JPH0561232A - Photosensitive body - Google Patents

Photosensitive body

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JPH0561232A
JPH0561232A JP32722390A JP32722390A JPH0561232A JP H0561232 A JPH0561232 A JP H0561232A JP 32722390 A JP32722390 A JP 32722390A JP 32722390 A JP32722390 A JP 32722390A JP H0561232 A JPH0561232 A JP H0561232A
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Masanari Asano
真生 浅野
Kazumasa Matsumoto
和正 松本
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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

PURPOSE:To restrain occurrence of image defects, such as black spots, and to obtain sufficient sensitivity to comparatively long wavelength lights, such as semiconductor laser beams, and superior characteristics, such as printing resistance, potential stability, and residual potential. CONSTITUTION:The photosensitive body comprises a conductive substrate 1 and on this substrate 1 at least an undercoat layer 7 and a photosensitive layer 8. This undercoat layer 7 is made of a radiation-curing resin having radiation- sensitive acrylic, allyl, or maleic type unsaturated double bonds and/or a polymer composed of their prepolymer or oligomer, and this polymer has a main skeleton composed of polyvinyl alcohol type, ketal type, cellulose type, or the like structure, thus permitting a barrier against local injection of carriers from the substrate 1 to be formed by the presence of this undercoat layer 7 and accordingly, loss or drop of surface electric charge to be hindered.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は感光体、特に電子写真感光体に関する ものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a photoconductor, particularly an electrophotographic photoconductor.

〔発明の背景〕[Background of the Invention]

カールソン法の電子写真複写方法においては、 感光体表面に帯電させた後、露光によつて静電潜 像を形成すると共に、その静電潜像をトナーによっ て現像し、ついでその可視像を紙等に転写、定着 させる。同時に、感光体は付着トナーの除去や除 電、表面の清浄化が施され、長期にわたって反復 使用される。 In the Carlson electrophotographic copying method, after the surface of the photoconductor is charged, an electrostatic latent image is formed by exposure, the electrostatic latent image is developed with toner, and then the visible image is formed. Transfer and fix to paper. At the same time, the photoconductor is subjected to removal of adhered toner, charge removal, and surface cleaning, and is repeatedly used over a long period of time.

従って、電子写真感光体としては、帯電特性及 び感度が良好で暗減衰が小さい等の電子写真特性 は勿論であるが、加えて繰返し使用での耐刷性、 耐摩耗性、耐湿性などの物理的性質や、コロナ放 電時に発生するオゾン、露光時の紫外線等への耐 性(耐環境性)においても良好であることが要求 される。 Therefore, as an electrophotographic photosensitive member, of course, it has not only electrophotographic characteristics such as good charging characteristics and good sensitivity and small dark decay, but also printing durability, abrasion resistance, moisture resistance after repeated use. It is also required to have good physical properties and resistance to ozone generated during corona discharge and ultraviolet rays during exposure (environmental resistance).

従来、電子写真感光体としては、セレン、酸化 亜鉛、硫化カドミウム等の無機光導電性物質を主 成分とする感光体層を有する無機感光体が広く用 いられている。 Conventionally, as an electrophotographic photoreceptor, an inorganic photoreceptor having a photoreceptor layer containing an inorganic photoconductive substance such as selenium, zinc oxide, or cadmium sulfide as a main component has been widely used.

一方、種々の有機光導電性物質を電子写真感光 体の感光体層の材料として利用することが近年活 発に研究、開発されている。 On the other hand, the use of various organic photoconductive substances as materials for the photoconductor layer of an electrophotographic photoconductor has been actively researched and developed in recent years.

しかしながら、感度及び耐久性において必ずし も満足できるものではない。 However, the sensitivity and durability are not always satisfactory.

このために、感光層において、キャリア発生機 能とキャリア輸送機能とを異なる物質に個別に分 担させることにより、感度が高くて耐久性の大き い所謂機能分離型更に夫々の機能層を積層した有 機感光体を開発する試みがなされている。 For this reason, in the photosensitive layer, by separating the carrier generation function and the carrier transport function into different substances, so-called function-separated type having high sensitivity and high durability, and further each functional layer was laminated. Attempts have been made to develop organic photoconductors.

このような機能分離型の電子写真感光体におい ては、各機能を発揮する物質を広い範囲のものか ら選択することができるので、任意の特性を有す る電子写真感光体を比較的容易に作製することが 可能である。そのため、感度が高く、耐久性の大 きい有機感光体が得られることが期待される。 In such a function-separated type electrophotographic photoconductor, since substances exhibiting each function can be selected from a wide range of substances, it is relatively easy to obtain an electrophotographic photoconductor having arbitrary characteristics. It is possible to make it. Therefore, it is expected that an organic photoreceptor having high sensitivity and high durability can be obtained.

第2図及び第4図は、こうした有機光導電性物 質を用いる機能分離型の積層電子写真感光体を示 すものである。 2 and 4 show a function-separated laminated electrophotographic photosensitive member using such an organic photoconductive material.

又、第3図は機能分離型単層電子写真感光体で ある。 Further, FIG. 3 shows a function-separated single-layer electrophotographic photosensitive member.

この第2図の電子写真感光体は、導電性支持体 1の上に下引層(UCL)7、キャリア発生層 (CGL)6、キャリア輸送層(CTL)4を順 次積層して構成されており、負帯電用として使用 されているものである。即ち、感光層(PCL) 8はCGL6とCTL4から構成されている。 The electrophotographic photoreceptor of FIG. 2 is constructed by sequentially laminating an undercoat layer (UCL) 7, a carrier generation layer (CGL) 6, and a carrier transport layer (CTL) 4 on a conductive support 1. It is used for negative charging. That is, the photosensitive layer (PCL) 8 is composed of CGL 6 and CTL 4.

このような層構成を有する電子写真感光体にお いては、負帯電性の場合に電子よりもホールの移 動度が大きいことから、良好な特性を有するホー ル輸送性の光導電材料を使用でき、光感度等の点 で有利である。 In the electrophotographic photoreceptor having such a layer structure, since the mobility of holes is larger than that of electrons when it is negatively charged, a hole-transporting photoconductive material having good characteristics is used. It is possible and advantageous in terms of light sensitivity and the like.

次に第4図に正帯電用の感光体を示す。こうし た積層型感光体、特に有機光導電性物質を用いる 感光体においては、負帯電時に導電性支持体又は 下層側からの不均一なキャリア(ホール)注入が 生じ易く、このために表面電荷が微視的にみて消 失し、あるいは減少してしまう。これは特に、反 転現像法において黒い斑点状の画像欠陥となり(黒 斑点)、画像の品質を著しく低下させる。 Next, FIG. 4 shows a photoconductor for positive charging. In such a layered type photoconductor, particularly a photoconductor using an organic photoconductive substance, non-uniform carrier (hole) injection from the conductive support or the lower layer side is likely to occur during negative charging, which results in surface charge. Microscopically disappears or decreases. In particular, this causes black spot-like image defects (black spots) in the reverse developing method, and significantly deteriorates the image quality.

こうした黒斑点の問題は、ホール移動度の大き い有機系光導電性物質を用いる感光体での特有の 現象であり、この原因は、上記したキャリア注入 が不均一に生じたことが考えられる。 The problem of such black spots is a phenomenon peculiar to a photoconductor using an organic photoconductive material having a high hole mobility, and it is considered that the cause is that the above-mentioned carrier injection is uneven.

そこで、導電性支持体1とPCLとの間にUC Lを設け、キャリア注入をブロッキングすること が提案されている。 Therefore, it has been proposed to provide UCL between the conductive support 1 and PCL to block carrier injection.

従来、UCL7を構成する材料としては、ポリ エステル系、ポリウレタン系、ポリアミド系、エ ポキシ樹脂系、ポリカーボネート系、ビニルポリ マー系例えばポリビニルピリジンアクリル樹脂等、 セルロース系、ポリケタール系、縮合重合系例え ばフェノール樹脂、メラミン樹脂等が知られてい る。 Conventionally, as materials constituting UCL7, polyester-based, polyurethane-based, polyamide-based, epoxy resin-based, polycarbonate-based, vinyl polymer-based such as polyvinyl pyridine acrylic resin, cellulose-based, polyketal-based, condensation polymerization-based, for example, phenol Resins, melamine resins, etc. are known.

しかしながら、上記の公知の下引層では、十分 に黒斑点抑制効果がない。しかも、ブロッキング 性と感光体としての感度を双方とも良好にするこ とは実現されていない。即ち、従来採用されてい る樹脂においては、ブロッキング性が有効で黒斑 点抑制効果があると思われるものは感度が悪く、 逆に、感度を良好にしようとすると、ブロッキン グ性が不十分となり黒斑点を十分に抑制すること ができない。 However, the above-mentioned known undercoat layer does not have a sufficient black spot suppressing effect. Moreover, it has not been possible to improve both the blocking property and the sensitivity as a photoconductor. In other words, among the resins that have been conventionally used, those that are considered to have effective blocking properties and black spot suppression effects have poor sensitivity, and conversely, when trying to improve sensitivity, the blocking properties become insufficient. Black spots cannot be sufficiently suppressed.

さらに、重層塗布過程で問題が生じる。上層、 下層のポリマーの溶解性が類似していれば、上層 塗布時、下層の一部が溶出し、上層と下層界面が 乱れ塗布できなくなったり、ディッピング塗布で 塗布した場合、上層塗布槽が一部下層構成成分で 汚染されてしまい高価な上層塗布液の寿命が短く なる他、感光体の電位特性も悪化させる。これら のことは、上層、下層のポリマーや溶媒に対して 厳しい処方制限を加えることになる。 Furthermore, problems arise during the multi-layer coating process. If the solubility of the polymer in the upper layer is similar to that in the lower layer, a part of the lower layer will elute during coating of the upper layer, and the interface between the upper and lower layers will be disturbed, and coating will not be possible. Contamination with the components of the subordinate layers shortens the life of the expensive coating liquid for the upper layer, and also deteriorates the potential characteristics of the photoreceptor. These impose strict formulation restrictions on the upper layer and lower layer polymers and solvents.

熱硬化性樹脂をUCLに適用した例もあるが、 高い硬化温度(少なくとも110℃以上)と比較的 長い時間(30分以上)が必要であるので生産性が 悪化する。又、硬化剤が混入した塗布液の安定性 は本質的に悪くなる。 There are some cases where thermosetting resin is applied to UCL, but productivity is deteriorated because a high curing temperature (at least 110 ° C or higher) and a relatively long time (30 minutes or longer) are required. Further, the stability of the coating liquid containing the curing agent is essentially deteriorated.

更に接着性についても未だ充分でなく、支持体 とUCLとの接着性以外に、UCL−上層間の接 着性が悪いのが現状である。 Further, the adhesiveness is not yet sufficient, and in addition to the adhesiveness between the support and UCL, the adhesiveness between the UCL and the upper layer is not good.

又、近年、電子写真複写方法において、安価、 小型で直接変調できるなどの特徴を有する半導体 レーザ光源が用いられている。現在、半導体レー ザとして広範にもちいられているガリウム−アル ミニウム−砒素(Ga-Al-As)系発光素子は、発振 波長が750nm程度以上である。 Further, in recent years, a semiconductor laser light source is used in an electrophotographic copying method, which is inexpensive, small in size, and directly modulated. At present, gallium-aluminum-arsenic (Ga-Al-As) -based light emitting devices, which are widely used as semiconductor lasers, have an oscillation wavelength of about 750 nm or more.

