JPH0625271B2 - チユ−ブの内面プラズマ処理方法 - Google Patents
チユ−ブの内面プラズマ処理方法Info
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- JPH0625271B2 JPH0625271B2 JP61036211A JP3621186A JPH0625271B2 JP H0625271 B2 JPH0625271 B2 JP H0625271B2 JP 61036211 A JP61036211 A JP 61036211A JP 3621186 A JP3621186 A JP 3621186A JP H0625271 B2 JPH0625271 B2 JP H0625271B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 発明の目的 「産業上の利用分野」 本発明は、絶縁性材料よりなるチューブの内面をグロー
放電によるプラズマを利用して表面改質する方法に関す
る。
放電によるプラズマを利用して表面改質する方法に関す
る。
「従来の技術」 近来プラズマ励起反応を利用した表面改質が盛んに行な
われている。例えば親水性の付与や接着性の改善あるい
は、可塑剤の溶出防止の目的で、アルゴン，ヘリウム，
酸素，窒素，水素，アンモニア，一酸化炭素などの非重
合性ガスによるプラズマ処理が行なわれている。また重
合性の有機ガスを用いて、優れた物質選択透過性や電気
的特性，機械的特性をもつ薄膜を表面に堆積させること
を目的としたプラズマ重合も行なわれている。これらの
反応は、主にグロー放電により減圧空間で行なわれるた
めかなり複雑な形状をもつ基材の表面処理にも利用する
ことができるが、しかしながらチューブ内面などの狭い
細長い空間では、安定な放電の制御が難しく、その適用
は極めて限定されていた。
われている。例えば親水性の付与や接着性の改善あるい
は、可塑剤の溶出防止の目的で、アルゴン，ヘリウム，
酸素，窒素，水素，アンモニア，一酸化炭素などの非重
合性ガスによるプラズマ処理が行なわれている。また重
合性の有機ガスを用いて、優れた物質選択透過性や電気
的特性，機械的特性をもつ薄膜を表面に堆積させること
を目的としたプラズマ重合も行なわれている。これらの
反応は、主にグロー放電により減圧空間で行なわれるた
めかなり複雑な形状をもつ基材の表面処理にも利用する
ことができるが、しかしながらチューブ内面などの狭い
細長い空間では、安定な放電の制御が難しく、その適用
は極めて限定されていた。
「発明が解決しようとする問題点」 本発明の目的は、チューブ内面、特に内径の細いチュー
ブ内面に均質なプラズマ処理を行うことのできる方法を
提供することにある。
ブ内面に均質なプラズマ処理を行うことのできる方法を
提供することにある。
チューブ内面のように細長い空間に放電を発生，維持す
るには、高い放電出力が必要となる。放電の発生，維持
に必要な出力は、ガスの種類，圧力，電極の位置などで
変わるが、一般にチューブの内径が細く、長さが長くな
るほど、高い出力が必要となる。しかるに高い放電出力
の印加は、プラズマ密度の増大となり、基材チューブの
温度上昇と過度の分解を誘起することになり、均質かつ
適切なプラズマ反応を行うことができなかつた。
るには、高い放電出力が必要となる。放電の発生，維持
に必要な出力は、ガスの種類，圧力，電極の位置などで
変わるが、一般にチューブの内径が細く、長さが長くな
るほど、高い出力が必要となる。しかるに高い放電出力
の印加は、プラズマ密度の増大となり、基材チューブの
温度上昇と過度の分解を誘起することになり、均質かつ
適切なプラズマ反応を行うことができなかつた。
発明の構成 「問題点を解決するための手段」 本発明は、絶縁性材料よりなるチューブを円筒状反応器
中にほぼ内接して置き、減圧下で処理ガスを導入後、外
部電源よりパルス化した高周波出力を前記反応器の外部
から印加して、チューブ内面をプラズマ化することを特
徴とするチューブの内面プラズマ処理方法である。処理
されるチューブは、その外径よりわずかに大きい円筒状
反応器中に置かれる。これはチューブと円筒状反応器と
