JPH0562246A - 光デイスク用オーバーコート剤、それを用いた光デイスクおよびその製造方法 - Google Patents
光デイスク用オーバーコート剤、それを用いた光デイスクおよびその製造方法Info
- Publication number
- JPH0562246A JPH0562246A JP3103645A JP10364591A JPH0562246A JP H0562246 A JPH0562246 A JP H0562246A JP 3103645 A JP3103645 A JP 3103645A JP 10364591 A JP10364591 A JP 10364591A JP H0562246 A JPH0562246 A JP H0562246A
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- optical disk
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 硬度、耐湿性が優れ、かつ、プラスチック製
基板との接着力が大きいオーバーコートが形成できるオ
ーバーコート剤、それを塗布した光ディスク、およびそ
の製造方法を提供すること。 【構成】 下記化学式で表わされる各種のアクリレート
単量体混合物と光重合開始剤および溶剤からなる光ディ
スク用オーバーコート剤。 【化１】
基板との接着力が大きいオーバーコートが形成できるオ
ーバーコート剤、それを塗布した光ディスク、およびそ
の製造方法を提供すること。 【構成】 下記化学式で表わされる各種のアクリレート
単量体混合物と光重合開始剤および溶剤からなる光ディ
スク用オーバーコート剤。 【化１】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光デイスクにオーバー
コート層を形成するのに適する紫外線硬化型樹脂組成物
およびそれを用いた光ディスクとその製造方法に関す
る。
コート層を形成するのに適する紫外線硬化型樹脂組成物
およびそれを用いた光ディスクとその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】光ディスク用オーバーコート剤に要求さ
れる特性としては、硬度、耐湿性、記録層に対する接着
性等が挙げられる。ＵＶ（紫外線）硬化型樹脂は硬化の
際に架橋させることが可能で硬度、耐湿性に優れた被膜
を得られる。更に、大気中で短時間のうちに被膜形成が
可能なことから量産性にも優れているため、近年オーバ
ーコート剤として使用されている。ＵＶ硬化樹脂には各
種の樹脂系が考えられるがそのうち実用的なものはアク
リレート系（メタクリレートを含む）とエポキシ系であ
る。特にアクリレート系は反応性（硬化性）が良好で樹
脂の種類も豊富であることから各種用途に適用しやす
く、最もよく用いられている。但しアクリレート系は硬
化反応がラジカル重合によっているため、空気中の酸素
により反応阻害が生じやすく、オーバーコートのように
大気に接しながら硬化させる場合、樹脂組成によっては
硬化不良が生ずることがある。
れる特性としては、硬度、耐湿性、記録層に対する接着
性等が挙げられる。ＵＶ（紫外線）硬化型樹脂は硬化の
際に架橋させることが可能で硬度、耐湿性に優れた被膜
を得られる。更に、大気中で短時間のうちに被膜形成が
可能なことから量産性にも優れているため、近年オーバ
ーコート剤として使用されている。ＵＶ硬化樹脂には各
種の樹脂系が考えられるがそのうち実用的なものはアク
リレート系（メタクリレートを含む）とエポキシ系であ
る。特にアクリレート系は反応性（硬化性）が良好で樹
脂の種類も豊富であることから各種用途に適用しやす
く、最もよく用いられている。但しアクリレート系は硬
化反応がラジカル重合によっているため、空気中の酸素
により反応阻害が生じやすく、オーバーコートのように
大気に接しながら硬化させる場合、樹脂組成によっては
硬化不良が生ずることがある。
【０００３】特開昭５６−１４１３０９においては大気
中でも高硬度の架橋硬化被膜が得られる樹脂組成として
下記のものが開示されている。 １）ポリペンタエリスリトールのポリアクリレート、 ２）トリメチロールアルカンと直鎖ジカルボン酸のエス
テルのポリアクリレート、 ３）低粘度のモノアクリレート、 ４）光増感剤 からなるアクリレート系ＵＶ硬化樹脂組成物。
中でも高硬度の架橋硬化被膜が得られる樹脂組成として
下記のものが開示されている。 １）ポリペンタエリスリトールのポリアクリレート、 ２）トリメチロールアルカンと直鎖ジカルボン酸のエス
テルのポリアクリレート、 ３）低粘度のモノアクリレート、 ４）光増感剤 からなるアクリレート系ＵＶ硬化樹脂組成物。