こうしたレーザビーム等を用いる技術体系はプ リンタへの応用が期待されているが、長波長光に 高感度を有する感光体が未だ開発されていないの が現状である。 The technical system using such a laser beam is expected to be applied to a printer, but at present, a photoreceptor having high sensitivity to long wavelength light has not yet been developed.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

本発明の目的は、黒斑点等の画像欠陥を抑止で き、しかも半導体レーザ等の比較的長波長の光に 十分な感度を有する感光体を提供することである。 An object of the present invention is to provide a photoconductor capable of suppressing image defects such as black spots and having sufficient sensitivity to light having a relatively long wavelength such as a semiconductor laser.

本発明の他の目的は、耐刷性、電位安定性、残 留電位特性に優れた感光体を提供することである。 Another object of the present invention is to provide a photoreceptor having excellent printing durability, potential stability and residual potential characteristics.

更に本発明の他の目的は導電性支持体上に、少な くともUCL、PCLとが設けされている感光体 に於て、塗工性、接着性のよい感光体を提供する ことである。Still another object of the present invention is to provide a photoreceptor having good coatability and adhesiveness in a photoreceptor having at least UCL and PCL provided on a conductive support.

〔発明の構成及びその作用効果〕[Constitution of the invention and its function and effect]

本発明の感光体は; (1)導電性支持体上に少くともUCLとPCL とが設けられている感光体において、前記UCL が放射線感応性不飽和二重結合のアクリル系二重 結合、アリル系二重結合、マレイン酸系二重結合 の少なくとも一種を有する放射線硬化型樹脂及び /又はそのプレポリマー、オリゴマーよりなるポ リマーから形成されていることを特徴として構成 される。 The photoconductor of the present invention includes: (1) In a photoconductor in which at least UCL and PCL are provided on a conductive support, the UCL is a radiation-sensitive unsaturated double bond, an acrylic double bond, or allyl. A radiation-curable resin having at least one of a double bond and a maleic double bond, and / or a polymer composed of a prepolymer and an oligomer thereof.

又、本発明の態様においては; (2)前記ポリマーの主骨格部分が、ポリビニル アルコール系、ケタール樹脂系、セルロース系樹 脂、プルラン系樹脂、アルキッド樹脂、ポリカプ ロラクト系樹脂、スピラン系樹脂、縮合重合系樹 脂から選ばれた構造からなることが好ましい。 Further, in the aspect of the present invention: (2) The main skeleton portion of the polymer is polyvinyl alcohol, ketal resin, cellulose resin, pullulan resin, alkyd resin, polycaprolacte resin, spirane resin, condensation It preferably has a structure selected from polymerized resins.

本発明の構成を採ることによって、 1.塗布重層性が良いこと、 2.他の塗布液の汚染がないこと、 3.他の塗布液により溶解させられないことか ら、処方上の選択の幅が擴ること、 4.ブロッキング性が良好であり、黒ぽちが出 現しないこと、 5.下層との接着性が良いこと、 等の利点が得られる。 By adopting the configuration of the present invention, 1. 2. Good multi-layer coating. 2. No contamination of other coating liquids, 3. The range of prescription choices increases because it cannot be dissolved by other coating solutions. 4. It has good blocking properties and black dots do not appear. It has advantages such as good adhesiveness with the lower layer.

この重合体は、既述したごとく、ホール移動度 の大きい有機光導電性物質をPCLに用いたとき に生じ易い支持体からの不均一なホールの注入を 効果的に防止するブロッキング機能を有している。 As described above, this polymer has a blocking function that effectively prevents non-uniform injection of holes from the support, which tends to occur when an organic photoconductive substance having a high hole mobility is used for PCL. ing.

従って、この下引層の存在によって、支持体側 からの局所的なキャリア注入に対する障壁を設け ることができ、局所的なキャリア注入による表面 電荷の消失、減少を阻止できると考えられる。従っ て、特に反転現像を行った場合に画像上に黒斑点 が生ずることはなく、白斑点や画面肌荒れ、ピン ホールの発生もなく、画像欠陥のない高品質の画 像を得るという顕著な作用効果を奏することがで きる。 Therefore, it is considered that the presence of this undercoat layer can provide a barrier against local carrier injection from the support side and prevent the disappearance and reduction of surface charges due to local carrier injection. Therefore, especially when reversal development is performed, black spots do not occur on the image, white spots, screen roughening, pinholes do not occur, and a high quality image without image defects is obtained. It can be effective.

本発明において使用される放射線硬化型樹脂と しては下記のような骨格となる塗料用樹脂を挙げ ることができ、次に述べる方法により、アクリル 系二重結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二 重結合を導入し、放射線硬化型樹脂へ変換するこ とができる。 Examples of the radiation-curable resin used in the present invention include coating resins having a skeleton as shown below. By the method described below, an acrylic double bond, a maleic acid double bond, It is possible to introduce an allylic double bond and convert it into a radiation-curable resin.

1.ポリビニルアルコール系樹脂としては、 部分鹸化ポリビニルアルコール、 完全鹸化ポリビ ニルアルコール、 2.ケタール系樹脂としては、 ブチラール樹脂、アセタール樹脂、ホルマール 樹脂等がある。1. As the polyvinyl alcohol-based resin, partially saponified polyvinyl alcohol, completely saponified polyvinyl alcohol, 1. Examples of the ketal resin include butyral resin, acetal resin and formal resin.

3.セルロース系樹脂としては、 メチルセルロース、エチルセルロース、メチル エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー ス、シアノエチルセルロース、ニトロセルロー ス。3. Cellulosic resins include methyl cellulose, ethyl cellulose, methyl ethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, cyanoethyl cellulose, nitro cellulose.

4.プルラン系樹脂としては、 アセチルプルラン、ニトロプルラン、などがあ る。4. Examples of pullulan resins include acetyl pullulan and nitro pullulan.

5.ポリカプロラクトン系樹脂としては、 例えばダイセル社のプラクセル、205,210,303, 330等がある。5. Examples of the polycaprolactone-based resin include Praxel, 205, 210, 303 and 330 manufactured by Daicel Corporation.

6.縮合重合系樹脂としては、 フェノール樹脂、ノポラック樹脂、クレゾール 樹脂、メラミン樹脂、などがある。6. Examples of the condensation polymerization resin include phenol resin, nopolak resin, cresol resin and melamine resin.

7.スピラン樹脂としては、分子中にスピロアセ タール結合を有するもので、例えば不飽和アル デヒド、一般にはアクロレインと多価アルコー ル、例えばトリメチロールアミン、ペンタエリ スリトール、ソルビトールなどの縮合重合の後、 二重結合の導入が行われた重合体がある。7. The spirane resin has a spiro acetal bond in the molecule, for example, unsaturated aldehyde, generally acrolein and polyvalent alcohol, for example, trimethylolamine, pentaerythritol, sorbitol, etc. Some polymers have been introduced.

放射線感応性は、具体的にはラジカル重合性を 有する不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタ クリル酸あるいはそれらのエステル化合物のよう なアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのよ うなアリル型二重結合、マレイン酸、マレイン酸 誘導体等の不飽和結合等の放射線照射による架橋 あるいは重合乾燥する基を分子中に導入すること である。 The radiation sensitivity is specifically acrylic double bonds having an unsaturated double bond having radical polymerizability, acrylic double bonds such as acrylic acid or methacrylic acid or their ester compounds, and allyl type double bonds such as diallyl phthalate. Introducing into the molecule a bond, a maleic acid, an unsaturated bond such as a maleic acid derivative, etc., which is crosslinked by irradiation or polymerized and dried.

その他放射線照射により架橋重合する不飽和二 重結合であれば用いることができる。 In addition, any unsaturated double bond that undergoes cross-linking polymerization upon irradiation with radiation can be used.

更に具体的な放射線感応変性の手法としては次 のようにして行われる。 A more specific radiation-sensitive modification method is performed as follows.

I.分子中に水酸基を1個以上有する熱可塑性樹 脂又は熱可塑性軟質樹脂、プレポリマー1分子中 に1分子以上のポリイソシアネート化合物のイソ シアネート基を反応させ、次にイソシアネート基 と反応する基及び放射線硬化性を有する不飽和二 重結合を有する単量体1分子以上との反応物、例 えば鹸化された塩酢ビ共重合体(UCC製VAGH)の 水酸基1個当たりにトルエンジイソシアネート1 分子を反応させ、その後1分子の2-ヒドロキシエ チルメタクリレートを反応させて得た、塩酢ビ系 共重合樹脂にアクリル系二重結合をベンダント状 に有する樹脂を挙げることができる。I. A thermoplastic resin or a thermoplastic resin having at least one hydroxyl group in the molecule, a prepolymer in which one molecule is reacted with one or more molecules of an isocyanate group of a polyisocyanate compound, and then a group which reacts with an isocyanate group and radiation. Reaction of one molecule of toluene diisocyanate for each hydroxyl group of a reaction product with one or more molecules of a curable unsaturated double bond, for example, saponified vinyl chloride-vinyl chloride copolymer (VAGH manufactured by UCC) And a vinyl chloride-based copolymer resin obtained by reacting one molecule of 2-hydroxyethyl methacrylate with the acrylic double bond in the form of a bendant.

又、ここで使用されるポリイソシアネート化合 物としては、2,4-トルエンジイソシアネート、2, 6-トルエンジイソシアネート、1,3-キシレンジイ ソシアネート、1,4-キシレンジイソシアネート、 m-フェニレンジイソシアネート、p-フェニレンジ イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー ト、イソホロンジイソシアネートやデスモジュー ルL、デスモジュール1L(西ドイツバイエル社製) 等がある。 The polyisocyanate compounds used here include 2,4-toluene diisocyanate, 2,6-toluene diisocyanate, 1,3-xylene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate and p-phenylene diisocyanate. Examples include diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, Desmodur L, Desmodur 1L (made by Bayer Bayer GmbH).

イソシアネート基と反応する基及び放射線硬化 性不飽和二重結合を有する単量体としては、アク リル酸あるいはメタクリル酸の2-ヒドロキシエチ ルエステル、2-ヒドロキシプロピルエステル、2- ヒドロキシオクチルエステル等水酸基を有するエ ステル類;アクリルアマイド、メタクリルアマイ ド、N-メチロールアクリルアマイド等のイソシア ネート基と反応する活性水素を持ち、かつアクリ ル系二重結合を含有する単量体;更にアリルアル コール、マレイン酸多価アルコールエステル化合 物、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノあ るいはジグリセリド等シソシアネート基と反応す る活性水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不 飽和二重結合を含有する単量体も含まれる。 Examples of monomers having a group that reacts with an isocyanate group and a radiation-curable unsaturated double bond include hydroxyl groups such as 2-hydroxyethyl ester, 2-hydroxypropyl ester and 2-hydroxyoctyl ester of acrylic acid or methacrylic acid. Esters that have; monomers that have active hydrogen that reacts with isocyanate groups such as acrylic amide, methacrylic amide, N-methylol acrylic amide, and that contain an acrylic double bond; and allyl alcohol, maleic acid Polyhydric alcohol ester compound, long-chain fatty acid monounsaturated with unsaturated double bonds, or diglyceride, etc. Contains active hydrogen that reacts with the sisocyanate group and contains unsaturated double bonds with radiation curability Monomers are also included.

