JPH0560493B2 - - Google Patents
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- JPH0560493B2 JPH0560493B2 JP60284333A JP28433385A JPH0560493B2 JP H0560493 B2 JPH0560493 B2 JP H0560493B2 JP 60284333 A JP60284333 A JP 60284333A JP 28433385 A JP28433385 A JP 28433385A JP H0560493 B2 JPH0560493 B2 JP H0560493B2
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- plastic tube
- tube
- rod
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- plastic
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Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はプラスチツク管内面をプラズマ処理す
る方法に関するものである。
る方法に関するものである。
プラスチツク管は、種々の用途に幅広く応用さ
れており、更に表面特性を改良する為に各種の表
面処理が施されている。
れており、更に表面特性を改良する為に各種の表
面処理が施されている。
改良すべき表面特性とは接着性、水濡れ性、帯
電性、可塑剤の移行性、抗血栓性等がある。
電性、可塑剤の移行性、抗血栓性等がある。
プラスチツク管内面の処理方法は各種あるが、
本発明はその中でもプラズマ処理方法に関するも
のである。
本発明はその中でもプラズマ処理方法に関するも
のである。
本発明者は設定条件が容易でしかもプラスチツ
ク管の長さが長くてもその内面層に均一にプラズ
マ処理が出来る方法に関するものである。
ク管の長さが長くてもその内面層に均一にプラズ
マ処理が出来る方法に関するものである。
しかしながら、単にプラスチツク管内に一対の
電極を設置し、低圧ガス下で単に電圧を印加しグ
ロー放電させることのみでは各種プラスチツク管
に適用してプラズマ処理を実施すると耐熱性の低
いプラスチツクの場合、放電による熱の影響のた
め、プラスチツク管の長さ全体を均一に処理でき
なかつたり、管が変形する等の不都合が生じた。
電極を設置し、低圧ガス下で単に電圧を印加しグ
ロー放電させることのみでは各種プラスチツク管
に適用してプラズマ処理を実施すると耐熱性の低
いプラスチツクの場合、放電による熱の影響のた
め、プラスチツク管の長さ全体を均一に処理でき
なかつたり、管が変形する等の不都合が生じた。
本発明は、耐熱性の低いプラスチツクでも設定
条件が容易でしかもプラスチツク管の長さが長く
てもその内面層に均一にプラズマ処理が出来る方
法を提供することである。
条件が容易でしかもプラスチツク管の長さが長く
てもその内面層に均一にプラズマ処理が出来る方
法を提供することである。
本発明は、プラスチツク管内に該プラスチツク
管の長さに略々等しい一対の棒状電極を挿入し、
プラスチツク管の片側開口部は真空排気系ボツク
スに、もう一方の開口部はガス供給系ボツクスに
接続し、プラスチツク管内に低圧ガスを供給しな
がら、該棒状電極間に高電圧を印加してプラスチ
ツク管の内面全面にわたつてグロー放電させる際
に、プラスチツクを外部から冷却しながら、電圧
を間欠的に印加することを特徴とするプラスチツ
ク管内面のプラズマ処理方法である。
管の長さに略々等しい一対の棒状電極を挿入し、
プラスチツク管の片側開口部は真空排気系ボツク
スに、もう一方の開口部はガス供給系ボツクスに
接続し、プラスチツク管内に低圧ガスを供給しな
がら、該棒状電極間に高電圧を印加してプラスチ
ツク管の内面全面にわたつてグロー放電させる際
に、プラスチツクを外部から冷却しながら、電圧
を間欠的に印加することを特徴とするプラスチツ
ク管内面のプラズマ処理方法である。
以下図面によつて本発明を詳細に説明する。
第１図において、１は処理するプラスチツク
管、２，２′はプラスチツク管と真空ボツクスの
気密接続部、３，３′はガス供給系及び真空排気
系ボツクス、４，４′はバルブ、５，６はガス供
給系及び真空排気系配管、７，７′は棒状電極、
８は電源である。棒状電極７，７′はその取付部
分は太く、グロー放電を行うプラスチツク管部は
細くしても良い。電極取付部は絶縁処理をするこ
とが望ましい。一対２本の電極は、互いに接触し
て短絡しないように棒状電極の一部又は全部を絶
