JPH0563478B2 - - Google Patents

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JPH0563478B2
JPH0563478B2 JP2050375A JP5037590A JPH0563478B2 JP H0563478 B2 JPH0563478 B2 JP H0563478B2 JP 2050375 A JP2050375 A JP 2050375A JP 5037590 A JP5037590 A JP 5037590A JP H0563478 B2 JPH0563478 B2 JP H0563478B2
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Japan
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diphenylphosphinobenzene
lithium
monosulfonate
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salt
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Toshihiko Maeda
Noriaki Yoshimura
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Kuraray Co Ltd
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/50—Organo-phosphines
    • C07F9/505—Preparation; Separation; Purification; Stabilisation
    • C07F9/5054—Preparation; Separation; Purification; Stabilisation by a process in which the phosphorus atom is not involved

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  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ジフエニルホスフイノベンゼン−m
−モノスルホン酸リチウムの製造方法に関する。
ジフエニルホスフイノベンゼン−m−モノスル
ホン酸のリチウム塩等の金属塩は、水溶性の3置
換ホスフインであり、種々の触媒反応において金
属触媒を安定させたり、変性させたりする作用を
するのみならず、触媒成分を含水溶媒中に溶解さ
せる作用をも有するので、触媒を含む溶液を触媒
の熱劣化をまねき易い蒸発操作に付することな
く、常温でデカンテーシヨンや抽出により水に難
溶性の生成物と触媒とを分離するプロセスを与え
ることができる点で、産業上極めて重要な化合物
である。
また、ジフエニルホスフイノベンゼン−m−モ
ノスルホン酸リチウムは、ナトリウム塩またはカ
リウム塩と比べて水への溶解度が非常に高い性質
を有していることが特開昭58−131994号公報に記
載されている。金属触媒を用いる反応において、
金属触媒のメタル化等による失活を防ぐために
は、できるだけ多くのジフエニルホスフイノベン
ゼン−m−モノスルホン酸の金属塩が使用される
ことが望ましい。このような目的には、ジフエニ
ルホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチ
ウムが特に有用である。
〔従来の技術〕
特開昭58−131994号公報には、トリフエニルホ
スフインをスルホン化反応に付した後、生成物を
4−メチル−2−ペンタノンにより抽出分離し、
次いで水酸化リチウム水溶液によつて、生成物の
中和と抽出を行い、この水溶液から水を蒸発乾固
することによつてジフエニルホスフイノベンゼン
−m−モノスルホン酸リチウムを製造する方法が
記載されている。
また、特開昭59−73594号公報には、トリフエ
ニルホスフインをスルホン化反応に付した後、反
応混合物に水不溶性有機溶媒に溶かしたアミンを
加え、スルホン酸のアミン塩を有機層へ抽出さ
せ、この有機層を分離後、塩基の水溶液と反応さ
せ、スルホン酸塩を含む水層から水を蒸発乾固す
ることによつてジフエニルホスフイノベンゼン−
m−モノスルホン酸塩を製造する方法が記載され
ている。
また、特公昭54−6270号公報には、トリ(m−
スルホフエニル)ホスフインのナトリウム塩の水
溶液を強酸性イオン交換樹脂で処理し、生成物を
水で溶離し、生成する酸水溶液を他の塩基と反応
させてトリ(m−スルホフエニル)ホスフインの
他の塩を製造する方法が記載されている。
しかしながら、ホスフイン化反応混合物から生
成物を抽出によつて分離する方法では、硫酸が生
成物と共に抽出されるため、中和後の水溶液中に
硫酸リチウムが混在するという問題が生じる。ま
た、イオン交換樹脂を用いる方法は、イオン交換
反応において生成物が着色したり、また、遊離酸
とする工程を含み、操作が煩雑となるために経済
的ではないなどの問題を有する。しかも、ジフエ
ニルホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リ
チウムは、水への溶解度が大きく、ナトリウム塩
のように水から再結晶することができない。
〔発明が解決しようとする課題〕
貴金属錯体を用いる触媒反応にジフエニルホス
フイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムを
用いる場合、純度の高いジフエニルホスフイノベ
ンゼン−m−モノスルホン酸リチウムが必要とな
る。
したがつて、高純度のジフエニルホスフイノベ
ンゼン−m−モノスルホン酸リチウムを工業的に
有利に製造する方法が要求される。
本発明の目的は、高純度のジフエニルホスフイ
ノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムを工業
的に有利に製造する方法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明によれば、上記の目的はジフエニルホス
フイノベンゼン−m−モノスルホン酸のナトリウ
ム塩、カリウム塩またはカルシウム塩(以下、こ
れらの塩をナトリウム塩等の塩と略称する)を有
機溶媒中で硫酸リチウムと反応させることを特徴
とするジフエニルホスフイノベンゼン−m−モノ
スルホン酸リチウムの製造方法を提供することに
より達成される。
本発明において用いられるジフエニルホスフイ
ノベンゼン−m−モノスルホン酸のナトリウム塩
等の塩としては、純度99%以上の高純度のものが
望ましいが、かかるものは公知の方法で容易に得
られる(特開昭58−131994号公報参照)。
硫酸リチウムの使用量は、ジフエニルホスフイ
ノベンゼン−m−モノスルホン酸のナトリウム塩
等の塩に対し、等モルから50倍モル、好ましくは
等モルから5倍モルである。
有機溶媒としては、硫酸リチウムを溶解せず、
かつジフエニルホスフイノベンゼン−m−モノス
ルホン酸のナトリウム塩等の塩およびリチウム塩
を溶解する溶媒が使用される。このような溶媒と
しては、例えば、メタノール、エタノール、プロ
パノール、イソプロパノール、ブタノールなどの
アルコール;アセトニトリルなどのニトリル;テ
トラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル;
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトンなどのケトンが挙げられる。また、これ
らの溶媒は単独で用いてもよいし、混合して使用
することもできる。この中でも溶解性の点で特に
アルコールを用いるのが好ましい。
これら溶媒は、ジフエニルホスフイノベンゼン
−m−モノスルホン酸リチウムを室温下で溶解で
きる最低限量以上あればよい。具体的な使用量は
溶媒の種類によつて異なるが、ジフエニルホスフ
イノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムの濃
度が1〜0.01 mol/の範囲になるように選ば
れる。
本発明におけるイオン交換反応は、室温から
150℃、好ましくは60℃から120℃の範囲の温度で
実施される。反応温度が高くなるにつれて反応速
度は増加するが、150℃を越えると得られるジフ
エニルホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸
リチウムの純度が低下する。イオン交換反応は、
窒素、アルゴンなどの不活性ガスの雰囲気下で実
施される。また、反応に際しては、反応効率を高
めるために固液接触が充分行われるような条件が
選ばれる。通常、反応装置としては撹拌槽または
固定床反応槽が用いられる。
反応液からのジフエニルホスフイノベンゼン−
m−モノスルホン酸リチウムの単離は、次のよう
にして行うことができる。反応終了後、過によ
つて無機塩を分離し、生成物であるジフエニルホ
スフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウム
を溶解する母液から有機溶媒を蒸発することによ
つて単離するか、またはジフエニルホスフイノベ
ンゼン−m−モノスルホン酸リチウムが炭化水素
系有機溶媒、例えばペンタン、ヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどに溶解しないことか
ら、過によつて得られた母液の溶媒を炭化水素
系有機溶媒に置換することによりジフエニルホス
フイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムを
沈澱させ、過によつて単離することにより行わ
れる。このようにして単離されたジフエニルホス
フイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムを
減圧下に乾燥することにより、その無水物、一水
和物もしくは二水和物またはそれらの混合物が得
られる。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明を具体的に説明する
が、本発明は何らこれらの実施例に制限されるも
のではない。
参考例 1 ジフエニルホスフイノベンゼン−m−モノスル
ホン酸リチウム塩の合成 温度計、撹拌装置、滴下ロートおよび窒素ガス
出入り口を備えた内容500mlの4つ口フラスコに、
系内を窒素ガスで置換しながらトリフエニルホス
フイン80gおよび濃硫酸36gを仕込み、内温を30
℃以下に保ちながら溶解させた。この混合液に内
温を30℃以下に保ちながら、撹拌下にSO3を20wt
%含む発煙硫酸320gを30分間かけて滴下した。
発煙硫酸の滴下終了後、30℃で3時間撹拌を続け
た。液体クロマトグラフイーによつて、反応混合
液中の未反応のトリフエニルホスフインを分析し
たところ、トリフエニルホスフインの転化率は60
%であつた。反応混合液を冷却しながら氷水約
1500mlを加えることによつて約20%の硫酸水溶液
とした。この硫酸水溶液に1回につき700mlの4