II.分子中にエポキシ基を1個以上含む化合物1 分子と、エポキシ基と反応する基及び放射線硬化 性不飽和二重結合を有する単量体1分子以上との 反応物、例えばグリシジルメタクリレートをラジ カル重合させて得たエポキシ基を含有する熱可塑 性樹脂にアクリル酸を反応させ、カルボキシル基 とエポキシ基との開環反応により、分子中にアク リル系二重結合をベンダントさせた樹脂、プレポ リマーもしくはオリゴマー、又、マレイン酸を反 応させカルボキシ基とエポキシ基との開環反応に より分子骨格中に放射線硬化性不飽和二重結合を 有する樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げる ことができる。II. Radical polymerization of a reaction product of one molecule of a compound containing one or more epoxy groups in the molecule with one or more molecules of a group reactive with an epoxy group and a radiation-curable unsaturated double bond, for example, glycidyl methacrylate. The resulting thermoplastic resin containing an epoxy group is reacted with acrylic acid, and a ring-opening reaction between a carboxyl group and an epoxy group results in a resin, a prepolymer or a resin in which an acrylic double bond is bent in the molecule. Examples thereof include oligomers, and resins, prepolymers, and oligomers having a radiation-curable unsaturated double bond in the molecular skeleton by ring-opening reaction of a carboxy group and an epoxy group by reacting maleic acid.

ここで分子中にエポキシ基を1個以上含む化合 物としては、グリシジルアクリレート、クリシジ ルメタクリレートの如きエポキシ基を含むアクリ ルエステルあるいはメタクリルエステルのホモポ リマーあるいは他の重合性モノマーとの共重合体 として、エビコート828、エビコート1001、エビ コート1007、エビコート1009(以上シエル化学社 製)等その他種々のタイプのエポキシ樹脂がある。 Here, the compound containing one or more epoxy groups in the molecule is a homopolymer of an acrylate or methacrylic ester containing an epoxy group such as glycidyl acrylate or chrysyl methacrylate, or a copolymer with another polymerizable monomer. There are various other types of epoxy resin such as Shrimp Coat 828, Shrimp Coat 1001, Shrimp Coat 1007, Shrimp Coat 1009 (all manufactured by Ciel Chemical Co., Ltd.).

エポキシ基と反応する基及び放射線硬化性不 飽和二重結合を有する単量体としては、アクリル 酸、メタクリル酸等のカルボキシル基を含有する アクリル系単量体、メチルアミノエチルアクリレ ート、メチルアミノメタクリレート等の第1級も しくは第2級アミノ基を有するアクリル単量体に 加えマレイン酸、フマル酸やクロトン酸、ウンデ シレン酸等放射線硬化性不飽和二重結合を有する 多塩基酸単量体も使用できる。 Examples of the monomer having a group that reacts with an epoxy group and a radiation-curable unsaturated double bond include acrylic monomers containing a carboxyl group such as acrylic acid and methacrylic acid, methylaminoethyl acrylate, and methyl. In addition to acrylic monomers having primary or secondary amino groups such as aminomethacrylate, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, undecylenic acid, and other polybasic acids having radiation-curable unsaturated double bonds are used. A quantity can also be used.

III.分子中にカルボキシル基を1個以上含む化合 物1分子と、カルボキシル基と反応する基及び放 射線硬化性不飽和二重結合を有する単量体1分子 以上との反応物、例えばメタクリル酸を溶液重合 させて得たカルボキシル基を含有する熱可塑性樹 脂にグリシジルメタクリレートを反応させ、第II 項と同様にカルボキシル基とエポキシ基の開環反 応により分子中にアクリル系二重結合を導入させ た樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げること ができる。III. A reaction product of one molecule of a compound containing one or more carboxyl groups in the molecule and one or more molecules of a group that reacts with a carboxyl group and one or more radiation-curable unsaturated double bonds, for example, methacrylic acid as a solution. Glycidyl methacrylate was reacted with a thermoplastic resin containing a carboxyl group obtained by polymerization, and an acrylic double bond was introduced into the molecule by ring-opening reaction of a carboxyl group and an epoxy group in the same manner as in Section II. Resins, prepolymers and oligomers can be mentioned.

分子中にカルボキシル基を1個以上含む化合物 としては、分子鎖中又は分子末端にカルボキシル 基を含む先に述べた樹脂中のポリエステル類;ア クリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、フマ ル酸等のラジカル重合性を持ち、かつカルボキシ ル基を有する単量体のホモポリマーあるいは他の 重合性モノマーとの共重合体等である。 Examples of the compound containing one or more carboxyl groups in the molecule include polyesters in the above-mentioned resin containing a carboxyl group in the molecular chain or at the terminal of the molecule; acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, fumaric acid, etc. It is a homopolymer of a monomer having a radical polymerizable property and having a carboxyl group, or a copolymer with another polymerizable monomer.

カルボキシル基と反応する基及び放射線硬化性 不飽和二重結合を有する単量体としては、グリシ ジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等 がある。 Examples of the monomer having a group reactive with a carboxyl group and a radiation-curable unsaturated double bond include glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate.

又、前記樹脂層には放射線の照射により架橋又 は重合する樹脂の他に、PCLとの接着性を改造 するために他の樹脂を併用してもよい。このよう な他の樹脂としては例えばポリカーボネート樹脂、 ポリアクリレート樹脂、ポリビニルアセタール樹 脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、 ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリ酢酸ビニ ル樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、アルキド 樹脂、スチレン−無水マレイン酢共重合体樹脂、 フェノール樹脂、パラフィンワックスなどが挙 げられる。これらの他の樹脂は単独で用いてもよ いし、2種以上混合してもよい。 In addition to the resin that is crosslinked or polymerized by irradiation with radiation, another resin may be used in combination with the resin layer in order to modify the adhesiveness with PCL. Examples of such other resins include polycarbonate resin, polyacrylate resin, polyvinyl acetal resin, diallyl phthalate resin, silicone resin, polysulfone resin, acrylic resin, polyvinyl acetate resin, polyphenylene oxide resin, alkyd resin, styrene-anhydrous resin. Examples include maleic vinegar copolymer resin, phenolic resin, and paraffin wax. These other resins may be used alone or in combination of two or more.

次に合成例として2,3の例を示す。他のポリ マーについても前述した方法で容易に合成されう る。 Next, a few examples will be shown as synthesis examples. Other polymers can be easily synthesized by the method described above.

合成例 1.ノボラックアクリレートの合成 エピコート#154 178g(当量) アクリル酸 72g(1モル) BDMA 0.2% フェノチアジン(禁止剤) 0.02% 上記配合物をフラスコにとり、空気を吹き込み ながら100〜110℃,2〜5hr反応させ、酸価2以下 となった時を終了とする。Synthesis example 1. Synthesis of novolac acrylate Epicoat # 154 178g (equivalent) Acrylic acid 72g (1 mol) BDMA 0.2% Phenothiazine (inhibitor) 0.02% Take the above composition in a flask and react at 100-110 ° C for 2-5 hours while blowing air, It ends when the acid value becomes 2 or less.

2.メラミンアクリレート サイメル#300(ヘキサメチロール メラミン)130g HEMA 173g (4倍モル当
量) 85%燐酸 0.5 HQ 0.1 上記配合物を水分離管付フラスコ中で80〜85℃ 2〜3hr脱メタノールエーテル交換する。脱メタノ ール量が増えない状態を終了とする。
2. Melamine Acrylate Cymel # 300 (Hexamethylol Melamine) 130g HEMA 173g (4 molar equivalents) 85% Phosphoric acid 0.5 HQ 0.1 The above composition is demethanol ether exchanged at 80-85 ° C for 2-3 hours in a flask with a water separation tube. The state where the amount of methanol removal does not increase ends.

3.アルキッドアクリレート THPA(Mw.152) 152g(1モル) DEG(Mw.106) 212g(2モル) アクリル酸(Mw72) 144g(2モル) トルエン 800ml フェノチアジン 5% reflux下で共沸脱水エステル化反応を8hr行い 中和洗浄、水洗後、トルエンを留去する。3. Alkyd acrylate THPA (Mw.152) 152g (1mol) DEG (Mw.106) 212g (2mol) Acrylic acid (Mw72) 144g (2mol) Toluene 800ml Phenothiazine 5% reflux Azeotropic dehydration esterification reaction for 8hr After neutralization and water washing, distill off toluene.

本発明の化合物を用いるに当り、UV吸収率、 硬化速度を速める為、光重合開始剤を添加しても よい。この例としては、例えばベンゾインエーテ ル系、ベンジルケタール系、α−ヒドロキシアセ トフェノン系、クロルアセトフェノン系、α−ア ミノアセトフェノン系、アシルホスフィンオキサ イド系、α−ジカルボニル系、α−アシルオキシム エステル等がある。 In using the compound of the present invention, a photopolymerization initiator may be added in order to accelerate the UV absorption rate and the curing rate. Examples of this include benzoin ether type, benzyl ketal type, α-hydroxyacetophenone type, chloroacetophenone type, α-aminoacetophenone type, acylphosphine oxide type, α-dicarbonyl type, α-acyl oxime ester. Etc.

用いられる放射線としては紫外線、電子線、X 線、γ線などがあるが紫外線及び電子線が好まし い。 The radiation used includes ultraviolet rays, electron beams, X-rays, γ rays, etc., but ultraviolet rays and electron beams are preferable.

紫外線照射による硬化は、波長約2000〜4000Å の紫外線を照射することによって行なわれる。又、 紫外線発生装置には、約50〜100W/cm出力の水銀 灯が好適である。 Curing by ultraviolet irradiation is performed by irradiating ultraviolet rays having a wavelength of about 2000 to 4000 Å. A mercury lamp with an output of about 50 to 100 W / cm is suitable for the ultraviolet ray generator.

電子線照射は加速電圧100〜750KV、好ましくは 150〜300KVの電子線加速器を用いて吸収線量が2 〜20Mradになるように行なわれる。 The electron beam irradiation is carried out using an electron beam accelerator having an accelerating voltage of 100 to 750 KV, preferably 150 to 300 KV, so that the absorbed dose becomes 2 to 20 Mrad.

紫外線を用いる場合と、電子線を用いる場合と の処方上の差は、紫外線を用いる場合、光重合開 始剤が必要なことがある以外大きな差はない。 There is no significant difference in the formulation between the use of ultraviolet rays and the use of electron beams when using ultraviolet rays, except that a photopolymerization initiator may be required.

本発明におけるUCLは、2μm以下の薄い膜厚 を有していることが、ブロッキング性能を十分に 発揮しつつ、残留電位の抑制等の感光体性能を良 好に保持する点で望ましい。更に好ましくは0.2 〜1.0μmである。 It is desirable that the UCL in the present invention has a thin film thickness of 2 μm or less in order to sufficiently exhibit the blocking performance, and to favorably maintain the photoreceptor performance such as suppression of residual potential. More preferably, it is 0.2 to 1.0 μm.