縁体で電気的に絶縁しておくことが望ましい。
管、２，２′はプラスチツク管と真空ボツクスの
気密接続部、３，３′はガス供給系及び真空排気
系ボツクス、４，４′はバルブ、５，６はガス供
給系及び真空排気系配管、７，７′は棒状電極、
８は電源である。棒状電極７，７′はその取付部
分は太く、グロー放電を行うプラスチツク管部は
細くしても良い。電極取付部は絶縁処理をするこ
とが望ましい。一対２本の電極は、互いに接触し
て短絡しないように棒状電極の一部又は全部を絶
縁体で電気的に絶縁しておくことが望ましい。
このようにして棒状電極７，７′を挿入配置し
たプラスチツク管１を各ボツクスに接続後、バル
ブ４，４′を操作してまず真空排気、次に低圧ガ
スを供給するが、真空排気と同時にプラスチツク
管１の外側の冷却も開始する。冷却装置は第１図
で省略してあるが、冷却した気体（空気・炭酸ガ
ス・窒素等）を吹き付けるか、ドライアイスを外
周に配置する等の方法があり、特に限定しない。
次に棒状電極７，７′間に電源８を使つて高電圧
を印加するが印加方法は間欠的に行う。印加時間
と印加停止時間及びくり返し回数は特に限定しな
い。高電圧印加中はプラスチツク管内全面にわた
つて良好なグロー放電を容易に発生させることが
できる。
たプラスチツク管１を各ボツクスに接続後、バル
ブ４，４′を操作してまず真空排気、次に低圧ガ
スを供給するが、真空排気と同時にプラスチツク
管１の外側の冷却も開始する。冷却装置は第１図
で省略してあるが、冷却した気体（空気・炭酸ガ
ス・窒素等）を吹き付けるか、ドライアイスを外
周に配置する等の方法があり、特に限定しない。
次に棒状電極７，７′間に電源８を使つて高電圧
を印加するが印加方法は間欠的に行う。印加時間
と印加停止時間及びくり返し回数は特に限定しな
い。高電圧印加中はプラスチツク管内全面にわた
つて良好なグロー放電を容易に発生させることが
できる。
本発明では、電極間距離がプラスチツク管内径
より小さいので放電は容易に発生し、条件設定が
簡単にできる。又本願発明では棒状電極の長さを
適宜変えることにより、処理すべきプラスチツク
管の長さに対応できる。
より小さいので放電は容易に発生し、条件設定が
簡単にできる。又本願発明では棒状電極の長さを
適宜変えることにより、処理すべきプラスチツク
管の長さに対応できる。
本発明は、耐熱性の低い材質例えば軟質ポリ塩
化ビニル樹脂等のチユーブの処理に適している。
低圧ガスを流しながら電圧を印加すると、放電が
発生すると同時に熱も発生する。チユーブの外側
から冷却することで発生した熱を外部に放散さ
せ、電圧印加を間欠的に行うことで発生した熱の
うち放散し切れなかつた熱を、印加停止時間に放
散させることで処理チユーブの処理中の温度上昇
を防ぎ従つてチユーブの変形や処理の不均一を防
ぐことができる。
化ビニル樹脂等のチユーブの処理に適している。
低圧ガスを流しながら電圧を印加すると、放電が
発生すると同時に熱も発生する。チユーブの外側
から冷却することで発生した熱を外部に放散さ
せ、電圧印加を間欠的に行うことで発生した熱の
うち放散し切れなかつた熱を、印加停止時間に放
散させることで処理チユーブの処理中の温度上昇
を防ぎ従つてチユーブの変形や処理の不均一を防
ぐことができる。
本願発明に使用するガス、電源の周波数は特に
限定されない。
限定されない。
粘弾性スペクトロメーター（岩本製作所）によ
るガラス転移点の測定25℃の軟質ポリ塩化ビニル
製の外径６mm内径４mm長さ600mmのプラスチツク
管に第１図に示す装置により、プラズマ処理を行
つた。まずプラスチツク管を接続し、ドライアイ
ス粉末で管の外側を冷却しながら0.01トルまで真
空排気し、次にArガスを流して0.1トルとし出力
20Wで印加時間と停止時間を各々10秒とし、印加
時間が合計30秒になるまでくり返した。電圧印加
中プラスチツク管全面にわたつて良好なグロー放
電を示した。プラズマ処理終了後、試料を切断し
６cm間隔10箇所の内面の水濡れ性を、市販の接触
角測定装置で、水の接触角を測定して評価した。
未処理試料の内面は接触角90°に対して、実施例
は平均値43°標準偏差3.6°であつた。
るガラス転移点の測定25℃の軟質ポリ塩化ビニル
製の外径６mm内径４mm長さ600mmのプラスチツク
管に第１図に示す装置により、プラズマ処理を行
つた。まずプラスチツク管を接続し、ドライアイ
ス粉末で管の外側を冷却しながら0.01トルまで真
空排気し、次にArガスを流して0.1トルとし出力
20Wで印加時間と停止時間を各々10秒とし、印加
時間が合計30秒になるまでくり返した。電圧印加
中プラスチツク管全面にわたつて良好なグロー放
電を示した。プラズマ処理終了後、試料を切断し