【０００４】この組成の特徴はアクリロイルオキシ基
（ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ−）を１分子中に３個以上有する
多官能アクリレート１）及び２）によって重合速度を上
げているところにある。ところが１）、２）とも粘度が
かなり高いため、低粘度のモノアクリレート３）を加え
て粘度を下げている。光デイスクのオーバーコート剤と
して用いるためにはスピンコートが可能な粘度（例えば
２００センチポアズ）にまで下げる必要があり、そのた
めにはモノアクリレートの添加量が多くなりすぎて大気
中での硬化性が悪くなる。それとともにモノアクリレー
ト添加による架橋密度低下に起因する硬度不足という問
題も生ずる。更に前記特開昭５６−１４１３０９におい
てはプラスチックのハードコートを主目的としているた
め記録層に対する接着性に関しては考慮されていない。
（ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ−）を１分子中に３個以上有する
多官能アクリレート１）及び２）によって重合速度を上
げているところにある。ところが１）、２）とも粘度が
かなり高いため、低粘度のモノアクリレート３）を加え
て粘度を下げている。光デイスクのオーバーコート剤と
して用いるためにはスピンコートが可能な粘度（例えば
２００センチポアズ）にまで下げる必要があり、そのた
めにはモノアクリレートの添加量が多くなりすぎて大気
中での硬化性が悪くなる。それとともにモノアクリレー
ト添加による架橋密度低下に起因する硬度不足という問
題も生ずる。更に前記特開昭５６−１４１３０９におい
てはプラスチックのハードコートを主目的としているた
め記録層に対する接着性に関しては考慮されていない。
【０００５】本発明者はこれらの問題を解決すべく、特
願平０１−３１３１４８号において硬度耐湿性、記録層
に対する接着性に優れ、かつ大気中で硬化可能な低粘度
のオーバーコート剤を提案した。ところで光ディスクの
記録層上あるいは保護層上にオーバーコートを施す場
合、通常図１のように内、外周の部分はオーバーコート
と基板が直接接している。従ってオーバーコートと基板
との密着性も重要である。上記特願平０１−３１３１４
８号においてはこの点に関して考慮が不足していた。
願平０１−３１３１４８号において硬度耐湿性、記録層
に対する接着性に優れ、かつ大気中で硬化可能な低粘度
のオーバーコート剤を提案した。ところで光ディスクの
記録層上あるいは保護層上にオーバーコートを施す場
合、通常図１のように内、外周の部分はオーバーコート
と基板が直接接している。従ってオーバーコートと基板
との密着性も重要である。上記特願平０１−３１３１４
８号においてはこの点に関して考慮が不足していた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、硬度、耐湿
性が優れているうえに、基板との接着性も優れたオーバ
ーコートを形成できるオーバーコート剤及びそれを用い
た光ディスクおよびその製造方法を提供しようとするも
のである。
性が優れているうえに、基板との接着性も優れたオーバ
ーコートを形成できるオーバーコート剤及びそれを用い
た光ディスクおよびその製造方法を提供しようとするも
のである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の構成は、特許請求の範囲に記載のとおりの一
般式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩおよび式ＩＶで表わされる成分か
らなる単量体混合物、光重合開始剤および非水系溶剤か
らなる光ディスク用オーバーコート剤、それを用いた光
ディスクおよびその製造方法である。
の本発明の構成は、特許請求の範囲に記載のとおりの一
般式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩおよび式ＩＶで表わされる成分か
らなる単量体混合物、光重合開始剤および非水系溶剤か
らなる光ディスク用オーバーコート剤、それを用いた光
ディスクおよびその製造方法である。
【０００８】本発明における一般式Ｉ）及びＩＩ）の成
分はアクリロイルオキシ基が１分子中に３つ以上のいわ
ゆる多官能モノマーであり、この２つのみで組成物を構
成した場合大気中での硬化性は非常に優れたものとな
る。しかしながら粘度が高すぎるためスピンコートに向
かず、又官能基密度が高いことから硬化収縮が大きいた
め反り、密着不良といった問題が生ずる。
分はアクリロイルオキシ基が１分子中に３つ以上のいわ
ゆる多官能モノマーであり、この２つのみで組成物を構
成した場合大気中での硬化性は非常に優れたものとな