のすき間が広いと、放電は、チューブの内空にではな
く、専らそのすき間に発生するからである。反応器は、
絶縁性，耐熱性を考慮して、石英あるいはパイレックス
製が好適に用いられる。処理されるチューブを反応器中
に設置後、系内を真空引きし、ついで処理ガスを導入す
る。処理ガスは、表面処理の目的に応じて、無機ガスあ
るいは、有機ガスを適宜選ぶことができる。例えば濡れ
性の改善には酸素，窒素，アンモニアなどの無機ガス
が、疎水性表面の形成には、テトラフルオロエチレンや
有機シラン化合物が、親水性表面の形成には、アリルア
ミンやピリジンなどの含窒素化合物が好適に用いられ
る。処理ガス導入後の系内圧力は、好ましくは、0.05To
rrから５Torrの範囲に維持される。これより低くして
も、また高くても放電は不安定になる。プラズマ励起手
段はパルス化した高周波出力が用いられる。これは放電
出力の異なる二つの状態が繰り返されることを意味す
る。その一方の状態は、放電が停止するか、あるいは他
方の放電より低い出力の放電が行なわれる。第１図は、
本発明で用いられるパルス化した高周波放電の出力波形
の例をいくつか示した図である。縦軸は放電出力Ｗ（ワ
ット）、横軸は時間ｔをあらわす。(a)の場合は、放電
と放電停止が同じ間隔で繰り返されている。(b)の場合
は、高い出力の放電と低い出力の放電が同じ間隔で繰り
返されている。(c)の場合は、放電停止時間が、放電時
間の２倍で繰り返されている。このように処理目的によ
り放電出力と放電時間を適宜選ぶことができる。放電出
力は、処理ガスの種類，系内の圧力，電極の位置等の条
件も考慮して選択する。また放電時間，放電間隔は、被
処理物であるチューブの発熱，分解状態や放電中に生成
される活性権の寿命の問題などを考慮して選択する。そ
の間隔は好ましくは、0.1ミリ秒から１０秒の間にあ
る。これより短い間隔は、連続放電に近ずき、本発明の
有用性が減じる。またこれより長いと処理に要する時間
が長くなり、経済性が失われる。パルス化した高周波出
力は円筒状反応器の外部より印加される。円筒状反応器
の外部に１対の平板電極、又は円環状電極あるいはコイ
ル電極を設置し、整合器を介して高周波電源に接続す
る。第２図は、本発明におけるプラズマによるチューブ
内面処理のための装置の１例を示す概略図である。円筒
状反応器２に被処理物としてのチューブ１を挿入し、継
手６を介して、装置に設置する。排気口１０より系内を
10-2Torr以下に減圧した後、導入口９より処理ガスを装
置内に流し込む。処理ガスの流量は、マスフローコント
ローラー８により適切な値に調整する。また系内の圧力
は、バルブ１１を用い、圧力計７をみながら、適切な値
に設定する。放電は、電極３に高周波電源５から整合器
４を介して、パルス化した高周波出力を供給し、発生さ
せる。
中にほぼ内接して置き、減圧下で処理ガスを導入後、外
部電源よりパルス化した高周波出力を前記反応器の外部
から印加して、チューブ内面をプラズマ化することを特
徴とするチューブの内面プラズマ処理方法である。処理
されるチューブは、その外径よりわずかに大きい円筒状
反応器中に置かれる。これはチューブと円筒状反応器と
のすき間が広いと、放電は、チューブの内空にではな
く、専らそのすき間に発生するからである。反応器は、
絶縁性，耐熱性を考慮して、石英あるいはパイレックス
製が好適に用いられる。処理されるチューブを反応器中
に設置後、系内を真空引きし、ついで処理ガスを導入す
る。処理ガスは、表面処理の目的に応じて、無機ガスあ
るいは、有機ガスを適宜選ぶことができる。例えば濡れ
性の改善には酸素，窒素，アンモニアなどの無機ガス
が、疎水性表面の形成には、テトラフルオロエチレンや
有機シラン化合物が、親水性表面の形成には、アリルア
ミンやピリジンなどの含窒素化合物が好適に用いられ
る。処理ガス導入後の系内圧力は、好ましくは、0.05To
rrから５Torrの範囲に維持される。これより低くして
も、また高くても放電は不安定になる。プラズマ励起手
段はパルス化した高周波出力が用いられる。これは放電
出力の異なる二つの状態が繰り返されることを意味す
る。その一方の状態は、放電が停止するか、あるいは他