本発明の感光体は例えば第2図に示す構成から なっている。 The photoconductor of the present invention has, for example, the structure shown in FIG.

この感光体においては、導電性支持体(基体) 1上に、上記したUCL7を介してCGL6が設 けられ、このCGL6上にCTL4が設けられて いる。8はPCLを示す。従って、CGL6と支 持体1との間にUCL7が設けられているので、 第8図に示す支持体側からの不均一なホールの注 入を効果的に阻止する一方、光照射時には支持体 側へ光キャリアである電子を効率良く輸送するこ とができる。 In this photoconductor, the CGL 6 is provided on the conductive support (base) 1 via the UCL 7 described above, and the CTL 4 is provided on the CGL 6. 8 indicates PCL. Therefore, since the UCL 7 is provided between the CGL 6 and the support 1, the non-uniform injection of holes from the support side shown in FIG. Electrons, which are photocarriers, can be efficiently transported.

なお、本発明の感光体は、上記した構成(即ち、 CGL上にCTLを積層)以外にも、第3図のよ うに、キャリア発生物質(CGM)とキャリア輸 送物質(CTM)を混合した単一層のPCL8か らなっていてもよい。 In addition to the above-described structure (that is, CTL is laminated on CGL), the photoconductor of the present invention is a mixture of a carrier-generating substance (CGM) and a carrier-transporting substance (CTM) as shown in FIG. It may consist of a single layer of PCL8.

又、第4図のように、CGL6とCTL4とを 上下逆にした層構成(正帯電用)としてもよい。 Further, as shown in FIG. 4, the layer structure (for positive charging) in which the CGL 6 and the CTL 4 are turned upside down may be used.

又、本発明の感光体において、耐刷性向上等の ため感光体表面に保護層(保護層;OCL)を形 成しても良く、例えば合成樹脂被膜をコーティン グしても良い。 Further, in the photoreceptor of the present invention, a protective layer (protective layer; OCL) may be formed on the surface of the photoreceptor for improving printing durability and the like, for example, a synthetic resin film may be coated.

次に、本発明の感光体に使用するCGMを一般 式で示す。 Next, CGM used in the photoreceptor of the present invention is represented by a general formula.

1.多環キノン顔料 (1)アントアントロン顔料 一般式〔G1〕: (2)ジベンズプレンキノン顔料 一般式〔G2〕: (3)プラントロン顔料 一般式〔G3〕: 上記において、 X:ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アシ ル基、又はカルボキシル基。1. Polycyclic quinone pigment (1) Antoanthrone pigment General formula [G1]: (2) Dibenzprenequinone pigment General formula [G2]: (3) Plantron pigment General formula [G3]: In the above, X: a halogen atom, a nitro group, a cyano group, an acyl group, or a carboxyl group.

n=0〜4 m=0〜6 2.アズレニウム化合物 アズレニウム化合物は例えば下記公報記載の化 合物である。 n = 0 to 4 m = 0 to 6 2. Azurenium Compound The azurenium compound is, for example, a compound described in the following publication.

(イ)特開昭61-1547 (ロ) 同 61-1548 (ハ) 同 61-15147 (ニ) 同 61-15150 (ホ) 同 61-15151 アズレニウム化合物の具体例としては、例えば 下記一般式のものが挙げられる。 (A) JP-A-61-1547 (b) same 61-1548 (c) same 61-15147 (d) same 61-15150 (e) same 61-15151 Specific examples of azurenium compounds include, for example: There are things.

一般式〔G4〕: 但し、上記一般式中、 R11、R12、R13、R14、R15、R16、R
17 :水素原子、ハロゲン原子、又は有機残基を 表す。又、R11とR12、R12とR13、 R13とR14、R14とR15、R15
16、 R16とR17の組合せのうち、いずれか1つ の組合せで置換又は無置換の縮合環を形成 しても良い。
General formula [G4]: However, in said general formula, R < 11 >, R < 12 >, R <13> , R <14> , R < 15 >, R <16> , R is shown.
17 : represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an organic residue. Also, substituted with any one of the combinations of R 11 and R 12 , R 12 and R 13 , R 13 and R 14 , R 14 and R 15 , R 15 and R 16 , and R 16 and R 17. Alternatively, it may form an unsubstituted fused ring.

Ar、Ar:アリール基を表す。Ar 1 , Ar 2 : represents an aryl group.

18、R19:置換若しくは無置換の続記3種の 基;アルキル基、アリール基、アラルキル基を表 す。又、R18とR19とで窒素原子と共に環を形成 しても良い。R 18 and R 19 represent a substituted or unsubstituted group of the following three groups; an alkyl group, an aryl group and an aralkyl group. Further, R 18 and R 19 may form a ring together with the nitrogen atom.

θ:アニオン残基を表す。L θ : represents an anion residue.

かかるアズレニウム塩の代表的具体例としては、 次のものが挙げられる。 Typical examples of such an azurenium salt include the following.

(1) 3.シアニン色素 シアニン色素は公知であり、例えば特開昭58-1 18650号、同58-224354号、同59-14606号記載の化 合物がある。(1) 3. Cyanine Dyes Cyanine dyes are known, and examples thereof include compounds described in JP-A-58-1 18650, JP-A-58-224354, and JP-A-59-14606.

4.フタロシアニン化合物 有機系光導電材料の一つであるフタロシアニン 系化合物は、他のものに比べ感光域が長波長域に 拡大していることが知られている。そしてα型の フタロシアニン化合物が結晶形の安定なβ型のフ タロシアニン化合物に変わる過程で各種結晶形の フタロシアニン化合物が見出されている。これら の光導電性を示すフタロシアニン系化合物として は、例えば特公昭49-4338号記載のX型無金属フ タロシアニン化合物、特開昭58-182639号、同60- 19151号に記載されているτ、τ′、η、η′型無 金属フタロシアニン化合物、特開昭63-148269号 に記載されているフタロシアニン化合物等の他、 各種の金属フタロシアニン化合物が例示される。4. Phthalocyanine compound It is known that the phthalocyanine compound, which is one of the organic photoconductive materials, has a light-sensitive region expanded to a longer wavelength region than other compounds. Various crystalline forms of phthalocyanine compounds have been found in the process of converting α-type phthalocyanine compounds into crystalline stable β-type phthalocyanine compounds. Examples of these phthalocyanine compounds exhibiting photoconductivity include X-type metal-free phthalocyanine compounds described in JP-B-49-4338, τ described in JP-A-58-182639 and JP-A-60-19151. In addition to the τ ′, η, η ′ type metal-free phthalocyanine compounds, the phthalocyanine compounds described in JP-A-63-148269, various metal phthalocyanine compounds are exemplified.

例えばチタルフタロシアニン化合物について特願 昭62-241938号に記載されているものがある。こ の他、特に半導体レーザに好適なフタロシアニン 化合物を例示する。 For example, there is a tital phthalocyanine compound described in Japanese Patent Application No. 62-241938. In addition to these, phthalocyanine compounds particularly suitable for semiconductor lasers are exemplified.

一般式〔G5〕: 5.アゾ化合物 ジスアゾ化合物として、下記一般式に示すもの が例示される。General formula [G5]: 5. Azo Compound Examples of the disazo compound include those represented by the following general formula.

一般式〔G6〕: Cp−N=M−D−N=N−Cp 但し、Dとしては、 等がある。General formula [G6]: Cp-N = M-D-N = N-Cp However, as D, Etc.

又、その他のアゾ化合物として、下記各一般式 に示すものがある。 Other azo compounds include those represented by the following general formulas.

一般式〔G7〕: 一般式〔G8〕: Cp−N=N−Ar−N=N−Ar−N=N−C
p 一般式〔G9〕: Cp−N=N−Ar−N=N−Ar−N=N−A
−N=N−Cp 但し、Ar、Ar、Arは、それぞれ置換若し くは無置換の次記2種の基;炭素環式芳香族環基、 複素環式芳香族環基を表す。
General formula [G7]: Formula [G8]: Cp-N = N-Ar 3 -N = N-Ar 4 -N = N-C
p general formula [G9]: Cp-N = N-Ar 3 -N = N-Ar 4 -N = N-A
r 5 -N = N-Cp where Ar 3 , Ar 4 , and Ar 5 are each a substituted or unsubstituted group of the following two types; a carbocyclic aromatic ring group, and a heterocyclic aromatic ring Represents a group.

更に、Ar、Ar、Arの具体例を例示する
と、 又、Cp(カプラー)としては、例えば次のよ うなものがある。
Furthermore, exemplifying specific examples of Ar 3 , Ar 4 , and Ar 5 are: The Cp (coupler) is, for example, as follows.

但し、Aとしては、 CGLにおいて、CGMのバインダ物質に対す る含有量比は5/1〜1/10とするのが好ましく、3/1 〜1/3とすると更に好ましい。However, as A, In CGL, the content ratio of CGM to the binder substance is preferably 5/1 to 1/10, and more preferably 3/1 to 1/3.

CGMの含有量比が上記範囲より大きいと黒斑 点等が現れ易くなる。但し、CGMの割合があま り小さいと却って光感度等が低下してしまう。 If the CGM content ratio is larger than the above range, black spots and the like are likely to appear. However, if the ratio of CGM is too small, the photosensitivity and the like will rather deteriorate.

CGLの膜厚は0.1〜10μm以上とすることが好 ましく、0.2〜5μmの範囲内とすることがより好 ましい。CTLの膜厚は10μm以上であることが好 ましい。 The film thickness of CGL is preferably 0.1 to 10 μm or more, more preferably 0.2 to 5 μm. The thickness of the CTL is preferably 10 μm or more.

感光層全体の膜厚は10〜40μmの範囲内とするの が好ましく、15〜30μmの範囲内とすると更に好ま しい。この膜厚が上記範囲内よりも小さいと、薄 いために帯電電位が小さくなり、耐刷性も低下す る傾向がある。又、膜厚が上記範囲よりも大きい と、却って残留電位は上昇する上に、上記したC GLが厚すぎる場合と同様にキャリア移動途中で トラップサイトにつかまり、十分な輸送能が得が たくなる傾向が現れ、このため繰返し使用時には 残留電位の上昇が起こり易くなる。 The thickness of the entire photosensitive layer is preferably in the range of 10 to 40 μm, more preferably 15 to 30 μm. If the film thickness is smaller than the above range, the film thickness is thin and the charging potential becomes small, so that the printing durability tends to be deteriorated. On the other hand, when the film thickness is larger than the above range, the residual potential is rather increased, and moreover, as in the case where the above-mentioned CGL is too thick, it is caught in the trap site during carrier movement and it becomes difficult to obtain sufficient transport ability. There is a tendency that the residual potential is likely to rise during repeated use.

CGL中にCTMをも含有せしめることも可能 である。 It is also possible to include CTM in CGL.

粒状のCGMを分散せしめてPCLを形成する 場合においては、該CGMは2μm以下、好ましく は1μm以下、更に好ましくは0.5μm以下の平均粒 径の粉粒体とされるのが好ましい。 In the case of forming PCL by dispersing granular CGM, the CGM is preferably a powder having an average particle diameter of 2 μm or less, preferably 1 μm or less, more preferably 0.5 μm or less.

