剤、例えば、平滑剤、界面活性剤、可塑剤、増感
剤、コントラスト調整剤および剥離剤を含んでよく、そ
れらはこのような要素の作製に関する技術分野で既知の
多種多様な塗布技法のいずれかを用い本明細書に記載す
る塗布組成物と共に塗布することができる。また、この
ような要素は、一般的に電子写真記録要素で使用できる
ことが既知の任意の追加の層、例えば、下塗り層、オー
バーコート層、バリヤー層およびスクリーニング層を含
むことができる。
【００３５】
【実施例】以下の例で本発明をさらに具体的に説明す
る。例１ 5.２リットル容量のガラス容器に、径３mmのガラスビー
ズ2500ｇ、径 500μｍの塩化ナトリウム粒子2160ｇおよ
び粒子サイズ0.５mmを有するダークブルーの生原料チタ
ニルテトラフルオロフタロシアニン顔料 200ｇを充填し
た。次に、混合物を25℃で24時間ロールミル中で剪断応
力をかけた。得られた混合物は均質であって、顔料は色
変化を示さないが粒子サイズは0.５μｍであるにすぎな
かった。
る。例１ 5.２リットル容量のガラス容器に、径３mmのガラスビー
ズ2500ｇ、径 500μｍの塩化ナトリウム粒子2160ｇおよ
び粒子サイズ0.５mmを有するダークブルーの生原料チタ
ニルテトラフルオロフタロシアニン顔料 200ｇを充填し
た。次に、混合物を25℃で24時間ロールミル中で剪断応
力をかけた。得られた混合物は均質であって、顔料は色
変化を示さないが粒子サイズは0.５μｍであるにすぎな
かった。
【００３６】第一段階で得た微粉砕混合物を10リットル
の容量を有し、容器の側壁に向かって伸びた回転シャフ
トに固定した２組のアームを有する回転シャフトを担持
する攪拌機を備えた磨砕機の乾燥粉砕容器に移した。ガ
ラスビーズのさらに2500ｇと塩化ナトリウム粒子のさら
に2000ｇを磨砕機に加え、混合物を51℃の温度で60分間
500rpmで攪拌した。これらの条件は、第一段階と比べて
混合物に対する剪断応力が増大した。顔料は、色が濃い
青色から薄い青色に変化し、無機塩粒子の表面に付着し
た。ガラスビーズを混合物から除去し、顔料と塩の粒子
を80〜90℃の温度を有する温水中に置いた。次に、洗浄
に塩化ナトリウムが検出されなくなるまでそれらを25℃
にて水洗した。顔料粒子を約48時間20℃の温度で乾燥し
た。薄い青色の顔料は粒子サイズ0.２μｍを有し、 CuK
α放射線で得られるＸ線回折パターンにおけるＸ線回折
角（２θ）が6.８°，15.89 °および 25.27°でピーク
を示した。このＸ線回折パターン（ＭＰ）を図１に示す
が、これらの顔料粒子（ＭＰ）を含みこの例１の後に記
載するように調製した電荷発生層に対するスペクトル吸
収曲線は図３に示す。比較においては、生原料顔料は回
折ピークが7.１°，15.9°および26.6°を有しより結晶
性の回折パターンを示した。
の容量を有し、容器の側壁に向かって伸びた回転シャフ
トに固定した２組のアームを有する回転シャフトを担持
する攪拌機を備えた磨砕機の乾燥粉砕容器に移した。ガ
ラスビーズのさらに2500ｇと塩化ナトリウム粒子のさら
に2000ｇを磨砕機に加え、混合物を51℃の温度で60分間
500rpmで攪拌した。これらの条件は、第一段階と比べて
混合物に対する剪断応力が増大した。顔料は、色が濃い
青色から薄い青色に変化し、無機塩粒子の表面に付着し
た。ガラスビーズを混合物から除去し、顔料と塩の粒子
を80〜90℃の温度を有する温水中に置いた。次に、洗浄
に塩化ナトリウムが検出されなくなるまでそれらを25℃
にて水洗した。顔料粒子を約48時間20℃の温度で乾燥し
た。薄い青色の顔料は粒子サイズ0.２μｍを有し、 CuK
α放射線で得られるＸ線回折パターンにおけるＸ線回折
角（２θ）が6.８°，15.89 °および 25.27°でピーク
を示した。このＸ線回折パターン（ＭＰ）を図１に示す
が、これらの顔料粒子（ＭＰ）を含みこの例１の後に記
載するように調製した電荷発生層に対するスペクトル吸
収曲線は図３に示す。比較においては、生原料顔料は回