方の放電より低い出力の放電が行なわれる。第１図は、
本発明で用いられるパルス化した高周波放電の出力波形
の例をいくつか示した図である。縦軸は放電出力Ｗ（ワ
ット）、横軸は時間ｔをあらわす。(a)の場合は、放電
と放電停止が同じ間隔で繰り返されている。(b)の場合
は、高い出力の放電と低い出力の放電が同じ間隔で繰り
返されている。(c)の場合は、放電停止時間が、放電時
間の２倍で繰り返されている。このように処理目的によ
り放電出力と放電時間を適宜選ぶことができる。放電出
力は、処理ガスの種類，系内の圧力，電極の位置等の条
件も考慮して選択する。また放電時間，放電間隔は、被
処理物であるチューブの発熱，分解状態や放電中に生成
される活性権の寿命の問題などを考慮して選択する。そ
の間隔は好ましくは、0.1ミリ秒から１０秒の間にあ
る。これより短い間隔は、連続放電に近ずき、本発明の
有用性が減じる。またこれより長いと処理に要する時間
が長くなり、経済性が失われる。パルス化した高周波出
力は円筒状反応器の外部より印加される。円筒状反応器
の外部に１対の平板電極、又は円環状電極あるいはコイ
ル電極を設置し、整合器を介して高周波電源に接続す
る。第２図は、本発明におけるプラズマによるチューブ
内面処理のための装置の１例を示す概略図である。円筒
状反応器２に被処理物としてのチューブ１を挿入し、継
手６を介して、装置に設置する。排気口１０より系内を
10-2Torr以下に減圧した後、導入口９より処理ガスを装
置内に流し込む。処理ガスの流量は、マスフローコント
ローラー８により適切な値に調整する。また系内の圧力
は、バルブ１１を用い、圧力計７をみながら、適切な値
に設定する。放電は、電極３に高周波電源５から整合器
４を介して、パルス化した高周波出力を供給し、発生さ
せる。
「作用」 チューブ内側、特に内径が細く、長さの長いチューブ内
側に、放電を起し維持するには、大きな放電出力が必要
である。しかしながら大きな放電出力の印加で、細長い
空間に閉じこめられた高密度のプラズマエネルギーは、
チューブを発熱させ、過度の分解を引き起こす。また重
合性有機ガスを用いて、プラズマ重合膜を堆積させる場
合でも、プラズマエネルギーは、ガスや重合膜に過剰に
作用し、適度の重合膜を得ることが困難となる。これに
対し本発明は、パルス化した高周波放電を印加すること
で、放電の発生，維持を行いながら、かつ適切なプラズ
マ処理を行うことを可能にしている。すなわち放電に必
要な高い出力を印加するとともに過度な分解を押さえ
る、あるいは適度の重合膜を生成させるための放電の停
止あるいは、より低い出力の放電をパルス的に加えるこ
とで均質かつ適度なチューブ内面へのプラズマ処理を可
能としている。このように本発明は、チューブの内径が
細くなるほど、また長さが長くなるほど有効であり、チ
ューブ内径が６mmφ以下、長さが100mm以上であれば、
本発明の効果は一層明確になる。以下本発明を実施例に
より説明する。
側に、放電を起し維持するには、大きな放電出力が必要
である。しかしながら大きな放電出力の印加で、細長い
空間に閉じこめられた高密度のプラズマエネルギーは、
チューブを発熱させ、過度の分解を引き起こす。また重
合性有機ガスを用いて、プラズマ重合膜を堆積させる場
合でも、プラズマエネルギーは、ガスや重合膜に過剰に
作用し、適度の重合膜を得ることが困難となる。これに
対し本発明は、パルス化した高周波放電を印加すること
で、放電の発生，維持を行いながら、かつ適切なプラズ
マ処理を行うことを可能にしている。すなわち放電に必
要な高い出力を印加するとともに過度な分解を押さえ
る、あるいは適度の重合膜を生成させるための放電の停
止あるいは、より低い出力の放電をパルス的に加えるこ
とで均質かつ適度なチューブ内面へのプラズマ処理を可
能としている。このように本発明は、チューブの内径が
細くなるほど、また長さが長くなるほど有効であり、チ
ューブ内径が６mmφ以下、長さが100mm以上であれば、
本発明の効果は一層明確になる。以下本発明を実施例に
より説明する。
実施例１． 可塑剤DEHP（フタル酸ジ−２−エチルヘキシル）を５０
重量部含む塩化ビニル樹脂配合品から内径３mm，外径3.