る。しかしながら粘度が高すぎるためスピンコートに向
かず、又官能基密度が高いことから硬化収縮が大きいた
め反り、密着不良といった問題が生ずる。
【０００９】これらの問題を解消するため、ＩＩＩ）及
びＩＶ）の成分を加える。ＩＩＩ）、ＩＶ）はともに
Ｉ）に比較して低粘度であるため組成物の粘度を下げる
効果がある。又、Ｉ）、ＩＩ）に比較して官能基密度が
低いため硬化収縮を緩和する。特に単官能モノマーであ
るＩＶ）は低粘度で緩和効果も大きいが、Ｉ）、ＩＩ）
に対しＩＶ）を単独で加えて粘度低下をはかると架橋密
度が大幅に減少するため硬化性、硬度、耐湿性の面で問
題が生ずる。従ってＩＩＩ）、ＩＶ）はともに用いる必
要がある。更にＩＩＩ）、ＩＶ）はともにいわゆるエポ
キシアクリレートであり、アクリレートの中ではウレタ
ンアクリレートと並んで酸素による重合阻害を受けにく
いものであるため、添加による硬化性の低下は他の汎用
アクリレートに比べると小さい。又、記録層は相変化材
料、光磁気材料といった無機材料の場合が多く、記録層
に直接あるいはＳｉＯ、ＳｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｎＳ等
の保護層を介してオーバーコートを施すとき、その密着
性はＩＩＩ）、ＩＶ）、のもつ−ＯＨ基により確保され
る。
びＩＶ）の成分を加える。ＩＩＩ）、ＩＶ）はともに
Ｉ）に比較して低粘度であるため組成物の粘度を下げる
効果がある。又、Ｉ）、ＩＩ）に比較して官能基密度が
低いため硬化収縮を緩和する。特に単官能モノマーであ
るＩＶ）は低粘度で緩和効果も大きいが、Ｉ）、ＩＩ）
に対しＩＶ）を単独で加えて粘度低下をはかると架橋密
度が大幅に減少するため硬化性、硬度、耐湿性の面で問
題が生ずる。従ってＩＩＩ）、ＩＶ）はともに用いる必
要がある。更にＩＩＩ）、ＩＶ）はともにいわゆるエポ
キシアクリレートであり、アクリレートの中ではウレタ
ンアクリレートと並んで酸素による重合阻害を受けにく
いものであるため、添加による硬化性の低下は他の汎用
アクリレートに比べると小さい。又、記録層は相変化材
料、光磁気材料といった無機材料の場合が多く、記録層
に直接あるいはＳｉＯ、ＳｉＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、ＺｎＳ等
の保護層を介してオーバーコートを施すとき、その密着
性はＩＩＩ）、ＩＶ）、のもつ−ＯＨ基により確保され
る。
【００１０】更に基板材料を溶解もしくは膨潤させ得る
溶剤を加えることにより基板との密着性を向上すること
ができる。添加する溶剤は非水系溶剤でその沸点が１２
０℃以下のものを選ぶことにより−ＯＨ基の多い本発明
のアクリレート組成からの脱理が容易になるためスピン
コート後特別な乾燥工程を必要とせず直ちにＵＶ硬化を
行うことが可能となる。また、アクリレート組成物は一
般に高価なためスピンコート塗布液の回収、再利用の必
要性が生ずることが多い。無溶剤系の場合は単純に回
収、再利用可能であるが、含溶剤系の場合溶剤の散逸が
あるため、再利用の際の塗布液組成の管理に注意を要す
る。添加溶剤を１種類に限定することにより回収液に対
する溶剤の追加量を粘度測定によって簡単に決定でき
る。
溶剤を加えることにより基板との密着性を向上すること
ができる。添加する溶剤は非水系溶剤でその沸点が１２
０℃以下のものを選ぶことにより−ＯＨ基の多い本発明
のアクリレート組成からの脱理が容易になるためスピン
コート後特別な乾燥工程を必要とせず直ちにＵＶ硬化を
行うことが可能となる。また、アクリレート組成物は一
般に高価なためスピンコート塗布液の回収、再利用の必
要性が生ずることが多い。無溶剤系の場合は単純に回
収、再利用可能であるが、含溶剤系の場合溶剤の散逸が
あるため、再利用の際の塗布液組成の管理に注意を要す
る。添加溶剤を１種類に限定することにより回収液に対
する溶剤の追加量を粘度測定によって簡単に決定でき
る。
【００１１】
【実施例】以下、実施例によって本発明を具体的に説明
する。なお実施例に記載の各成分の量（部）は重量部で
ある。
する。なお実施例に記載の各成分の量（部）は重量部で
ある。
【００１２】実施例１ 直径１３０ｍｍのポリカーボネート射出成形ディスク基
板上にスパッタリングによりＳｉＯ2下引層、Ｇｅ−Ｓ
ｂ−Ｔｅ系相変化型記録層、ＳｉＯ2保護層を積層し
た。ＳｉＯ2保護層の存在範囲は直径５０ｍｍ〜直径１
２６ｍｍの範囲とした。
板上にスパッタリングによりＳｉＯ2下引層、Ｇｅ−Ｓ
ｂ−Ｔｅ系相変化型記録層、ＳｉＯ2保護層を積層し
た。ＳｉＯ2保護層の存在範囲は直径５０ｍｍ〜直径１
２６ｍｍの範囲とした。
【００１３】これに塗布するオーバーコート剤の組成は