−メチル−2−ペンタノンを用いて合計2回の抽
出操作を施した。4−メチル−2ペンタノン層に
約4wt%の水酸化ナトリウム水溶液約150mlを加
えることによつて系全体を中和した。静置後の水
層を15℃まで冷却したところ、白色の結晶が析出
した。過によりこの結晶を捕集した。捕集した
結晶を蒸溜水に溶解させ、得られる水溶液から再
結晶の2回行つた。最終的に45gのジフエニルホ
スフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウム
の2水和物が得られた。上記化合物を、元素分
析、イオンクロマトグラフイー分析、液体クロマ
トグラフイー分析などで分析したところ、純度
100%のジフエニルホスフイノベンゼン−m−モ
ノスルホン酸ナトリウム2水和物であつた。
実施例 1 撹拌装置、還流装置および窒素出入り口を備え
た内容1の3つ口フラスコに、窒素雰囲気下、
メタノール250mlおよびイソプロパノール250mlを
入れ、ついで参考例1で得られたジフエニルホス
フイノベンゼン−m−モノスルホン酸ナトリウム
の2水和物151gを入れ、さらに硫酸リチウム1
水和物48gを入れ、加熱還流下、6時間撹拌を続
けた。反応終了後、過により無機塩を取り除い
た。得られた母液にトルエン250mlを加え、メタ
ノールとイソプロパノールを蒸発させ、溶媒をト
ルエンに置換した。析出したジフエニルホスフイ
ノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムを過
により分離捕集した。捕集したジフエニルホスフ
イノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムを
150℃、5mmHgで4時間乾燥することによつてト
ルエンをしたところ、128gのジフエニルホスフ
イノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムが得
られた。上記化合物を元素分析、イオンクロマト
グラフイー分析、液体クロマトグラフイー分析な
どで分析したところ、純度100%のジフエニルホ
スフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウム
であつた。
実施例 2 実施例1で用いたと同じ反応装置に、参考例1
で得られたジフエニルホスフイノベンゼン−m−
モノスルホン酸ナトリウムの2水和物151gを入
れ、硫酸リチウム1水和物48gを入れ、ジオキサ
ン2を入れ、加熱還流下、8時間撹拌した。反
応終了後、過により無機塩を取り除いた。母液
からジオキサンの大部分をエバポレーターによつ
て蒸発させたのち、残渣を150℃、5mmHgで4時
間乾燥したところ、130gのジフエニルホスフイ
ノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムが得ら
れた。上記化合物を、元素分析、イオンクロマト
グラフイー分析、液体クロマトグラフイー分析な
どで分析したところ、純度100%のジフエニルホ
スフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウム
であつた。
実施例 3 実施例1で用いたと同じ反応装置に、参考例1
で得られたジフエニルホスフイノベンゼン−m−
モノスルホン酸ナトリウムの2水和物151gを入
れ、硫酸リチウム1水和物48gを入れ、4−メチ
ル−2−ペンタノン4を入れ、加熱還流下、8
時間撹拌した。反応終了後、過により無機塩を
取除いた。母液から4−メチル−2ペンタノンの
大部分をエバポレーターによつて蒸発させたの
ち、残渣を150℃、5mmHgで4時間乾燥したとこ
ろ、130gのジフエニルホスフイノベンゼン−m
−モノスルホン酸リチウムが得られた。上記化合
物を、元素分析、イオンクロマトグラフイー分
析、液体クロマトグラフイー分析などで分析した
ところ、純度100%のジフエニルホスフイノベン
ゼン−m−モノスルホン酸リチウムであつた。
参考例 2 ジフエニルホスフイノベンゼン−m−モノスル
ホン酸カリウムの合成 温度計、撹拌装置、滴下ロートおよび窒素ガス
出入り口を備えた内容500mlの4つ口フラスコに、
系内を窒素ガスで置換しながらトリフエニルホス
フイン80gおよび濃硫酸36gを仕込み、内温を30
℃以下に保ちながら溶解させた。この混合液に内
温を30℃以下に保ちながら、撹拌下にSO3を20wt
%含む発煙硫酸320gを30分間かけて滴下した。
発煙硫酸の滴下終了後、30℃で2.75時間撹拌を続
けた。液体クロマトグラフイーによつて、反応混
合液中の未反応のトリフエニルホスフインを分析
したところ、トリフエニルホスフインの転化率は
45%であつた。反応混合液を冷却しながら氷水約
1500mlを加えることによつて約20%の硫酸水溶液
とした。この硫酸水溶液に1回につき700mlの4
−メチル−2−ペンタノンを用いて合計2回の抽
出操作を施した。4−メチル−2−ペンタノン層
に約5wt%の炭酸カリウム水溶液を加えることに
よつて系全体を中和した。この水層を15℃まで冷
却したところ、白色の結晶が析出した。過によ
りこの結晶を捕集した。捕集した結晶を蒸留水に
溶解させ、得られる水溶液から再結晶を2回行つ
た。最終的に43gのジフエニルホスフイノベンゼ
ン−m−モノスルホン酸カリウムの2水和物が得
られた。上記化合物を元素分析、イオンクロマト
グラフイー分析、液体クロマトグラフイー分析な
どで分析したところ、純度100%のジフエニルホ
スフイノベンゼン−m−モノスルホン酸カリウム
2水和物であつた。
実施例 4 撹拌装置、還流装置および窒素出入り口を備え