又、キャリア輸送層において、キャリア輸送物 質は、バインダ物質との相溶性に優れたものが好 ましい。 Further, in the carrier transport layer, the carrier transport material preferably has excellent compatibility with the binder substance.

これにより、バインダ物質に対する量を多くし ても濁り及び不透明化を生ずることがないので、 バインダ物質との混合割合を非常に広くとること ができ、又、相溶性が優れていることから電荷発 生層が均一、かつ安定であり、結果的に感度、帯 電特性がより良好となり、更に高感度で鮮明な画 像を形成できる感光体をうることができる。 As a result, turbidity and opacity do not occur even if the amount of the binder material is increased, so that the mixing ratio with the binder material can be made extremely wide, and the charge generation is excellent because of the excellent compatibility. It is possible to obtain a photoreceptor in which the green layer is uniform and stable, and as a result, the sensitivity and charge characteristics are improved, and a clear image can be formed with higher sensitivity.

更に、特に反復転写式電子写真に用いたとき、 疲労劣化を生ずることが少ないという作用効果を 奏することができる。 Further, when it is used especially in repetitive transfer type electrophotography, it is possible to obtain the effect that fatigue deterioration is less likely to occur.

本発明で使用可能なCTMは、カルバゾール誘 導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘 導体、チアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、 トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、イミ ダゾロン誘導体、イミダゾリジン誘導体、ビスイ ミダゾリジン誘導体、スチリル化合物、ヒドラゾ ン化合物、ピラゾリン誘導体、オキサゾロン誘導 体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾー ル誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導 体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミ ノスチルベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、 フェニレンジアミン誘導体、スチルベン誘導体、 ポリ-N-ビニルカルバゾール、ポリ-1-ビニルピレ ン、ポリ-9-ビニルアントラセン等から選ばれた 1種又は2種以上であってよい。 CTMs usable in the present invention include carbazole derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, thiazole derivatives, thiadiazole derivatives, triazole derivatives, imidazole derivatives, imidazolone derivatives, imidazolidine derivatives, bisimidazolidine derivatives, styryl compounds, hydrazos. Compounds, pyrazoline derivatives, oxazolone derivatives, benzothiazole derivatives, benzimidazole derivatives, quinazoline derivatives, benzofuran derivatives, acridine derivatives, phenazine derivatives, aminostilbene derivatives, triarylamine derivatives, phenylenediamine derivatives, stilbene derivatives, poly-N It may be one or more selected from -vinylcarbazole, poly-1-vinylpyrene, poly-9-vinylanthracene and the like.

かかるキャリア輸送物質の具体的化合物例は特 開昭63-50851号に記載されている。 Specific examples of such carrier transporting substances are described in JP-B-63-50851.

以下にその一般式を掲げる。 The general formula is given below.

キャリア輸送物質として次の一般式〔T1〕又 は〔T2〕のスチリル化合物が使用可能である。 A styryl compound represented by the following general formula [T1] or [T2] can be used as a carrier-transporting substance.

一般式〔T1〕: 但し、この一般式中、 R21、R22:置換若しくは無置換ま2種の基; アルキル基、アリール基を表し、 置換基としてはアルキル基、アル コキシ基、置換アミノ基、水酸基、 ハロゲン原子、アリール基を用い る。General formula [T1]: However, in this general formula, R 21 and R 22 : two types of groups, substituted or unsubstituted, represent an alkyl group or an aryl group, and as the substituent, an alkyl group, an alkoxy group, a substituted amino group, a hydroxyl group, a halogen atom , An aryl group is used.

Ar15、Ar16:置換若しくは無置換のアリール 基を表し、置換基としてアルキル 基、アルコキシ基、置換アミン基、 水酸基、ハロゲン原子、アリール 基を用いる。Ar 15 and Ar 16 represent a substituted or unsubstituted aryl group, and an alkyl group, an alkoxy group, a substituted amine group, a hydroxyl group, a halogen atom or an aryl group is used as a substituent.

23、R24:置換若しいは無置換のアリール基、 水素原子を表し、置換基としては アルキル基、アルコシキ基、置換 アミノ基、水酸基、ハロゲン原子、 アリール基を用いる。R 23 , R 24 : Substituted or unsubstituted aryl group, represents a hydrogen atom, and as a substituent, an alkyl group, an alkoxy group, a substituted amino group, a hydroxyl group, a halogen atom, or an aryl group is used.

一般式〔T2〕: 但し、この一般式中、 R25:置換若しくは無置換のアリール基、 R26:水素原子、ハロゲン原子、置換若 しくは無置換の3種の基;アルキ ル基、アルコキシ基、アミノ基及 び水酸基、 R27:置換若しくは無置換の2種の基; アルキル基、複素環基を表す。General formula [T2]: However, in this general formula, R 25 : a substituted or unsubstituted aryl group, R 26 : a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted three kinds of groups; an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, and Hydroxyl group, R 27 : two types of substituted or unsubstituted groups; an alkyl group and a heterocyclic group.

又、CTMとして次の一般式〔T3〕、〔T4〕、 〔T4a〕、〔T4b〕又は〔T5〕のヒドラゾン 化合物も使用可能である。 As the CTM, a hydrazone compound represented by the following general formula [T3], [T4], [T4a], [T4b] or [T5] can also be used.

一般式〔T3〕: 但し、この一般式中、 R28及びR29:それぞれ水素原子又はハロゲン 原子、 R30及びR31:それぞれ置換若しくは無置換の アリール基、 Ar17:置換若しくは無置換のアリール 基を表す。General formula [T3]: However, in this general formula, R 28 and R 29 are each a hydrogen atom or a halogen atom, R 30 and R 31 are each a substituted or unsubstituted aryl group, and Ar 17 is a substituted or unsubstituted aryl group.

一般式〔T4〕: 但し、この一般式中、 R32:置換若しくは無置換の3種の基、 カルバゾリル基、複素環基を表し、 R33、R34及びR35:水素原子、アルキル基; アリール基、置換若しくは無置換 の2種の基;アリール基、アラル キル基を表す。General formula [T4]: However, in this general formula, R 32 represents a substituted or unsubstituted group, a carbazolyl group, or a heterocyclic group, and R 33 , R 34, and R 35 are a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted group. Two types of substituted groups; an aryl group and an aralkyl group.

一般式〔T4a〕: 但し、この一般式中、 R36:メチル基、エチル基、2-ヒドロ キシエチル基又は2-クロルエチル 基、 R37:メチル基、エチル基、ベンジル 基又はフェニル基、 R38:メチル基、エチル基、ベンジル 基又はフェニル基を示す。General formula [T4a]: However, in this general formula, R 36 : methyl group, ethyl group, 2-hydroxyethyl group or 2-chloroethyl group, R 37 : methyl group, ethyl group, benzyl group or phenyl group, R 38 : methyl group, ethyl group , Benzyl group or phenyl group.

一般式〔T4b〕: 但し、この一般式中、R39は置換若しくは無置 換のナフチル基;R40は置換若しくは無置換のア ルキル基、アラルキル基、アリール基;R41は水 素原子、アルキル基又はアリール基;R42及びR43 は置換若しくは無置換のアルキル基、アラルキ ル基又はアリール基からなる互いに同一の若しく は異なる基を示す。General formula [T4b]: However, in this general formula, R 39 is a substituted or unsubstituted naphthyl group; R 40 is a substituted or unsubstituted aralkyl group, aralkyl group, or aryl group; R 41 is a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group; R 42 and R 43 represent the same or different groups consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group, aralkyl group or aryl group.

一般式〔T5〕: 但し、この一般式中、 R44:置換若しくは無置換の2種の基; アリール基、複素環基、 R45:水素原子、置換若しくは無置換の 2種の基;アルキル基、アリール 基、 Q:水素原子、ハロゲン原子、アルキ ル基、置換アミノ基、アルコキシ 基又はシアノ基、 S:0又は1の整数を表す。General formula [T5]: However, in this general formula, R 44 : two types of substituted or unsubstituted groups; aryl group, heterocyclic group, R 45 : hydrogen atom, two types of substituted or unsubstituted groups; alkyl group, aryl group, Q : Hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, substituted amino group, alkoxy group or cyano group, S: represents an integer of 0 or 1.

又、CTMとして、次の一般式〔T6〕のピア ゾリン化合物も使用可能である。 Further, as the CTM, a piezoline compound represented by the following general formula [T6] can also be used.

一般式〔T6〕: 但し、この一般式中、 1:0又は1、 R46及びR47:置換若しくは無置換のアリール基、 R48:置換若しくは無置換のアリール基 若しくは複素環基、 R49及びR50:水素原子、炭素原子数1〜4のア ルキル基、又は置換若しくは無置 換のアリール基若しくはアラルキ ル基(但し、R49及びR50は共に 水素原子であることはなく、又前 記1が0のときはR49は水素原子 ではない。) 更に、次の一般式〔T7〕のアミン誘導体も CTMとして使用できる。General formula [T6]: However, in this general formula, 1: 0 or 1, R 46 and R 47 : a substituted or unsubstituted aryl group, R 48 : a substituted or unsubstituted aryl group or a heterocyclic group, R 49 and R 50 : a hydrogen atom An alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a substituted or non-substituted aryl group or aralkyl group (provided that R 49 and R 50 are not both hydrogen atoms, and 1 is 0). In this case, R 49 is not a hydrogen atom.) Furthermore, the amine derivative represented by the following general formula [T7] can also be used as CTM.

一般式〔T7〕: 但し、この一般式中、 Ar18、Ar19:置換若しくは無置換のフェニル基 を表し、置換基としてはハロゲン 原子、アルキル基、ニトロ基、ア ルコキシ基を用いる。General formula [T7]: However, in this general formula, Ar 18 and Ar 19 represent a substituted or unsubstituted phenyl group, and a halogen atom, an alkyl group, a nitro group or an alkoxy group is used as the substituent.

Ar20:置換若しくは無置換のフェニル
基、 ナフチル基、アントリル基、フル オレニル基、複素環基を表し、置 換基としてはアルキル基、アルコ キシ基、ハロゲン原子、水酸基、 アリールオキシ基、アリール基、 アミノ基、ニトロ基、ピペリジノ 基、モルホリノ基、ナフチル基、 アンスリル基及び置換アミノ基を 用いる。
Ar 20 : a substituted or unsubstituted phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a fluorenyl group, or a heterocyclic group, and the substituent is an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a hydroxyl group, an aryloxy group, an aryl group. , An amino group, a nitro group, a piperidino group, a morpholino group, a naphthyl group, an anthryl group and a substituted amino group are used.

但し、置換アミノ基の置換基と してアシル基、アルキル基、アリ ール基を用いる。 However, an acyl group, an alkyl group, or an aryl group is used as the substituent of the substituted amino group.

更に、次の一般式〔T8〕の化合物もCTMと して使用できる。 Further, the compound of the following general formula [T8] can also be used as CTM.

一般式〔T8〕: 但し、この一般式中、 Ar21:置換又は無置換のアリーレン 基を表し、 R51、R52、R53及びR54 :置換若しくは無置換の3種の基; アルキル基、アリール基、アラル キル基を表す。General formula [T8]: However, in this general formula, Ar 21 represents a substituted or unsubstituted arylene group, and R 51 , R 52 , R 53, and R 54 are three types of substituted or unsubstituted groups; an alkyl group, an aryl group, and an aralkyl. Represents a group.