折ピークが7.１°，15.9°および26.6°を有しより結晶
性の回折パターンを示した。
【００３７】赤外照射に対する顔料の感度を例証するた
め、電荷発生層(CGL) を形成するための塗布組成物は、
ジクロロメタンとトリクロロエタン（重量比、80／20）
混合液中飽和ポリエステルバインダー樹脂(Vylon 200,
東洋紡製）の0.85固形分％溶液にチタニルテトラフルオ
ロフタロシアニン顔料粒子を加え、２時間塗料シェーカ
ーで混合した。得られた分散体をポリ（エチレンテレフ
タレート）フィルム上の薄い伝導性ニッケル層上に塗布
して厚さ１μｍのＣＧＬを形成した。
め、電荷発生層(CGL) を形成するための塗布組成物は、
ジクロロメタンとトリクロロエタン（重量比、80／20）
混合液中飽和ポリエステルバインダー樹脂(Vylon 200,
東洋紡製）の0.85固形分％溶液にチタニルテトラフルオ
ロフタロシアニン顔料粒子を加え、２時間塗料シェーカ
ーで混合した。得られた分散体をポリ（エチレンテレフ
タレート）フィルム上の薄い伝導性ニッケル層上に塗布
して厚さ１μｍのＣＧＬを形成した。
【００３８】電荷移動層(CTL) を形成するための塗布組
成物は、ジクロロメタンとトリクロロエタン（重量比、
50／50）混合液に溶解して6.５重量％の固体を含むもの
を調製した。この固体は、１，１−ビス（４−ジ−ｐ−
トリルアミノフェニル）−３−フェニルプロパン（電荷
移動剤）４ｇ、ならびにビスフェノールＡとポリカーボ
ネートからなるバインダー６ｇを含めた。２つの層のＣ
ＧＬ上に塗布組成物を塗布して所定の厚さにし、次いで
乾燥して22μｍの厚さにした。次に、得られた多活性層
電子写真記録要素を− 500ｖの均一な電位に帯電し、波
長840nm に露光して− 100ｖまで放電した。１cm2 の光
減衰エネルギーは4.２エルグ／cm2 であった。帯電10秒
後に観察される要素についての暗放電速度（暗減衰）
は、６ボルト／秒であった。この電子写真記録要素の電
子顕微鏡写真からは、光導電性顔料粒子が非常によく分
散し、粒子の凝集はまったく見られなかった。
成物は、ジクロロメタンとトリクロロエタン（重量比、
50／50）混合液に溶解して6.５重量％の固体を含むもの
を調製した。この固体は、１，１−ビス（４−ジ−ｐ−
トリルアミノフェニル）−３−フェニルプロパン（電荷
移動剤）４ｇ、ならびにビスフェノールＡとポリカーボ
ネートからなるバインダー６ｇを含めた。２つの層のＣ
ＧＬ上に塗布組成物を塗布して所定の厚さにし、次いで
乾燥して22μｍの厚さにした。次に、得られた多活性層
電子写真記録要素を− 500ｖの均一な電位に帯電し、波
長840nm に露光して− 100ｖまで放電した。１cm2 の光
減衰エネルギーは4.２エルグ／cm2 であった。帯電10秒
後に観察される要素についての暗放電速度（暗減衰）
は、６ボルト／秒であった。この電子写真記録要素の電
子顕微鏡写真からは、光導電性顔料粒子が非常によく分
散し、粒子の凝集はまったく見られなかった。
【００３９】比較例１
比較の目的で、粒子サイズ0.５μｍを有する粗チタニル
テトラフルオロフタロシアニンを通常のボール・ミルを
使用して得た他は、例１に準じて電子写真記録要素を作
製した。これらの粒子を使用して作製し、例１の方法で
試験した電子写真要素は 840nmで光減衰が検出されず
（すなわち、840nmで感光性が認められない) 、60ボル
ト／秒の非常に高い暗減衰を示した。
テトラフルオロフタロシアニンを通常のボール・ミルを
使用して得た他は、例１に準じて電子写真記録要素を作
製した。これらの粒子を使用して作製し、例１の方法で
試験した電子写真要素は 840nmで光減衰が検出されず
（すなわち、840nmで感光性が認められない) 、60ボル
ト／秒の非常に高い暗減衰を示した。
【００４０】比較例２
もう一つの比較例として、米国特許第 4,701,396号明細
書の例２の方法に準ずる酸ペースト化し、粒子サイズ0.