5mmのチューブを成形した。このチューブを300mm長に裁
断した後、ベルジャー型プラズマ処理装置内に設置し、
一酸化炭素0.3Torrの雰囲気で、13.56MHZ、100Ｗの高周
波放電を与えて、５分間チューブ外表面をプラズマ処理
した。処理后のチューブを長さ方向に２等分し、その一
方を第２図で示したチューブ内面プラズマ処理装置内に
設置し、一酸化炭素0.3Torrの雰囲気で、放電出力100
Ｗ，放電時間100ミリ秒，放電停止時間200ミリ秒のパル
ス化した高周波放電（周波数13.56MHZ）を１０分間印加
し、プラズマ処理した。処理したチューブの外観に異常
は認められらかつた。この内面処理も行つたチューブ
と、先の外表面処理のみのチューブとの可塑性溶出量を
ｎ−ヘキサン抽出法により比較した。この結果内面処理
を行なつたチューブは0.1mg、内面処理をなわないチュ
ーブは14.3mgの可塑剤溶出量があつた。
重量部含む塩化ビニル樹脂配合品から内径３mm，外径3.
5mmのチューブを成形した。このチューブを300mm長に裁
断した後、ベルジャー型プラズマ処理装置内に設置し、
一酸化炭素0.3Torrの雰囲気で、13.56MHZ、100Ｗの高周
波放電を与えて、５分間チューブ外表面をプラズマ処理
した。処理后のチューブを長さ方向に２等分し、その一
方を第２図で示したチューブ内面プラズマ処理装置内に
設置し、一酸化炭素0.3Torrの雰囲気で、放電出力100
Ｗ，放電時間100ミリ秒，放電停止時間200ミリ秒のパル
ス化した高周波放電（周波数13.56MHZ）を１０分間印加
し、プラズマ処理した。処理したチューブの外観に異常
は認められらかつた。この内面処理も行つたチューブ
と、先の外表面処理のみのチューブとの可塑性溶出量を
ｎ−ヘキサン抽出法により比較した。この結果内面処理
を行なつたチューブは0.1mg、内面処理をなわないチュ
ーブは14.3mgの可塑剤溶出量があつた。
ｎ−ヘキサン抽出量測定法： 100mlの円筒形抽出容器に試料チューブを入れ、50mlの
ｎ−ヘキサンと接触させ、37℃で２時間振とう後、ｎ−
ヘキサン中に移行した可塑剤の量をガスクロマトグラフ
イにより定量分析した。
ｎ−ヘキサンと接触させ、37℃で２時間振とう後、ｎ−
ヘキサン中に移行した可塑剤の量をガスクロマトグラフ
イにより定量分析した。
比較例１． 実施例１で用いたのと同一のチューブを、同一条件でチ
ューブ外表面をプラズマ処理した後、第２図に示したチ
ューブ内面プラズマ処理装置内に設置した（試料長150m
m）。一酸化炭素0.3Torrの雰囲気で、放電出力100Ｗの
連続した高周波放電を印加し、プラズマ処理した。処理
時間５分間の場合、可塑剤溶出量は0.7mgあつた。処理
時間１５分間の場合、チューブが部分的に熱変形を起こ
し、またその端部に樹脂の分解したあとがみられ、変色
していた。
ューブ外表面をプラズマ処理した後、第２図に示したチ
ューブ内面プラズマ処理装置内に設置した（試料長150m
m）。一酸化炭素0.3Torrの雰囲気で、放電出力100Ｗの
連続した高周波放電を印加し、プラズマ処理した。処理
時間５分間の場合、可塑剤溶出量は0.7mgあつた。処理
時間１５分間の場合、チューブが部分的に熱変形を起こ
し、またその端部に樹脂の分解したあとがみられ、変色
していた。
実施例２． 厚さ0.25mm，内径２mm，長さ150mmのポリエチレンチュ
ーブを第２図に示したチューブ内面プラズマ処理装置内
に設置し、0.01Torrまで減圧後、アリルアミン５cm3／m
in，窒素５cm3／minを流し、系内を0.25Torrに維持し、
80Ｗの出力を１秒，１５Ｗの出力を３秒の間隔で高周波
放電を印加した。10分間処理後、試料をとり出し、内面
