JPH0562637A - ２次電子顕微鏡 - Google Patents
２次電子顕微鏡Info
- Publication number
- JPH0562637A JPH0562637A JP3253196A JP25319691A JPH0562637A JP H0562637 A JPH0562637 A JP H0562637A JP 3253196 A JP3253196 A JP 3253196A JP 25319691 A JP25319691 A JP 25319691A JP H0562637 A JPH0562637 A JP H0562637A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- observed
- primary electron
- secondary electron
- electron microscope
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来の２次電子顕微鏡のように、被観察物に
１次電子ビームを連続的に照射することによる被観察物
表面の帯電を抑制するため、１次電子ビームを断続的に
照射できる２次電子顕微鏡を得る。 【構成】 この発明に係る２次電子顕微鏡は、１次電子
ビーム７が被観察物に照射される前に、遮断電圧発生器
１５と遮断電極１４からなる、１次電子ビームを遮断で
きる機構を持たせ、１次電子ビームが連続的に被観察物
に照射されることを防ぎ、断続的に照射できるような構
成になっている。
１次電子ビームを連続的に照射することによる被観察物
表面の帯電を抑制するため、１次電子ビームを断続的に
照射できる２次電子顕微鏡を得る。 【構成】 この発明に係る２次電子顕微鏡は、１次電子
ビーム７が被観察物に照射される前に、遮断電圧発生器
１５と遮断電極１４からなる、１次電子ビームを遮断で
きる機構を持たせ、１次電子ビームが連続的に被観察物
に照射されることを防ぎ、断続的に照射できるような構
成になっている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、２次電子顕微鏡（Ｓ
ＥＭ）に関し、特に被観察物の帯電を抑制できるように
したものに関するものである。
ＥＭ）に関し、特に被観察物の帯電を抑制できるように
したものに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図５は従来の２次電子顕微鏡の基本構成
を示したものである。図４において、１は被観察物、２
は電子ビーム源、３は電子ビームのＸ軸偏向電極、４は
Ｙ軸偏向電極、５はＸ軸偏向電圧発生器、６はＹ軸偏向
電圧発生器、７は１次電子ビーム、８は２次電子、９は
２次電子検出器、１０は２次電子検出信号増幅器、１１
は２次電子像観察用モニタである。図６は２次電子像観
察における、被観察物の１次電子ビームの照射方法につ
いて示したものである。図６において、１２は被観察物
上に形成される１次電子ビームの軌跡を示したものであ
り、１３は１次電子ビームが照射される領域を示したも
のである。図７はＸ軸偏向電極に印加されるＸ軸偏向電
圧の電圧波形を示したものである。図８はＹ軸偏向電極
に印加されるＹ軸偏向電圧の電圧波形を示したものであ
る。図９は被観察物の観察領域に照射される１次電子ビ
ームの照射電流と時間の関係を示したものである。
を示したものである。図４において、１は被観察物、２
は電子ビーム源、３は電子ビームのＸ軸偏向電極、４は
Ｙ軸偏向電極、５はＸ軸偏向電圧発生器、６はＹ軸偏向
電圧発生器、７は１次電子ビーム、８は２次電子、９は
２次電子検出器、１０は２次電子検出信号増幅器、１１
は２次電子像観察用モニタである。図６は２次電子像観
察における、被観察物の１次電子ビームの照射方法につ
いて示したものである。図６において、１２は被観察物
上に形成される１次電子ビームの軌跡を示したものであ
り、１３は１次電子ビームが照射される領域を示したも
のである。図７はＸ軸偏向電極に印加されるＸ軸偏向電
圧の電圧波形を示したものである。図８はＹ軸偏向電極
に印加されるＹ軸偏向電圧の電圧波形を示したものであ
る。図９は被観察物の観察領域に照射される１次電子ビ
ームの照射電流と時間の関係を示したものである。
【０００３】従来の２次電子顕微鏡においては、図５に
示すように、電子ビーム源２から発生した１次電子ビー
ムをＸ軸偏向電極３，Ｙ軸偏向電極４によって偏向し
て、被観察物１に照射し、そこから発生する２次電子を