５μｍを有するチタニルテトラフルオロフタロシアニン
顔料粒子で本発明に従って調製した顔料に置き換えた他
は例１の方法を用いて電子写真記録要素を作製した。こ
れらの酸ペースト化粒子は、 CuKα放射線で得られたＸ
線回折パターンにおけるＸ線回折角（θ）が6.５°，1
5.6°および26.1°にピークを示した。このＸ線回折パ
ターン(APP) は図１に示す。これらの粒子を用いて調製
し、例１に従って試験した多活性電子写真記録要素は、
５エルグ／cm2 の光減衰と５ボルト／秒の暗減衰を示し
た。このことは、酸ペースト化顔料を含むものを酸ペー
スト化の必要がないものを比較したところ本発明が赤外
領域に感光性を有する電子写真記録要素を提供すること
を示す。さらに、酸ペースト化顔料で作製した電子写真
記録要素についてのスペクトル吸収曲線は、820nm(APP)
に極大吸収ピークを示すが、一方、例１のこの発明（Ｍ
Ｐ）に従って調製した顔料を含む電子写真記録要素につ
いての対応する曲線は、850nm に極大吸収を示した。こ
れらのスペクトル吸収曲線を図３に示す。
書の例２の方法に準ずる酸ペースト化し、粒子サイズ0.
５μｍを有するチタニルテトラフルオロフタロシアニン
顔料粒子で本発明に従って調製した顔料に置き換えた他
は例１の方法を用いて電子写真記録要素を作製した。こ
れらの酸ペースト化粒子は、 CuKα放射線で得られたＸ
線回折パターンにおけるＸ線回折角（θ）が6.５°，1
5.6°および26.1°にピークを示した。このＸ線回折パ
ターン(APP) は図１に示す。これらの粒子を用いて調製
し、例１に従って試験した多活性電子写真記録要素は、
５エルグ／cm2 の光減衰と５ボルト／秒の暗減衰を示し
た。このことは、酸ペースト化顔料を含むものを酸ペー
スト化の必要がないものを比較したところ本発明が赤外
領域に感光性を有する電子写真記録要素を提供すること
を示す。さらに、酸ペースト化顔料で作製した電子写真
記録要素についてのスペクトル吸収曲線は、820nm(APP)
に極大吸収ピークを示すが、一方、例１のこの発明（Ｍ
Ｐ）に従って調製した顔料を含む電子写真記録要素につ
いての対応する曲線は、850nm に極大吸収を示した。こ
れらのスペクトル吸収曲線を図３に示す。
【００４１】例２
粒子サイズ0.５mmを有する生原料チタニルフタロシアニ
ン顔料で生原料チタニルテトラフルオロフタロシアニン
顔料粒子を置き換えた他は例１の微粉砕法を繰り返し
た。この微粉砕チタニルフタロシアニン顔料は、薄い青
色で、粒子サイズ0.２μｍを有し、Ｘ線回折角（２θ）
が7.４°，16.3°, 22.4°および27.1°にピークを示し
た。このＸ線回折パターン（ＭＰ）は図２に示す。多活
性電子写真記録要素を、生原料および本発明の微粉砕顔
料を用いて例１に準じて作製し、830nm で露光して試験
した。結果を次に示す。
ン顔料で生原料チタニルテトラフルオロフタロシアニン
顔料粒子を置き換えた他は例１の微粉砕法を繰り返し
た。この微粉砕チタニルフタロシアニン顔料は、薄い青
色で、粒子サイズ0.２μｍを有し、Ｘ線回折角（２θ）
が7.４°，16.3°, 22.4°および27.1°にピークを示し
た。このＸ線回折パターン（ＭＰ）は図２に示す。多活
性電子写真記録要素を、生原料および本発明の微粉砕顔
料を用いて例１に準じて作製し、830nm で露光して試験
した。結果を次に示す。
【００４２】
【表１】
【００４３】比較例３
比較の目的で、電子写真記録要素を、米国特許第 4,70