更に、次に一般式〔T9〕:の化合物もCTMと して使用できる。 Further, the compound of the general formula [T9]: can also be used as CTM.

一般式〔T9〕: 但し、この一般式中、R55、R56、R57及びR
58 は、それぞれ水素原子、置換若しくは無置換のア ルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、ア リール基、ベンジル基又はアラルキル基、R59及 びR60は、それぞれ水素原子、置換若しくは無置 換の炭素原子数1〜40のアルキル基、シクロアル キル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、ア リール基又はアラルキル基(但し、R59とR60と が共同して炭素原子数3〜10の飽和若しくは無飽 和の炭化水素環を形成してもよい。) R61、R62、R63及びR64は、それぞれ水素
原 子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、置換若しく は無置換のアルキル基、シクロアルキル基、アル ケニル基、アリール基、アラルキル基、アルコキ シ基、アミノ基、アルキルアミノ基又はアリール アミノ基である。
General formula [T9]: However, in this general formula, R 55 , R 56 , R 57 and R
58 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a benzyl group or an aralkyl group, and R 59 and R 60 are a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted group, respectively. An alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, a cycloalkyl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group, an aryl group or an aralkyl group (provided that R 59 and R 60 are combined to form a saturated group having 3 to 10 carbon atoms or It may form an unsaturated hydrocarbon ring.) R 61 , R 62 , R 63 and R 64 are each a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, cyclo It is an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an amino group, an alkylamino group or an arylamino group.

CTL、CGL中に酸化防止剤を含有せしめる ことができる。 An antioxidant can be contained in CTL and CGL.

これにより放電で発生するオゾンの影響を抑制 でき、繰返し使用時の残留電位上昇や帯電電位の 低下を防止できる。 As a result, the effect of ozone generated by discharge can be suppressed, and the increase in residual potential and the decrease in charging potential during repeated use can be prevented.

酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、 ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、ア リールアルカン、ハイロドキノン、スピロクロマ ン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機 硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられる。 Examples of antioxidants include hindered phenols, hindered amines, paraphenylenediamines, aryl alkanes, hydoquinones, spirochromans, spiroindanones and their derivatives, organic sulfur compounds, and organic phosphorus compounds.

これらの具体的化合物としては、特開昭63-446 62号、同63-14153号、同63-50849号、同63-18355 号、同63-58455号、同63-71856号、同63-71855号 及び、同66-146046号に記載がある。 Specific examples of these compounds include JP-A-63-44662, 63-14153, 63-50849, 63-18355, 63-58455, 63-71856, 63- 71855 and 66-146046.

感光層中に高分子半導体を含有せしめることも できる。 It is also possible to incorporate a polymer semiconductor in the photosensitive layer.

こうした高分子有機半導体のうちポリ-N-ビニ ルカルバゾール又はその半導体が効果が大であり、 好ましく用いられる。かかるポリ-N-ビニルカル バゾール誘導体とは、その繰返し単位における全 部又は一部のカルバゾール環が種々の置換基、例 えばアルキル基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキ シ基又はハロゲン原子によって置換されたもので ある。 Among these polymer organic semiconductors, poly-N-vinylcarbazole or its semiconductor has a great effect and is preferably used. Such a poly-N-vinylcarbazole derivative means that all or part of the carbazole ring in the repeating unit is substituted with various substituents, for example, an alkyl group, a nitro group, an amino group, a hydroxy group or a halogen atom. It is a thing.

又、感光層内に感度の向上、残留電位ないし反 復使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも 1種の電子受容性物質を含有せしめることができ る。 Also, at least one electron-accepting substance may be contained in the photosensitive layer for the purpose of improving sensitivity, reducing residual potential or reducing fatigue during repetitive use.

本発明の感光体に使用可能な電子受容性物質と しては、例えば無水琥珀酸酸、無水マレイン酸、 ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラ クロル無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、 3-ニトロ無水フタル酸、4-ニトロ無水フタル酸、 無水ピロメリット酸、無水メリット酸、テトラシ アノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o-ジ ニトロベンゼン、m-ジニトロベンゼン、1,3,5-ト リニトロベンゼン、パラニトロベンゾニトリル、 ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロ ラニル、ブルマニル、2-メチルナフトキノン、ジ クロルジシアノパラベンゾキノン、アントラキノ ン、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオ レノン、9-フルオレニリデン−〔ジシアノメチレ ンマロノジニトリル〕、ピリニトロ-9-フルオレ ニリデン−〔ジシアノメチリンマロノジニトリル〕、 ピクリン酸、o−ニトロ安息香酸、p-ニトロ安息香 酸、3,5-ジニトロル安息香酸、ペンタフルオル安息 香酸、5-ニトロサリチル酸、3,5-ジニトロサリチ ル酸、フタル酸、メリット酸、その他の電子親和 力の大きい化合物の一種又は二種以上を挙げるこ とができる。これらのうち、フルオレノン系、キ ノン系や、Cl、CN、NO2等の電子吸引性の置換基の あるベンゼン誘導体が特によい。Examples of electron-accepting substances that can be used in the photoreceptor of the present invention include succinic anhydride, maleic anhydride, dibromomaleic anhydride, phthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, 3- Nitrophthalic anhydride, 4-Nitrophthalic anhydride, Pyromellitic anhydride, Mellitic anhydride, Tetracyanoethylene, Tetracyanoquinodimethane, o-Dinitrobenzene, m-Dinitrobenzene, 1,3,5-Trinitrobenzene, Paranitrobenzonitrile, picryl chloride, quinone chlorimide, chloranil, bulmannyl, 2-methylnaphthoquinone, dichlorodicyanoparabenzoquinone, anthraquinone, dinitroanthraquinone, trinitrofluorenone, 9-fluorenylidene- [dicyanomethylene malonodinitrile ], Pyrinitro-9-fluorenyl -[Dicyanomethyline malonodinitrile], picric acid, o-nitrobenzoic acid, p-nitrobenzoic acid, 3,5-dinitrobenzoic acid, pentafluorobenzoic acid, 5-nitrosalicylic acid, 3,5-dinitrosalicylic acid One or more of acids, phthalic acid, mellitic acid, and other compounds having a high electron affinity can be cited. Among these, fluorenone type, quinone type, and benzene derivatives having an electron-withdrawing substituent such as Cl, CN, and NO 2 are particularly preferable.

又、更に表面改質剤としてシリコーンオイル、 弗素系界面活性剤を存在させてもよい。又、耐久 性向上剤としてアンモニウム化合物が含有されて いてもよい。 Further, a silicone oil or a fluorine-based surfactant may be present as a surface modifier. Further, an ammonium compound may be contained as a durability improver.

更に紫外線吸収剤を用いてもよい。 Further, an ultraviolet absorber may be used.

好ましい紫外線吸収剤としては、安息香酸、ス チルベン化合物等及びその誘導体、トリアゾール 化合物、イミダゾール化合物、トリアジン化合物、 クマリン化合物、オキサジアゾール化合物、チア ゾール化合物及びその誘導体等の含窒素化合物類 が用いられる。 Preferred UV absorbers include nitrogen-containing compounds such as benzoic acid, stilbene compounds and their derivatives, triazole compounds, imidazole compounds, triazine compounds, coumarin compounds, oxadiazole compounds, thiazole compounds and their derivatives. ..

感光体の構成層に使用可能なバインダ樹脂とし ては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ア クリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、 酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹 脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカ ボーネート樹脂、メラミン樹脂、メタクリル樹脂、 アクリル樹脂、ポリ塩化ビリニデン、ポリスチレ ン等の付加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型 樹脂並びにこれらの繰返し単位のうち2つ以上を 含む共重合体樹脂、塩化ビニル-酢酸ビニル共重 合体樹脂等の絶縁性樹脂、スチレン-ブタジエン 共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリロニトリ ル共重合体樹脂等、更にはN-ビニルカンバゾール 等の高分子有機半導体、変性シリコーン樹脂等を 挙げることができる。 Examples of the binder resin that can be used in the constituent layers of the photoconductor include polyethylene, polypropylene, acrylic resin, methacrylic resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, alkyd resin, and polycarbonate. Resins, melamine resins, methacrylic resins, acrylic resins, polyvinylidene chloride, polystyrene, etc., addition polymerization resins, polyaddition resins, polycondensation resins and copolymer resins containing two or more of these repeating units, Insulating resins such as vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resins, styrene-butadiene copolymer resins, vinylidene chloride-acrylonitryl copolymer resins, etc., and polymer organic semiconductors such as N-vinyl cambazole, modified silicones. Examples thereof include resins.

上記のバインダは、単独であるいは2種以上の 混合物として用いることができる。 The above binders can be used alone or as a mixture of two or more kinds.

必要に応じて設けられる保護層のバインダとし ては、体積抵抗108Ω・cm以上、好ましくは1010 Ω・cm以上、より好ましくは1013Ω・cm以上の透 明樹脂が用いられる。As the binder for the protective layer provided as necessary, a transparent resin having a volume resistance of 10 8 Ω · cm or more, preferably 10 10 Ω · cm or more, more preferably 10 13 Ω · cm or more is used.

又前記のバインダは熱により硬化する樹脂を用 いてもよく、かかる熱により硬化する樹脂として は、例えば熱硬化性アクリル樹脂、エポキシ樹脂、 ウレタン樹脂、尿素樹脂、ポリエステル樹脂、ア ルキッド樹脂、メラミン樹脂、又はこれらの共重 合若しくは縮合樹脂があり、その他電子写真材料 に供される熱硬化性樹脂の全てが利用される。 Further, the binder may be a resin which is hardened by heat. Examples of the resin which is hardened by heat include thermosetting acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, urea resin, polyester resin, alkyd resin and melamine resin. , Or these copolymers or condensation resins, and all of the other thermosetting resins used for electrophotographic materials can be used.

又、前記保護層中には加工性及び物性の改良 (亀裂防止、柔軟性付与等)を目的として必要に より熱可塑性樹脂を50wt%未満含有せしめること ができる。かかる熱可塑性樹脂としては、例えば ポリプロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、 塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネー ト樹脂又はこれらの共重合体樹脂、ポリ-N-ビニ ルカルバゾール等の高分子有機半導体、その他電 子写真材料に供される熱可塑性樹脂の全てが利用 される。 If necessary, the protective layer may contain less than 50 wt% of a thermoplastic resin for the purpose of improving workability and physical properties (preventing cracks, imparting flexibility, etc.). Examples of the thermoplastic resin include polypropylene, acrylic resin, methacrylic resin, vinyl chloride resin, epoxy resin, polycarbonate resin or copolymer resins thereof, polymer organic semiconductors such as poly-N-vinylcarbazole, and the like. All of the thermoplastic resins used in electrophotographic materials are used.

CGLは、次のような方法によって設けること ができる。 The CGL can be provided by the following method.

(イ)CGM等にバインダ、溶媒を加えて混合溶 解した溶液を塗布する方法。(A) A method in which a binder and a solvent are added to CGM or the like and the solution is mixed and dissolved to be applied.