６cm間隔10箇所の内面の水濡れ性を、市販の接触
角測定装置で、水の接触角を測定して評価した。
未処理試料の内面は接触角90°に対して、実施例
は平均値43°標準偏差3.6°であつた。
比較例 １
実施例と同一試料・同一方法で試料を冷却せず
に行つた所、２回めの電圧印加で試料が変形し
た。
に行つた所、２回めの電圧印加で試料が変形し
た。
比較例 ２
実施例と同一試料・同一方法で試料は冷却し、
電圧の印加を連続して行い、処理後試料を切断し
た所チユーブ内面が変形していた。
電圧の印加を連続して行い、処理後試料を切断し
た所チユーブ内面が変形していた。
第１図は、本願発明を実施するプラズマ処理装
置の例である。 １……処理するプラスチツク管、２，２′……
プラスチツク管とボツクスの気密接着部、３，
３′……真空排気系及びガス供給系ボツクス、４，
４′……バルブ、５，６……ガス供給及び真空排
気用配管、７，７′……棒状電極、８……電源、
９……冷却用ケース、１０……冷媒。
置の例である。 １……処理するプラスチツク管、２，２′……
プラスチツク管とボツクスの気密接着部、３，
３′……真空排気系及びガス供給系ボツクス、４，
４′……バルブ、５，６……ガス供給及び真空排
気用配管、７，７′……棒状電極、８……電源、
９……冷却用ケース、１０……冷媒。
Claims (1)
- １ プラスチツク管の両端開口部を気密接続でき
る真空排気系及びガス供給系真空ボツクスを有
し、該真空ボツクスを通じて処理すべきプラスチ
ツク管の長さと同じ長さの一対２本の棒状電極を
備えた装置に、処理すべきプラスチツク管を該棒
状電極が該管内に挿入されるようにして接続し、
低圧ガス下で該棒状電極に電圧を印加してプラス
チツク管内面の全面にわたりグロー放電させる方
法において、プラスチツク管を外部から冷却しな
がら、電圧を間欠的に印加することを特徴とする
プラスチツク管内面のプラズマ処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60284333A JPS62143939A (ja) | 1985-12-19 | 1985-12-19 | プラスチツク管内面のプラズマ処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60284333A JPS62143939A (ja) | 1985-12-19 | 1985-12-19 | プラスチツク管内面のプラズマ処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62143939A JPS62143939A (ja) | 1987-06-27 |
| JPH0560493B2 true JPH0560493B2 (ja) | 1993-09-02 |
Family
ID=17677207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60284333A Granted JPS62143939A (ja) | 1985-12-19 | 1985-12-19 | プラスチツク管内面のプラズマ処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62143939A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0625271B2 (ja) * | 1986-02-20 | 1994-04-06 | 住友電気工業株式会社 | チユ−ブの内面プラズマ処理方法 |
| US20060070677A1 (en) * | 2004-09-28 | 2006-04-06 | Tokai Rubber Industries, Ltd. | Hose with sealing layer, direct-connect assembly including the same, and method of manufacturing the same |
| JP5193483B2 (ja) * | 2007-03-26 | 2013-05-08 | 国立大学法人東北大学 | プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 |
-
1985
- 1985-12-19 JP JP60284333A patent/JPS62143939A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62143939A (ja) | 1987-06-27 |
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