1,396号明細書の例２の方法に準じた酸ペースト化であ
って、粒子サイズが0.５μｍを有するチタニルフタロシ
アニン顔料粒子によって例１の方法を用いて作製した。
これらの酸ペースト化顔料粒子は、Ｘ線回折角（θ）が
6.７°，7.６°，25.4°および28.6°にピークを示し
た。このＸ線回折パターン(APP) を図２に示す。これら
の顔料粒子を用いて作製した多活性電子写真記録要素
は、６エルグ／cm2 の光減衰と５ボルト／秒の暗減衰を
有し、約830nm の赤外領域に極大吸収ピークを示した。
1,396号明細書の例２の方法に準じた酸ペースト化であ
って、粒子サイズが0.５μｍを有するチタニルフタロシ
アニン顔料粒子によって例１の方法を用いて作製した。
これらの酸ペースト化顔料粒子は、Ｘ線回折角（θ）が
6.７°，7.６°，25.4°および28.6°にピークを示し
た。このＸ線回折パターン(APP) を図２に示す。これら
の顔料粒子を用いて作製した多活性電子写真記録要素
は、６エルグ／cm2 の光減衰と５ボルト／秒の暗減衰を
有し、約830nm の赤外領域に極大吸収ピークを示した。
【００４４】比較例４
本発明の実施に使用したミル媒質は、無機塩粒子と非伝
導性粒子の組み合わせである。この粒子の組み合わせを
使用する有意さを実証する目的で、ミル媒質として第１
の実験ではガラスビーズだけを使用し、第２の実験では
無機塩だけを使用する以外は例１の方法を繰り返した。
これらのミル媒質で調製したチタニルテトラフルオロフ
タロシアニン顔料分散体から塗布した電子写真要素を例
１の方法に準じて830nm で露光して試験したところ次の
光減衰値および暗減衰値を示した。
導性粒子の組み合わせである。この粒子の組み合わせを
使用する有意さを実証する目的で、ミル媒質として第１
の実験ではガラスビーズだけを使用し、第２の実験では
無機塩だけを使用する以外は例１の方法を繰り返した。
これらのミル媒質で調製したチタニルテトラフルオロフ
タロシアニン顔料分散体から塗布した電子写真要素を例
１の方法に準じて830nm で露光して試験したところ次の
光減衰値および暗減衰値を示した。
【００４５】
【表２】
上記表に示す光減衰値および暗減衰値は、この発明の実
施においてミル媒質として無機塩および非伝導性粒子の
組み合わせの使用が必要であることを明らかに示す。ま
た、無機塩対非伝導性粒子の比が0.５：１未満である場
合には同様な感光性の低減も存在する。
施においてミル媒質として無機塩および非伝導性粒子の
組み合わせの使用が必要であることを明らかに示す。ま
た、無機塩対非伝導性粒子の比が0.５：１未満である場
合には同様な感光性の低減も存在する。
【００４６】
【発明の効果】本発明は、高い感光性の状態で組成物中
に安定かつ均一に分散した微細なチタニルフタロシアニ
ン顔料を担持する電子写真塗布組成物を提供する。この
ような調製は、従来技術に必要とする酸ペースト法を用
いることなく、そして上述したようなそれらの欠点を伴
うことなく達成される。さらに、本発明の方法によって
調製されるチタニルフタロシアニン顔料は、新たなＸ線
回折パターンを示し、電子写真記録要素に使用して近赤
外スペクトル領域に優れた感光性を示すことができる。
に安定かつ均一に分散した微細なチタニルフタロシアニ
ン顔料を担持する電子写真塗布組成物を提供する。この
ような調製は、従来技術に必要とする酸ペースト法を用
いることなく、そして上述したようなそれらの欠点を伴
うことなく達成される。さらに、本発明の方法によって
調製されるチタニルフタロシアニン顔料は、新たなＸ線