２次電子検出器９によって検出し、２次電子検出信号増
幅器１０によって増幅された信号を２次電子像として、
２次電子像観察用モニタ１１で観察していた。Ｘ軸偏向
電極３にはＸ軸偏向電圧発生器５から電圧が供給され、
Ｙ軸偏向電極４にはＹ軸偏向電圧発生器６から電圧が供
給されている。被観察物への１次電子ビームの照射範囲
は図６に示された点線内の領域であり、被観察物上のＡ
点からＢ点（Ｘ軸方向）に向かって、１次電子ビームが
走査された後、Ａ点からＹ軸方向にずれたＣ点から直ち
にＤ点（Ｘ軸方向）に向かって走査される。このような
走査がＥ点まで行われる。図６に示したＡ点に１次電子
ビームが照射されるとき、Ｘ軸偏向電極に印加される電
圧は図７にＶ1 で示された電圧であり、同様に、Ｂ点の
場合はＶ2 で示された電圧である。図６に示したＡ点に
１次電子ビームが照射されるとき、Ｙ軸偏向電極に印加
される電圧は図８にＶ3 で示された電圧であり、同様
に、Ｅ点の場合はＶ4 で示された電圧である。図６に示
したＡ点からＥ点まで、１次電子ビームが照射される時
間は図８に示されているｔ1 である。図７，図８の電圧
波形に示されているように、電圧波形は時間ｔ1 を１周
期として、連続的に繰り返される。従って、１次電子ビ
ームは図６のＡ点からＥ点までを繰り返して連続的に照
射されることがわかる。
示すように、電子ビーム源２から発生した１次電子ビー
ムをＸ軸偏向電極３，Ｙ軸偏向電極４によって偏向し
て、被観察物１に照射し、そこから発生する２次電子を
２次電子検出器９によって検出し、２次電子検出信号増
幅器１０によって増幅された信号を２次電子像として、
２次電子像観察用モニタ１１で観察していた。Ｘ軸偏向
電極３にはＸ軸偏向電圧発生器５から電圧が供給され、
Ｙ軸偏向電極４にはＹ軸偏向電圧発生器６から電圧が供
給されている。被観察物への１次電子ビームの照射範囲
は図６に示された点線内の領域であり、被観察物上のＡ
点からＢ点（Ｘ軸方向）に向かって、１次電子ビームが
走査された後、Ａ点からＹ軸方向にずれたＣ点から直ち
にＤ点（Ｘ軸方向）に向かって走査される。このような
走査がＥ点まで行われる。図６に示したＡ点に１次電子
ビームが照射されるとき、Ｘ軸偏向電極に印加される電
圧は図７にＶ1 で示された電圧であり、同様に、Ｂ点の
場合はＶ2 で示された電圧である。図６に示したＡ点に
１次電子ビームが照射されるとき、Ｙ軸偏向電極に印加
される電圧は図８にＶ3 で示された電圧であり、同様
に、Ｅ点の場合はＶ4 で示された電圧である。図６に示
したＡ点からＥ点まで、１次電子ビームが照射される時
間は図８に示されているｔ1 である。図７，図８の電圧
波形に示されているように、電圧波形は時間ｔ1 を１周
期として、連続的に繰り返される。従って、１次電子ビ
ームは図６のＡ点からＥ点までを繰り返して連続的に照
射されることがわかる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の２次電子顕微鏡
においては、図７及び図８に示されたような偏向電圧に
よって１次電子ビームを偏向していたため、被観察物に
照射される１次電子ビーム電流が図９に示すようにな
り、たえず被観察物の表面に電子ビームが照射されてい
る。そのため、被観察物表面の帯電が顕著となる。帯電
前の１次電子ビームの照射位置を図１０に、帯電後の照
射位置を図１１に示す。図１１に斜線で示された部分は
１次電子ビームによる帯電を示している。帯電の程度は
被観察物上への１次電子ビームの照射電流量に比例して
大きくなる。従って、図１０，図１１に示したように、
１次電子ビームの被観察物上への照射位置が帯電前と帯
電後で大きく変わるという問題点があった。
においては、図７及び図８に示されたような偏向電圧に
よって１次電子ビームを偏向していたため、被観察物に
照射される１次電子ビーム電流が図９に示すようにな
り、たえず被観察物の表面に電子ビームが照射されてい
る。そのため、被観察物表面の帯電が顕著となる。帯電
前の１次電子ビームの照射位置を図１０に、帯電後の照
射位置を図１１に示す。図１１に斜線で示された部分は
１次電子ビームによる帯電を示している。帯電の程度は
被観察物上への１次電子ビームの照射電流量に比例して
大きくなる。従って、図１０，図１１に示したように、
１次電子ビームの被観察物上への照射位置が帯電前と帯
電後で大きく変わるという問題点があった。
【０００５】この発明は、上記のような問題点を解消す
るためになされたもので、被観察物表面の帯電を抑制