を切り開いて観察したところ、うす茶色の硬質な重合膜
が均質に堆積されていた。水滴を置き接触角を測定した
ところ、約42度となりチューブ内面が親水性表面に改質
されていることが確認された。また処理面にセロテープ
を貼り、はがしたが、テープへの重合膜の移行はなくチ
ューブ内面と重合膜の密着性の優れていることがわかつ
た。
ーブを第２図に示したチューブ内面プラズマ処理装置内
に設置し、0.01Torrまで減圧後、アリルアミン５cm3／m
in，窒素５cm3／minを流し、系内を0.25Torrに維持し、
80Ｗの出力を１秒，１５Ｗの出力を３秒の間隔で高周波
放電を印加した。10分間処理後、試料をとり出し、内面
を切り開いて観察したところ、うす茶色の硬質な重合膜
が均質に堆積されていた。水滴を置き接触角を測定した
ところ、約42度となりチューブ内面が親水性表面に改質
されていることが確認された。また処理面にセロテープ
を貼り、はがしたが、テープへの重合膜の移行はなくチ
ューブ内面と重合膜の密着性の優れていることがわかつ
た。
比較例２． 連続放電を用いた以外は、実施例２と同じ手順に従い、
チューブの内面処理を行なつた。80Ｗの連続放電を１０
分間行なつた場合、チューブ内面は、薄い茶色とうす茶
色の重合膜が不均質に分布していた。また15Ｗで１０分
間の連続放電を行なつた場合、うす黄色の重合膜が生成
し、セロテープと接触させると、重合膜がテープに接着
し、チューブからはく離した。
チューブの内面処理を行なつた。80Ｗの連続放電を１０
分間行なつた場合、チューブ内面は、薄い茶色とうす茶
色の重合膜が不均質に分布していた。また15Ｗで１０分
間の連続放電を行なつた場合、うす黄色の重合膜が生成
し、セロテープと接触させると、重合膜がテープに接着
し、チューブからはく離した。
「発明の効果」 本発明は、従来困難であつた絶縁性材料よりなるチュー
ブ内面のプラズマ処理方法に関し、チューブとほぼ内接
する円筒状反応器を用い、パルス化した高周波放電を印
加することで、多孔質性チューブを含む、チューブ内面
の均質なプラズマ処理を可能にした。特に内径の細い、
長さの長いチューブにもパルスによる放電制御で適切な
プラズマ処理を行うことが可能となつた。
ブ内面のプラズマ処理方法に関し、チューブとほぼ内接
する円筒状反応器を用い、パルス化した高周波放電を印
加することで、多孔質性チューブを含む、チューブ内面
の均質なプラズマ処理を可能にした。特に内径の細い、
長さの長いチューブにもパルスによる放電制御で適切な
プラズマ処理を行うことが可能となつた。
第１図(a)，(b)，(c)は、本発明で用いられるパルス化
した高周波放電の出力波形の例を示している。 縦軸に放電出力，横軸に時間をとつている。第２図は、
本発明で用いられるチューブ内面プラズマ処理のための
装置の１例を示す概略図である。１は試料チューブ，２
は円筒状反応器，３は電極，４は整合器，５は高周波電
源を示している。
した高周波放電の出力波形の例を示している。 縦軸に放電出力，横軸に時間をとつている。第２図は、
本発明で用いられるチューブ内面プラズマ処理のための
装置の１例を示す概略図である。１は試料チューブ，２
は円筒状反応器，３は電極，４は整合器，５は高周波電
源を示している。
Claims (4)
- 【請求項１】絶縁性材料よりなるチューブを円筒状反応
器中に、ほぼ内接して置き、減圧下で処理ガス導入後、
外部電源よりパルス化した高周波出力を前記反応器の外
部から印加してチューブ内部をプラズマ化することを特
徴とするチューブの内面プラズマ処理方法。 - 【請求項２】パルス化した高周波出力が、放電と放電停
止よりなり、かつ放電時間と放電停止時間がいずれも0.