回折パターンを示し、電子写真記録要素に使用して近赤
外スペクトル領域に優れた感光性を示すことができる。
【００４７】
【図１】例１に記載したように調製した微粉砕チタニル
テトラフタロシアニン顔料（ＭＰ）のＸ線回折パターン
を示すプロットまたは比較例２に記載したように調製し
た酸ペースト化顔料(APP) の対応するプロットである。
テトラフタロシアニン顔料（ＭＰ）のＸ線回折パターン
を示すプロットまたは比較例２に記載したように調製し
た酸ペースト化顔料(APP) の対応するプロットである。
【図２】例２に記載したように調製した微粉砕チタニル
フタロシアニン顔料（ＭＰ）のＸ線回折パターンを示す
プロットまたは比較例３に記載したように調製した酸ペ
ースト化顔料(APP) の対応するプロットである。
フタロシアニン顔料（ＭＰ）のＸ線回折パターンを示す
プロットまたは比較例３に記載したように調製した酸ペ
ースト化顔料(APP) の対応するプロットである。
【図３】図１に示した微粉砕チタニルテトラフルオロフ
タロシアニン顔料（ＭＰ）を電荷発生材料として使用し
た電荷発生層のスペクトル吸収曲線を示すプロットまた
は図１に示した酸ペースト化顔料(APP) の対応するプロ
ットである。
タロシアニン顔料（ＭＰ）を電荷発生材料として使用し
た電荷発生層のスペクトル吸収曲線を示すプロットまた
は図１に示した酸ペースト化顔料(APP) の対応するプロ
ットである。
Claims (2)
- 【請求項１】 ポリマーバインダーを含む溶媒溶液中に
分散した微細な光電導性顔料を有する電子写真塗布組成
物の製造方法であって、（１)(ａ）次式 【化１】 （上式中、各ｎは０であるか、あるいは各ｎは１であ
る）で示される生原料チタニルフタロシアニン顔料を、
（ｂ）重量比0.５：１〜３：１で無機塩粒子と非伝導性
粒子を含んでなるミル媒質と共に、溶媒が実質的に存在
しない剪断条件下で微粉砕して粒子サイズが0.２μｍま
での顔料を提供する工程、（２）前記顔料の知覚できる
色変化が起こるまでより高い剪断応力および50℃以下の
温度で微粉砕することを継続する工程、（３）微粉砕し
た前記顔料の温度を少なくとも10℃直ちに上昇させる工
程、（４）その微粉砕した顔料を前記媒質から分離する
工程、ならびに（５）その微粉砕した顔料をポリマーバ
インダーを含む溶媒溶液と混合して前記塗布組成物を形
成する工程、を含んでなる方法。 - 【請求項２】 ポリマーバインダーおよび粒子サイズが
0.２μｍまでの分散した光導電性チタニルフタロシアニ
ン粒子を含んでなる液状組成物から形成した層を担持す
る電子写真記録要素であって、（ａ）前記チタニルフタ
ロシアニンが、次式 【化２】 （上式中、各ｎは０であるか、あるいは各ｎは１であ
る）で示され、（ｂ）前記粒子が、 CuKα放射線によっ
て得られるＸ線回折パターンにおいて、各ｎが０の場合
に回折角（２θ）のピークが7.４°, 16.3°,22.4°お
よび27.1°を示し、そして各ｎが１の場合に回折角（２
θ）のピークが6.８°，15.89°および25.27 °を示
し、そして（ｃ）前記層が、 630〜660nm の範囲内にあ
る第一スペクトル吸収ピークを示し、そして 830〜870n
m の範囲内にある第二スペクトル吸収ピークを示す、要
素。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|
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