し、１次電子ビームの位置が変化しない２次電子顕微鏡
を得ることを目的としている。
るためになされたもので、被観察物表面の帯電を抑制
し、１次電子ビームの位置が変化しない２次電子顕微鏡
を得ることを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明に係る２次電子
顕微鏡は、基本的には従来の２次電子顕微鏡と同様な構
成であるが、１次電子ビームが被観察物に照射される前
に、１次電子ビームを遮断できる機構を持たせ、１次電
子ビームが連続的に被観察物に照射されることを防ぎ、
断続的に照射できるようにする。
顕微鏡は、基本的には従来の２次電子顕微鏡と同様な構
成であるが、１次電子ビームが被観察物に照射される前
に、１次電子ビームを遮断できる機構を持たせ、１次電
子ビームが連続的に被観察物に照射されることを防ぎ、
断続的に照射できるようにする。
【０００７】
【作用】この発明における２次電子顕微鏡においては、
１次電子ビームを断続的に遮断することにより、１次電
子ビームが連続的に被観察物に照射されることを防いで
いるため、１次電子ビームによる被観察物表面の帯電が
抑制され、１次電子ビームの位置が変化しないようにな
っている。
１次電子ビームを断続的に遮断することにより、１次電
子ビームが連続的に被観察物に照射されることを防いで
いるため、１次電子ビームによる被観察物表面の帯電が
抑制され、１次電子ビームの位置が変化しないようにな
っている。
【０００８】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図１はこの発明の一実施例による２次電子顕微鏡
の基本構成を示したものである。図１において、図５と
同一符号は同一のものを示す。１４は１次電子ビームの
遮断電極、１５は遮断電圧発生器である。図２は遮断電
極に印加される遮断電圧の波形を示したものである。図
３は本実施例の２次電子顕微鏡による２次電子像観察時
に被観察物に照射される１次電子ビームの照射電流を示
したものである。
する。図１はこの発明の一実施例による２次電子顕微鏡
の基本構成を示したものである。図１において、図５と
同一符号は同一のものを示す。１４は１次電子ビームの
遮断電極、１５は遮断電圧発生器である。図２は遮断電
極に印加される遮断電圧の波形を示したものである。図
３は本実施例の２次電子顕微鏡による２次電子像観察時
に被観察物に照射される１次電子ビームの照射電流を示
したものである。
【０００９】次にその遮断電極による１次電子ビームの
遮断の仕方について説明する。遮断電極には図２に示し
たような電圧波形が印加される。電圧ＶＳは１次電子ビ
ームを大きく偏向できる電圧で、１次電子ビームが被観
察物に照射されない電圧に設定する。図２の電圧波形か
ら時刻０からｔ1 までは電圧が０のため、１次電子ビー
ムは遮断されることなく被観察物に照射される。また、
時刻ｔ1 からｔ2 までは遮断電圧ＶＳが遮断電極に印加
されているため、１次電子ビームはその電界のため大き
く偏向され、被観察物には照射されない。このため、被
観察物に照射される１次電子ビームの照射電流は図３に
示されたようになる。図３に示されたように、１次電子
ビームは被観察物に連続的に照射されず、断続的に照射
されるので、被観察物表面の帯電が抑制される。従っ
て、この２次電子顕微鏡では、１次電子ビームが連続的
に被観察物に照射されることを防いでいるため、１次電
子ビームによる被観察物表面の帯電が抑制され、１次電
子ビームの位置を変化しないようにできる。
遮断の仕方について説明する。遮断電極には図２に示し
たような電圧波形が印加される。電圧ＶＳは１次電子ビ
ームを大きく偏向できる電圧で、１次電子ビームが被観
察物に照射されない電圧に設定する。図２の電圧波形か
ら時刻０からｔ1 までは電圧が０のため、１次電子ビー
ムは遮断されることなく被観察物に照射される。また、
時刻ｔ1 からｔ2 までは遮断電圧ＶＳが遮断電極に印加
されているため、１次電子ビームはその電界のため大き
く偏向され、被観察物には照射されない。このため、被
観察物に照射される１次電子ビームの照射電流は図３に
示されたようになる。図３に示されたように、１次電子
ビームは被観察物に連続的に照射されず、断続的に照射
されるので、被観察物表面の帯電が抑制される。従っ
て、この２次電子顕微鏡では、１次電子ビームが連続的
に被観察物に照射されることを防いでいるため、１次電
子ビームによる被観察物表面の帯電が抑制され、１次電
子ビームの位置を変化しないようにできる。
【００１０】