下記のとおりである。 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ２０部 ペンタエリスリトールトリアクリレート ２０部 ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレート ７部 モノアクリレートＩＶ） ３部 ２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン ３部 トルエン ５０部
下記のとおりである。 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ２０部 ペンタエリスリトールトリアクリレート ２０部 ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレート ７部 モノアクリレートＩＶ） ３部 ２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン ３部 トルエン ５０部
【００１４】上記成分を混合したＵＶ硬化型オーバーコ
ート剤を前記保護層上にスピンコートし、８０Ｗ／ｃｍ
高圧水銀灯（ウシオ電気製ラピッドキュア２０００）を
用い照射距離１５ｃｍ照射時間２０ｓｅｃで硬化させ
た。このディスクについて６０℃９０％１０００時間の
耐湿保存試験を行った。実施例２、３ オーバーコート
剤組成のみ記す
ート剤を前記保護層上にスピンコートし、８０Ｗ／ｃｍ
高圧水銀灯（ウシオ電気製ラピッドキュア２０００）を
用い照射距離１５ｃｍ照射時間２０ｓｅｃで硬化させ
た。このディスクについて６０℃９０％１０００時間の
耐湿保存試験を行った。実施例２、３ オーバーコート
剤組成のみ記す
【００１５】実施例２ ジペンタエリスリトールペンタアクリレート ２５部 トリメチロールプロパントリアクリレート １５部 ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレート ７部 モノアクリレートＩＶ） ３部 １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ３部 酢酸エチル ５０部
【００１６】実施例３ ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ヘキサアクリレート混合物 １５部 トリメチロールプロパントリアクリレート １５部 ブタンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレート １０部 ２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン ２部 酢酸メチル ６０部
【００１７】実施例４ 直径１２０ｍｍのポリカーボネート射出成形ディスク基
板上にシアニン色素記録層を設け、更にその上にスパッ
タリングによりＡｕの反射層を設けた。シアニン色素及
びＡｕの存在範囲は直径４４ｍｍ〜直径１１８ｍｍの範
囲である。その他は実施例１と同様とした。
板上にシアニン色素記録層を設け、更にその上にスパッ
タリングによりＡｕの反射層を設けた。シアニン色素及
びＡｕの存在範囲は直径４４ｍｍ〜直径１１８ｍｍの範
囲である。その他は実施例１と同様とした。
【００１８】比較例１ 実施例１においてオーバーコート剤組成を ジペンタエリスリトールペンタアクリレート ４０部 トリメチロールプロパントリアクリレート ２０部 ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレート ３０部 モノアクリレートＩＶ） １０部 １−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン ６部 としたもの。
【００１９】比較例２ 実施例１においてオーバーコート剤組成を ジペンタエリスリトールペンタアクリレート ４０部 トリメチロールプロパントリアクリレート ２０部 ヘキサンジオールジアクリレート ３０部 ベンジルアクリレート １０部 ２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン ６部 としたもの。
【００２０】評価結果を表１に示す。
【表１】
【００２１】なお本発明のオーバーコート剤は記録層と
反対側の基板表面に対するハードコート剤としても使用
できる。
反対側の基板表面に対するハードコート剤としても使用
できる。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のオーバー
コート剤を用いることによって、硬度が高く、耐湿性が
優れ、かつ、基板に強く接着しているオーバーコート層
ができる。
コート剤を用いることによって、硬度が高く、耐湿性が
優れ、かつ、基板に強く接着しているオーバーコート層