(ロ)CGM等にボールミル、ホモミキサ、サン ドミル、超音波分散機、アトライタ等によって 分散媒中で微細粒子とし、バインダを加えて混 合分散して得られる分散液を塗布する方法。(B) A method in which CGM or the like is coated with a dispersion liquid obtained by forming fine particles in a dispersion medium with a ball mill, homomixer, sand mill, ultrasonic disperser, attritor, etc., adding a binder and mixing and dispersing.

これらの方法において超音波の作用下に粒子を 分散させると、均一分散が可能になる。 In these methods, if the particles are dispersed under the action of ultrasonic waves, uniform dispersion becomes possible.

又、CTLは、既述のCTMを単独であるいは 既述したバインダ樹脂と共に溶解、分散せしめた ものを塗布、乾燥して形成することができる。 The CTL can be formed by coating and drying the above-mentioned CTM alone or dissolved and dispersed with the above-mentioned binder resin.

この場合、CGL中にCTMを含有せしめる場 合には、上記(イ)の溶液、(ロ)の分散液中に 予めCTMを溶解又は分散せしめる方法、即ちC TL中にCTMを添加する方法がある。この場合 は、CTMに添加量をバインダ100重量部に対し て1〜100重量部の範囲内とするのが好ましい。 In this case, when CTM is contained in CGL, the method of dissolving or dispersing CTM in the solution of (a) or the dispersion of (b) in advance, that is, the method of adding CTM to CTL is used. is there. In this case, the amount of CTM added is preferably in the range of 1 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder.

又、CTMを含有する溶液をCGL上に塗布し、 CGLを膨潤あるいは一部溶解せしめてCTMを CGL内に拡散せしめる方法がある。この方法を 採用した場合には、上述のようにCGL中にCT Mを添加しておく必要はないが、上述の二方法を 同時に行うことも差し支えない。 In addition, there is a method in which a solution containing CTM is applied onto CGL, and CGL is swollen or partially dissolved to diffuse CTM into CGL. When this method is adopted, it is not necessary to add CTM into CGL as described above, but it is also possible to carry out the above two methods at the same time.

層の形成に使用される溶剤あるいは分散媒とし ては、ブチルアミン、ジエチルアミン、エチレン ジアミン、イソプロパノールアミン、トリエタノ ールアミン、トリエチレンジアミン、N,N-ジメチ ルホルムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、 シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレ ン、クロロホルム、1,2-ジクロルエタン、ジクロ ルメタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メ タノール、エタノール、イソプロパノール、酢酸 エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド等を 挙げることができる。 Solvents or dispersion media used for layer formation include butylamine, diethylamine, ethylenediamine, isopropanolamine, triethanolamine, triethylenediamine, N, N-dimethylformamide, acetone, methylethylketone, cyclohexanone, benzene, toluene, xyleamine. And chloroform, 1,2-dichloroethane, dichloromethane, tetrahydrofuran, dioxane, methanol, ethanol, isopropanol, ethyl acetate, butyl acetate, dimethyl sulfoxide and the like.

上記PCL、UCL、OCL等は、例えばブレ ード塗布、ディップ塗布、スプレー塗布、ロール 塗布、スパイラル塗布等により設けることができ る。 The PCL, UCL, OCL and the like can be provided by, for example, blade coating, dip coating, spray coating, roll coating, spiral coating, or the like.

なお、導電性支持体は金属板、金属ドラム又は 導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合 物若しくはアルミニウム、パラジウム、金等の金 属より成る導電性薄層を塗布、蒸着、ラミネート 等の手段により、紙、プラスチックフィルム等の 基体に設けて成るものが用いられる。 The conductive support may be a metal plate, a metal drum, or a conductive polymer, a conductive compound such as indium oxide, or a conductive thin layer made of metal such as aluminum, palladium, or gold, and may be applied by vapor deposition, laminating, or the like. Therefore, the one provided on a substrate such as paper or plastic film is used.

次に、本発明の感光体を用いる記録装置の一例 を第5図に示す。 Next, FIG. 5 shows an example of a recording apparatus using the photoconductor of the present invention.

第6図は電子写真法における反転現像法のフロ ーチャートである。 FIG. 6 is a flow chart of the reversal development method in electrophotography.

第5図の装置において、23は上述した有機光導 電性物質のPCL8とUCL7を有し、矢印方向 に回転するドラム状の像担持体、22は像担持体、 23の表面を一様帯電する帯電器、24は像露光、15 は現像器である。 In the apparatus shown in FIG. 5, reference numeral 23 denotes the above-mentioned organic photoelectric substance PCL8 and UCL7, a drum-shaped image bearing member rotating in the direction of the arrow, 22 an image bearing member, and the surface of 23 is uniformly charged. A charger, 24 is an image exposure unit, and 15 is a developing unit.

20は像担持体23上にトナー像が形成された画像 を記録体Pに転写し易くするために必要に応じて 設けられる転写前露光ランプ、21は転写器、19は 分離用コロナ放電器、12は記録体Pに転写された トナー像を定着させる定着器である。 Reference numeral 20 is a pre-transfer exposure lamp that is provided as necessary to facilitate the transfer of an image having a toner image formed on the image carrier 23 to the recording body P, 21 is a transfer device, 19 is a separation corona discharge device, A fixing device 12 fixes the toner image transferred onto the recording medium P.

13は除電ランプと除電用コロナ放電器の一方又 は両者の組合せからなる除電器、14は像担持体23 の画像を転写した後の表面の残留トナーを除去す るためのクリーニングブレードやファーブラシを 有するクリーニング装置である。 13 is a static eliminator comprising one or a combination of a static eliminator lamp and a corona discharger for static eliminator, and 14 is a cleaning blade or a fur brush for removing the residual toner on the surface of the image carrier 23 after the image is transferred. Is a cleaning device.

像露光を半導体レーザで行う場合、第2図の記 録装置のようにドラム状の像担持体23を用いるも のにあっては、像露光24は、レーザビームスキャ ナによるものが好ましい。 When the image exposure is performed by the semiconductor laser, when the drum-shaped image carrier 23 is used as in the recording device of FIG. 2, the image exposure 24 is preferably performed by the laser beam scanner.

又、像担持体がベルト状のように平面状態をと り得る記録装置にあっては、像露光をフラッシュ 露光とすることもできる。 Further, in a recording device in which the image carrier can take a flat state like a belt, the image exposure can be flash exposure.

以上のような記録装置によって、第6図に示し たような方法を実施することができる。 The recording apparatus as described above can perform the method as shown in FIG.

第6図は、像露光部が背景部よりも低電位の静 電像となる静電像形成法によって静電像が形成さ れ、現像が静電後に背景部電位と同極性に帯電す るトナーが付着することによって行われる、反転 現像の例を示している。 Fig. 6 shows that an electrostatic image is formed by the electrostatic image forming method in which the image exposed portion becomes an electrostatic image having a lower potential than the background portion, and after development is electrostatically charged to the same polarity as the background portion potential. An example of reversal development performed by toner adhesion is shown.

即ち、最初に、除電器13で除電され、クリーニ ング装置14でクリーニングされて、電位が0となっ ている初期状態の像担持体23の表面に、帯電器22 によって一様に帯電を施し、その帯電面に像露光 24を投影して静電像部の電位が略0となる像露光 を行い、得られた静電像を現像器15(トナーT) によって現像する。 That is, first, the surface of the image carrier 23 in the initial state in which the electric charge is removed by the charge remover 13 and cleaned by the cleaning device 14 and the potential is 0 is uniformly charged by the charger 22. Image exposure 24 is projected onto the charged surface to perform image exposure so that the potential of the electrostatic image portion becomes substantially 0, and the obtained electrostatic image is developed by the developing device 15 (toner T).

なお、この画像形成方法は、ハロゲンランプ、 タングステンランプ、LED(発光ダイオード)、 ヘリウム-ネオン、アルゴン、ヘリウム-カドミウ ム等の気体レーザ、半導体レーザ等の各種光源に 対し適用できる。 The image forming method can be applied to various light sources such as a halogen lamp, a tungsten lamp, an LED (light emitting diode), a gas laser such as helium-neon, argon, and helium-cadmium, and a semiconductor laser.

本発明の画像形成方法は、電子写真複写機、プ リンタ等の多種多様の用途を有するものである。 The image forming method of the present invention has various uses such as an electrophotographic copying machine and a printer.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例について更に詳細に説明 するが、これにより本発明は限定されるものでは なく、種々の変形した他の実施例も勿論含むもの である。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto, and naturally includes various modified examples.

まず、表1に記したように、UCLNo.UCL- 1Z〜4Zの計4個の塗布液を調製し、各々0.6 μmのフィルタに瀘過し、UCL用塗布液とした。 First, as shown in Table 1, a total of four coating solutions of UCL No. UCL-1Z to 4Z were prepared, and each was filtered through a 0.6 μm filter to obtain a UCL coating solution.

これらUCL塗布液にアルミニウムドラム(コ ニカLP-3010レーザプリンタ用)を浸漬し、4mg/ dm2になるように引き上げ速度を調節し、UCL を形成した。An aluminum drum (for Konica LP-3010 laser printer) was dipped in these UCL coating solutions and the pulling rate was adjusted to 4 mg / dm 2 to form UCL.

UCL−1Zはロジン変性フェノール樹脂であ りブランクである。 UCL-1Z is a rosin-modified phenolic resin and is a blank.

UCL−2Z及びUCL−3Zについては、浸 漬塗布後、ドラムをゆっくり回転させながら80W/ W/cm出力の集光型中圧水銀灯に約50cmの距離から 紫外線照射を60秒間行ない、付量4mg/dm2になる ようUCLを形成せしめた。For UCL-2Z and UCL-3Z, after dipping, slowly rotate the drum and irradiate ultraviolet rays for 60 seconds to a concentrating medium-pressure mercury lamp with an output of 80W / W / cm from a distance of about 50cm for a coating amount of 4mg. UCL was formed to be / dm 2 .

UCL−4Zについては、浸漬塗布後、ドラム を回転させながら、加速電圧300KV、ビーム電流 10〜15mAのESI(カーテンタイプ方式)の電子線 加速器を用いて吸収線量が3〜10Mradの範囲で電 子線照射を行ない、4mg/dm2になるようUCLを 形成せしめた。For UCL-4Z, after dip coating, using an electron beam accelerator of ESI (curtain type method) with an accelerating voltage of 300 KV and a beam current of 10 to 15 mA while rotating the drum, the absorbed dose is within the range of 3 to 10 Mrad. It was irradiated with rays to form UCL so as to have a dose of 4 mg / dm 2 .

これらUCL塗布済みドラムは各々2本塗布し、 1本は次のCGL重層塗布を行い、他の1本は、 後述する接着性テスト(碁盤目テスト)及び耐溶 剤性テストに供した。 Each of these UCL-coated drums was coated with two drums, one was subjected to the following CGL multilayer coating, and the other was subjected to an adhesiveness test (cross-cut test) and a solvent resistance test described later.

次に表2に示す各CGM40gを各バインダ40gと 各溶媒200mlのポリマー溶液に加えて、サンドグ ラインダにて12時間分散させ、CGL用分散液を 調整した。 Next, 40 g of each CGM shown in Table 2 was added to 40 g of each binder and 200 ml of each solvent in the polymer solution and dispersed for 12 hours with a sand grinder to prepare a CGL dispersion liquid.