【発明の効果】以上のように、この発明に係る２次電子
顕微鏡によれば、１次電子ビームが被観察物に断続的に
照射されるようにしたので、被観察物表面の帯電が抑制
され、１次電子ビームの被観察物への照射位置を変化し
ないようにできる。
顕微鏡によれば、１次電子ビームが被観察物に断続的に
照射されるようにしたので、被観察物表面の帯電が抑制
され、１次電子ビームの被観察物への照射位置を変化し
ないようにできる。
【図１】この発明の一実施例による２次電子顕微鏡の基
本構成を示した図である。
本構成を示した図である。
【図２】遮断電極に印加される遮断電圧の波形を示した
図である。
図である。
【図３】２次電子顕微鏡による２次電子像観察時に被観
察物に照射される１次電子ビームの照射電流を示した図
である。
察物に照射される１次電子ビームの照射電流を示した図
である。
【図４】従来の２次電子顕微鏡の基本構成を示した図で
ある。
ある。
【図５】従来の２次電子顕微鏡の基本構成を示した図で
ある。
ある。
【図６】２次電子像観察における被観察物への１次電子
ビームの照射方法について示した図である。
ビームの照射方法について示した図である。
【図７】Ｘ軸偏向電極に印加されるＸ軸偏向電圧の電圧
波形を示した図である。
波形を示した図である。
【図８】Ｙ軸偏向電極に印加されるＹ軸偏向電圧の電圧
波形を示した図である。
波形を示した図である。
【図９】被観察物の観察領域に照射される１次電子ビー
ムの照射電流と時間の関係を示した図である。
ムの照射電流と時間の関係を示した図である。
【図１０】被観察物表面が帯電前の１次電子ビームの照
射位置を示した図である。
射位置を示した図である。
【図１１】被観察物表面が帯電後の１次電子ビームの照
射位置を示した図である。
射位置を示した図である。
１ 被観察物 ２ 電子ビーム源 ３ 電子ビームのＸ軸偏向電極 ４ 電子ビームのＹ軸偏向電極 ５ Ｘ軸偏向電圧発生器 ６ Ｙ軸偏向電圧発生器 ７ １次電子ビーム ８ ２次電子 ９ ２次電子検出器 １０ ２次電子検出信号増幅器 １１ ２次電子像観察用モニタ １２ 被観察物上に形成される１次電子ビームの軌跡 １３ １次電子ビームが照射される領域 １４ 遮断電極 １５ 遮断電圧発生器
Claims (1)
- 【請求項１】 被観察物に１次電子ビームを照射し被観
察物から発生する２次電子像を観察する２次電子顕微鏡
において、 被観察物に照射すべき１次電子ビームを断続的に遮断す
る手段を備え、 被観察物の帯電を抑制できることを特徴とする２次電子
顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3253196A JPH0562637A (ja) | 1991-09-02 | 1991-09-02 | ２次電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3253196A JPH0562637A (ja) | 1991-09-02 | 1991-09-02 | ２次電子顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0562637A true JPH0562637A (ja) | 1993-03-12 |
Family
ID=17247894
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3253196A Pending JPH0562637A (ja) | 1991-09-02 | 1991-09-02 | ２次電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0562637A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10269983A (ja) * | 1997-03-24 | 1998-10-09 | Toyota Gakuen | 走査プロトン顕微鏡 |
-
1991
- 1991-09-02 JP JP3253196A patent/JPH0562637A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10269983A (ja) * | 1997-03-24 | 1998-10-09 | Toyota Gakuen | 走査プロトン顕微鏡 |
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