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のオーバーコート剤を用いて作製した光
ディスクの一部の断面の模式図である。
ディスクの一部の断面の模式図である。
１ ディスク基板 ２ 記録層 ３ 保護層 ４ オーバーコート ５ 中心孔
Claims (3)
- 【請求項１】プラスチック基板を有する光デイスクに塗
布するためのオーバーコート剤であって、下記成分
ａ）、ｂ）およびｃ）からなることを特徴とする光デイ
スク用オーバーコート剤。 ａ）下記一般式Ｉで示されるペンタ及び／又はヘキサアクリレート ５〜５０重量部 下記一般式ＩＩで示されるトリアクリレート １０〜６０重量部 下記一般式ＩＩＩで示されるジアクリレート １０〜４０重量部 下記式ＩＶで示されるモノアクリレート ０〜３０重量部 とからなる単量体混合物、 ｂ）この単量体混合物１００重量部に対して、少なくとも一種以上の光重合開 始剤、 ２〜８重量部 ｃ）上記プラスチック基板材料を溶解または膨潤させ得
る、沸点１２０℃以下の非水系溶剤のうちから選ばれる
一つの溶剤、 【化１】 ｛ただし、Ｒ1〜Ｒ6のうち少なくとも５つはアクリロイ
ルオキシ基（ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ−）で、残りは−ＯＨ
基である。｝ 【化２】 （ただし、Ｒ7は−ＯＨ基又は−ＣＨ3基であり、Ｒ8〜
Ｒ10はアクリロイルオキシ基である。） 【化３】 （ただし、Ｒ11、Ｒ12はアクリロイルオキシ基であり、
ｎは４〜８の整数である。） 【化４】 - 【請求項２】 請求項１記載のオーバーコート剤を塗布
することによって、オーバーコート層を備える光ディス
クを製造する方法において、塗布工程から回収したオー
バーコート剤の粘度を測定することによってその組成変
化を検知し、所望組成になるように溶剤を追加した後こ
れを再び使用することを特徴とする光ディスクの製造方
法。 - 【請求項３】 プラスチック基板の片面に記録層を有
し、その記録層面上および記録層とは反対の基板面上
に、請求項１記載のオーバーコート剤を塗布して形成し
たオーバーコート層を有する光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3103645A JPH0562246A (ja) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | 光デイスク用オーバーコート剤、それを用いた光デイスクおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3103645A JPH0562246A (ja) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | 光デイスク用オーバーコート剤、それを用いた光デイスクおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0562246A true JPH0562246A (ja) | 1993-03-12 |
Family
ID=14359512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3103645A Pending JPH0562246A (ja) | 1991-04-10 | 1991-04-10 | 光デイスク用オーバーコート剤、それを用いた光デイスクおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0562246A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004355753A (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-16 | Tdk Corp | 光記録媒体用コーティング材料の濾過方法、濾過装置、光記録媒体のコーティング方法、コーティング装置 |
-
1991
- 1991-04-10 JP JP3103645A patent/JPH0562246A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004355753A (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-16 | Tdk Corp | 光記録媒体用コーティング材料の濾過方法、濾過装置、光記録媒体のコーティング方法、コーティング装置 |
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