1ミリ秒から１０秒の間にあることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載のチューブの内面プラズマ処理方
法。 - 【請求項３】パルス化した高周波出力が高い放電出力と
低い放電出力よりなり、かつ高い放電出力時間と低い放
電出力時間がいずれも0.1ミリ秒から10秒の間にあるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のチューブの
内面プラズマ処理方法。 - 【請求項４】絶縁性材料よりなるチューブが内径６mm以
下であり、長さが100mm以上であることを特徴とする特
許請求の範囲第２項又は第３項記載のチューブの内面プ
ラズマ処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61036211A JPH0625271B2 (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | チユ−ブの内面プラズマ処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61036211A JPH0625271B2 (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | チユ−ブの内面プラズマ処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62195028A JPS62195028A (ja) | 1987-08-27 |
| JPH0625271B2 true JPH0625271B2 (ja) | 1994-04-06 |
Family
ID=12463418
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61036211A Expired - Lifetime JPH0625271B2 (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | チユ−ブの内面プラズマ処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0625271B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4967763A (en) * | 1989-03-13 | 1990-11-06 | Becton, Dickinson And Company | Platelet stable blood collection assembly |
| US5318806A (en) * | 1992-10-02 | 1994-06-07 | Becton, Dickinson And Company | Tube having regions of different surface chemistry and method therefor |
| US20060070677A1 (en) * | 2004-09-28 | 2006-04-06 | Tokai Rubber Industries, Ltd. | Hose with sealing layer, direct-connect assembly including the same, and method of manufacturing the same |
| JP4608511B2 (ja) * | 2007-02-09 | 2011-01-12 | 国立大学法人東京工業大学 | 表面処理装置 |
| WO2011091842A1 (de) | 2010-01-26 | 2011-08-04 | Leibniz-Institut Für Plasmaforschung Und Technologie E. V. | Vorrichtung und verfahren zur trockenen reinigung, aktivierung, beschichtung, modifikation und biologischen dekontamination der innenwände von schläuchen, rohren und anderen hohlkörpern |
| WO2011092186A1 (de) | 2010-01-26 | 2011-08-04 | Leibniz-Institut Für Plasmaforschung Und Technologie E. V. | Vorrichtung und verfahren zur erzeugung einer elektrischen entladung in hohlkörpern |
| JP5785650B2 (ja) * | 2013-11-26 | 2015-09-30 | 泉工業株式会社 | 容器の内壁処理方法及び容器の内壁処理装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55155034A (en) * | 1979-05-21 | 1980-12-03 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Plasma treatment of surface of polyvinyl chloride resin molded article |
| JPS5940850A (ja) * | 1982-08-30 | 1984-03-06 | 株式会社島津製作所 | 管状体内面のプラズマ処理装置 |
| JPS60258234A (ja) * | 1984-06-06 | 1985-12-20 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | プラスチック管内面のプラズマ処理装置及び方法 |
| JPS62143939A (ja) * | 1985-12-19 | 1987-06-27 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | プラスチツク管内面のプラズマ処理方法 |
-
1986
- 1986-02-20 JP JP61036211A patent/JPH0625271B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62195028A (ja) | 1987-08-27 |
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