た内容1の3つ口フラスコに、窒素雰囲気下、
メタノール250mlおよびイソプロパノール250mlを
入れ、ついで参考例2で得られたジフエニルホス
フイノベンゼン−m−モノスルホン酸カリウムの
2水和物157gを入れ、さらに硫酸リチウム1水
和物48gを入れ、加熱還流下、6時間撹拌を続け
た。反応終了後、過により無機塩を取り除い
た。得られた母液にトルエン250mlを加え、メタ
ノールとイソプロパノールを蒸発させ、溶媒をト
ルエンに置換した。析出したジフエニルホスフイ
ノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムを過
により分離捕集した。捕集したジフエニルホスフ
イノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウムを
150℃、5mmHgで4時間乾燥することによつてト
ルエンを除去したところ、128gのジフエニルホ
スフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチウム
が得られた。上記化合物を元素分析、イオンクロ
マトグラフイー分析、液体クロマトグラフイー分
析などで分析したところ、純度100%のジフエニ
ルホスフイノベンゼン−m−モノスルホン酸リチ
ウムであつた。
比較例 1 参考例1で用いたと同じ反応装置を用い、同様
な反応操作によつて、トリフエニルホスフインの
スルホン化反応を行い、4−メチル−2−ペンタ
ノンで生成物を抽出した。この4−メチル−2−
ペンタノン層を、約4wt%の水酸化リチウム水溶
液で中和した。水層を分離し、エバポレーターに
よつて大半の水を蒸留させたのち、残渣に400ml
の4−メチル−2−ペンタノンを加え、残存する
水を共沸させることにより、白色沈澱を40g得
た。上記沈澱を元素分析、イオンクロマトグラフ
イー分析、液体クロマトグラフイー分析析などで
分析したところ、上記沈澱には硫酸リチウムが
0.5wt%、ジフエニルホスフイノベンゼン−m−
モノスルホン酸リチウムの酸化物が2.0wt%、ジ
フエニルホスフイノベンゼン−m−モノスルホン
酸リチウムが95wt%および対応するジスルホン
酸リチウムが2.5wt%含まれていることがわかつ
た。
比較例 2 実施例1で用いたと同じ反応装置に、参考例1
で得られたジフエニルホスフイノベンゼン−m−
モノスルホン酸ナトリウム2水和物151gを入れ、
アンバーリスト15(米国ローム・アンド・ハース
社製)を200g(総交換用量0.88g当量)を仕込
み、ブタノール600mlを入れ、加熱還流下、8時
間緩やかに撹拌した。反応終了後、過によりイ
オン交換樹脂を除去したところ、得られた母液は
茶色に着色していた。この母液を水酸化リチウム
水溶液によつて中和し、この水層から水の大部分
をエバポレーターによつて蒸発させたのち、残渣
を150℃、5mmHgで4時間乾燥したところ、130
gの茶色に着色したジフエニルホスフイノベンゼ
ン−m−モノスルホン酸リチウムが得られた。
また、上記の方法においてアンバーリスト15の
代わりに、アンバーリスト15に常用の方法でリチ
ウムカチオンを担持させたスルホン酸リチウム塩
型イオン交換樹脂を用いる以外は同様にして、加
熱還流下、8時間緩やかに撹拌した。反応終了
後、過によりイオン交換樹脂を除去し、得られ
た母液からブタノールの大部分をエバポレーター
によつて蒸発させたのち、残渣を150℃、5mmHg
で4時間乾燥したところ、130gの茶色に着色し
たジフエニルホスフイノベンゼン−m−モノスル
ホン酸リチウムが得られた。
〔発明の効果〕
本発明によれば、上記の実施例に示されている
ように高純度のジフエニルホスフイノベンゼン−
m−モノスルホン酸リチウムの製造が可能となつ
た。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ジフエニルホスフイノベンゼン−m−モノス
    ルホン酸のナトリウム塩、カリウム塩またはカル
    シウム塩を有機溶媒中で硫酸リチウムと反応させ
    ることを特徴とするジフエニルホスフイノベンゼ
    ン−m−スルホン酸リチウムの製造方法。 2 ジフエニルホスフイノベンゼン−m−モノス
    ルホン酸のナトリウム塩、カリウム塩またはカル
    シウム塩として99%以上の純度を有するものを用
    いる請求項1記載の方法。 3 有機溶媒がアルコールである請求項1記載の
    方法。
JP2050375A 1989-03-09 1990-02-28 ジフエニルホスフイノベンゼン―m―モノスルホン酸リチウムの製造法 Granted JPH037295A (ja)

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JP5822589 1989-03-09
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JPH037295A JPH037295A (ja) 1991-01-14
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Country Status (5)

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EP (1) EP0386697B1 (ja)
JP (1) JPH037295A (ja)
CA (1) CA2011800C (ja)
DE (1) DE69014683T2 (ja)

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