この分散液に上記UCLを有するシリンダを浸 漬し、CGL付量5mg/dm2になるよう塗布速度を 調節して塗布した。 A cylinder having the above UCL was immersed in this dispersion liquid, and the coating speed was adjusted so that the amount of CGL was 5 mg / dm 2 .

更に表3に示したCTM200gと表3に記載の樹 脂450gとを1,2-ジクロルエタン1500mlに溶解し、 得られた溶液に、前記CGLまで塗布した各々の ドラムを浸漬し、200μmの膜厚になるよう塗布速 度を調節して塗布し、100℃で1時間乾燥してC TLを形成せしめ、積層型感光体を作成した。 Further, 200 g of CTM shown in Table 3 and 450 g of the resin shown in Table 3 were dissolved in 1500 ml of 1,2-dichloroethane, and each of the drums coated with the CGL was dipped in the obtained solution to obtain a film thickness of 200 μm. The coating speed was adjusted so as to obtain the above coating, and the coating was dried at 100 ° C. for 1 hour to form CTL, thereby preparing a laminated photoreceptor.

最終的な感光体の積層形態は表4に記載し、併 せて、下記に述べる。 The final laminated form of the photoreceptor is shown in Table 4 and also described below.

測定法により、測定した電子写真特性及び、物 性も一緒に示した。 The electrophotographic characteristics and physical properties measured by the measuring method are also shown.

〔特性評価〕[Characteristic evaluation]

実施例及び比較例の各感光体のそれぞれ色「LP −3010」(コニカ社製)改造機(半導体レーザ光 源搭載)に搭載し、Vが−600±10〔V〕になる ようにグリッド電圧を調節し、0.7mWの照射時の 露光面の電位をVとし、現像バイアス−500〔V〕 で反転現像を行い、画像の白地部分の黒ぽちを評 価した。Mounted on the respective color of each of the photosensitive materials of Examples and Comparative Examples, "LP -3 010" (manufactured by Konica Corp.) remodeled machine (the semiconductor laser beam source mounted), grid so V M becomes -600 ± 10 V! The voltage was adjusted, the potential on the exposed surface at the time of irradiation of 0.7 mW was set to VL, and reversal development was performed at a developing bias of -500 [V], and black spots on the white background portion of the image were evaluated.

また、5000回のプリントを行い、5000回のプリン ト後のV、VをV 5000、V■5000とし
た。
In addition, performs a 5000 times of print, V M after the 5000 time of print, the V L was set to V M 5000, V L ■ 5000 .

そして、初期からのV、Vの変位量をそれぞれ ΔV 5000、ΔV 5000とした。Then, the displacement amounts of V M and V L from the initial stage were set to ΔV M 5000 and ΔV L 5000 , respectively.

従って、ΔV 5000=(V 5000+600、ΔV
5000 =(V 5000−V)である。
Therefore, ΔV M 5000 = (V M 5000 +600, ΔV
L 5000 = (V L 5000 −V L ).

なお、黒ぽち(黒斑点)の評価は、画像解析装 置「オムニコン3000形」(島津製作所社製)を用 いて黒ぽちの粒径と個数を測定し、φ(径)0.05 mm以上の黒ぽちが1cm2当たり何個あるかにより 判定した。黒ぽち評価の判定基準は、下記表に示 す通りである。The black spots (black spots) were evaluated by measuring the particle size and number of the black spots using the image analysis device "Omnicon 3000" (manufactured by Shimadzu Corp.), and measuring the black (φ) of 0.05 mm or more. Judgment was made based on how many spots per 1 cm 2 . The criteria for black dot evaluation are as shown in the table below.

なお、黒斑点判定の結果が◎、○であれば実用 になるが、△は実用に適さないことがあり、×で ある場合は実用に適さない。 It should be noted that if the result of the black spot determination is ⊚ or ◯, it is practical, but Δ is not suitable for practical use, and if it is ×, it is not suitable for practical use.

又、UCLの耐溶剤性をみるために、UCLの 塗布、乾燥後に、30秒間、メチルエチルケトンに 浸漬し、この後に電子顕微鏡(SEM)観察を行っ た。浸漬面のUCLが均質に残っているものを◎、 不均質若しくは溶解や剥がれのあるものを△又は ×で示した。 Further, in order to check the solvent resistance of UCL, after coating and drying UCL, it was immersed in methyl ethyl ketone for 30 seconds and then observed with an electron microscope (SEM). The one in which the UCL on the immersion surface remains homogeneous is indicated by ⊚, and the one in which the UCL is inhomogeneous or dissolved or peeled is indicated by Δ or ×.

UCLとPCLの接着性については、基盤目試 験により評価した。すなわち、隣り合う隙間どう しの間隔が1mmのカッタガイドを用い、カッタで 導電性支持体まで縦横に11本平行に傷をつけ、 100個のます目(基盤目)を形成する。その上に 幅24mmのセロテープをはりつけた後、一端から引 剥がす。その時に剥離したます目の数をかぞえて、 100個中で残ったます目の数で表示した。 The adhesiveness between UCL and PCL was evaluated by a substrate test. That is, using a cutter guide with a gap of 1 mm between adjacent gaps, the cutter scratches 11 conductive lines in parallel vertically and horizontally to form 100 squares (base). Stick a cellophane tape with a width of 24 mm on it and peel it off from one end. The number of squares peeled off at that time was counted, and the number of squares remaining in 100 was displayed.

接着性の目安として100/100であれば接着性良 好、0/100であれば不良とみなす。 As a measure of adhesiveness, 100/100 is regarded as good adhesiveness, and 0/100 is regarded as poor.

表4に示す結果によれば、本発明による樹脂を 用いれば、繰返し使用時に、帯電能、感度を良好 に維持でき、かつ黒斑点のない良好な画像、又、 接着性の優れた感光体を提供できることがわかる。 According to the results shown in Table 4, when the resin according to the present invention is used, it is possible to obtain a good image having no charging effect and sensitivity, a good image without black spots, and a good adhesive property when repeatedly used. You can see that it can be provided.

逆に比較用のバインダ樹脂を用いた場合、CG L液塗布後、UCLの一部が溶解するため、重層 塗工性が悪く、又、黒斑点も多く発生した。 On the other hand, when the binder resin for comparison was used, after coating the CGL solution, a part of UCL was dissolved, resulting in poor multi-layer coating property and many black spots.

次に、DC−8010(コニカ社製)用のドラムサ イズで前述した実施例と同様の各感光体を作成し た。そして、これらの各感光体についてDC-8010 で下記に示す各現像条件で画像出しを行ったとこ ろ、各現像条件について、いずれの感光体を用い た場合も、黒斑点のない良好な画像が得られた。 Next, each photosensitive member similar to that of the above-described example was prepared by a drum size for DC-8010 (manufactured by Konica). An image was formed on each of these photoconductors using DC-8010 under the following developing conditions, and no matter what photoconductor was used under each developing condition, a good image without black spots was obtained. Was obtained.

現像は、いわゆる2成分非接触ジャンピング現像 を行った。The development was so-called two-component non-contact jumping development.

現像条件 平均粒径0.1μmのマグネタイト粉末70wt%、バ インダ樹脂としてポリエステル樹脂30wt%を配合、 混練し、破砕造粒して後粒径20〜30μmに分級して キャリアとした。このキャリアの比重は約3.5以 下であった。このキャリアに、U-Bix1800(コニ カ社製)複写機用トナー(ポリエステル樹脂にカー ボンを含有させたトナー)をトナー濃度が20wt% になるように配合し、次の条件下で複写を行った。 Development conditions 70 wt% of magnetite powder having an average particle size of 0.1 μm and 30 wt% of polyester resin as a binder resin were mixed, kneaded, crushed and granulated, and then classified to a particle size of 20 to 30 μm to obtain a carrier. The specific gravity of this carrier was about 3.5 or less. U-Bix1800 (Konika Co.) copier toner (toner containing carbon in polyester resin) was mixed with this carrier to a toner concentration of 20 wt%, and copying was performed under the following conditions. It was

像担持体の周速を60mm/sec、像担持体と現像ス リーブとの間隙を0.3mm、現像剤層厚を0.05mm、 現像スリーブの直径を24mm、その回転数を200rpm とした。 The peripheral speed of the image bearing member was 60 mm / sec, the gap between the image bearing member and the developing sleeve was 0.3 mm, the developer layer thickness was 0.05 mm, the developing sleeve diameter was 24 mm, and the rotation speed was 200 rpm.

現像バイアス等については以下の3種類の条件 とした。 The developing bias and the like were set under the following three conditions.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図〜第7図は実施例を説明するためのもの であって、第1図(A)、第1図(B)はそれぞ れハンドモデルを用いてキャリアの移動を模式的 に示す模式図、 第2図、第3図、第4図は本発明に使用する各 感光体の一部分の断面図、 第5図は像形成装置の概略図、 第6図は像形成の過程を示すフローチャート、 第7図は従来の感光体を示す一部断面図である。 第8図は従来の他の感光体の一部を拡大して示 す断面図である。 なお、図面に示す符号において、 1………導電性基体 4………キャリア輸送層(CTL) 6………キャリア発生層(CGL) 7………下引層(UCL) 8………感光層(PCL) である。 FIGS. 1 to 7 are for explaining the embodiment, and FIGS. 1 (A) and 1 (B) each schematically show the movement of the carrier by using the hand model. Schematic views, FIG. 2, FIG. 3, and FIG. 4 are sectional views of a part of each photoconductor used in the present invention, FIG. 5 is a schematic view of an image forming apparatus, and FIG. 6 shows an image forming process. A flow chart, FIG. 7 is a partial cross-sectional view showing a conventional photoconductor. FIG. 8 is an enlarged sectional view showing a part of another conventional photoconductor. In the drawings, reference numerals 1 ... Conductive substrate 4 ... Carrier transport layer (CTL) 6 ... Carrier generation layer (CGL) 7 ... Undercoat layer (UCL) 8 ... Photosensitivity Layer (PCL).

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電性支持体上に少くとも下引層と感光
層 とが設けられている感光体において、前記下引 層が放射線感応性不飽和二重結合のアクリル系 二重結合、アリル系二重結合、マレイン酸系二 重結合の少なくとも一種を有する放射線硬化型 樹脂及び/又はそのプレポリマー、オリゴマー よりなるポリマーから形成されていることを特 徴とする感光体。
1. A photoreceptor having a conductive support and at least an undercoat layer and a photosensitive layer provided thereon, wherein the undercoat layer is an acrylic double bond of a radiation-sensitive unsaturated double bond, allyl. A photoconductor characterized by being formed from a polymer comprising a radiation curable resin having at least one of a double bond and a maleic double bond and / or a prepolymer thereof or an oligomer.
【請求項2】 前記ポリマーの主骨格部分が、ポリビニ
ル アルコール系、ケタール樹脂系、セルロース系 樹脂、プルラン系樹脂、アルキッド樹脂、ポリ カプロラクト系樹脂、スピラン系樹脂、縮合重 合系樹脂から選ばれた構造からなる請求項1記 載の感光体。
2. The main skeleton portion of the polymer is selected from polyvinyl alcohol-based, ketal resin-based, cellulose-based resin, pullulan-based resin, alkyd resin, polycaprolact-based resin, spirane-based resin, and condensation-polymer resin. The photoconductor according to claim 1, which has a structure.
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